DE1546683A1 - Verfahren zur gleichzeitigen Gasreinigung von staubfoermigen und gasfoermigen Verunreinigungen - Google Patents
Verfahren zur gleichzeitigen Gasreinigung von staubfoermigen und gasfoermigen VerunreinigungenInfo
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01D47/00—Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
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- B01D47/06—Spray cleaning
Description
Verfahren zur gleichzeitigen Gasreinigung von staubförmigen und gasförmigen Verunreinigungen
Die Erfindung beschreibt ein Naßwaschverfahren und eine Apparatur zur Ausübung des Verfahrens zur gleichzeitigen Entstaubung
und chemischen Reinigung von Abgasen.
Die Entstaubung insbesondere von großen Abgasmengen und ihre Reinigung von schädlichen, gasförmigen Bestandteilen scheitert
in den meisten Fällen an den zu hohen Investltions- und Betriebskosten,
ist aber im Rahmen der wachsenden Bemühungen um die Luftreinhaltung von großer Wichtigkeit. Darüber hinaus ergeben
sich oft schwierige technische Probleme, die mit dem heutigen Stand der Technik nicht zu bewältigen sind. Dieses
trifft insbesondere für die Reinigung von Abgasen aus der Kunstdüngerfabrikation
zu.
Pur eine solche Aufgabe, bei der z.B. eine Abgasmenge von
500 000 nr/h gereinigt werden soll, muß aus Kostengründen ein Verfahren gewählt werden, das beide Verfahrensschritte, die Entstaubung
und die Absorption schädlicher Gase, z.B. NH,, möglichst
gleichzeitig durchführt.
Das erfindungsgemäße Verfahren besteht im wesentlichen daraus, daß in einem Naßabsoheider das (gegebenenfalls auf erhöhter
Temperatur, z.B. 650C, befindliche) Rohgas in Düsen "A" beschleunigt
wird und der Preistrahl 11B" möglichst senkrecht auf
die Waschflüssigkeit 11C" auf trifft (vgl. Pig. I). Der Abstand
"a" der DUsenmUndungen von der Flüssigkeitsoberfläche soll
dabei kleiner als die Kernstrahllänge des Freistrahles sein. Die Düsen bestehen bei großen Abgasmengen vorteilhaft aus
parallel angeordneten Schlitzdüsen. Der Gasstrahl wird beim Auftreffen auf die Flüssigkeitsoberfläohe zunäohst parallel
zur Oberfläche, später nach oben umgelenkt.
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Hierbei kommen die durch Trägheitskräfte aus dem Gasstrom zu trennenden Staubfraktionen mit dem Flüssigkeitsbad in Berührung
und werden abgeschieden. Der Abstand nbn von der Mitte des
Strahls zur seitlichen Umlenkung muß groß genug sein, damit die Bewegungsbahnen der Staubteilchen aus den Randzonen des Gasstrahls
die Flüssigkeitsoberfläche erreichen.
In der Stauzone des Freistrahls bildet sich je nach Aufblasgeschwindigkeit
und Oberflächenspannung eine Mulde in der Flüssigkeitsoberfläche. Vom Kamm des anschließenden Wellenberges
lösen sich bei höheren Aufblasgeschwindigkeiten ( > 15 m/s bei Wasser) Tropfen ab, die den Wascheffekt verstärken,
aufgrund ihrer Größe aber an der Prallwand 11D" abgeschieden
werden.
Gleichzeitig findet zwischen Gas und Flüssigkeit ein reger Stoffaustausch statt. Die im Abgas enthaltenen schädlichen,
gasförmigen Verunreinigungen werden - je nach Fahrweise - von der Waschflüssigkeit absorbiert und chemisch gebunden. Das
Abgas wird für die Nachwäsche mit Wasserdampf r~sättigt. Die
Waschflüssigkeit wird für die spätere Aufarbeitung eingedickt.
Bei einem Abgas einer Kunstdüngerfabrik mit einem Rohgasstaubgehalt
von etwa 200 mg/Nnr und einer Auftfesgesohwindlgkeit von
25 m/s betrug die Staubabscheidung z.B. in dieser Stufe 95 %>
die NH,-Auswaschung 70 % bei Zugabe von HgSO^. Der Druokverlust
betrug 50 mm WS.
