DE1483294B2 - Use of a substance as a photoconductive material - Google Patents
Use of a substance as a photoconductive materialInfo
- Publication number
- DE1483294B2 DE1483294B2 DE1483294A DER0042327A DE1483294B2 DE 1483294 B2 DE1483294 B2 DE 1483294B2 DE 1483294 A DE1483294 A DE 1483294A DE R0042327 A DER0042327 A DE R0042327A DE 1483294 B2 DE1483294 B2 DE 1483294B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- photoconductive
- image
- electrostatic
- selenium
- charge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08207—Selenium-based
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/167—X-ray
- Y10S430/168—X-ray exposure process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
3 43 4
ansprechender photoleitender Werkstoff, vorge- verwendet, die einen geringen Gehalt an KristallitenAppealing photoconductive material, previously used, which has a low content of crystallites
schlagen. oder Kristallisationskeimen, die gleichmäßig in derbeat. or nuclei that are uniform in the
Alle Mengenangaben gelten in Gewichtsprozent. Schicht verteilt sind, aufweisen.All quantities are given in percent by weight. Layer are distributed, have.
Ein derartiger Werkstoff läßt sich in sehr eben- Daneben können den photoleitenden Mischungen
mäßigen, dünnen Filmen als photoleitende Schicht 5 noch andere Elemente oder Komponenten hinzuauftragen.
Ein besonderer Vorteil dieses photo- gefügt werden, die spezifische Wirkungen auf die
leitenden Werkstoffes besteht darin, daß eine hieraus spektrale Empfindlichkeit oder auf die Herabsetzung
hergestellte photoleitende Schicht eine besonders der Kristallisationsneigung hervorrufen,
hohe Empfindlichkeit für kürzerwellige Strahlungen Für zahlreiche Verwendungszwecke ist es wünals
das sichtbare Licht aufweist, wenn diese photo- ίο sehenswert, die Mischung als Überzug auf eine Unterleitende Schicht zuvor durch eine positive Aufladung lage aufzubringen, wodurch die mechanische Stabilisensibilisiert
worden ist, während dieselbe Schicht tat, der Kontakt mit einer Spannungsquelle od. dgl.
gegenüber einer Belichtung mit sichtbarem Licht erheblich verbessert werden können. So kann die
praktisch unempfindlich ist. Mit einer solchen vor- Mischung z. B. bei Verwendung für Kopierplatten
behandelten photoleitenden Schicht versehene Ko- 15 für den elektrostatischen Trockendruck als Überzug
pierplatten eignen sich somit insbesondere für die auf eine Unterlage aus leitendem Material, wie es
Verwendung bei Aufnahmen oder Abbildungen, die Aluminium, Magnesium, Messing, Stahl oder Chrom,
mit einer elektromagnetischen Strahlung erzeugt wer- bzw. aus nichtleitendem Material, wie Glas, Papier,
den, die kurzwelliger als sichtbares Licht ist. Kunststoff od. dgl., soweit dieses mit einem ÜberzugSuch a material can be used in a very even manner. In addition, other elements or components can be added to the photoconductive mixtures with moderate, thin films as photoconductive layer 5. A particular advantage of this photo-joining, the specific effects on the conductive material, is that a spectral sensitivity or a photoconductive layer produced from it cause a particularly tendency to crystallize,
high sensitivity to shorter-wave radiation.For numerous purposes, if visible light is present, it is worth seeing, if this photo- ίο, to apply the mixture beforehand as a coating on a subconducting layer by means of a positive charge, whereby the mechanical stabilization has been sensitized while the same layer was doing , the contact with a voltage source or the like can be significantly improved compared to exposure to visible light. So that is practically insensitive. With such a pre-mix z. B. when used for photoconductive layer treated photoconductive layer for electrostatic dry printing as a coating pierplatten are thus particularly suitable for on a base of conductive material, as it is used in recordings or images, the aluminum, magnesium, brass, steel or Chromium, generated with electromagnetic radiation or made of non-conductive material such as glass or paper, which is shorter-wave than visible light. Plastic or the like, as far as this with a coating
