DE1618888B1 - Verfahren zur herstellung von monomethyldichlorsilan - Google Patents

Verfahren zur herstellung von monomethyldichlorsilan

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DE1618888B1
DE1618888B1 DE1967S0109652 DES0109652A DE1618888B1 DE 1618888 B1 DE1618888 B1 DE 1618888B1 DE 1967S0109652 DE1967S0109652 DE 1967S0109652 DE S0109652 A DES0109652 A DE S0109652A DE 1618888 B1 DE1618888 B1 DE 1618888B1
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DE1967S0109652
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Kinji Ariga
Haruo Harada
Akitoshi Komiya
Minoru Takamizawa
Masateru Takaya
Mitsuo Umemura
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

1 2
Monomethyldichlorsilan ist ein nützliches Ausgangs- gebracht wird, die aus Silicium, Kupfer und Nickel material zur Herstellung von wasserabstoßenden besteht und in der die Anteile von Kupfer und Nickel Siliconprodukten und organofunktionellen Silanen. zusammen etwa 5 bis 15 Gewichtsprozent der Gesamt-Bisher ist jedoch die Erzeugungsmöglichkeit dieser menge der Kontaktmasse betragen und das Gewichts-Verbindung begrenzt, da sie großtechnisch nur als 5 verhältnis von Kupfer zu Nickel im Bereich von Nebenprodukt bei der direkten Synthese von Methyl- 20:1 bis 2:1 liegt.
silanen in einer Menge von nur 1 bis 2% der Gesamt- Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren wird nicht menge erzeugter Silane anfällt. Die Ausbeute an nur Monomethyldichlorsilan mit bemerkenswert hoher Monomethyldichlorsilan kann auf etwa 10 % gesteigert Ausbeute, sondern als mengenmäßig an zweiter Stelle werden, wenn man die angegebene Umsetzung bei io liegendes Produkt Trichlorsilan erhalten, das ein höherer Temperatuf'durchführt. In diesem Fall fällt wertvollses Ausgangsmaterial bei der Herstellung von jedoch die Ausbeute an Dimethyldichlorsilan scharf Dimethyldichlorsilan, halbleitendem Silicium und ab, während die von Monomethyltrichlorsilan, für organofunktionellem Silan ist. Bei geeigneter Wahl der das nur begrenzte Verwendungsmöglichkeiten bestehen, Reaktionsbedingungen kann die Ausbeute an Monoerheblich ansteigt, was die praktische Brauchbarkeit 15 methyldichlorsilan auf über 35% gesteigert werden, des Verfahrens wesentlich beeinträchtigt. Man hat während die Ausbeute an schlechtverwertbarem auch versucht, die Ausbeute an Monomethyldichlor- Methyltrichlorsilan unter 20% gehalten werden kann, silan durch Zugabe von Wasserstoffgas oder Chlor- Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren dient offenwasserstoffgas zum Reaktionssystem zu erhöhen, sichtlich Chlorwasserstoff in Verbindung mit Methyljedoch keine brauchbaren Ergebnisse erhalten. Die 20 chlorid als Wasserstoffquelle. Der Reaktionsmechanis-Herstellung von Monomethyldichlorsilan nach Grig- mui; des Katalysators ist in diesem Fall anscheinend nard oder durch Reduktionsverfahren eignen sich so, daß der Nickelbestandteil der Kontaktmasse wenig für großtechnische Verfahren. praktisch die Reaktionsgeschwindigkeiten zwischen
Aus den USA.-Patentschriften 2 483 373 und Methylchlorid und Silicium einerseits und zwischen 2 488 487 ist die Verwendung von Chlorwasserstoff 25 Chlorwasserstoff und Silicium andererseits im Reakbei der direkten Synthese von Methylchlorsilan be- tionssystem auf einen gleichen Wert bringt und auch kannt, jedoch sagt die erstgenannte Patentschrift die sekundäre thermische Zersetzung wasserstoffnichts über die Herstellung von Monomethyldichlor- haltiger Silane, wie Monomethyldichlorsilan und Trisilan aus, während die an zweiter Stelle genannte chlorsilan, verhindert und so'für eine wirksame ErPatentschrift angibt, daß Monomethyldichlorsilan 3° haltung der Wasserstoff atome sorgt. Tatsächlich liegt als eines der Hauptprodukte erzeugt wird. Das der Anteil von in der Umsetzung verwertbarem Wasser-Verfahren nach dieser letztgenannten Patentschrift stoff bei 50% oder noch höher,
ist dennoch kein wirklich befriedigendes Verfahren In dem erfindungsgemäß, zu verwendenden Katalyzur Herstellung von Monomethyldichlorsilan, da es sator liegen Kupfer und Nickel vorzugsweise im Geals Hauptreaktionsprodukt eine große Menge Methyl- 35 wichtsverhältnis von 10:1 bis 3 :1 vor. In diesem Fall trichlorsilan liefert, für das kaum Verwendungs- kann entweder ein Pulver einer Kupfer-Nickellegierung möglichkeiten bestehen. oder ein Gemisch von Kupferpulver und Nickelpulver
Weiterhin ist aus der USAv-Patentschrift 3 109 014 als Katalysator verwendet werden,
bekannt, bei der Herstellung von Methylchlorsilan Die Metallbestandteile Kupfer und Nickel werden unter Verwendung von Chlorwasserstoff die Um- 40 mit Siliciumpulver zu einer Kontaktmasse geformt. Setzung in Gegenwart eines silberhaltigen Kupfer- Die Kontaktmasse wird beispielsweise hergestellt, katalysators durchzuführen. Dieses Verfahren ist den indem man das Kupfer-, Nickel- und Siliciumpulver anderen bekannten Verfahren hinsichtlich der Zu- in einer Kugelmühle mischt. Die Gesamtmenge an sammensetzung des erzeugten Gemisches von Silanen Kupfer und Nickel beträgt vorzugsweise 8 bis 12 Geweit überlegen, besitzt jedoch für die Praxis den Nach- 45 wichtsprozent des Gesamtgewichts der Kontaktmasse, teil, daß ein teuerer Kupfer-Silber-Katalysator ver- Das erfindungsgemäße Verfahren wird bei einer wendet werden muß. Man kann andererseits für solche Reaktionstemperatur von 200 bis 350° C durchgeführt. Silansynthesereaktionen einen Kupfernickelkatalysator Unterhalb 200° C fällt die Reaktionsgeschwindigkeit verwenden, wie in den USA.-Patentschriften 2 380 995 scharf ab, während über 350° C die Zersetzung des und 2 380 998 angegeben. Die erstgenannte dieser 5° gebildeten Monomethyldichlorsilans und Trichlorbeiden Patentschriften hat jedoch nichts mit der silaris sowie der Methylgruppe merklich wird, so daß Herstellung von Monomethyldichlorsilan zu tun, die Ausbeuten an diesen Silanen abfallen, während während die an zweiter Stelle genannte ein Verfahren die Menge an gebildeten Monomethyltrichlorsilan zur Herstellung von Monomethyldichlorsilan durch und Siliciumtetrachlorid rasch ansteigt und außerdem Zusatz von Wasserstoffgas betrifft, wobei jedoch die 55 die Katalysatoräktivitat scharf abfällt.
Ausbeute höchstens 15 bis 17% beträgt. Es besteht kein Grund zur Begrenzung des MoI-
Durch die Erfindung soll nun ein Verfahren ge- Verhältnisses von Methylchlorid zu Chlorwasserstoff,
schaffen werden, das im technischen Maßstab Mono- die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren mit der
methyldichlorsilan günstiger und billiger als die bisher Kontaktmasse in Berührung gebracht werden, jedoch
