DE1521248A1 - Verfahren zur Dickenregelung von aufgedampften Duennschichtbauelementen - Google Patents

Verfahren zur Dickenregelung von aufgedampften Duennschichtbauelementen

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Publication number
DE1521248A1
DE1521248A1 DE19661521248 DE1521248A DE1521248A1 DE 1521248 A1 DE1521248 A1 DE 1521248A1 DE 19661521248 DE19661521248 DE 19661521248 DE 1521248 A DE1521248 A DE 1521248A DE 1521248 A1 DE1521248 A1 DE 1521248A1
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DE
Germany
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vapor
thickness
regulating
film components
integrated
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Pending
Application number
DE19661521248
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English (en)
Inventor
Aritomo Dipl-Ing Atsushi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542Controlling the film thickness or evaporation rate
    • C23C14/544Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement in the gas phase

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

  • Verfahren zur Dickenregelung von aufgedampften Dünnschichtbauelementen Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Dickenregelung auf einer Grundplatte aufgedampfter Dünnschichtbauelemente.
  • Es wurde bereits vorgeschlagen, bei einer Bedampfungsvorrichtung unter Anwendung von Elektronenstrahlen die Verdampfung des auf eine Grundplatte aufzudampfenden Materials mit Hilfe einer Regelung der Intensität der
    Elektronenstrahlung bei konstantes Dampfdruck durch-
    zuführen.
    Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, dieses Ver-
    fahren dadurch zu verbessern, daß gleichzeitig auch
    die Dicke der Dü nnschichtbauelemente .beim Aufdampfen-
    selbsttätig geregelt wird. Diese Aufgabe wirf durch ein
    Verfahren zur Dickenregelung auf einer Grundplatte auf-
    gedampfter DünnAchichtbauelemente gemäß der Erfindung
    dadurch gelbst, daß einem auf die Erwärmungsleistung
    einer Verdampfungsnuelle einwirkenden Regelkreis für
    die Konstanthaltung des Dampfdruckes eine dem Ist-Wert
    des Dampfdru«ke s proportionale Spannung entnommen und
    integriert wird und daß die Bedanpfung dann abgestellt
    wird, wenn die integzierte Spannung einen einer vorge-
    gebenen Dicke entsprechenden Sollkert erreicht hat. Bei
    der Herstellung der elektrischen Dünngchichtbauelemen-
    te mit Hilfe der Vakuumaufdampfung wird also die Wärmezuführung zu der Verdampfungsquelle so geregelt, daß die Verdampfung stets unter einem konstanten Dampfdruck stattfindet. Der jeweilige Ist-Wert des Dampfdruckes bzw. ein ihm entsprechendes elektrisches Signal wird. integriert. Mit dem integrierten Signal wird eine Blende gesteuert, die die Grundplatte gegenüber dem Dampf abschirmt,-sobald das integrierte Signal einen vorgegebenen Sollwert erreicht hat, der einer gewünschten Tricke der aufgedampften Dünnschicht entspricht.
  • Die Erfindung wird an Hand einer Figur näher erläutert. Die Figur stellt ein Blockschaltbild einer Einrichtung zur Ausübung des Verfahrens dar. Die mit einer dünnen ausgezogenen Linie miteinander verbundenen Blöcke bilden den Regelkreis für die Konstanthaltung des Dampfdruckes. Die mit einer dicken ausgezogenen Linie miteinander verbundenen-Blöcke stellen den Regelkreis für die Dickenregelung der Dünnschichtbauelemexite dar. Durch beide Regelsysteme werden sowohl der Dampfdruck als auch die Schichtdicke gleichzeitig geregelt. Einer Verdampfungsquelle 1 folgt im Regelkreis fUr die Dampfdruckregelung eine Messeinrichtung 2 für den Dampfdruck. Am_Ausgang der Messeinrichtung 2 wird ein dem jeweiligen Dampfdruck entsprechendes elektrisches Signal abgegeben. Dieses Signal wird in einem Vergleichskreis 3 mit einem aus einem Speicher 4 entnommenen Sollwert für den Dampfdruck verglichen. Die nach dem Vergleich u. U. anfallende Regelabweichung wird als Eingangsspannung einem Generatorkreis 5 zugeführt. Der Generatorkreis 5 gibt eine dem Eingangssignal proportionale Ausgangsspannung ab, die ein Stellglied 6 für die-Wärmezuführung der Verdampfungsquell e 1 beaufschlagt. Damit wird die Wärmezuführung zur Verda.mpfungs-
    quelle so geregelt, daß der Dampfdruck dem eingestell.--
    ten Solli,:,ert entspricht. Die Bedampfung wird stets
    unter. einem kcnstanteri Dämpfdruck ausgeführt'. Die Aus-
    gangsspannung der Messeiriyich:ung 2*, die dem jeweili-
    gen Dampfdruck elzt spricht , i#: ird unter. An@,endung der
    Erkenntnis, daß ihr integrierter Wert der Schichtdicke
    proportional ist, zunächst einem integrationckreis 7
    .
    zugeführt. Danach wird der integrierte Wert in einem
    zweiten Vergleichskreis 8 mit dem aus einem Speicher 9
    entnommenen Sollwert verglichen.. Wenn der integrierte
    Wert mit denn Sollwert übereinstimmt, gibt der Verg--ei.chs-
    kreis 8 an ein Stellglied 10 für eine Blende 19 ein
    Signal ,ab. Die Blende 11 sperrt den Dampf gegen'ibcr der
    zu bedampfenden Grundplatte ab. Durch die Aniven.dung
    beider Regelkreise .zur g-eichen Zeit ir:ird die Aufdampfung
    einer bestimmten Dünnsehichtdicke stets unter einer
    konstanten Bedampfungsgeschwindigkeit_durchgef[ihrt und
    damit Dsinnschichtbauelemente mit gleichbleibender
    Charakteristik und gleicher Schichtdicke erzielt. Bei
    ausgeführten Bedampfungen wurde festgestellt, daß die
    Schichtdicke durch die gleichzeitige Verv;endung beider
    Regelkreise innerhalb eines Fehlers von f 2 y geregelt
    werden kann.

Claims (1)

  1. P a t e n t a n s p r u c h Verfahren zur Dickenregelung auf einer Grundplatte aufgedampfter Dünnschichtbauelemente, dadurch gekennzeichnet, daß einen auf die Erwärmungsleistung einer Verdampfungsquelle einwirkenden Regelkreis für die Konstanthaltung des Dampfdruckes-eine dem Ist-Wert des Dampfdruckes proportionale Spannung entnommen und integriert wird und daß die Bedampfung dann abgestellt wird, wenn die integrierte Spannung einen einer vorgegebenen Dicke entsprechenden Sollwert erreicht hat.
DE19661521248 1965-03-10 1966-02-14 Verfahren zur Dickenregelung von aufgedampften Duennschichtbauelementen Pending DE1521248A1 (de)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0166991A2 (de) * 1984-06-04 1986-01-08 Nisshin Steel Co., Ltd. Verfahren zur Kontrolle der Verteilung der abgeschiedenen Menge beim Aufdampfen
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DE102010003661A1 (de) * 2010-04-06 2011-11-17 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Elektronenstrahlverdampfung dielektrischer Materialien

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