Eine besonders »rasch ermüdende« Kopierplatte 20 aus leitendem Material, wie Gold, Zinnoxyd, Kupferergibt sich, wenn diese mit einer photoleitenden jodid od~ dgl., versehen ist, aufgebrachfwerden. Schieht· aus dem obengenannten photoleitenden Durch die Verweifiiüng-einer Unterlage aus leitendem Werkstoff hergestellt wird und die photoleitende Material wird nicht nur die mechanische Stabilität Schicht vor der Belichtung mit einer negativen Auf- der hergestellten Kopierplatte wesentlich vergrößert, ladung sensibilisiert wird. Eine derartige Platte eignet 25 vielmehr wird darüber hinaus durch die Anwesenheit sich besonders für Vervielfältigungen unter Verwen- einer unmittelbar unterhalb der Oberfläche der dung einer elektromagnetischen Strahlung im sieht- Schicht liegenden elektrisch geerdeten Fläche die baren Bereich. Aufladung mittels einer Corona-Entladung wesent-A particularly "quickly tiring" copy plate 20 made of conductive material such as gold, tin oxide, copper results if this is provided with a photoconductive iodide or the like, be opened. From the above-mentioned photoconductive material, a layer of conductive material emerges Material is made and the photoconductive material is not just mechanical stability Layer before exposure with a negative on the copying plate produced is significantly enlarged, charge is sensitized. Such a plate is more suitable for its presence is particularly suitable for reproductions using a directly below the surface of the Generation of electromagnetic radiation in the electrically grounded surface lying in the layer area. Charging by means of a corona discharge is essential
Der photoleitende Werkstoff wird durch Mischen lieh erleichtert.The photoconductive material is lent facilitated by mixing.
von Thallium mit amorphem Selen hergestellt. Ob- 30 Dabei ist noch zu erwähnen, daß zu diesem Zweck gleich zur Herstellung der Mischung bis zu etwa 5 % das »leitende Material« nicht notwendigerweise ein Thallium verwendet werden können, ist zu bedenken, metallischer Leiter sein muß, vielmehr genügt es, daß Selen in amorpher Form gegenüber Thallium wenn der elektrische Widerstand um einige Zehneraußerordentlich empfindlich ist und daß Thallium- potenzen niedriger ist als der Widerstand des belich-Zusätze bis herab zu 0,0001% merkliche Effekte in 35 teten Photoleiters. Es besteht deshalb die Möglichbezug auf die Eigenschaften der Legierung zeigen. keit, als Unterlage einige spezielle Gläser und Kunst-Ais besonders günstiger Bereich hat sich ein Zusatz stoffe sogar ohne einen metallischen Überzug zu vervon etwa 0,0005 °/o bis etwa 0,002% erwiesen, zumal wenden. Werden andererseits bestimmte andere Megrößere Zugaben oft eine Verunreinigung mit sich thoden zum Aufladen angewandt, wie z. B. das in bringen, ohne zusätzliche günstige Effekte zu 40 der USA.-Patentschrift 2 922 883 beschriebene Verzeitigen, fahren einer beiderseitigen Coronaaufladung, so kannmade of thallium with amorphous selenium. It should also be mentioned that for this purpose at the same time, up to about 5% of the "conductive material" is not necessarily included in the preparation of the mixture Thallium can be used, must be considered, a metallic conductor must be, rather it is sufficient that selenium in amorphous form compared to thallium when the electrical resistance is extremely sensitive by a few tens and that thallium potencies is lower than the resistance of the Belich additives down to 0.0001% noticeable effects in 35 th photoconductors. There is therefore the possibility of reference point to the properties of the alloy. some special glasses and art ais as a base An additive has become a particularly favorable area, even without a metallic coating about 0.0005% to about 0.002%, especially since turning. On the other hand, they become certain other larger ones Additions often contaminate themselves with charging methods applied, such as. B. the in bring, without additional beneficial effects to 40 of the United States patent 2,922,883 described time, drive a bilateral corona charge, so can
Das Thallium kann dem Selen nach irgendeiner an die Leitfähigkeit der Unterlage praktisch vernach-The thallium can practically neglect the selenium according to any of the conductivity of the substrate.
sich bekannten Methode hinzugefügt werden. So lässigt werden, so daß sich die Auswahl des Materialsknown method can be added. So be casual, so that the choice of material
kann das Selen beispielsweise auf eine Temperatur für die Unterlage nur nach dessen mechanischenFor example, the selenium can be adjusted to a temperature for the substrate only after its mechanical
oberhalb seines Schmelzpunktes erhitzt werden, wo- 45 Eigenschaften richtet.heated above its melting point, where 45 properties are aimed.
