DE1565897C2 - Vorrichtung zur Erzeugung eines Strahles elektrisch geladener Teilchen, insbesondere Elektronenstrahles, zur Bearbeitung eines Werkstückes - Google Patents
Vorrichtung zur Erzeugung eines Strahles elektrisch geladener Teilchen, insbesondere Elektronenstrahles, zur Bearbeitung eines WerkstückesInfo
- Publication number
- DE1565897C2 DE1565897C2 DE1565897A DE1565897A DE1565897C2 DE 1565897 C2 DE1565897 C2 DE 1565897C2 DE 1565897 A DE1565897 A DE 1565897A DE 1565897 A DE1565897 A DE 1565897A DE 1565897 C2 DE1565897 C2 DE 1565897C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- chamber
- gas
- outlet opening
- gas flow
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 14
- 238000013016 damping Methods 0.000 claims 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 40
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/301—Arrangements enabling beams to pass between regions of different pressure
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Description
;-■ / _ ■ ■■'■·:.■■■■"■ 3 "·. ' vv ■■■ ' "■·' '■■■"■■■" ■' 4 ■' " · ■■ ■ ■
müssen. Hinzu kommt, daß auch die Druckverhält- daß zwischen der Auslaßöffnung der Hochvakuumnisse
noch eigens in Rechnung gestellt werden müs- kammer und der Durchtrittsöffnung zum, Bearbeiserir
damit sich die obengenannte Druckverteilung er- tungsraum im Strahlenweg eine stegartige Diffusor-.;
gibt, ,.λ "'.'-,., ."^,', 'Z-Z'' '\' Z^iZ-■■';'-■■■■'r ι " platte angeordnet ist, die den freien Strahlendurch-
: ,Die -durch:'\<Jie':ySÄ:-iatent^hriftj3 171943 be- 5 tritt gewährleistet, den Gasstrom indessen unter Auskannte Vorrichtung dieser Art arbeitet nach völlig lenkung aus dem~ Strahlenweg weitgehend über
unterschiedlichen Prinzipien. Sie besitzt einen Druck- beiderseits der Diffusorplatte frei bleibende Durchbehälter
und eine an diesen Druckbehälter ange- trittsquerschnitte in der Zwischendruckkammer zerschlossene
gekrümmte- rohrförmige Gasführung mit streut. ;
diskontinuierlichen. Querschnitt^ derart, daß bei io Im Vergleich zu den bekannten Vorrichtungen
Austritt eines Gases aus demDruckbehälter im Be- dieser Art wird durch diese Vorrichtung eine erhebreich
der Äustrittsöffrrang der Hochvakuumkammer liehe Verbesserung des Vakuums im Bereich der Kaein
Druck erzeugt wird, der gleich oder kleiner dem thode erzielt, da der Gasstrom so zerstreut wird, daß
Druck in der Hochvakuumkammer ist, so daß kein die mit der Zwischendruckkammer, in die die Ablen-Gas
in die Hochvakuumkammer eindringen kann. 15 kung des Gasstromes erfolgt, in Wirkverbindung ste-Um
zu vermeiden, daß die zum Werkstück gekehrte, hende Pumpe mit erheblich größerem Wirkungsgrad
in der Gasführung ausgebildete Strahlauslaßöffnung das Gas herauspumpen und sein Eindringen in die
durch Material, das vom Werkstück abgedampft ist, Hochvakuumkammer der Kathode unterbinden
verstopft wird, sieht diese bekannte Vorrichtung zu- kann. Da die Diffusorplatte stegartig ist und folglich
sätzlich einen quer zum Ladungsträgerstrahl gerich- ao nur einen kleinen Bereich der Zwischendruckkamteten
Gasstrom hohen Druckes vor, durch den das mer abdeckt, werden die durch die Strahlendurchtrittsvom
Werkstück abgedampfte Material seitlich, also öffnung der Zwischendruckkammer in die Zwinicht
in" Richtung der Hochvakuumkammer, wegge- schendruckkammer strömenden Gase zu den Seiten
spült wird. Abgesehen vom komplizierten Aufbau abgelenkt und zerstreut. Dadurch wird ihre Entferder
Gasführung, bedarf diese Vorrichtung zusätzli- 25 nung durch die mit der Zwischendruckkammer in
eher Gasbehälter und zusätzlicher Einrichtungen, um Wirkverbindung stehende Pumpe erleichtert. Das Erdie
Strömungsgeschwindigkeit der beiden Gasströme gebnis ist, daß die in die Hochvakuumkammer einim
gewünschten Sinne zu steuern. dringende Gasmenge wesentlich herabgesetzt wird.
