DE1619995A1 - Verfahren zum Beseitigen von Kohlenstoffverunreinigungen in einem Siliziumkoerper und Vorrichtung zur Durchfuehrung dieses Verfahrens - Google Patents
Verfahren zum Beseitigen von Kohlenstoffverunreinigungen in einem Siliziumkoerper und Vorrichtung zur Durchfuehrung dieses VerfahrensInfo
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- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1024—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
- Y10T117/1076—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state having means for producing a moving solid-liquid-solid zone
Description
.
- 3 O.OEZ. V359
Siemens Aktiengesellschaft München 2, den
Wittelsbacherpl. 2
P 16 19 995. 4 (YPA 67/1142)
Vorfahren zum Beseitigen von-Kohlenstoffverunreinigenin
einem Siliziumkörper und Vorrichtung "zur
Durchführung: dieses Vcrfahrena
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beseitigen von
verunreinigungen in einem SiILziumkörper und eine Vorrichtung zur
Ourchi'ihruag dieses Verfahrens.
Boh&ilLzium für die Herstellung von elektronischen Halbleitnrbauelementon
wird vielfach unter Anwendung eines reinen gasförmigen
Reduktionsmittels, insbesonäere von Wasserstoff, -durch Reduktion und/
«der pyrolytische Zersetzung des Dampfen einer flüssigen Siliziumvorbindung
auf einem festen und beheizten TTagerkörper abgenchfeden.
D«'i3 no mei'fit atabförmig gewonnene ailizium enthält gewähnlich Kohlenotoffverun^einigungen,
die aus organiaehen KQhl.enatpffvernimdun-
gcA 3t immen, die pich in der flüssigert Siliaiurnvörbindung befinden.
lÄtUfi UriterlaQeij
Diese Kohlenstoffverbindungen zeigen das gleiche Siedeverhalten wie
die flüssige Siliziumverbindung und sind daher von dieser durch Abdestillatlbn
nicht zu trennen. Sie gelangen vielmehr beim Verdampfen der flüssigen Siliziumverbindung mit in den Dampf und zersetzen sich
im Reaktionsraum unter Bildung von Kohlenstoff, der sich mit dem Silizium
auf dem Trägerkörper niederschlägt. Ferner kann Silizium beispielsweise
beim Schmelzen in einem Graphittiegel Kohlenstoff aufnehmen.
Kohlenstoff beeinflußt zwar die Leitfähigkeit bzw. den Leitungstyp
des Siliziums nicht, jedoch kann er die Umwandlung des abgeschiedenen
polykristallinen Siliziums irt einen Einkristall erschweren und Anlaß zu Störungen beiJder Bildung von pn-Übergängen im einkristallinen
Silizium geben. Eine Verminderung der mittleren Lebensdauer der Ladungsträger durch den Kohlenstoff ist ebenfalls zu vermuten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, den Kohlenstoffgehalt von
Silizium zu vermindern.
Bisher wurde es für zwecklos gehalten, das bekannte tiegelfreie Zonenschmelzen
zur Beseitigung von Kohlenstoffverunreinigungen aus Silizium
heranzuziehen, weil dem Kohlenstoff im Silizium ein Verteilungskoeffizient von etwa 1 zugeschrieben wurde. In der Tat ergaben Versuche, daß der Kohlenstoffgehalt eines Siliziumstabes selbst durch
eine große Zahl von Schmelzzonendurchgängen nicht merklich abgesenkt
werden konnte. v
BAD Q
- 2 - WL/fö
109827/H33
PLA 67/Ϊ142 '
Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, dai) es trotz der gegenteiligen
Erfahrungen unter bestimmten Voraussetzungen möglich sein müsse,
Kohlenstoff durch tiegelfreies Zonenschmelzen aus Silizium zu entfernen. Demgemäß betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Entfernen
von Kohlenstoffverunreinigungen aus einem Siliziumkörper und besteht
in der Anwendung des tiegelfreien Zonensohmeizens im Hochvakuum zusammen mit Mitteln zum Abfangen und Binden von kohlenstoffhaltigen
Dämpfen.
Eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens besteht z.B. aus
einem Rezipienten, in dem Halterungen für den Silisiumkörper sowie
eine Heizeinrichtung zum Erzeugen der Schmelzzone im Siliziumkörper
angeordnet sind. An dem Rezipienten befindet sich ein Absaugstutzen,
der mit einer zur Erzeugung des Hochvakuums dienenden Pumpeinrichtung
mit einer Diffusionspumpe und einer Vorpumpe verbunden
ist. Der Pumpeinrichtung ist ein Kühlbaffle vorgeschäVtet, dessen
Kühlsole eine Temperatur von mindestens 20 0C unter dem Nullpunkt
hat. Zur Erzielung eines besonders geringen Kohlenstoffgehaltes im
Silielumkörper ist in vorteilhafter Weiterbildung dieser Vorrichtung
zwischen Diffusionspumpe und Vorpumpe eine Adsorptionsfalle geschaltet. ..■■.'■■■./" : .■ -. ...;■"■ - ■',- ■;/. ■■-;, . ...■-
Die Pumpeinrichtung kann erfindungsgemäß auch eine Getterpumpe mit
vorgeschalteter Adsorptionspumpe enthalten» .
näher trläutertt
PLA 67/1H2
Figur 1 zeigt eine Vorrichtung zum Entfernen von Kohlenstoff aus
Silizium durch tiegelfreies Zonenschmelzen mit einer Pumpeinrichtung, die aus einer Diffusionspumpe mit vorgeschalteter
Vorpumpe besteht.
Figur 2 zeigt eine Pumpeinrichtung für eine Vorrichtung zum -Entfernen
von Kohlenstoff durch tiegelfreies Zonenschmelzen-, die eine Getterpumpe mit vorgeschalteter AdsorptionB-pumpep
enthält.
In Figur 1 ist der Absaugstutzen 2a eines mit einem Schauglas versehenen
Rezipienten 2 am Ansaugstutzen 3a einer mit einer Heizeinrichtung 4 und einem Kühlmantel 19 versehenen Diffusionspumpe 3 angeflanscht.
In den Ansaugstutzen 3a ist ein KühlbaffIe 14 mit einer Zuführung 15 und einer Abführung 16 für die Kühlsole eingebaut. Die
verwendete Kühlsole soll eine Temperatur von mindestens 20 C unter
dem Nullpunkt besitzen. Besonders geeignet als Kühlsole ist flüssiger
Stickstoff.
Der Auestoßstutzen 3b der Diffusionspumpe 3 ist am Ansaugstutzen
17a der Adsorptionsfalle 17 und der Ausstoßstutzen 17b der Adsorptionsfalle 17 am Ansaugstutzen 5a der Vorpumpe 5 angeflanscht. Die
Adsorptionsfalle 17 kann mit Keramikkörnern gefüllt sein, die mit Zeolith oder Permutit beschichtet sind. So kann z.B. die Adsorptionsfalle "Linde 13X" verwendet werden. Auch feste Aktivkohle ist al π
Füllung für die Adsorptionsfalle 17 geeignet. In diesem Fall ist es "
jedoch günstig, wenn zwischen dem Ansaugstutzen 17a der Falle und
BAD OR!Q!NÄL
■ " 4 "109 82 7/ 1 A 9 3 W1/'PÖ
PIA 67/1142
der Aktivkohle eine feinporige Membran angeordnet ist. Biese Membran
kann aus auf Polyvinylchloridbasis aufgebautem Kunststoff mit einer
Porengröße kleiner oder gleich 0,5 μ oder aus VA-Stahl mit einer Porengröße
kleiner oder gleich 5 μ bestehen, Die Adsorptionsfalle 17
befindet sich in einem Dewargefäß 18, das zur Kühlung der Falle mit
unter dem Markennamen "Preon" im Handel befindlichen chlorierten und
wasserstoff
fluorierten Kohlenstoffverbindungen oder flüssigem Stickstoff gefüllt sein kann. Die Verpumpe 5 kann eine einfache Kolbenpumpe, eine. Drehschieberpumpe oder eine Drehkolbenpumpe sein.
fluorierten Kohlenstoffverbindungen oder flüssigem Stickstoff gefüllt sein kann. Die Verpumpe 5 kann eine einfache Kolbenpumpe, eine. Drehschieberpumpe oder eine Drehkolbenpumpe sein.
Im evakuierten Rezipienten 2 ist ein Siliziumstab 6 mit angeschmolzenem,
einkristallinen Keimkristall 6b inHalterungen 7 befestigt,
die an Wellen 8 angeordnet sind. Die Wellen 8 sind in Dichtungen 11
und 12 gelagert, die sich in öffnungen der Rezlpientenwand befindet.
-Im"Siliziumstab 6 wird mit Hilfe einer mit hochfrequentem Wechselstrom
gespeisten Induktionsheizspule 9, die an dem Ilalteteil 10
befestigt ist, eine Schmelzzone 6a erzeugt und durch den Stab 6 in
axialer Richtung von unten nach oben bewegt. Die Spulenhai feteil
10 ist in einer Dichtung 13 in einer öffnung der Rezipientenwand
gelagert. -
Die Entfernung von Kohlenstoff aus dem Siliziumstab 6 durch tiegelfreies
Zonenziehen im Rezipienten 2 gelingt auch mit einer Pumpeinrichtung
nach Figur 2. Diese Pumpeinrichtung besteht aus einer Getterpumpe
21 und einer Adsorptionspumpe 22. Der Ansaugstutzen 21a -der Getterpumpe
21 wird an den Abeaugstutzen 2a der Vorrichtung zum tiegelfreien
Zonenschmelzen angeflanecht. Der Ausetoßstützen 21b der Getter-
BADORiQiNAL
" 5 Λ
10 9 8 2 7/1493 *!/*.&■G0PY
PLA 67/1142
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pumpe 21 ist am Ansaugstutzen 22a der Adsorptionspumpe 22 angeflanscht.