nach anschließend dem geschmolzenen Selen die er- Zum Auftragen der Mischung auf die Unterlageafter then the melted selenium, the To apply the mixture to the surface
forderliche Menge Thallium hinzugefügt wird. eignen sich praktisch alle an sich bekannten Ver-required amount of thallium is added. practically all known
Das Vermischen erfolgt zweckmäßigerweise unter fahren, bei denen der amorphe Zustand der MischungMixing is expediently carried out under drive in which the amorphous state of the mixture
Rühren, um eine innige Vermischung der beiden nicht zerstört wird, d. h., daß er praktisch eingefrorenStir in order not to destroy an intimate mixing of the two, d. that is, that he was practically frozen
Komponenten zu erreichen. An dieser Stelle muß 50 wird, ohne daß es zu einer merklichen KristallisationComponents to achieve. At this point it must be 50 without any noticeable crystallization
erwähnt werden, daß es nicht sicher ist, ob das hin- des Materials kommt. Zu diesen Verfahren zählenit should be mentioned that it is not certain whether this is the wrong material. These procedures include
zugefügte Thallium mit dem im Überschuß vorhan- beispielsweise das Aufdampfen im Vakuum auf eineadded thallium with the present in excess, for example evaporation in a vacuum on a
denen Selen unter Bildung einer geringen Menge gekühlte Unterlage, sowie Gießen, Tauchen oderwhich selenium with the formation of a small amount of cooled base, as well as pouring, dipping or
Thalliumselenid eine Reaktion eingeht oder ob eine ähnliche Verfahren.Thallium selenide undergoes a reaction or whether a similar process.
feste Lösung der beiden Komponenten dabei entsteht. 55 Als besonders vorteilhaftes Verfahren hat sich je-Demzufolge ist die hier verwendete Bezeichnung doch das Aufdampfen im Vakuum erwiesen, zumal »Mischung« in ihrem weitesten Sinne zu verstehen. die dadurch erhaltenen Oberflächen außerordentlich Demnach werden sowohl diejenigen Materialien er- glatt und gleichmäßig sind. Die Dicke der herzustelfaßt, die einen geringen Anteil Thalliumselenid, in lenden Schichten richtet sich nach dem jeweiligen gelöster Form, enthalten, als auch solche, die aus 60 Verwendungszweck der fertigen Platten. So sind beiden ursprünglichen Komponenten Selen und Thal- spielsweise für manche Anwendungsgebiete sehr lium ohne eine geringe Beimengung eines Reaktions- dünne Überzüge erforderlich, deren Schichtdicke in Produktes bestehen. Dabei ist jedoch die erstgenannte der Größenordnung von wenigen Mikron liegt. Für Möglichkeit, d. h. die Bildung einer Bindung, die die Verwendung bei den allgemein üblichen elektrowahrscheinlichere. Die Mischung wird in amorpher 65 statischen Trockendruckkopierverfahren sind da-Form abgeschieden. Diese ist der amorphen Modi- gegen Schichtdicken von etwa 40 μΐη bis etwa 100 μία fikation des Selens sehr ähnlich. Die Bezeichnung zweckmäßig. Im Röntgengebiet oder bei Anwendung »amorphe Form« wird hier auch für solche Schichten anderer sehr energiereicher Strahlung sind noch be-solid solution of the two components is created. 55 Evaporation in a vacuum has therefore proven to be a particularly advantageous process, especially since "mixture" is to be understood in its broadest sense. the surfaces thus obtained are extraordinary. Accordingly, both those materials will be smooth and uniform. The thickness of the substances to be produced, which contain a small proportion of thallium selenide, in loin layers, depends on the particular dissolved form, as well as those which are made up of the intended use of the finished panels. For example, the two original components selenium and thal- lium are required for some areas of application without the addition of a small amount of reaction- thin coatings, the layer thickness of which exists in the product. However, the former is on the order of a few microns. For possibility, that is, the formation of a bond, which is more likely to be used in the general electromechanical. The mixture is deposited in amorphous 65 static dry print copying processes are da-form. This is very similar to the amorphous mode against layer thicknesses of around 40 μΐη to around 100 μία fication of selenium. The designation appropriate. In the X-ray area or when using the »amorphous form«, layers of other very high-energy radiation are also required here.
deutend größere Schichtdicken erforderlich, beispielsweise in der Größenordnung von etwa 250 μΐη bis etwa 500 μΐη, um die Bremswirkung der größeren Schichtdicke auszunützen.Significantly greater layer thicknesses are required, for example on the order of about 250 μm up to about 500 μΐη to the braking effect of the larger Use layer thickness.