Der Reinigungseffekt kann noch durch Naohsohaltung einer zweiten Verfahrensstufe verbessert werden. Hierbei geht das vorgereinigte
Gas der zweiten Wasohstufe zu, die aus Platzgründen zweckmäßig oberhalb der Stufe 1 vorgesehen Ist. Sie besteht zur Erreichung
einer großen Austausohfläohe aus vielen, in etwa 2 cm Abstand
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nebeneinander eingehängten Kunststoff-, z.B. Polyäthylen-Platten,
die zu Paketen zusammengefügt sind und von oben mit der Waschflüssigkeit
der Stufe 2 berieselt werden (vgl. Fig. 2 und 3). Die Flüssigkeit läuft als Film an den Platten ab und bildet
keine Tropfen. Die Gasgeschwindigkeit wird dabei zweckmäßig so gewählt, daß man eine turbulente Strömung unter Vermeidung
von Tropfenbildung erreicht. Sie liegt beispielsweise bei 4-5 m/s.
In dieser Waschstufe sollen aus dem Abgas die restlichen gasförmigen
Verunreinigungen und die noch vorhandenen, sehr feinen Staubteilchen durch ihre statistische Trefferwahrseheinlichkeit
mit den Austauschflächen abgeschieden werden.
Versuche an einem 2 m langen Plattenwäscher mit einer Gasgeschwindigkeit
von 2,5 m/s ergaben bei dem vorgereinigten Gas eine Staubabscheidung von 70 % und eine ΝΗ,-Absorption von
ebenfalls 70 %. Der Druckverlust dieser Waschstufe ist sehr
gering. Er beträgt ca. 1 mm WS.
Oberhalb der Plattenwaschstufe ist ein Schornstein angeordnet. Vor dem Schornsteineintritt ist zweckmäßig noch ein Tropfenabscheider
vorgesehen. Außerdem befindet sich am Fuß des Schornsteins eine Ringtasse, um das bei kalter Witterung im Schornstein
kondensierende Wasser aufzufangen.
Der Wasserstand in beiden Waschstufen wird durch einen Standregler
gehalten. Soweit erforderlich, wird ein etwaiger Gehalt an freier Säure in den Waschstufen durch pH-Messung geregelt.
Stündlich wird den Waschstufen eine bestimmte Menge (z.B. 1 m ) Waschflüssigkeit entnommen. Die Suspension von ungelöstem Staub
und gelösten Salzen der Aufblasstufe, die z.B. noch freie Säure enthält, wird nach einer Neutralisation (mit NHL)dem Fabrikationsprozess zugeführt.
ÜQ981r/1726
Der Plattenwaschstufe wird gleichzeitig die gleiche Menge Waschflüssigkeit entnommen und zur weiteren Eindickung der
Aufblasstufe zugeleitet.
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Claims (3)
1.) Verfahren zur gleichzeitigen Gasreinigung von staubförmlgen und
-^y gasförmigen Verunreinigungen, daduroh gekennzeichnet, daß das
Rohgas in Düsen beschleunigt wird und der Freistrahl möglichst senkrecht auf eine Waschflüssigkeit geleitet wird, wobei die
Aufblasgeschwindigkeit und der Abströmquerschnitt so gewählt werden, daß die im Rohgas enthaltenen staub- und/oder gasförmigen
Verunreinigungen im wesentlichen abgeschieden bzw. absorbiert werden.
2.) Verfahren nach Anspruch 1, daduroh gekennzeichnet, daß der Abstand
der DüsenmUndungen von der Plüssigkeitsoberfläohe kleiner als die Kernstrahllänge des Freistrahles gewählt wird.
3.) Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch Naohsohaltung
einer zweiten Verfahrensstufe, bei der das Gas an Platten vorbeigeleitet
wird, die filmartig mit Waschflüssigkeit berieselt werden.
K.) Verfahren nach Anspruoh J>, dadurch gekennzeichnet, daß die
Gasgeschwindigkeit so gewählt wird, daß man eine turbulente Strömung unter Vermeidung von Tropfenbildung erreicht.
009819/172·
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SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 | ||
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |