DE1577323A1

DE1577323A1 - Anlage zur Oberflaechenbehandlung

Info

Publication number: DE1577323A1
Application number: DE19661577323
Authority: DE
Inventors: Highberg Carle W
Original assignee: Engelhard Hanovia Inc
Current assignee: Engelhard Hanovia Inc
Priority date: 1965-01-11
Filing date: 1966-01-11
Publication date: 1970-01-08
Also published as: NL6600287A; US3343306A; GB1114474A; BE674966A; FR1465837A

Description

DR.-ING. WALTER ABITZ DR. DIETER MORF Patentanwälte

8 München 27, Pienzenauersfraße 28 Telefon 483225 und 436415 Telegramme: Chemindus München

11. Januar 1966 Ό-896

ENGELHARD HANOVIA _f INC.

113 Aator Street, Newark,, 0?1f4 New Jersey, VoSt,A_:

nia^i« aar ubarflächonbehandlung

Oxo. Erfindung bu se iaht axfli auf eins Vorriuht-umg zur Ober-

oder Obsfflatihanbaarbeitung von hartan via Fla· hg.lasscheiben und dergleichen, und ins«- beeondars unf j in Varfahron und eine Vorrichtung, vrelohe HeraufSetzung des Wirkungβgrades der Oberflächenbehandlung in einer fortlaufenden Oberflächenbehandlung«- oder Schleif

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^; 5 7 7 3 ? 3

atraße mit juohreron Oberflächenbehandlung« Stationen dlenep

Wie in der drataoher. Patentanmeldung E 27 575 Ib/67 a ausführlich boschrieben; lassen sich die Anlage - und Betriebskosten Haattntllüh vermindern und es kann die HerstftHung.iqufelitHt bai der Oberflächenbearbeitung von Flachglas eoheiben und dergleichen beträchtlich verbessert werden, wenn stan eine Yorri-ihtixng rar Oberflächenbearbeitung vor wendet, bei der eingobe-itete Schleifmittel teilchen, beispioleveiee Diaiaanttoilcheri, von vorgogebsnor .Konzentration und Teilchengröße unter Anwendung verschiedener Verfahren bentlfcjr.t,

Ks hat «loh nan hai'nua^ν stallt daß bfi Anordnung svaiar glei.¹:.;? ftühleiischoiLbeii mit oingii'se tr «stan Diamant to ilchan der uliichoK Konzenti-ation und TeilchangröSe hintorelnandai' in einer Schleifatr^ßo die durch die «walte Scheibe er:sielte viikaana Qlaaabtragun^ oft wesentlich geringer ist als die durch die sret.e, gleißhe Scheibe erzielte,. Ee hat eich weiter heraii£geiite.lll:, da.3 unter bestimmten Schleif bedingungen alt »lnor ^ühleifscheibo,. ve 1 ehe Diamantteilrfcan gleir.hroäfliger Tellchonffrli.la utitl gleioheftßiger Xonxftncrat.ion üb or die ganz« SohleifflHch» aufweijt, die ölasabtza^ung nicht über «inen bestimmton Botrag gesteigert ucrden kann, velcher geringer iet als d^r arfordorlicho odor oonst n&raalerueiae zu erviirtende Bstraf;» nuch wenn di» Sohlfifscheibe eo orark be-·

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lastet wird, wie et der Aufbau der Vorrichtung Kußeroten-. sullAt

8o3Ul*Sllah h*t «ich herausgestellt, daß «in* direkt« Be-•!•bung «wischen d·» Betraff der Bearbeitung und den Druck besteht, welcher von der Schi* if fläche auf die Arbeit·«· flftoha ausgeübt werden kann. AuOerde» hat o· eich ale vünHohenavert geaeigt, die An sah 1 d*r da* Werkstück jo Zeiteinheit berührenden Teilchen konstant «u haiton, vaa durch Anwendung der folgenden Brfindungegrundaätse erreicht kann.

Balaplelffwelse i«t as bei einer Schleifetation mit einer Sohleifscheibe, welche geaäfl der obengenannten Patontanaeldung ausgebildet ist» bei der «an eine QIa»abtragung in der Orößenordstung τοπ 0,25 να (0,010 inch) erwartet, auch Hit aaxiealer Belaetuag von etwa 2 720 kg (6000 lbs) nicht »Sglioh, «ine grO&ere Olasabtragung als 0,12? cm (0,005 inch) tu erxielen, wKhrend «ine minisale Abtragung von 0,152 mm fO.OOo inch) erforderlich ist. Venn jedoch eine im übrigen vergleichbare Schleifscheibe in dieser Schleifstation verwendet wird, deren Kor.sentrationen und Teilchengrußen fur verschiedene konmentri« sch» Schleifeinrichtunffen geciau der vorliegenden Erfindung jewWilt sind, wie nachfolgend beschrieben_t so läßt aioh der erforderliche Beti-ag der Glaaabtragviiig alt einer Belastung

von nur I7OO Ice (3750 lbs) eraielen.