Ein besonderer Vorzug des genannten photoleitenden Werkstoffes ist darin zu sehen, daß bei Verwendung des Werkstoffes zur Herstellung von Kopierplatten für das elektrostatische Trockendruckverfahren diese Kopierplatten je nach der Polarität der Aufladung, merkliche unterschiedliche Eigenschaften zeigen. Wird z. B. eine unter Verwendung dieses Werkstoffes hergestellte Platte mit einer positiven Aufladung versehen, so ist sie im sichtbaren Bereich praktisch unempfindlich, während im Röntgenbereich (bei Wellenlängen von etwa 10~6 bis 10 "9 cm) eine außerordentlich hohe Empfindlichkeit erhalten bleibt. Wird demgegenüber eine derartige Platte mit einer negativen Aufladung versehen, so ist sie im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums (bei Wellenlängen von etwa 4000 bis 7000 Angström) sehr empfindlich und zeigt außerdem eine außerordentlich starke Remanenz des ■ Ermüdungseffektes nach der ersten Belichtung. Wird die Platte nach der anfänglichen Belichtung von Zeit zu Zeit wieder aufgeladen, so bleibt demzufolge nur in den ursprünglich unbelichteten Bereichen ein Ladungsmuster zurück. Dieses zurückbleibende Ladungsmuster kann dann nach jedem Aufladen entwickelt und auf ein Kopierpapier übertragen werden, so daß es auf diese Weise gelingt, eine Vielzahl von Kopien durch Vervielfältigen des Originals herzustellen, ohne daß dabei das photoleitende Material vor jedem Durchlaufen des Vervielfältigungsprozesses erneut belichtet werden muß.A particular advantage of the photoconductive material mentioned is that when the material is used for the production of copy plates for the electrostatic dry printing process, these copy plates show noticeably different properties depending on the polarity of the charge. Is z. If, for example, a plate made using this material is positively charged, it is practically insensitive in the visible range, while extremely high sensitivity is retained in the X-ray range (at wavelengths of about 10 ~ 6 to 10 ~ 9 cm) If such a plate is provided with a negative charge, it is very sensitive in the visible region of the electromagnetic spectrum (at wavelengths of about 4000 to 7000 Angstroms) and also shows an extremely strong remanence of the fatigue effect after the first exposure After the initial exposure, a charge pattern remains only in the originally unexposed areas by duplicating n of the original without having to re-expose the photoconductive material each time it goes through the duplication process.
Im folgenden soll die Erfindung noch an weiteren Ausführungsbeispielen erläutert werden.In the following, the invention is to be explained using further exemplary embodiments.
99 Gewichtsteile hochreines Selen (Reinheitsgrad 99,99 % und mehr) und 1 Gewichtsteil Thallium (in elementarer Form) werden zunächst, z. B. durch gemeinsames Erhitzen in einer Stickstoffatmosphäre, vorgemischt. Diese Vormischung wird in einem Schiffchen aus inertem Material, z. B. Pyrexglas, in ein evakuierbares Verdampfungsgefäß eingebracht und dort unterhalb einer mit einem dünnen Oxydfilm überzogenen Aluminiumplatte angeordnet. Dann wird das Verdampfungsgefäß verschlossen und bis zum Erreichen eines Vakuums von etwa 10 ~5 mm Hg evakuiert; die Aluminiumplatte wird dabei auf einer Temperatur von etwa 50 bis 60° C gehalten. Dann wird das Selen-Thallium-Gemisch durch Beheizen des Pyrexschiffchens auf eine Temperatur von etwa 280° C verdampft und kondensiert sich an der Oberfläche der Aluminiumplatte unter Bildung eines gleichmäßigen Überzugs. Obgleich Thallium einen Schmelzpunkt von etwa 300° C besitzt, löst es sich in dem bei etwa 215° C schmelzenden Selen unter Bildung einer festen Lösung und wird dann zusammen mit dem Selen verdampft. Auf diese Weise wird ein sehr gleichmäßiger, glänzender Überzug aus amorphem Material erhalten, dessen Schichtdicke etwa 160 μτα beträgt. Nach Beendigung des Aufdampfvorgangs wird das Verdampfungsgefäß unter Aufrechterhaltung des Unterdrucks abgekühlt. Dann wird das Gefäß geöffnet und die Platte herausgenommen. Anschließend wird die so hergestellte Platte mittels einer Corona-Entladung mit einer positiven Aufladung versehen. Die anschließende Überprüfung der Platte mit Hilfe eines Elektrometers zeigt, daß die anfängliche Aufladung der Platte etwa 760 Volt beträgt.99 parts by weight of high-purity selenium (degree of purity 99.99% and more) and 1 part by weight of thallium (in elemental form) are initially, for. B. premixed by heating them together in a nitrogen atmosphere. This premix is placed in a boat made of inert material, e.g. B. Pyrex glass, placed in an evacuable evaporation vessel and arranged there below an aluminum plate coated with a thin oxide film. Then the evaporation vessel is closed and evacuated until a vacuum of about 10 ~ 5 mm Hg is reached; the aluminum plate is kept at a temperature of about 50 to 60 ° C. The selenium-thallium mixture is then evaporated by heating the Pyrex boat to a temperature of about 280 ° C. and condenses on the surface of the aluminum plate to form a uniform coating. Although thallium has a melting point of about 300 ° C, it dissolves in the selenium, which melts at about 215 ° C, to form a solid solution and is then evaporated together with the selenium. In this way, a very uniform, glossy coating of amorphous material is obtained, the layer thickness of which is about 160 μτα . After the evaporation process has ended, the evaporation vessel is cooled while maintaining the negative pressure. Then the jar is opened and the plate is removed. The plate produced in this way is then provided with a positive charge by means of a corona discharge. The subsequent examination of the plate with the aid of an electrometer shows that the initial charge on the plate is about 760 volts.
Eine zweite Überprüfung, nachdem die Platte für die Dauer von drei Minuten dem Tageslicht ausgesetzt war, ergab eine Aufladung von mehr als 700VoIt. Eine erneute Belichtung der gleichenA second check after the panel has been exposed to daylight for three minutes resulted in a charge in excess of 700VoIt. Another exposure of the same
ίο Platte mit einer herkömmlichen Lichtquelle, deren Strahlungsbereich im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums liegt, hinterläßt in den belichteten Bereichen ebenfalls praktisch die ganze ursprüngliche Aufladung (die verbleibende Aufladung beträgt etwa 675 Volt). Der Versuch, die derart belichtete Platte zu entwickeln, erwies sich als erfolglos. Die gleiche Platte wird dann gereinigt und abermals mit einer Aufladung versehen (Anfangspotential wiederum 760 Volt). Dann wird die Platte mitίο plate with a conventional light source whose Radiation range lies in the visible range of the electromagnetic spectrum, leaves behind in the exposed Areas also have practically all of the original charge (the remaining charge is about 675 volts). Attempts to develop the plate exposed in this way proved unsuccessful. The same plate is then cleaned and charged again (initial potential again 760 volts). Then the plate with
ao Röntgenstrahlen belichtet. Beispielsweise um die Abbildung ^ines großen Rinderknochens herzustellen. Das hierbei entstehende latente elektrostatische Bild wird anschließend mittels einer Kaskadenentwicklung in ein sichtbares Bild übergeführt. Man erhält auf diese Weise ein qualitativ hochwertiges sichtbares Bild des Rinderknochens. Das verwendete Entwicklergemisch enthielt feinteilige Toner-Partikeln und mit einem Überzug versehene, kugelförmige Trägerpartikeln. Nach Beendigung des Entwicklungsvorgangs wird dann das entwickelte Bild auf ein Kopierpapier übertragen und dort durch Erwärmen fixiert.ao X-rays exposed. For example the figure ^ to make a large bovine bone. The resulting latent electrostatic image is then converted into a visible image by means of a cascade development. One receives on this way a high quality visible image of the bovine bone. The developer mix used contained finely divided toner particles and coated, spherical carrier particles. After completion of the development process, the developed image is then printed on a copy paper transferred and fixed there by heating.
Die im vorhergehenden Beispiel I beschriebene Platte wird in der gleichen Weise wie im vorhergehenden Beispiel mittels einer Corona-Entladung mit einer Aufladung versehen. Der einzige Unterschied besteht darin, daß die Polarität der Aufladung entgegengesetzt derjenigen im Beispiel I ist, d. h., die Platte wird mit einer negativen Aufladung versehen. Die anfängliche Aufladung der Platte beträgt, wie die Messung mit Hilfe eines Elektrometers zeigt, 675 Volt. Die Platte wird dann in Kontakt mit einem Original mit einer Lichtquelle belichtet und in'der an Hand des 1. Beispiels erläuterten Weise entwickelt. Nach dem Übertragen des entwickelten Bildes auf ein Kopierpapier, wird die Platte erneut aufgeladen und mittels eines Elektrometers überprüft. Obgleich die Platte in den bei der ersten Belichtung nicht belichteten Bereichen praktisch die gesamte Aufladung aufrechterhält, findet in den zuvor belichteten Bereichen eine Entladung von nahezu 98°/o statt. Die Platte wird dann ohne zusätzliche Belichtung entwickelt, das entwickelte Bild wird anschließend auf ein Kopierpapier übertragen und dort fixiert. Man erhält so eine qualitativ hochwertige Abbildung des ersten Originals. Auch bei etwa zehnmaliger Wiederholung dieses Vorgangs konnte keine merkliche Verschlechterung der Bildqualität der Kopien festgestellt werden.The plate described in Example I above is made in the same manner as in the previous one Example provided with a charge by means of a corona discharge. The only difference is that the polarity of the charge is opposite to that in Example I; H., the plate is given a negative charge. The initial charge on the plate is as the measurement with the help of an electrometer shows, 675 volts. The plate is then in contact with one Original exposed to a light source and developed in the manner explained on the basis of the 1st example. After transferring the developed image to copy paper, the plate is recharged and checked by means of an electrometer. Although the plate was not exposed in the first exposure Areas practically maintaining the entire charge takes place in the previously exposed areas a discharge of nearly 98 per cent took place. The plate is then developed without additional exposure, the developed image is then transferred to copy paper and fixed there. Man thus receives a high-quality image of the first original. Even with about ten repetitions this operation did not detect any noticeable deterioration in the image quality of the copies will.
Beispiele III bis VIIExamples III to VII
Nach der im Beispiel I beschriebenen Methode wurden noch weitere Kopierplatten hergestellt, die sich von der ersten Platte durch einen unterschiedlichen Thalliumgehalt unterschieden. Der Thalliumgehalt betrug beim dritten Beispiel 0,5%; beim vierten Beispiel 0,1%; beim fünften Beispiel 0,05%;According to the method described in Example I, further copy plates were produced which differed from the first plate by a different thallium content. The thallium content in the third example was 0.5%; in the fourth example 0.1%; in the fifth example 0.05%;
beim sechsten Beispiel 0,01 % und beim siebten Beispiel 0,0001 °/o.in the sixth example 0.01% and in the seventh example 0.0001 ° / o.
Jede der Platten wurde in der an Hand der Beispiele I und II erläuterten Weise untersucht. Dabei wurden im wesentlichen gleiche Ergebnisse erzielt, abgesehen von einer graduellen Abnahme — entsprechend dem in der Mischung enthaltenen Thalliumgehalt — der gespeicherten Aufladung nach einer etwa drei Minuten dauernden Belichtung mit sichtbarem Licht. Diese Abnahme ist jedoch außerordentlich unbedeutend, da die Platte nach Beispiel VII mit einem Thalliumgehalt von 0,0001% nach dieser Belichtung immer noch eine Aufladung von 500VoIt zeigt und da ihre Empfindlichen1 im Röntgenbereich genauso groß ist, wie diejenige der Platte mit einem Thalliumgehalt von 1,0%.Each of the panels was tested in the manner illustrated in Examples I and II. Essentially the same results were achieved, apart from a gradual decrease - corresponding to the thallium content contained in the mixture - of the stored charge after exposure to visible light for about three minutes. This decrease is extremely insignificant, however, since the plate according to Example VII with a thallium content of 0.0001% still shows a charge of 500VoIt after this exposure and since its sensitivity 1 in the X-ray range is just as great as that of the plate with a thallium content of 1.0%.