Die Getterpumpe "21 ist von einem Kühlmantel 23 umschlossen und besteht
im wesentlichen aus einer Glühkathode 24 und einem Tiegel 25, der durch
Elektronenaufprall erhitzt wird und in dem ständig nachgeführter, nicht dargestellter Titandraht verdampft wird. Der als Getter wirkende Titandampf
schlägt sich an der gekühlten Innenwand der Pumpe 21 nieder und bindet die dort haftenden Gasmoleküle.
Die Adsorptionspumpe 22 weist ebenfalls einen Kühlmantel 26 auf.
Dieser Kühlmantel wird vorteilhaft von flüssigem Stickstoff durchflossen. In der Adsorptionspumpe 22 befindet sich ein Träger 27 mit einem Staubsieb 28 sowie Rosten 29, auf denen das Adsorptionsmittel, beispielsweise Keramikkörner, die mit Zeolith oder Permutit beschichtet sind, gelagert ist. Im Träger 27 kann eine nicht dargestellte
elektrische Heizeinrichtung angeordnet sein, mit deren Hilfe das Adsorptionsmittel regenerierbar ist. Am Stutzen 22b der Adsorptionspumpe 22 befindet sich ein Belüftungsventil 30.
Dieser Kühlmantel wird vorteilhaft von flüssigem Stickstoff durchflossen. In der Adsorptionspumpe 22 befindet sich ein Träger 27 mit einem Staubsieb 28 sowie Rosten 29, auf denen das Adsorptionsmittel, beispielsweise Keramikkörner, die mit Zeolith oder Permutit beschichtet sind, gelagert ist. Im Träger 27 kann eine nicht dargestellte
elektrische Heizeinrichtung angeordnet sein, mit deren Hilfe das Adsorptionsmittel regenerierbar ist. Am Stutzen 22b der Adsorptionspumpe 22 befindet sich ein Belüftungsventil 30.
Es ist günstig für die Verringerung des Kohlenstoffgehaltes im Siliziumstab
6 durch tiegelfreies Zonenschmelzen, wenn die Lagerstellen der beweglichen. Teile der Halteeinrichtungen und der Heizeinrichtung,
also die Lagerstellen der Wellen 8 in den Dichtungen 11 und 12 sowie
die lagerstelle des Spulenhalte.teils 10 in der Dichtung 13, mit einem
Gleitmittel versehen sind, das einen niedrigen Dampfdruck besitzt.
Geeignet sind Silikonfett, anorganische Gleitmittel wie Molybdänsul-
Geeignet sind Silikonfett, anorganische Gleitmittel wie Molybdänsul-
ν.
fid und/oder Wolframdiselenid sowie Graphit.·^
- 6 - Wl/FÖ
109 827/1493
PLA 67/1142
Versuche ergaben, daß ein in einen Einkristall umgewandelter polykristalliner
Siliziumstah nach fünf Zonendurchgängen in einer Zonenschmelzvorrichtung
nach Figur 1, die Jedoch weder das Kühl baffle 14
noch die Adsorptions falle..17 aufwies, überall einen Kohlenstoffgehalt
von 38 ppm hatte. Sin aus einem polykristallinen Siliziumstab, der
zugleich mit dem ersten polykristallinen Siliziumstab in derselben
Abscheideapparatur mit denselben Abmessungen hergestellt worden war,
gewonnener einkristalliner Siliziumstab
/wies bereits nach nur einem Schmelzzonendurchgang in einer gemäß der Erfindung mit einem Kühlbaffle und einer Adsorptionsfalle ausgestatteten Zonens chmelzvorrich tung nach Figur 1 an einer 5 cm vom Keimkristall entfernten Stelle einen Kohlenstoffgehalt von 11 ppm auf,
/wies bereits nach nur einem Schmelzzonendurchgang in einer gemäß der Erfindung mit einem Kühlbaffle und einer Adsorptionsfalle ausgestatteten Zonens chmelzvorrich tung nach Figur 1 an einer 5 cm vom Keimkristall entfernten Stelle einen Kohlenstoffgehalt von 11 ppm auf,
Die aus der vorstehenden Beschreibung - oder/und die aus der zugehörigen
Zeichnung - entnehmbaren Merkmale, Arbeitsvorgänge und
Anweisungen sind» soweit nicht vorbekannt» im einzelnen, ebenso
wie ihre hier erstmals offenbarten Kombinationen untereinander,
als wertvolle erfinderische Verbesserungen anzusehen.