bekannten Verfahren liefert. 60 werden gewöhnlich befriedigende Ergebnisse bei einem
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung molaren Mischungsverhältnis von 4:1 bis 0,2:1 von Monomethyldichlorsilan durch Umsetzung von erhalten. Zur Erzeugung großer Mengen von Monogasförmigem Methylchlorid und Chlorwasserstoff mit methyldichlorsilan und Dimethyldichlorsilan, die techeiner Silicium und Kupfer enthaltenden Kontaktmasse nisch besonders gut verwertbar sind, ist ein molares bei erhöhter Temperatur ist dadurch gekennzeichnet, 65 Mischungsverhältnis von 3:1 bis 2:1 zweckmäßig, daß ein gasförmiges Gemisch von Methylchlorid und während zur Erzeugung großer Mengen von MonoChlorwasserstoff im Molverhältnis von 4:1 bis 0,2:1 methyldichlorsilan und Trichlorsilan vorzugsweise ein bei 200 bis 350° C mit einer Kontaktmasse in Berührung Molverhältnis zwischen 1:1 und 0,2:1 eingestellt
wird. In diesem Fall kann ein Inertgas zusammen mit HSiCl3 9,5%
dem Ausgangsgasgemisch zugeführt werden, um das MeHSiCl2 23,9 %
gewünschte Produkt aus dem Reaktionssystem wirk- SiCl4 0,6 %
sam zu entfernen. MeSiCl3 22,3%
Die Erfindung wird erläutert durch die folgenden 5 Me2SiCl2 28,6%
Beispiele, worin das Symbol »Me« den Methylrest
bezeichnet und die angegebenen Zusammensetzungen Beispiel 5
des Silangemisches auf Analysenwerten beruhen, die
durch Gaschromatografie erhalten wurden. Alle Über eine Kontaktmasse aus 9 Teilen Silicium-
Mengenangaben beziehen sich auf Gewicht, soweit %o pulver, 1 Teil Kupferpulver und 0,05 Teilen Nickelnicht ausdrücklich anders angegeben. pulver wird ein Gasgemisch von Methylchlorid und
Chlorwasserstoff im Molverhältnis 1:1 geleitet und
Beispiel 1 die Reaktion bei 270 bis 2750C durchgeführt. Man
erhält ein flüssiges Kondensat der folgenden Zu-
9 Teile Siliciumpulver, 1 Teil Kupferpulver und 15 sammensetzung: 0,2 Teile Nickelpulver Qeweils Gewichtsteile) werden
in einer Kugelmühle innig gemischt. 500 g der Mi- HSiCl3 21,5%
schung werden in ein Reaktionsrohr aus rostfreiem MeHSiCl2 28,3 %
Stahl von 4,5 cm Durchmesser und 100 cm Länge SiCl4 0,9 %
gepackt. Ein Gasgemisch von Methylchlorid und 20 MeSiCl3 25,2%
trockenem Chlorwasserstoff im Molverhältnis 1:1 Me2SiCl2 10,1 %
wird durch das Rohr geleitet und die Reaktion bei
280 bis 290°C durchgeführt. Man erhält ein flüssiges Beispiel 6
Kondensat folgender Zusammensetzung:
24 6°/ 25 ^n Gasgemisch von Methylchlorid und Chlor-
Ό ° wasserstoff im Molverhältnis 1:1 wird über eine
MeHslci32Ό °/ wasserstoff im Molverhältnis 1:1 wird über eine
gjQ 2 0T>l° Kontaktmasse geleitet, die aus 9 Teilen Siliciumpulver
jyfggj-Q ls'l0/0 un^ * Teu eines Pulvers einer Kupfernickellegierung
M ς·Γ| ' o'5o/° (Kupfer—Nickel wie 10:1) besteht. Die Reaktion
2 2 ' /0 30 wird bei 290 bis 300°C durchgeführt. Man erhält
π . . , „ ein flüssiges Kondensat der folgenden Zusammen-
Beispiel 2 Setzung: .
Ein Gemisch von 9 Teilen Siliciumpulver, 1 Teil i h i l
HSiCl3 19,3%
Kupferpulver und 0,2 Teilen durch Reduktion erhal- MeHSiCl 29 2 °/
tenen Nickelpulver (jeweils Gewichtsteile) wird als 35 2 ' '°
p q 2 3°/
Kontaktmasse verwendet, die Reaktion wird unter MeSiCl 23 00I
den gleichen Bedingungen wie im Beispiel 1 durch- M ς·ρ? ι n'i o/°
geführt. Man erhält ein flüssiges Kondensat folgender me2öi^i2 iu,j /0
Zusammensetzung: _ . . , _
40 Beispiel7
HSiCl3 28,8%
MeHSiCl2 36,4% über eine Kontaktmasse, die aus 9 Teilen Silicium-
SiCl4 1,4% pulver, ITeil Kupferpulver und 0,2 Teilen durch
MeSiCl3 16,1 % Reduktion erhaltenes Nickelpulver hergestellt worden
Me2SiCl2 2,4% 45 ist, wird ein Gasgemisch von Methylchlorid und Chlorwasserstoff in einem Molverhältnis von 3:1 geleitet.
B e 1 s ρ 1 e 1 3 Die Reaktion wird bei 270 bis 280° C durchgeführt.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wird wiederholt, Man erhält ein flüssiges Kondensat folgender Zuwobei aber der Anteil Methylchlorid im Gasgemisch sammensetzung: verdoppelt wird, so daß das Molverhältnis Methyl- 50
chlorid zu Chlorwasserstoff 2:1 beträgt, die Reaktion HSiCl3 6,2%
wird bei 275 bis 2850C durchgeführt. Man erhält die MeHSiCl2 24,0%
folgenden Ergebnisse: SiCl4 18,0%
MeSiCl3 18,3%
55 Me2Sicls 32)5%
SiCl 0 5°/
MeSiCl 23*0 °/° Über die gleiche Kontaktmasse wird ein Gas-
Me2SiCl2 ....................... 24°8% gemisch von Methylchlorid und Chlorwasserstoff in
einem Molverhältnis von 0,75:1 geleitet und die Reak-
T, · · 1 4 6o tion bei der gleichen Temperatur durchgeführt. Man P erhält ein flüssiges Kondensat folgender Zusammen-Über 500 g einer Kontaktmasse aus 9 Teilen SiIi- Setzung:
ciumpulver, 1 Teil Kupferpulver und 0,4 Teilen Nickelpulver wird ein Gasgemisch von Methylchlorid und HSiCl3 33,2%
Chlorwasserstoff im Molverhältnis 1,5:1 bei einer 65 MeHSiCl2 34,8 %
Reaktionstemperatur von 290 bis 300° C geleitet. Das SiCl4 1,1 %
so erhaltene flüssige Kondensat besitzt die folgende MeSiCl3 14,6%
Zusammensetzung: Me2SiCl2 2,0%
Beispiel 8
10 kg einer wie im Beispiel 7 hergestellten Kontaktmasse werden in eine Reaktionssäule aus rostfreiem Stahl von 10 cm Durchmesser und 100 cm Länge gepackt, die mit einer mechanischen Mischvorrichtung zur Erzeugung eines Fließbettes ausgestattet ist. 17,5 kg eines Gasgemisches von Methylchlorid und Chlorwasserstoff in einem Molverhältnis von 1:1 werden durch den Reaktor mit einer Geschwindigkeit von 120 bis 1301/Std. geleitet. Die Reaktion wird 70 Stunden bei 260 bis 265° C durchgeführt. Man erhält 21,3 kg eines flüssigen Kondensats mit folgender Zusammensetzung:
15
HSiCl3 28,6%
MeHSiCl2 34,8%
SiCl4 0,8%
MeSiCl3 17,3%
Me2SiCl2 3,2%
Bei der Reaktion werden 52,3% der Wasserstoffmenge ausgenutzt.
Beispiel9
Eine gleiche Reaktionssäule wie die im Beispiel 8 verwendete wird mit 10 kg einer Kontaktmasse gefüllt, die aus 9,15 Teilen Siliciumpulver, 0,7 Teilen Kupferpulver und 0,15 Teilen durch Reduktion erhaltenen Nickelpulver hergestellt worden ist. 90,5 kg eines Gasgemisches von Methylchlorid und Chlorwasserstoff in einem Molverhältnis von 1,5:1 werden mit einer Geschwindigkeit von 120 bis 1401/Std. bei 250 bis 260° C durch die Reaktionssäule geleitet. Periodisch in Abständen von 24 Stunden werden 1,5 kg einer aus 9,7 Teilen Siliciumpulver, 0,23 Teilen Kupferpulver und 0,07 Teilen durch Reduktion erhaltenen Nickelpulver bestehenden Kontaktmasse zugesetzt, und die Reaktion wird kontinuierlich 315 Std. gefahren. Man erhält 106 kg Kondensat der folgenden Zusammensetzung:
HSiCl3 13,8 %
MeHSiCl2 40,6%
SiCl4 0,4%
MeSiCl3 21,2%
Me2SiCl2 9,1%
67,8 % der Wasserstoffmenge werden ausgenutzt.