Brfinduiif»fe»äi3 ergibt eine Schleifscheibe nit konsentrlsohen, ringförmigen Sohleifeinrichtungen mit verschiedenen vorbestimmten Konzentrationen und Tellchengrttllen eis« v·«entlieh* Steigerung der Matarialabtragung bei wesentlich geringerer Belastung ohne BrBeugung einer grüneren Bruch- oder Sohnittiefe (depth of fracture). Insbesondere veiet die erfindtuigegentitBe Schleifscheibe zwei odor β ehr ere konzentrieche« ringi'brniga Schleif einrichtungen nit feste» Schleifaittelgehalt oder fester Schleifwirkung auf, in welchen Schleifaitteltellohec, beispielsweise Diamantteilchen, in Jeweils voW.-a«vissjsten Konsentrationen eingebettet eind und irelche in wesentlichen in der gleichen Ebene liegende Schleifflächen aufweisen»- Mindestens die äußerste konsentriüühe Schleifeinrichtung hat eine wesentlich geringere Konzentration als die in radialer Richtung nach innen nKohstfolgende konsontrleche Schleifeinrichtung. Bei be at lasst en Aueftihrungsbel spielen ist die Schleifscheibe so aufgebaut, da£ der Konventrationsgrad benachbarter koneentriecher Schleifeinrichtungen eich in eine« vorbestimmten zunehmenden Verhttltzile von der radial ÄttOersten konzentrischen Schleifeinrichtung aus ändert oder ansteigt» Voiter let ea in beatlattoten FBllon erwünecht, daO mindestens die äußer's to kon-cntrifiohö Sch lel.f einrichtung Schleifmittel-

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BAD ORi ^;

teilchen nit wesentlich größerer Teilchengröße enthält als eine radial weiter innen gelegene Sohlelfeinrichtungο

Brflndungsgemäß weist eine Schleif- oder Oberflächenbearbeitungsstraße für die stufenweise Oberflächenbearbeitung von Flachglasscheiben oder dergleichen, welche von einer Schleifetation zur nächsten gefördert oder sonst schrittweise mittels einer Schleifvorrichtung oberflächenbearbeitet werden können, dia Schleifmittelteilchen verschiedener Konzentrationen und Teilchengrößen aufweist, eine Mehrzahl von aufeinanderfolgenden Stationen auf, deren jede Schleifscheiben mit mehrfachen Abschnitten und mit einer Mehrzahl von konzentrischen, ringförmigen Schleif β inri «'htungen aufweist, w^bei die Konzentration und,<oder Teilchengröße dar Jeweiligen konzentrischen Schleifeinrichtungen dfr aintelnen Scheiben und mindestens einiger der Stationen in der Str-iß« in einem vorbestimmten* zuneigenden Verhältnis at^htn, uu einen wesentlich besseren Wirkungsgrad der Sti'aße und eine bessere Oberflächent zu ermöglichen.

Anhxnd der Figuran wird die Erfindung beispielsweise näher erläur.iirt . Es zaigt

Figur 1 ftiai» Dratifsi ht auf ein Ausführungebeiapiftl einar Schleifetation in einer Oberflächenbehandlung» oder Schleif

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straße mit mehreren kontinuierlich aufeinanderfolgenden Schleif stat ionen, in welcher die erfindungsgemttßen konssntrieohen, ringförmigen Schleifeinrichtungen der Schleifscheibe der Station in Arbeitsstellung an der Bearbeitungefläche dargestellt sind,

Figur 1A eine schematische Darstellung einer OberflächenbehandlungsatraOe mit mehreren kontinuierlich aufeinanderfolgenden Stationen,

Figur 2 ein radialer Teilschnitt der ringförmigen Srhleif-

fi. Hohen dex· koazen frischen Schleif einrichtungen der in Figur dRrgestalJ/:»*> Scheibe läng j der Linie 2«=2., gesehen in Richtung der Pfeile,

Figur 3 eins Draufsicht auf ein Schleifsegment, valchee einen Teil zweier aneinander grenzender konzentrischer Schleifein*- ψ richtiuiigen der in Figur 1 dargestellten Scheibe bildet,

Figur 'l· einen TsI Lsnhnitt das in Figur 3 dargantollten Schleifsegm&nts llngs der Linie 4-4 _t gasehen in Richtung der Pfeile, und

Figur 5 eino graphische Darstellung von zum Zwecke des Vergleiche gewühlten Konzentrationen in den verschiedenen

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8AD ΟΓί.-""'«'-·.'

konzentrischen Schleifeinrichtu»gim der entsprechenden Sc&leif-echeiben für Jede Station der OberfUKchercbehand !ungestrafte geaäO Figur IA,

Bei de» dargeeteilten Aueführungsbeiepiel ist eine Schleifscheibe 10 In Schleif«teilung an einer Arbeitsfläche 11_y beispielsweise einer Fi&ehgleeecheibe, angeordnet, welche beispielsweise durch die Schleif od«r 0barflächenbeha.3idlrii:ga station 5 »it vorgegebener Fördargeschwindlgkeit geführt werden •oll, <i#ob»i ihr« freiliegende Oberfläche in Äiner Ebene p&rallol KU den Schleifflächen der Scheibe 10 liegt.