Die deutsche Auslegeschrift 1117 793 beschreibt Die Diffusorplatte ist im einfachsten Fall als eine
ebenfalls eine Einrichtung zur Bearbeitung von Ge- 3° sich beiderseits des Strahlenweges erstreckende
genständen oder Materialien mittels Ladungsträger- schmale Platte ausgebildet, die ein vom Strahl durchstrahlen,
die ein aus konisch ineinandergeschalteten setztes Loch aufweist.
Zwischendruckkammern bestehendes Druckstufensy- Die Form der Diffusorplatte kann jedoch mannigstem
aufweist, durch das der Ladungsträgerstrahl aus faltig sein und ist nicht auf die vorerwähnte Gestalt
einem hochevakuierten Strahlerzeugungsraum in 35 beschränkt. Ist die Diffusorplatte beispielsweise als
einen unter höherem Druck stehenden Bearbeitungs- ein einseitig des Strahles angeordneter auslegerartiger
raum ausgeschleust und auf die zu bearbeitenden Ge- Arm ausgebildet, der eine den Strahl teilweise umgenstände
gelenkt wird. Der Strahlerzeugungsraum schließende Ausnehmung aufweist, so bedarf es nur
ist mit der in Strahlrichtung nächstfolgenden Zwi- einer Befestigung.
schenkammer durch eine Blende verbunden, welche 40 Sind in Strahlrichtung im Abstand voneinander
mit einem verhältnismäßig langen, als Tohrförmiger zwei einander zugekehrte auslegerartige Arme mit
Einsatz ausgebildeten Diffusionskanal versehen ist. den Strahl von entgegengesetzten Seiten teilweise
Durch diesen Diffusionskanal wird zwar erreicht, umschließenden Ausnehmungen vorgesehen, so bedaß
der Austritt des Ladungsträgerstrahles nicht be- sitzt diese Anordnung den Vorteil der zueinander
hindert wird, der Diffusionskanal stellt jedoch nur 45 axialen Ausrichtung der beiden Teile,
bedingt einen hohen Strömungswiderstand für das Bei Durchtritt des Gases durch diese Ausnehmun-
bedingt einen hohen Strömungswiderstand für das Bei Durchtritt des Gases durch diese Ausnehmun-
durch diesen einströmende Gas dar, da der Gasstrom gen kann die Ablenkung des Gasstromes gefördert
trotzdem dazu neigt,. längs der Strahlachse, also werden, wenn die freien Enden der Arme im Bereich
durch den Diffusionskanal in die Hochvakuumkam- der Ausnehmungen auf der zu Räumen niederen
mer, d. h. in die mit der Kathode versehene Kammer, 5° Drucks führenden Seite abgeschrägt sind,
einzudringen und deren Druck zu erhöhen. In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele des
einzudringen und deren Druck zu erhöhen. In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele des
Bei den bekannten Vorrichtungen, insbesondere Gegenstandes nach der Erfindung dargestellt. Darin
bei der Vorrichtung nach der. USA.-Patentschrift zeigt
3 162749, hat sich gezeigt, daß eine erhebliche Ver- Fig. 1 eine Draufsicht auf ein erstes Ausführungsbesserung des Vakuums im Bereich der Kathode er- 55 beispiel nach der Erfindung,
zielbar ist, wenn dieser Gasstrom so verteilt bzw. zer- Fig. 2 eine Seitenansicht der Vorrichtung nach
legt wird, daß die mit der Zwischenkammer, in der Fig. 1 sowie eine Seitenansicht der Hochvakuumdie
Ablenkung bzw. Diffusion des Gasstromes er- kammer, welche die Elektronenstrahlquelle enthält,
folgt, in Wirkverbindung stehende Pumpe mit erheb- F i g. 3 eine Draufsicht auf ein zweites Ausfühlich größerem Wirkungsgrad das Gas herauspumpen 6° rungsbeispiel des Gegenstandes nach der Erfindung, und sein Eindringen in den Hochvakuumbereich der Fig.4 eine Seitenansicht der Vorrichtung nach
folgt, in Wirkverbindung stehende Pumpe mit erheb- F i g. 3 eine Draufsicht auf ein zweites Ausfühlich größerem Wirkungsgrad das Gas herauspumpen 6° rungsbeispiel des Gegenstandes nach der Erfindung, und sein Eindringen in den Hochvakuumbereich der Fig.4 eine Seitenansicht der Vorrichtung nach
Kathode unterbinden kann. Fig. 3, ,
Der vorliegenden Erfindung liegt nun die Aufgabe Fig.5 eine Draufsicht auf ein drittes Ausfüh-,
zugrunde, die Ablenkung des Gasstroms aus der rungsbeispiel des Gegenstandes nach der Erfindung,
Achse des Teilchenstrahls in konstruktiv einfacherer 6S Fig.6 eine Seitenansicht der Vorrichtung nach
Weise zu verwirklichen. Fig. 5,
Zur Lösung dieser Aufgabe sieht die Erfindung bei Fig. 7 eine weitere Seitenansicht der Vorrichtung
einer Vorrichtung der eingangs genannten Art vor, nach Fig. 1.