15 Patentansprüche
2 Figuren
2 Figuren
r 7/1098 27/1493
Claims (15)
1.. Verfahren zum Entfernen von Kohlenstoff verunreinigungen aus einem
Siliziumkörper, gekennzeichnet durch die Anwendung des tiegelfreien
Zonenschmelzen im Hochvakuum zusammen mit Mitteln zum
Abfangen und Binden von kohlenstoffhaltigen Dämpfen.
2. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß einer zur Erzeugung des Hochvakuums dienenden Pumpeinrichtung mit einer Diffusionspumpe und einer Vorpumpe
ein Kühlbaffle vorgeschaltet ist, dessen Kühlsole eine Temperatur von mindestens 20 0C unter dem Nullpunkt hat.
3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Pumpeinrichtung zur Erzeugung des Hochvakuums eine Getterpumpe mit vorgeschalteter Adsorptionspumpe
enthält.
4. Vorrichtung nach Ansp^ich 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
Kühlsole des Kühlbaffles aus flüssigem Stickstoff besteht.
5. Vorrichtungnach Anspruch 2 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß
zwischen die Diffusionspumpe und die Vorpumpe eine Adsorptionsfalle geschaltet ist.
6» Vorrichtung nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet, daß die
Adsorptionsfalle mit Keramikkörnern, die mit Zeölith oder Permutit
beschichtet sind, gefüllt iet.
1098 2 7/U9 3 - 8 - Wl/FÖ
PLA 67/1 H2
7. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die
Adsorptionsfalle mit fester Aktivkohle gefüllt ist und daß zwischen der Aktivkohle und dem Ansaugstutzen der Adsorptionsfalle
eine feinporige Membran angeordnet ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die
Adsorptionsfalle gekühlt ist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die
■Adsorptionsfalle mit chlorierten und fluorierten Kohlenwasserstoffverbindungen
oder flüssigem Stickstoff gekühlt ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Adsorptionspumpe mit flüssigem Stickstoff gekühlt ist.
11. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach.Anspruch 1,
bestehend aus einem Rezipienten,in dem Halteeinrichtungen für den Siliziumkörper sowie eine Heizeinrichtung zum Erzeugen der
Schmelzzone im Siliziumkörper angeordnet sind und dessen Abaaugstutzen
mit einer Pumpeinrichtung zur Erzeugung des Hochvakuums
verbunden ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Lagerstellen
bewegter Teile der Halteeinrichtuhgen und der Heizeinrichtung
mit einem Gleitmittel versehen sind, das einen niedrigen Dampfdruck
besitzt.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die
Lagerstellen mit Silikonfett versehen sind.
Vg.« 109827/1493
PLA 67/1142
J·
13. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß
die Lagerstellen mit einem anorganischen Gleitmittel versehen sind,
H. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Gleitmittel aus Molybdänsulfid und/oder Wolframdiselenid besteht.
15. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Gleitmittel aus Graphit besteht.
ORIGINAL INSPECTED
- 10 409-8Z7/U9.3
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DES0108776 | 1967-03-11 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1619995A1 true DE1619995A1 (de) | 1971-07-01 |
Family
ID=7529034
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19671619995 Pending DE1619995A1 (de) | 1967-03-11 | 1967-03-11 | Verfahren zum Beseitigen von Kohlenstoffverunreinigungen in einem Siliziumkoerper und Vorrichtung zur Durchfuehrung dieses Verfahrens |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3607110A (de) |
DE (1) | DE1619995A1 (de) |
GB (1) | GB1148706A (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070274841A1 (en) * | 2006-05-24 | 2007-11-29 | Ghantasala Muralidhar K | Passive adsorption microvacuum pump and microsystem containing the same |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1874537A (en) * | 1930-10-23 | 1932-08-30 | Bell Telephone Labor Inc | Manufacture of vacuum devices |
NL240421A (de) * | 1958-07-30 | |||
US3116764A (en) * | 1959-03-30 | 1964-01-07 | Varian Associates | High vacuum method and apparatus |
-
1967
- 1967-03-11 DE DE19671619995 patent/DE1619995A1/de active Pending
-
1968
- 1968-03-11 GB GB11832/68A patent/GB1148706A/en not_active Expired
- 1968-03-11 US US712074A patent/US3607110A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1148706A (en) | 1969-04-16 |
US3607110A (en) | 1971-09-21 |
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