Die Schleifscheibe 10_f we I ohr* durch einen geeigneten Antriebsmechanieaue 9 angetrieben wird, weist eine Netfiliplatte 12 auf, auf dor*n einer OberflSrhe von konsentriech^n Sohleifeinriebtimgen angebracht ist. Bis Bewegung der Platt« IS ιχηά der Icanxent riechen Schleif ein» richtungen nach unten wird w«bJwoißp gesteuert, ms eine vorgegebene Qlaaabtraguug n'mw Au β Ub ur. ^ einer unxitlSscigeii Belastung auf die bellende!te Scht«ibe uu or/islen=. Di« jeweilige Abtragungenengβ in jeder Station ist hö vingG&tellt, d*ß die gewünschte G&stuatabtragung bei dar Ii3 hstisögli^iien Ob«r«= flXchenqualitat und geringatiriigrliohen Zahl von Erüclien und dergleichen erhielt wird.- Bei <ior dariieBtellten Sclieib® sind fünf koaaenirische Sohleifair.riclitungen 15 · "56, '«7i 18 bzw 1 vorgesehen_f da.*er. j'jdc eine Mohrz&hJ. vor aviainanderliegenden_e

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BAD ORIGINAL

bogenförmigen Segnenten 20, 21_f 22, 23 bzw, 24 aufweist. Bine gleichartige Scheibe mit fünf konzentrlachen Schleif» · einrichtungen wird bei dem Ausführungsbeispiöl der Station 6 verwendet_c Die Stationen 1 bis 4. welche bei dem bevor nugten Ausftihrungebelspiel der Erfindung vor der Behandlung In den Stationen 5 und 6 verhältnitstuäßig gröbere Oberflächenbohandlungesi durchführen sollen, erfordern eine geringere Anzahl von konzentrischen Schleifeinrichtungen, beisnielewfiiep vier, wie in der graphischen Darstellung der Figur 5 angegeben ist Daher werden an den Schleifscheiben der früheren Stationen nur Schleifeinrichtungen 151 16» 17 und 18 verwendete

Die bogenförmigen Segmente 20 und 21, welche dl· konzentrischen Schleif einrichtungen 15 und 16 bilder*, liegen nebeneinander und sind an einem Segmenthalter 26* befestigt. Die Segmente 22 und 23, welche die konzentrischen Schleifeinrichtungen 17 und 18 bilden, liegen nebeneinander und sind an «Inen Segment» halter 27 befestigte Die Segmente 2U₁ welche die Schleifeinrichtung 19 bilden, sind an einem Segmenthalter 28 befestigt. Die Schleifeinrichtungen einschließlich der Segmenthalter 26, 27 und 28 sind mittels geeigneter konzentrischer Haltestreifen 29 und 30 \ind einer Mehrzahl von In Ifafangsrichtung gegen« einander versetzten Bolzen 31 und 32 an der Platt· 12 befestigt.

. 8

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In Jeden der bogenförmigen Segmente 20, 21, 22, 23 und 2k let ein geeignete* Gefüge mit einer vorgegebenen Konzentration von Schleifteilchen vorgegebener Teilchengröße eingebettet. Veiter weist, wie beispielsweise in den Figuren 3 und 4 gezeigt, jedes bogenförmige Segment 20, 21, 22, 23 und 24 eine Mehrzahl von in Abstand verlaufenden, radialen Rillen auf, beispielsweise die Rillen 32 beim Segment 20 und die Rillen 33 beim Segment 21. Jede der radialen Rillen in den Segmenten 20 lind 21, welche die konzentrischen Schleifeinrichtungen 15 und \6 bilden, kommuniziert mit einer konzentrischen Rille 35» die auch dazu dient, einen Abstand zwischen den nebeneinander-Hegenden Segmenten 21 und 22 aufrechtzuerhalten« Jede der radialen Rillen der Segmente 22 und 23, welche die konzentrischen Schleifeinrichtungen 17 und 18 bilden, kommuniziert mit der konzentrischen Rille 35 und einer in radialer Richtung weiter innen gelegenen konizentriechen Rille 36, wobei die Rillet 36 dazu dient, die bogenförmigen Segmente 23 und 24 ϊΗτ Schleifeinrichtungen 18 und 19 zu trennenο Jedo der uu 1 «tian Rillen in den bogenförmigen Segmenten 24, welche -.* konzentrische Schleifeinrichtung 19 bilden, kommuniziert sit dar konzentrischen Rille 36 und dem Mittelbereich der >"-£hl«Ifscheibe JO, veleher zu einer Durchführung 37 ftttirt _?