In Fig.2 ist .-mit 1 eine Hochvakuumkammer be- Fig. 4 und 6 ersichtlich. Beim Ausführüngsbeispiei
zeichnet, die eine in der Zeichnung nicht dargestellte nach den Fig.3 und 4 ist eine als vorspringender
Elektronenstrahlquelle umgibt und ein Vakuum auf-^ Träger bzw. sogenannter Ausleger ausgebildete Dh>
weist, das kleiner ist als 10-3. Torr. Dieses Vakuum- . fusorplatte 20 mit dem einen Seitenteil des konisch
kammer dient zur Vermeidung einer Bogenzündung 5 ausgebildeten Elements 14 verbunden. Die Diffysorim
Kathodenbereich und zur Erhöhung der Lebens- platte 20 weist eine kleine Durchbrechung 22 auf, die
dauer der Kathode. Die Vakuumpumpe ist von übli- wenigstens teilweise den Elektronenstrahl 2 üm-/cher
Beschaffenheit und in der Zeichnung nicht dar- schließt. Die Diffusorplatte ist. mit eineni mittig angestellt.
Ein durch die Kathode erzeugter Elektro- geordneten erhabenen Teil versehenJ Di^1 in F i g. 2
nenstrahl 2 tritt durch einen geschoßartig ausgebilde- 10 dargestellte Dif fusorplatte 6 kann auch1 als "flache
ten Bereichs und gelangt über eine Strahlaüslaßöff- Platte ausgebildet sehvln Fig.6 ist eine Diffusornung
5 in eine evakuierte Kammer 4. Die evakuierte platte dargestellt, die aus zwei Teilen 24, 26 zusam-Kammer4
wird durch eine in der Zeichnung nicht mengesetzt ist. Gemäß Fig.5 überlappen sich diese
dargestellte übliche Vakuumpumpe auf einen Druck beiden Teile teilweise. Jeder dieser Teile weist eine
herabgesetzt, der höher ist als der in der Hochvaku- 15 kleine Ausnehmung auf, so daß (s.Fig. 5) die Überumkammerl
herrschende Druck. In Linie mit der lappung zu der in F i g. 2 dargestellten Dif fusorplatte
Strahlaustrittsöffnung 5 und innerhalb der evakuier- führt. Der Vorteil dieser Anordnung besteht in der
ten Kammer 4 befindet sich eine stegartige Diffusor- zueinander axialen Ausrichtung der beiden Teile 24
platte 6, die eine zum'Durchtritt des Elektronenstrah- und 26. Die Ablenkung des durch die öffnung 8 einles
geeignete Strahlauslaßöffnung 7 aufweist. In ao dringenden Gasstromes ist erheblich. Es ist nicht er-Elektronenstrahllängsrichtung
befindet sich weiterhin forderlich, daß jeder dieser Teile teilweise mit einer eine in einer konischen Wandung der Kammer 4 an- Ausnehmung versehen ist, da es bereits genügt, wenn
geordnete öffnung 8. Diese öffnung verbindet die der Teil 24 eine Durchbrechung aufweist, die mit
Kammer 4 mit der Umgebung 9 eines Werkstückes dem Elektronenstrahl 2 fluchtet. In diesem Fall be-13.
