DE1521248A1 - Verfahren zur Dickenregelung von aufgedampften Duennschichtbauelementen - Google Patents
Verfahren zur Dickenregelung von aufgedampften DuennschichtbauelementenInfo
- Publication number
- DE1521248A1 DE1521248A1 DE19661521248 DE1521248A DE1521248A1 DE 1521248 A1 DE1521248 A1 DE 1521248A1 DE 19661521248 DE19661521248 DE 19661521248 DE 1521248 A DE1521248 A DE 1521248A DE 1521248 A1 DE1521248 A1 DE 1521248A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- vapor
- thickness
- regulating
- film components
- integrated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/544—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement in the gas phase
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
- Verfahren zur Dickenregelung von aufgedampften Dünnschichtbauelementen Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Dickenregelung auf einer Grundplatte aufgedampfter Dünnschichtbauelemente.
- Es wurde bereits vorgeschlagen, bei einer Bedampfungsvorrichtung unter Anwendung von Elektronenstrahlen die Verdampfung des auf eine Grundplatte aufzudampfenden Materials mit Hilfe einer Regelung der Intensität der
Elektronenstrahlung bei konstantes Dampfdruck durch- zuführen. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, dieses Ver- fahren dadurch zu verbessern, daß gleichzeitig auch die Dicke der Dü nnschichtbauelemente .beim Aufdampfen- selbsttätig geregelt wird. Diese Aufgabe wirf durch ein Verfahren zur Dickenregelung auf einer Grundplatte auf- gedampfter DünnAchichtbauelemente gemäß der Erfindung dadurch gelbst, daß einem auf die Erwärmungsleistung einer Verdampfungsnuelle einwirkenden Regelkreis für die Konstanthaltung des Dampfdruckes eine dem Ist-Wert des Dampfdru«ke s proportionale Spannung entnommen und integriert wird und daß die Bedanpfung dann abgestellt wird, wenn die integzierte Spannung einen einer vorge- gebenen Dicke entsprechenden Sollkert erreicht hat. Bei der Herstellung der elektrischen Dünngchichtbauelemen- - Die Erfindung wird an Hand einer Figur näher erläutert. Die Figur stellt ein Blockschaltbild einer Einrichtung zur Ausübung des Verfahrens dar. Die mit einer dünnen ausgezogenen Linie miteinander verbundenen Blöcke bilden den Regelkreis für die Konstanthaltung des Dampfdruckes. Die mit einer dicken ausgezogenen Linie miteinander verbundenen-Blöcke stellen den Regelkreis für die Dickenregelung der Dünnschichtbauelemexite dar. Durch beide Regelsysteme werden sowohl der Dampfdruck als auch die Schichtdicke gleichzeitig geregelt. Einer Verdampfungsquelle 1 folgt im Regelkreis fUr die Dampfdruckregelung eine Messeinrichtung 2 für den Dampfdruck. Am_Ausgang der Messeinrichtung 2 wird ein dem jeweiligen Dampfdruck entsprechendes elektrisches Signal abgegeben. Dieses Signal wird in einem Vergleichskreis 3 mit einem aus einem Speicher 4 entnommenen Sollwert für den Dampfdruck verglichen. Die nach dem Vergleich u. U. anfallende Regelabweichung wird als Eingangsspannung einem Generatorkreis 5 zugeführt. Der Generatorkreis 5 gibt eine dem Eingangssignal proportionale Ausgangsspannung ab, die ein Stellglied 6 für die-Wärmezuführung der Verdampfungsquell e 1 beaufschlagt. Damit wird die Wärmezuführung zur Verda.mpfungs-
quelle so geregelt, daß der Dampfdruck dem eingestell.-- ten Solli,:,ert entspricht. Die Bedampfung wird stets unter. einem kcnstanteri Dämpfdruck ausgeführt'. Die Aus- gangsspannung der Messeiriyich:ung 2*, die dem jeweili- gen Dampfdruck elzt spricht , i#: ird unter. An@,endung der Erkenntnis, daß ihr integrierter Wert der Schichtdicke proportional ist, zunächst einem integrationckreis 7 . zugeführt. Danach wird der integrierte Wert in einem zweiten Vergleichskreis 8 mit dem aus einem Speicher 9 entnommenen Sollwert verglichen.. Wenn der integrierte Wert mit denn Sollwert übereinstimmt, gibt der Verg--ei.chs- kreis 8 an ein Stellglied 10 für eine Blende 19 ein Signal ,ab. Die Blende 11 sperrt den Dampf gegen'ibcr der zu bedampfenden Grundplatte ab. Durch die Aniven.dung beider Regelkreise .zur g-eichen Zeit ir:ird die Aufdampfung einer bestimmten Dünnsehichtdicke stets unter einer konstanten Bedampfungsgeschwindigkeit_durchgef[ihrt und damit Dsinnschichtbauelemente mit gleichbleibender Charakteristik und gleicher Schichtdicke erzielt. Bei ausgeführten Bedampfungen wurde festgestellt, daß die Schichtdicke durch die gleichzeitige Verv;endung beider Regelkreise innerhalb eines Fehlers von f 2 y geregelt werden kann.
Claims (1)
- P a t e n t a n s p r u c h Verfahren zur Dickenregelung auf einer Grundplatte aufgedampfter Dünnschichtbauelemente, dadurch gekennzeichnet, daß einen auf die Erwärmungsleistung einer Verdampfungsquelle einwirkenden Regelkreis für die Konstanthaltung des Dampfdruckes-eine dem Ist-Wert des Dampfdruckes proportionale Spannung entnommen und integriert wird und daß die Bedampfung dann abgestellt wird, wenn die integrierte Spannung einen einer vorgegebenen Dicke entsprechenden Sollwert erreicht hat.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1413465 | 1965-03-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1521248A1 true DE1521248A1 (de) | 1969-07-24 |
Family
ID=11852647
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19661521248 Pending DE1521248A1 (de) | 1965-03-10 | 1966-02-14 | Verfahren zur Dickenregelung von aufgedampften Duennschichtbauelementen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1521248A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0166991A2 (de) * | 1984-06-04 | 1986-01-08 | Nisshin Steel Co., Ltd. | Verfahren zur Kontrolle der Verteilung der abgeschiedenen Menge beim Aufdampfen |
EP0326843A1 (de) * | 1988-01-29 | 1989-08-09 | Multi-Arc Oberflächentechnik GmbH | Beschichtungskammer mit geregelter Zusammensetzung der Gasatmosphäre |
DE102010003661A1 (de) * | 2010-04-06 | 2011-11-17 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Elektronenstrahlverdampfung dielektrischer Materialien |
-
1966
- 1966-02-14 DE DE19661521248 patent/DE1521248A1/de active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0166991A2 (de) * | 1984-06-04 | 1986-01-08 | Nisshin Steel Co., Ltd. | Verfahren zur Kontrolle der Verteilung der abgeschiedenen Menge beim Aufdampfen |
EP0166991A3 (en) * | 1984-06-04 | 1988-03-30 | Nisshin Steel Co., Ltd. | Method of controlling deposition amount distribution in a vacuum deposition plating |
EP0326843A1 (de) * | 1988-01-29 | 1989-08-09 | Multi-Arc Oberflächentechnik GmbH | Beschichtungskammer mit geregelter Zusammensetzung der Gasatmosphäre |
DE102010003661A1 (de) * | 2010-04-06 | 2011-11-17 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Elektronenstrahlverdampfung dielektrischer Materialien |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CH663801A5 (de) | Verfahren zum einstellen der oertlichen verdampfungsleistung an verdampfern in vakuumaufdampfprozessen. | |
CH668631A5 (de) | Verfahren zum regeln einer raumheizanlage. | |
DE1521248A1 (de) | Verfahren zur Dickenregelung von aufgedampften Duennschichtbauelementen | |
DE3244761C2 (de) | Eindampfverfahren und Vorrichtung | |
EP0368037B1 (de) | Verfahren zur Steuerung der Verdampfungsratenverteilung eines Elektronenstrahls | |
WO2021078644A1 (de) | Verfahren zum betrieb eines qcm-sensors | |
DE102009005297B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten mittels Vakuumbedampfung | |
DE843787C (de) | Verfahren und Einrichtung zur Erzeugung von UEberzuegen durch Aufdampfen oder kathodische Bestaeubung | |
DE1043010B (de) | Einrichtung zum Verdampfen fluessiger Substanzen, insbesondere zum Verdampfen von Selen zur Herstellung von Trockengleichrichtern | |
DE102009005513A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur langzeitstabilen Beschichtung von Substraten mittels Elektronenstrahlverdampfung | |
EP2669480B1 (de) | Verfahren zum Betreiben einer Solaranlage | |
EP0507730B1 (de) | Einrichtung zum lastabhängigen Regeln der Speisewassermenge eines Zwanglaufdampferzeugers | |
DE3249168C2 (de) | Eindampfverfahren und -vorrichtung | |
DE2004184A1 (de) | Verfahren zum Aufdampfen von Metallen oder Metallverbindungen auf einen Traeger mit Hilfe einer Elektronenstrahlheizung sowie Bedampfungseinrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens | |
DE344599C (de) | ||
DE102017126126A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Dampfes durch die Verwendung von in einem Regelmodus gewonnenen Steuerdaten | |
DE102010009794A1 (de) | Verfahren und Anordnung zur Beschichtung von beheizten Substraten in Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlagen | |
DE1519935C (de) | Vorrichtung zur selbsttätigen Regelung der Feststoffkonzentration der Losung bei der Verdampfungskristallisa tion | |
DE565235C (de) | Dampfanlage mit Schichtenspeicher | |
DE10141522C1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Leuchtstoffschicht | |
DE480158C (de) | Dampfkraftanlage zur Erzeugung von Hochdruckdampf fuer Kraftzwecke und von Niederdruckdampf fuer Koch-, Heiz- und aehnliche Zwecke | |
DE3926035A1 (de) | Verfahren zum aufbereiten von dampfbaedern | |
DE102020131329A1 (de) | Dampfbügelvorrichtung und Verfahren zu deren Betrieb | |
DE3035992A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum auftragen von materialien durch aufdampfen | |
WO2007012529A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum trocknen eines textilstücks |