Bei α inen bevorzugten Ausfilhrun^ebeiepiel der Erfindung liabon «ija bogen^tirmlgfcn Sa^iaente 20, welch» die äußerste

Schleifeinrichtuxi? 15 in jader Station bilden,

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eine radiale Abmessung von 3,8 cm (1,5 inches) und liegen in einem Abstand zwischen 78,7 und 74,9 cm (3I und 29,5 inoh·β) von der Achse der Schleifscheibe 10, Die radiale Abmessung* der nächstfolgenden Segmente 21 beträgt in jeder Station 16,5 cn (6,5 inches), wobei die Segmente in einem Abstand zwischen 74,9 und 58,4 cn (29,5 und 23 inches) von der Achse der Schleifscheibe liegen, Dio konzentrische Rille 35 hat eine radiale Abmessung von 2,5 cm (i inch). Die Segmente 22 der Schleifeinrichtung I7 haben in jeder Station eine radiale Ab messung von 11,4 cm (4,5 inches) und 1logen In einem Abstand »wischen 5519 und 44,5 cm (22 und I7 ~> inches) von der Schoibenachso, Die nänhstfolgendon Segm&nte 23 der Schleifeinrichtung ¹8 haben in jeder Station eine radiale Abmessung von 3s8 cm (i₍5 inches) und liegen in einem Abstand zwischen 44,5 und 40,6 cn (17»5 und 16 inches) von der Scheibenachse, Di· konzentrische Rille yS der Schleifscheiben der Stationen 5 und 6 hat eine radiale Abmessung von 2,5 cn (1 inch). Die Sttgaente 24, welche die Schleifeinrichtung 19 der Stationen 5 und 6 bilden, haben eine radiale Abmessung von 12,7 cm (5 inches) und lieg·» in einem Abstand zwischen 38,1 und 25,4 cn (15 und 10 inches) von der Achse der Schleifscheibe 10*

Ein Kühlmittel mit beliebiger geeignetar Xonsontration, beispielsweise 25 Toil» Vaoser au*" 1 Teil. Öl »and Eamlgierwittel ,-kann der Schlei f scheibe» 10 In beliebiger übli.cbcr Woiee zug»»

. 10 909882/030Ü

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führt werden, belapieloveiee durish Eini'i-hf di· Durchführung 37 in d«r Platte 12 und ein«* odor iiifnungeii 38 \mfRisBnn, velvlie schräg durch di® PIr ti* ¹S r,\ir konimitri sehen Hill« 36 führen, ujb dureli u±f~ ^iriSiHg d«r Fliehkraft d»*# Eiaetröicen van Kühlroittnl üfe#r di« Sch3«ifflächnii d«r vSt-hlelfelnrichtunfen 15, 16, 17, 18 und 19 durch dl* BJt«inuud«r komauni*if renrfftii red±3lon RHI'«' die konr#iitrtscho Rill« 35 und bei 1 ο 1:L$;->} vjiilor^

gn»fc© Hill*n rtd^r KähÜI« %n erloi chtjtrn_: li^t^h^ in *r Platt« ausgebildet «eic

''■ <■ '.η Pi^uf 5 und dor folgreiiJ?:* Tab:?l?r, gc^eig-t- aalsfEi die T«'M.i'-Iiff-Πί virjugswoiee Diaican^tti j 1 :.hf r .- w-al^hc in de:-; di* boge-rttiiroißyn Segraert* 20 der E^hJ oi /*βί nri el· ΐνν? r ^!^: i:: 4«d*r :3tatlnn (Kurv* "A") bi3dei5d*n Ma tee π o-rLrgtb:;: :.ΐ:': tind, eine vf^eentlich aleclriger?: Xon-.--entra^■■ on als die-Jrnigen der üiißrenzenit'ij, radia' vt-it.er inn^n 3 iogcr^ica Schleifeinrichtung 1d (Kurr· '¹B"). I« gleicher Vei^# ist d·ι^ Y«rhKltnis d»r Konzentration dei* S^hleifeinriciittasf in jedfcr Station au' dan jenigen dor Schloifeinricbtniiireii 17 (Kurve "O¹) 18 (Kurv-a "¹D") und 19 (Kurve "E¹) baispiele» vfliee 30 gekühlt daO ei& oich in eiüein vorgegebenen zunehmenden Verhältnis Jttidert. autgehend von derjenigon der radial Äußer-et?η kon«ftatris^hpn Sclilpif^inrichtung 15, uze die Anzahl, der die ArbeitsfIttche an jeder radialen Stolle