Zur Verbindung mit einer Hochdruckgasquelle 35 findet sich der Teil 26 axial im Abstand zum Teil 24
12 befindet sich benachbart zur öffnung 8 ein Rohr- und endet an einer zum Elektronenstrahl 2 benachstück
11. Diese Hochdruckquelle 12 dient zur Schaf- barten Stelle. Wenn jeder der Teile der Diffusorfung
eines Gasstromes hohen Druckes, der in Rieh- platte nach Fig.6 mit einer zum Elektronenstrahl2
tung zum Werkstück 13 strömt und durch, die öff- benachbarten abgeschrägten Kante versehen ist,
nung 8 tritt, um den Druckgradienten zwischen der 30 kann jede der Öffnungen der gezeigten Dif fusorplatte
Werkstückumgebung 9 und der evakuierten Kam- mit einer Schräge versehen sein, so daß bei Durchmer
4 zu verstärken. Dieser Hochdruckgasstrom ver- tritt des Gases durch diese Öffnungen dessen Ablenbessert
auch den in der Öffnung 8 herrschenden kung gefördert wird. Im Betrieb der aufgezeigten
Druckgradienten. Darüber hinaus wird durch die Vorrichtung bewirken die Diffusorplatten eine erheb-Verwendung
dieses Gasstromes hohen Druckes auch 35 liehe Verbesserung der in der Hochvakuumkammer 1
der Bereich des Druckgradienten reduziert, so daß herrschenden Druckverhältnisse. Die Druckverhältdie
Streuung und Dämpfung des Elektronenstrahles nisse schwanken hierbei in Abhängigkeit vom Abnach
seinem Austritt aus der Öffnung 8 um einen er- stand von der Öffnung 8. Ein zu geringer Abstand
heblichen Betrag herabgesetzt wird. Trotz des Vor- von der Öffnung 8 kann zu einem Bereich hohen
handenseins dieses Druckgradienten tritt ein Teil die- 40 Druckes unterhalb der Diffusorplatte führen, wohinses
Gasstromes durch die Öffnung 8 in die evakuierte gegen· ein zu großer Abstand den Gasstrom in unge-Kammer4
ein und strömt längs einer normalerweise eigneter Weise verteilen kann. Bei geeigneter Einstelkoaxial
zum Elektronenstrahl 2 ausgerichteten Linie. lung spaltet bzw. zerteilt die Diffusorplatte den Gas-Obgleich
dieser Gasstrom wesentlich dicker ist als strom und verbessert dessen Ablenkung in der Kamder
Elektronenstrahl 2, gelangt das Gas in die Kam- 45 mer, in der die Evakuierung des Gases erfolgt. Durch
mer 1 und begrenzt dadurch das in dieser Kammer er- die Verwendung der vorstehend beschriebenen Diffuhältliche
Vakuum. Zur Reduzierung dieses Gasstro- sorplatte kann das in der Kammer 1 herrschende Vames
ist die Diffusorplatte 6 zwischen der Öffnung 8 kuum um den Faktor 10 verbessert und hierdurch
und der Strahlaustrittsöffnung 5 angeordnet, so daß die Lebensdauer der Kathode erheblich erhöht werder
Gasstrom um die Diffusorplatte 6 abgelenkt und 50 den. Darüber hinaus kann die Kammer 4 mit erhöhin
die Kammer4 verteilt wird. Gemäß Fig. 1 deckt tem Wirkungsgrad evakuiert und die Kapazität der
die Diffusorplatte 6 nur einen kleinen Bereich des zur Evakuierung der Kammer 1 dienenden Pumpe
konisch ausgebildeten Teiles 14 ab. Deshalb werden, sogar reduziert werden. Sofern verschiedene Kamwie
aus Fig.7 mit ihrer Ansicht auf die andere Sei- mern hintereinandergeschaltet sind, kann.jede dieser
tenfläche der Diffusorplatte ersichtlich ist, die durch 55 Kammern mit einer Diffusorplatte versehen sein, was
die Öffnung 8 nach oben strömenden Gase zu den zu einer Verbesserung der Pumpenkapazität für die
Seiten abgelenkt und zerstreut. Die Ablenkung dieser derart angeordneten Kammern führt. Das Teil 14
Gase erleichtert ihre Entfernung durch die mit der kann auch als eine flache Platte ausgebildet sein, wo-Kammer4
in Wirkverbindung stehende Pumpe, wo- bei der ansonsten durch die Hochdruckquelle 12 verdurch
die in die Hochvakuumkammer 1 eindringende 60 ursachte, quergerichtete Gasström durchwein ! Rohr
Gasmenge wesentlich herabgesetzt wird. Die Diffu- bewirkt wird, das unter einem Winkel mit der öffsorplatte
ist mittels zweier Schrauben 15 mit dem nung 8 verbunden ist. Sofern als Quelle für die elekkonisch
ausgebildeten Teil 14 verschraubt und weist irisch geladenen Teilchen eine im anomalen Glimmgemäß
Fig.2 einen mittleren erhabenen Teil auf. entladungsbereich arbeitende Kathode dient, sind im
Die Form der stegartigen Diffusorplatte kann man- 65 Kathodenbereich höhere DDrucke zwischen 10-3 und
nigfaltig sein und ist nicht auf die in Fig. 2 gezeigte 1 Torr erwünscht. In diesem Fall ist die Bearbeitung
Gestalt beschränkt. Weitere Ausführungsbeispiele für eines in einem Vakuum von z. B. 10-^ Torr angeorddie
Ausbildung der Diffusorplatte sind aus den neten Werkstückes äußerst schwierig, da das die
Kathode umgebende Gas dazu neigt, in den Bereich
des Werkstückes zu strömen.
des Werkstückes zu strömen.
Der Gegenstand der vorliegenden Erfindung kann
dann vorteilhaft und im Sinne einer Verbesserung
des Pumpenvorganges für die Hochvakuumkammer
dann vorteilhaft und im Sinne einer Verbesserung
des Pumpenvorganges für die Hochvakuumkammer
verwendet werden, wenn die vorstehend beschriebene Diffusorplatte in geeignetem Abstand zu der
Öffnung angeordnet wird, durch die der Elektronenstrahls in die mit der Diffusorplatte versehene Kam-5
mer eindringt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (5)
1. Vorrichtung zur-Erzeugung eines Strahles einer Auslaßwandung eine in der Strahlachse lieelektrisch
geladener Teilchen, insbesondere Elek- 5 gende Strahldurchtrittsöffnung zu einem Gasatmotronenstrahles,
zur'Bearbeitung eines in einer Gas- Sphäre höheren Druckes besitzenden Arbeitsraum
atmosphäre angeordneten Werkstückes, beste- aufweist, so daß ein Gasstrom aus der Gasatmohend
aus einer Hochvakuumkammer, die wenig- Sphäre in Richtung auf die mit Abstufung niedere
stens einen Teil der strahlerzeugeriden Einrich- Drücke aufweisenden Kammern eintritt, und außertung
enthält, weiter aus einer zweiten, auf einen io dem aus einer Einrichtung zur weitgehenden Auslenbestimmten
höheren Druck evakuierten Zwi- kung dieses Gasstromes aus dem Strahl der elektrisch
schendruckkammer, in die der Strahl über eine" geladenen Teilchen.
Auslaßöffnung "der Hochvakuumkammer eintritt Aus der USA.-Patentschrift 3162 749 ist eine
und die in einer Auslaßwandung eine in der Vorrichtung dieser Art bekannt, die in ihrer allge-Strahlachse
liegende Strahldurchtrittsöffnung zu 15 meinsten Form folgendermaßen aufgebaut ist.
