DE1522525C3 - Verfahren zum Herstellen einer Photolackmaske - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einer Photolackmaske

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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4946954B1 (cg-RX-API-DMAC10.html) * 1970-12-25 1974-12-12
NL7101522A (cg-RX-API-DMAC10.html) * 1971-02-05 1972-08-08
US3743842A (en) * 1972-01-14 1973-07-03 Massachusetts Inst Technology Soft x-ray lithographic apparatus and process
DE2454750C3 (de) * 1974-11-19 1982-03-18 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Verfahren und Anordnung zur Herstellung von Bildmustern für Masken integrierter Schaltkreise mittels aberrationsfreier Bildpunkte von Punkthologrammen
DE3071052D1 (en) * 1979-04-03 1985-10-10 Eaton Optimetrix Inc Improved step-and-repeat projection alignment and exposure system
US4573791A (en) * 1979-04-03 1986-03-04 Optimetrix Corporation Step-and-repeat projection alignment and exposure system
US4473293A (en) * 1979-04-03 1984-09-25 Optimetrix Corporation Step-and-repeat projection alignment and exposure system
US4414749A (en) 1979-07-02 1983-11-15 Optimetrix Corporation Alignment and exposure system with an indicium of an axis of motion of the system
US4452526A (en) * 1980-02-29 1984-06-05 Optimetrix Corporation Step-and-repeat projection alignment and exposure system with auxiliary optical unit
US4597664A (en) * 1980-02-29 1986-07-01 Optimetrix Corporation Step-and-repeat projection alignment and exposure system with auxiliary optical unit
US4532427A (en) * 1982-03-29 1985-07-30 Fusion Systems Corp. Method and apparatus for performing deep UV photolithography
US4577958A (en) * 1982-06-18 1986-03-25 Eaton Optimetrix, Inc. Bore-sighted step-and-repeat projection alignment and exposure system
US4577957A (en) * 1983-01-07 1986-03-25 Eaton-Optimetrix, Inc. Bore-sighted step-and-repeat projection alignment and exposure system

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Publication number Publication date
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DE1522525B2 (de) 1974-06-06
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DE1522525A1 (de) 1969-09-11
US3518083A (en) 1970-06-30
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SE348683B (cg-RX-API-DMAC10.html) 1972-09-11
GB1159570A (en) 1969-07-30

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