■ 1

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j« Zeiteinheit berührenden Diaxnantteilchon Ib veeentlichen konstant su halten, Weiter fol$t die Besiohung der Konzentration«« anteprecheader Schleifeinrichtungen in jeder der «ufalnamierf eisenden Station«» der bevorzugten fort achreiten· den Beeidung, veloh* im «inreinen in d»r Patentanmeldung 8 2} 088 Ib/ei ■
geschildert ist,

eir>e«i ^dvorsiigt*« Aw9führ-tr!g;*b.»I*pi®l, bei weichet» die B«igt&»dteils dl« oben in 3»si*£iur/i auf Figur 1 angegebenen

auiVeit*n, rdssBi der 'Cerjxsentratlonagrad von der ttu/J«r-.reten Schleifeinrichtung 15 bie r»»r innersten

ehtufig 18 odar 1P iu der durch die folgende
Te bei Ie acs&gebenen ifeie« zu?

Station

K üientriech«

Sehleifeln-

richtung

II

17 18

15 16

17 18

15 16

17 18

Tabelle Z

Konaentration
Karat/10 t»3
(Caratβ per
cubic inch)

0,61 0,76

i|53

1,0) 1,25) 1,87) 2,5)

0,61 {1,0) 0,76 Ο,25) 1,ilf f 1,87) 1,53 f2,5)

0,ό1 Ci 1,0 0,92 (h„5 T, 22 ((2,0

Teilchengröße JA> (lichte Siebnaechenwelte)

210-250 180-210 180-210 180*210

180-210 120-150 120-150 120 150

90-100 62- 7^ 62- 7k 6 2- 7**

•

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SAD OHi \

Station RonKentrische	Konzentration	in oh)	Teilchengröße
Sohleifein-	Karat/10 cm³	(0,4)	Jts (lichte Sieb-
richtung	(Carat« per.	0,5)	naechenweite )
	cubic	0,75)
4 15	0,24	1,0)	62- 74
16	0,3] 0,46	0,3)	44- 53
17	0,61	0,375)	44- 53
18	0,18	0,56)	44- 53
5 15	0,23	0.75)	44- 53
16	0>3*	.1.0	20- j5
17	0,46	0,2)	20- 35
16	O_s67	0,25)	20- 35
19	0,12	0,375)	20- 35
6 15	0,15	0p5)	10-20
16	0,23	0,75)	JO- 20
17	0,31	10= 20
18	0,46 {	10- 20
19	10- 20

Ki* in der obigen Tabelle angegeben, kann die Teilchen» grüßt* der Diajcanttellchen bei den AuafUhrungsbeispiel ta der äußersten Schleifeinrichtung 15 ebenfalls wesentlich fTo3er sein als in den übrigen, radial weiter innen gelegenen 3shleifeinrichtungen 16, 17, 1β und 19 *aad die

der Diamantteilohen in Rufeinand#rföl£«3tl©2i

können in vorbeetiaaotex¹ Weise von αίηΦζτ £?oberen xu «inor feineren Teilchenerrööe tc% taohrettfn-,

i'.'L» Erfindung schafft daher eine neue Anleg« imd »ir_;: Verfah*"-an einer etufenwftieon

tsrst-er Verw«:cdTing von Schleife ehe ifcan mit eiiior

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von konzentrischen Schleifeinrichtungen ait verschiedenen, vorgegebenen Konsentrationen und Teilchengritöen, welche da-■u geeignet sind, den Grad und die Virkeankeit der Materialabtragung bei der Oberflächenbehandlung harter Substanzen, wie Flachglas» ohne Erzeugung größerer Bruohtlefen und innerhalb vernünftiger Belastungsbedingungen wesentlich zu steigern»

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Claims

15773,

Ii* Janutr i960

Pat «a t aa ρ ρ rüe &»

1» Anlogt «tsr ctttf«a««l««a Oberfl ·'

iron kOBiSSKts'teoiies

tlMohaa *uf* «j, sen, wQb« 1 s ■ ^ " ■ ,. /":. ^:t

*■,'. ·■*■■■, als <li«. yetdiis.1 weiter iasea li*jp«nd« fccr.sentrli.ci.

die

von minammtBäg, «w»i «ufeinAad«?folg*nd«s Sf#t in »ia*r vorb**tia»t#n B·si«hung eteh*n_c

2. Anlage eur stuTenir*i*«n Ober?lß«*ienböhandlus,£'

uiid derffleicliea In einer Mei

- 15

D0930.?/02C4

Jb

von Otorflftehenbehandlunge-Statlonen, dadurch fekenn- «•lohnet, dail die Oberflächenbehandlung«-Stationen »ine

»it einer Mehrzahl ron konsentri~> 3*l£$furaiff»a Schleifeinrichtungen alt feete» ftufveieen, in νsieben Dia»anttelljewtile vorbentitsaten Konatestrationen einge~

atr.il vtnd ve Ich« la yeeentliohen in der gleichen '£b»n$> ii«gnnde Sctoie if flächen aufweisen, wobei die in

Hiohtung StsÄ#reta aus der Mehrzahl γοη Schleifm$HT3 «in« o.r*t« Xonzestration und d'le in radialer :3**:ja inrsö» aÄchetfoXgende aus der Mehrzahl von ?-;richtu33fes3 ein© veaentlinia höhere Konzentration mid vobei die jaweiligea Konsofitrationen entchleifeinricfatungen in den Schleifscheiben $ *-vf*l ÄUfeiöaiidwj'foIgeHdea Stetionen in

etehen.