einem Gasatmosphäre höheren Druckes besitzen- Unter einer evakuierbaren Kammer, welche eine den Arbeitsraum, aufweist, so daß ein Gasstrom einen Strahl geladener Teilchen liefernde Quelle entaus der Gasatmosphäre in Richtung auf die mit hält und eine Austrittsöffnung für den Strahl gelade-Abstufung niedere Drücke aufweisenden Kam- ner Teilchen aufweist, ist ein in einer gasförmigen mern eintritt, und außerdem aus einer Einrich- so Atmosphäre befindlicher Träger für ein mit dem tung zur weitgehenden Auslenkung dieses Gas- Strahl geladener Teilchen zu bearbeitendes Werkstromes aus dem Strahl der elektrisch geladenen stück angeordnet. Im Bereich der genannten AusTeilchen, dadurch gekennzeichnet, trittsöffnung ist eine Einrichtung vorgesehen, mittels daß zwischen der Auslaßöffnung (5) der Hochva- derer ein Gasstrom, der durch die Austrittsöffnung kuumkammer (1) und der Durchtrittsöffnung (8) 35 auf Grund des größeren Außendrucks in die evakuzum Bearbeitungsraum im Strahlenweg eine steg- ierte Kammer einzutreten sucht, aus der Achse des artige Diffusorplatte (6, 20, 24, 26) angeordnet Strahls geladener Teilchen in Richtung auf eine die ist, die den freien Strahldurchtritt gewährleistet, Kammer evakuierende Pumpe abgelenkt wird, den Gasstrom indessen unter Auslenkung aus Durch diese im Bereich der Austrittsöffnung vorgesedem Strahlenweg weitgehend über beiderseits der 30 hene Einrichtung wird es darüber hinaus möglich, das Diffusorplatte frei bleibende Durchtrittsquer- zu bearbeitende Werkstück in geringem Abstand von schnitte in der Zwischendruckkammer (4) zer- der Austrittsöffnung anzuordnen, so daß der Strahl streut. der geladenen Teilchen in der das Werkstück umge-
einem Gasatmosphäre höheren Druckes besitzen- Unter einer evakuierbaren Kammer, welche eine den Arbeitsraum, aufweist, so daß ein Gasstrom einen Strahl geladener Teilchen liefernde Quelle entaus der Gasatmosphäre in Richtung auf die mit hält und eine Austrittsöffnung für den Strahl gelade-Abstufung niedere Drücke aufweisenden Kam- ner Teilchen aufweist, ist ein in einer gasförmigen mern eintritt, und außerdem aus einer Einrich- so Atmosphäre befindlicher Träger für ein mit dem tung zur weitgehenden Auslenkung dieses Gas- Strahl geladener Teilchen zu bearbeitendes Werkstromes aus dem Strahl der elektrisch geladenen stück angeordnet. Im Bereich der genannten AusTeilchen, dadurch gekennzeichnet, trittsöffnung ist eine Einrichtung vorgesehen, mittels daß zwischen der Auslaßöffnung (5) der Hochva- derer ein Gasstrom, der durch die Austrittsöffnung kuumkammer (1) und der Durchtrittsöffnung (8) 35 auf Grund des größeren Außendrucks in die evakuzum Bearbeitungsraum im Strahlenweg eine steg- ierte Kammer einzutreten sucht, aus der Achse des artige Diffusorplatte (6, 20, 24, 26) angeordnet Strahls geladener Teilchen in Richtung auf eine die ist, die den freien Strahldurchtritt gewährleistet, Kammer evakuierende Pumpe abgelenkt wird, den Gasstrom indessen unter Auslenkung aus Durch diese im Bereich der Austrittsöffnung vorgesedem Strahlenweg weitgehend über beiderseits der 30 hene Einrichtung wird es darüber hinaus möglich, das Diffusorplatte frei bleibende Durchtrittsquer- zu bearbeitende Werkstück in geringem Abstand von schnitte in der Zwischendruckkammer (4) zer- der Austrittsöffnung anzuordnen, so daß der Strahl streut. der geladenen Teilchen in der das Werkstück umge-
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- benden Atmosphäre so wenig wie möglich gedämpft
kennzeichnet, daß die stegartige Diffusorplatte 35 wird.
als sich beiderseits des Strahlenweges erstrek- Die Einrichtung zur .Ablenkung des in die Kam-
kende schmale Platte (6) ausgebildet ist, die ein mer eintretenden Gasstroms ist dabei in verschiedevom
Strahl (2) durchsetztes Loch (7) aufweist. nen Ausführungsformen realisierbar.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- Einmal kann im Bereich der Austrittsöffnung eine
kennzeichnet, daß die Diffusorplatte als einseitig 40 Düsenanordnung vorgesehen werden, welche senkdes
Strahles angeordneter auslegerartiger Arm recht zur Achse des Teilchenstrahls einen Gasstrom
(20) ausgebildet ist, der eine den Strahl (2) teil- in die Kammer einleitet, der seinerseits das durch die
weise umschließende Ausnehmung (22) aufweist. Austrittsöffnung eintretende Gas in Richtung auf die
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch ge- das Vakuum schaffende Pumpe ablenkt. Zum andekennzeichnet,
daß in Strahlrichtung im Abstand 45 ren kann die Austrittsöffnung zusammen mit einer
voneinander zwei einander zugekehrte ausleger- ihr gegenüberliegenden düsenartigen Anordnung an
artige Arme (24, 26) mit den Strahl (2) von ent- der anderen Kammerwand geometrisch-konstruktiv
'gegengesetzten Seiten teilweise umschließenden so gestaltet werden, daß sich in dem durch die Aus-Ausnehmungen
vorgesehen sind. trittsöffnung eintretenden Gasstrom eine derartige
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch ge- 5° Folge von Druckmaxima und -minima ausbildet, daß
kennzeichnet, daß die freien Enden der Arme im der Gasstrom insgesamt an der düsenartigen Anord-Bereich
der Ausnehmungen auf der zu Räumen nung vorbei aus der Achse des Teilchenstrahls in
niederen Drucks führenden Seite abgeschrägt Richtung auf die das Vakuum schaffende Pumpe gesind,
lenkt wird. .
55 Es ist ersichtlich, daß bei der erstgenannten Ausführungsform die Ausgestaltung einer Düsenanordnung im Bereich der Austrittsöffnung einen zusätzli-
chen konstruktiven Aufwand darstellt. Darüber hinaus wird der Teilchenstrahl nicht nur durch den
. 60 durch die Austrittsöffnung eintretenden, sondern zu
sätzlich auch noch durch den aus der Düsenanord-
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeu- nung austretenden Gasstrom beeinflußt,
gung eines Strahles elektrisch geladener Teilchen, Bei der zweitgenannten Ausführungsform ist der
gung eines Strahles elektrisch geladener Teilchen, Bei der zweitgenannten Ausführungsform ist der
insbesondere Elektronenstrahles, zur Bearbeitung konstruktive Aufwand ebenfalls erheblich, da sowohl
eines in einer Gasatmosphäre angeordneten Werk- 65 die Austrittsöffnung als auch die ihr gegenüberliestückes,
bestehend aus einer Hochvakuumkammer, gende düsenartige Anordnung geometrisch hinsichtdie
wenigstens einen Teil der strahlerzeugenden Ein- Hch ihrer eigenen Ausgestaltung und ihrer gegenseitirichtung
enthält, weiter aus einer zweiten, auf einen gen relativen Lage besonders ausgebildet werden
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US50339865A | 1965-10-23 | 1965-10-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1565897B1 DE1565897B1 (de) | 1973-08-16 |
DE1565897C2 true DE1565897C2 (de) | 1974-03-14 |
Family
ID=24001924
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1565897A Expired DE1565897C2 (de) | 1965-10-23 | 1966-10-24 | Vorrichtung zur Erzeugung eines Strahles elektrisch geladener Teilchen, insbesondere Elektronenstrahles, zur Bearbeitung eines Werkstückes |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3444350A (de) |
DE (1) | DE1565897C2 (de) |
GB (1) | GB1159565A (de) |
SE (1) | SE323569B (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3725633A (en) * | 1971-01-08 | 1973-04-03 | Westinghouse Electric Corp | Corpuscular beam in the atmosphere |
US5951886A (en) * | 1997-12-23 | 1999-09-14 | Ptr Precision Technologies | Apparatus for electron beam welding at atmospheric pressure |
GB2484517B (en) * | 2010-10-14 | 2016-03-30 | Carl Zeiss Nts Ltd | Improvements in and relating to charged particle beam devices |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL59597C (de) * | 1939-02-22 | |||
DE903017C (de) * | 1951-01-31 | 1954-02-01 | Sueddeutsche Lab G M B H | Herstellung kleiner Kugeln aus hochschmelzbaren Materialien |