Claims (4)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung von Monomethyldichlorsilan durch Umsetzung von gasförmigem Methylchlorid und Chlorwasserstoff mit einer Silicium und Kupfer enthaltenden Kontaktmasse bei erhöhter Temperatur, dadurch gekennzeichnet, daß ein gasförmiges Gemisch von Methylchlorid und Chlorwasserstoff im Molverhältnis von 4:1 bis 0,2:1 bei 200 bis 350° C mit einer Kontaktmasse in Berührung gebracht wird, die aus Silicium, Kupfer und Nickel besteht und in der die Anteile von Kupfer und Nickel zusammen etwa 5 bis 15 Gewichtsprozent der Gesamtmenge der Kontaktmasse betragen und das Gewichtsverhältnis von Kupfer zu Nickel im Bereich von 20:1 bis 2:1 Hegt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Kontaktmasse ein Gemisch verwendet wird, das aus 95 bis 85 Gewichtsprozent Silicium und 5 bis 15 Gewichtsprozent einer Legierung von Kupfer und Nickel im Gewichtsverhältnis von 20:1 bis 2:1 besteht.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Kontaktmasse ein Gemisch verwendet wird, das aus 95 bis 85 Gewichtsprozent Silicium und 5 bis 15 Gewichtsprozent eines Gemisches von Kupferpulver und Nickelpulver im Gewichtsverhältnis von 20:1 bis 2:1 besteht.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das gasförmige Gemisch Methylchlorid und Chlorwasserstoff in einem Molverhältnis von 1:1 bis 0,2:1 enthält.
DE1967S0109652 1966-07-25 1967-04-28 Verfahren zur herstellung von monomethyldichlorsilan Withdrawn DE1618888B1 (de)

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2137604A (en) * 1983-03-29 1984-10-10 Gen Electric Process for treating spent silicon-containing reaction masses to produce halosilanes
DE19816149C1 (de) * 1998-04-09 1999-07-29 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen
KR100454713B1 (ko) * 2002-01-30 2004-11-05 한국과학기술연구원 알킬디클로로실란의 제조 방법

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2488487A (en) * 1946-02-07 1949-11-15 Dow Chemical Co Production of alkyl silicon halides

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2887502A (en) * 1957-06-13 1959-05-19 Gen Electric Preparation of alkyl chlorosilanes
US3109014A (en) * 1961-01-04 1963-10-29 Shinetsu Chem Ind Co Method for preparing monomethyldichlorosilane
DE1134671B (de) * 1961-06-22 1962-08-16 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von Methyl- bzw. AEthylchlorsilanen mit hohem Gehalt an Methyl- bzw. AEthyldichlorsilan

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2488487A (en) * 1946-02-07 1949-11-15 Dow Chemical Co Production of alkyl silicon halides

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US3454616A (en) 1969-07-08
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