Oberflächenbearbeitung

"■ FJ*csu': v-sjyöhalben u&a dergleichen in dinar Mehrzahl : C!:..'(ri^fJ.:?:-;henbea-rb»itucge--St-ats.or!en_l dadurch gekonn- ^:i:ii*iät_; ä'.kß jede drr Oberl'J acheabeerboifcunge-Stationen λ€» &iamc.£t sohl ο i:f scheibe »it ois.6r Mehrzahl von koneentriecben, ri.ßg-ϊ Jrai^en Schleif a icrifht'ingen ntit .f enter Schleif-A*i.ft.'üistj, In welcher Di&uiÄntteilchtm in Jeweils /jleicbjG&Oi 3«ii Kf>n7Sntrationon eingebettet

' Λ 'ΐ r» f

BAD

sind und welch« im wesentlichen in der gleichen Ebene liegende Schleifflächen aufweisen, wobei der Konzentrationegrad benachbarter konzentrischer Schleifeinrichtungen »loh ausgehend von der radial äußersten konsentrisehen Schleifeinrieb/tun« Io einem vorbestimmten» zunehmenden Verhältnis ändert und vobel die jeweiligen Konzentrationen entsprechender Schleifeinrichtungen in den Schleifscheiben ▼on Mindestens zwei aufeinanderfolgenden Stationen in einen vorbestimmten, abnehmenden Verhältnis stehen. %

k. Anlage but stufenweisen Oberflächenbehandlung von Flachglasplatten und dergleichen in mehreren Oberflächenbehandlungs-Stationen, dadurch gekennzeichnet, daß Jede Oberflächenbehandlungs-Station eine Diamantschleifscheibe wlt einor Mehrzahl von konzentrischen, ringförmigen Schleifainrichtungen mit festem Sshlelfraittelgehalt aufweist, in weichet; Diamant teilchen in jeweils vorbe« ε ties» ten, gleichmäßigen Konzentrationen eingebettet sind λ wad welche im wesentlichen in einer Ebene liesende Schleifflächen fcufwoisea, wobei dor Konsentrationsgrftd bennote* better koüiisntrlscher Sohlei:feinrichtungen ausgeii#nd von U9V In radialer Richtung äußorstea koaxentrisohen Schleif··

gcaäB einer vcrbestiwaten» «unehmendea Beftiebuog , ■ wird und wobei die jeweiligen Konzentrationen est»

Sohlelfs&nrichttxneen in den Schleifoclieibeß

.. 17 « ■ 9098fc2/0304

BAD Ortic:iiiAL

D-«96

JK

von Mindestens zwei aufeinanderfolgenden Stationen in •in·· vorbestimmten, abnehmenden Verhältnis stehen«

5* Anläse xur stufenweisen Oberflächenbehandlung von Flaohglaescheiben und dergleichen in einer Mehrzahl von Ober» flächenbehandlungs-Stationen, wobei jede Oberflächenbehandltings<°Station eine Schleifscheibe siit einer Mehrzahl fe von konsentrisehen, ringrömigen Schleireinrichtungen nit festes Sohleiffeittelgehalt aufweist, in welchen Sohleifsittelteilchen in jeweils vorbeetiinoten Kon sentrationen und Teilchengrttäan eingebettet sind und welche im wesentlichen in einer Ebene liegende Schleifflächen aufweisen, wobei «lndestons die äußerote konzentrische Sohleifeiuriohtung Schleifmittelteilchen mit wesentlich gruuerer Teilchengröße enthält als eine radial weiter innen gelegene konzentrische Schleifeinrichtung und wobei die jeweiligen Konzentrationen d«r entsprechenden Schleif einriohtungen in den Schleifscheiben von Mindestens zvei aufeinanderfolgenden Stationen in einer vorbostisnten, abnehmenden Beziehung »tehan*

6. Aalage but etufenweieen Oberflächenbehandlung von Flachglftsscheiben und dergleichen itt einer Mehrsahl von Oberflttohenbehandlungs-Statiozien, wobei jode OberflKchenbehandlurgs-Sicitioa ein» Schloifsciiej.be mit einer Mehrzahl von konzentrischen, x-ingföraii^eQ Schlei.^einrichtungen »it

900882Α030Λ

f«st«B Scbl»i£aitt«lgeb«lt auiveiit, in welch.«» Sob J* if« *itt*li*i.ich«r in jeweils vo.rt>«atitmt<iD Konzentrat ■aad T*iJ.eb*n£r*ü«n eingebettet eind u»d velcte* im i lieben la *l«nr £b«fa· liegende Scli.lelfflHei»*» veb«l ölMdtiteos die aufJermt* kor.i

»ltt«lte.ilche'i «it «ntbält ale «in« r«'J.i»! R»ch Ismen

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i #i.i.ä Äueg#b«n<3 von der In jrndieler IRi e^it koni*rstrif-chrta Seb-iölfeinrichtung in s£l.:

SC3862/G3C4

BAD Cr: Ai

bestirnten,: steigenden Beziehung ändert und mindestens die äußerste konzentrische Sohleifeinrichtung Dlamauttellohen mit wesentlich größerer Teilchengröße enthält als eine radial veiter innen gelegene koneentrische Sehleifeinrichtung und wobei die jeweiligen Konsentrationen und Teilchongrößea von Diamantteliehen entsprechender Schleifeinrichtungen in den Schleifscheiben von Mindestens ftvei aufeinanderfolgenden Stationen in'einer vorbestimmten, abnehmenden Besiehuctg ateher ο

8« Anlag« srur stufenvelsen Oberflächenbehandlung von Flach» glasscheiben und dergleichen In einer Mehrzahl von Oberflächenbeliandlungs »3tatlonfn . wobei jede OberflHchonb·- 'h&ndlunge.'statiön eine Diamcutschleifscheibe mit einer Mehrzahl von konzentrischen, rlngftirmigen Schleifeinrichtung«!, mit festem SchlelfulttelgehaXt aufweist, in welchen D.tacantte:^: shon in Jeweils vorbestimmten, glelohmäßigen K< nzentratioaen und T^ilchnngrößen eingebettet sind und welche im wesentlichen in der gleichen Ebene liegende Sohleifflächen aufweisen, wobei der Konizentratlonsgrad von benacl bar ten koncentri sehen Scbleifeinrichtujigen in eine» vorbeetlmaian, aniaehmenden Verhältnis von der radial äußersten konzentrischen Schleifeinrlchtung aus ansteigt und die» fcuilertte konzentrische Schleifelnriohtung Pl sannt trilchon nlt weaeni.lich größerer Teilchnngreße enthftlt als

die Diaaanttsilohen der übrigen, radial veiter Innen gelegenen konzentrischen Schleifeinrichtungen und wobei die jeweiligen Konsentrationen und Teilohengröüen der Diamantteilchen in entsprechenden Schleifeinrichtungen In den Schleifscheibe» von mindest ens zwei aufeinanderfolgenden Stationen in einem vorbestimmten, abnehmenden Verhältnis stehen»

9c Anlage zur stufenweisen Oberflächenbehandlung von Flachglas scheiben und dergleichen in einer Mehrzahl τοη Oberfl&chenbehandlunga-Stationen, wobei jede Oberflächenbefcandlungs-Station eine Diamant schleifscheibe nit einer Mehrzahl von konzentrischer:, ringförmigen Schleifeinrichtungen mit fο atom Sohleifmütalgehalt aufweist_B in wdicher> Diamant te liehen in jeweils vorbestimmten, gleich» attfilgezi Konzentrationen und Teilchengrc<£en eingebettet »ind und welche im wesentlichen in einer Sbene liegende Schleifflächen aufveieen, wobei der Konstentrationsgrad benachbarter IconiBentrisoher Schleifeinrichtungen in einem *rorb«8iiii»ten? aunehtaenden Verhältnis von der radial Άνΰ*τεϊαη Icon son fcrieoh^a Schleifeinricbtung au« steigt, til* Siißttvmtti konjEontrie'cSie Schleifeinrichtung Diaaant-

t4i}.lciion sit; weiKintllch größerer TeilohangrOße enthält 'lic Übrigen, l^dJdl welter innen liegenden konaentri-

jeüe konnoiitrlsche Schleif»

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einrichtung eino Mohrzahl von in gleichen Abstand voneinander verlaufenden radialen Rillen enthält und wobei Mindestens zwei benachbarte konzentrische Schleif-» einrichtungen durch eino konzentrische Rille in radialen Abstand voneinander gehalten werden, und daß Einrichtungen vergesehen sind, un ein KUhlnlttel über die in einer Ebene liegenden Schleifflächen einströmen su lassen, wobei dio jeweiligen Konzentrationen entsprechender ^ Schlnifeinriehtungen in den Schleifscheiben mindestens zweier aufeinanderfolgender Stationen in e'inen vorbestimmten, abnehmenden Verhtiltnia stehen.

ΙΟ» Anlage zur stufenweisen Oberflächenbehandlung von Flachglas scheiben und dergleichen in einer Mehrzahl von Oberflächezibehandlungs-Sta-bicncm, wobei jede OberflUchenbe* har.dlunge-sstation eine Diauantschleifscheibe mit einer Mehrzahl von konzentrischen, ringförnigen Schleifein-. richtungen nit festen Schleifslttelgohalt aufweist», in

«reichen Diautantteilchen in Jeweils vorbestimmten, gleich- \. mällige» KonaeBtratianfn ued TeilcheagrJiÄen eingebettet sind und welche In w«aeiitlich*n 1» einer Äben· liegende Sohle iff lAehea atifweisen, wobei dmr Koh sen trat ioösgrad benachbarter koaxentrischer Schloifeinriehtungen la eine« vorbeetimmten:, zuuehnenden Verhältnis von der in radialer Richtung äußersten koasentrisehen Schleifeinriohtung au*

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steigt, dl« äußerste konzentrische

Diaaantteilohen «it wesentlich grußerer

enthält ale dl· übrigen, radial weiter iimea !consent riaohen Schleifeinrichtungen, J#d#

Schleifeinrichtung «in« Mehrsahl von iß gleich·»

•taad rosein&Bder verlavifeoden radial·» Rill«ι «nt hält und aindeeten· svei benaohbarte konsaatrl^oh*

Schleifeicriohtuztffeη durch eine !consent2»iist*--li* 'Rill

in radiale« Abstand voneinander gabelten verdös daß Einrichtungen vorgesehen sind, von eln'Kti&lffiifte!

fiber die in einer Ebene liegenden SohleiiTiäch&n »ia etrusien su lassen_r vob*t dl* Jevei und TellchesgruQen der Dlam&iatteilchtt» Jr.

Schleifeinrichtung«?] in de» Sctoleifscb·!!;^ .^ -/::■■·:■ ;·ιΛ::Ιγ s.*5-?^?

mirei aufelnandorfolgenden St-tionen tu *tmw ι ■:.;"-■_.o^ji-üjeion_# abnehsiendea Verhttltnls stehen.

* Verfahren aur OburflKohenbehandlusg der KauptfISLefe«ε von Flachglas scheiben und dergleichen aittcls sahl von Schleif stat ionen, -welche in einer Oberflächenbehandlungs-StrsJ· angeordnet «iod, -iadtsreh gekenn»eichii»t. dafi in Jader Schleifetation eine drehbar» Schleifscheibe «it einer Xehrsahl von !consentriechen, ringfuraigen SchleifαInrlchtungen alt fest«a Schleif« alttelgohalt verwendet werden „ in welchen Schleifaittol-»

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teilch·!! in Jeweils vorbestlaaten Koncentrationen' eingebettet sled und welohe la weseatlichea la der (fIelohen Ebene liegende Schleifflächen aufweiten, daft 41« Ylaohglaasoheiben alt vorgegebener Oesohwiadig-» keit aaohelnander durch jede der Schleifstatieaen g·- fordert werden, ua einen vorbestiaatea Qrad der Oberflächenbehandlung -von deren Hauptflachen w* ersielea,

a. dafl die Fttrderufig der ringfurmigen Schleifeinrichtuagen der Schleifaoheiben in Jeder Station auf die BauptflKehe der durch die Station geführten Scheibe nach unten jeweils gesteuert wird, um jeweils eine rorbe-•tiasite Qlasabtragung ohne Ausübung unsulässiger Belastungen auf die behandelte Seheibe su ereielen, und da£ jeder Station ein KUhlsiittel su« Einstrtoen swlsohea die jeweilige kreisftSralge SohleIffltfohe und die BauptflXohe der Scheibe arageftthrt wird, wobei nlndestens in der äußersten konzentrischen Schleifeinrichtung

" Jeder Station eine wesentlich niedrigere Eon»entration verwendet wird als in der in radialer Richtung nach innen nächstfolgenden konsentriechen Schleifeinrichtung und wobei die Jeweiligen Zonsentratioaen roa Schleifalttelteilchen In entsprechenden ring^ersilgen Sohlelf·* einrichtuegen In den Schleifscheiben von olndestens rw«i aufeinanderfolgenden aus der Kehrsehl voa Sohlelf*·

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ntatlcnon In eimw fortschreitend abnehaenden Verhältnie verwendet verdec*

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12o Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß in der äußersten konzentrischen Schleifeinrichtung jeder Station Schleifmittelteilehen Mit wesentlich größerer Teilchengröße vorwendet werden al· in einer radial weiter innen gelegenen konzentrischen Schleifeinrichtung und daß man die jeweiligen Teilohengrößen der Seshleifmittelteilchen in entsprechenden ring« förmigen Schleifeinrichtungen bei verschiedenen aufeinanderfolgenden aus der Mehrzahl von Schleifeinrichtungen in einem fortschreitend, abnehmenden Verhältnis anwendet.

Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet» daß als Schleifmittelteilchen Diamantteilchen verwendet werden, deren Konzentration 0,55 Karat/cm (9 carats per cubic inöh) nicht übersteigt ο

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