DE1117793B (de) * | 1952-07-25 | 1961-11-23 | Zeiss Carl Fa | Einrichtung zur Bearbeitung von Gegenstaenden oder Materialien mittels Ladungstraegerstrahlen |
US2899556A (en) * | 1952-10-17 | 1959-08-11 | Apparatus for the treatment of substances | |
IT584331A (de) * | 1955-10-29 | |||
US3009050A (en) * | 1957-02-18 | 1961-11-14 | Zeiss Carl | Electron beam means for initiating chemical reactions |
DE1199416B (de) * | 1961-10-03 | 1965-08-26 | Heraeus Gmbh W C | Verfahren und Vorrichtung zum Schweissen von Metallen oder Nichtmetallen bei Normaldruck mittels Elektronenstrahlen |
US3174026A (en) * | 1962-06-20 | 1965-03-16 | Budd Co | Method and means of circumventing cathode maintenance in electron beam devices |
NL299874A (de) * | 1962-11-05 | |||
US3218431A (en) * | 1962-12-27 | 1965-11-16 | Gen Electric | Self-focusing electron beam apparatus |
US3162749A (en) * | 1962-12-31 | 1964-12-22 | United Aircraft Corp | Jet valve pressure staging device |
US3175073A (en) * | 1963-11-05 | 1965-03-23 | United Aircraft Corp | Split stream cross orifice |
US3171943A (en) * | 1963-11-26 | 1965-03-02 | United Aircraft Corp | Vapor deflector for electron beam machine |
-
1965
- 1965-10-23 US US503398A patent/US3444350A/en not_active Expired - Lifetime
-
1966
- 1966-10-11 GB GB45473/66A patent/GB1159565A/en not_active Expired
- 1966-10-21 SE SE14451/66A patent/SE323569B/xx unknown
- 1966-10-24 DE DE1565897A patent/DE1565897C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1565897B1 (de) | 1973-08-16 |
SE323569B (de) | 1970-05-04 |
GB1159565A (en) | 1969-07-30 |
US3444350A (en) | 1969-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0413276B1 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung von Röntgenstrahlung mit einer Plasmaquelle | |
DE2701671C3 (de) | Einrichtung zum Plasmaspritzen | |
EP1657020A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Optimierung der Kohärenz eines Flüssigkeitsstrahls für eine Materialbearbeitung und Flüssigkeitsdüse für eine solche Vorrichtung | |
DE3522888A1 (de) | Vorrichtung zum erzeugen eines plasmastrahls | |
DE2236759B2 (de) | Schußeintragungskanal für pneumatische Webmaschinen | |
DE1515201A1 (de) | Vorrichtung zur Materialbearbeitung mittels eines Korpuskularstrahles | |
DE1263201B (de) | Vorrichtung zur Erzeugung und Aufrechterhaltung eines im Inneren eines laenglichen Fluessigkeitswirbels brennenden elektrischen Lichtbogens | |
DE1565897C2 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung eines Strahles elektrisch geladener Teilchen, insbesondere Elektronenstrahles, zur Bearbeitung eines Werkstückes | |
DE2826567A1 (de) | Gasentladungslaser | |
DE2849735C2 (de) | ||
DE1087718B (de) | Verfahren und Vorrichtung fuer das Einfangen von Atomionen zur Zuendung eines Plasmas | |
DE3824047A1 (de) | Vorrichtung zum bearbeiten von werkstuecken mit strahlung | |
DE2143085A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Bohren eines von einem Kanal abzweigenden Seitenkanals | |
DE2605536C2 (de) | ||
DE1515240A1 (de) | Geraet oder Vorrichtung zum Bearbeiten von Materialien mit einem Strahl von geladenen Teilchen | |
DE2233741A1 (de) | Verfahren zur raeumlichen trennung von komponenten eines molekularstrahls | |
DE1565029B2 (de) | Vorrichtung zum schweissen von werkstoffen mit einem elektro nenstrahl | |
DE2310960B2 (de) | Gasgefüllte Entladungsröhre als Schutzvorrichtung | |
DE19810170B4 (de) | Explosions-Schnellschlußschieber | |
DE2600437C1 (de) | Vorrichtung zum Mischen von Gasströmungen | |
DE2614655C2 (de) | Kondensatorentladungs-Bolzenschweißgerät | |
DE1261971B (de) | Einrichtung zum Schweissen, Schneiden oder zur Materialbearbeitung mittels eines Ladungstraegerstrahls | |
DE2657707C2 (de) | Strömungsmittel-Ablenkventil | |
DE1215264B (de) | Plasmastrahlerzeuger | |
DE1273709B (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen raeumlich scharf begrenzter Materiestrahlen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
B1 | Publication of the examined application without previous publication of unexamined application | ||
C2 | Grant after previous publication (2nd publication) |