Beispiel VIIIExample VIII
Um sicher zu gehen, daß zufällig vorhandene andere Verunreinigungen keinerlei Wirkung auf die untersuchten Platteneigenschaften ausüben, wurde eine mit einem Überzug von reinem amorphen Selen versehene Kopierplatte (das Selen war das Gleiche wie in den Beispielen I bis VI) in der an Hand derTo make sure that any other impurities that may be present have no effect on the plate properties tested, was one with a coating of pure amorphous selenium provided copier plate (the selenium was the same as in Examples I to VI) in the hand of the
ίο Beispiele I und II erläuterten Weise untersucht. Es konnte festgestellt werden, daß diese Platte nach einer drei Minuten dauernden Belichtung praktisch keine gespeicherte Ladung zeigte und daß außerdem kein auf vorhergehenden Belichtungen beruhendes »Ermüdungsbild« festgestellt werden konnte, wenn die Platte entsprechend Beispiel II untersucht wurde.ίο Examples I and II examined manner explained. It it was found that this plate was practical after three minutes of exposure showed no stored charge and, moreover, none based on previous exposures "Fatigue pattern" could be determined when the plate was examined according to Example II.
409 512/98409 512/98
Claims (2)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US421626A US3427157A (en) | 1964-12-28 | 1964-12-28 | Xerographic process utilizing a photoconductive alloy of thallium in selenium |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1483294A1 DE1483294A1 (en) | 1970-01-08 |
DE1483294B2 true DE1483294B2 (en) | 1974-03-21 |
DE1483294C3 DE1483294C3 (en) | 1978-07-06 |
Family
ID=23671339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1483294A Expired DE1483294C3 (en) | 1964-12-28 | 1965-12-28 | Use of a substance as a photoconductive material |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3427157A (en) |
DE (1) | DE1483294C3 (en) |
FR (1) | FR1461161A (en) |
GB (1) | GB1132993A (en) |
NL (1) | NL150924B (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3524745A (en) * | 1967-01-13 | 1970-08-18 | Xerox Corp | Photoconductive alloy of arsenic,antimony and selenium |
US3867143A (en) * | 1969-01-17 | 1975-02-18 | Canon Kk | Electrophotographic photosensitive material |
US3709683A (en) * | 1970-12-18 | 1973-01-09 | Xerox Corp | Infrared sensitive image retention photoreceptor |
DE2305407C3 (en) * | 1973-02-03 | 1978-04-06 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Electroradiographic recording material |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE898641C (en) * | 1951-12-25 | 1953-12-03 | Zeiss Ikon Ag | Resistance layer made of amorphous selenium |
US2804396A (en) * | 1952-08-19 | 1957-08-27 | Battelle Development Corp | Process of preparing an X-ray sensitive member |
US2862815A (en) * | 1953-10-01 | 1958-12-02 | Rca Corp | Electrophotographic member |
US2887411A (en) * | 1955-06-07 | 1959-05-19 | Siemens Ag | Method of producing selenium rectifiers |
US2970906A (en) * | 1955-08-05 | 1961-02-07 | Haloid Xerox Inc | Xerographic plate and a process of copy-making |
US2968725A (en) * | 1956-06-20 | 1961-01-17 | Mallinckrodt Chemical Works | X-ray image intensifying screen |
US3077386A (en) * | 1958-01-02 | 1963-02-12 | Xerox Corp | Process for treating selenium |
US2962376A (en) * | 1958-05-14 | 1960-11-29 | Haloid Xerox Inc | Xerographic member |
DE1250737B (en) * | 1963-07-08 |
-
1964
- 1964-12-28 US US421626A patent/US3427157A/en not_active Expired - Lifetime
-
1965
- 1965-12-02 GB GB51206/65A patent/GB1132993A/en not_active Expired
- 1965-12-22 FR FR43334A patent/FR1461161A/en not_active Expired
- 1965-12-23 NL NL656516796A patent/NL150924B/en not_active IP Right Cessation
- 1965-12-28 DE DE1483294A patent/DE1483294C3/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL6516796A (en) | 1966-06-29 |
DE1483294A1 (en) | 1970-01-08 |
DE1483294C3 (en) | 1978-07-06 |
NL150924B (en) | 1976-09-15 |
US3427157A (en) | 1969-02-11 |
FR1461161A (en) | 1966-12-02 |
GB1132993A (en) | 1968-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2622327C3 (en) | Electrostatic printing method | |
DE1597882B2 (en) | ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL | |
DE1497219A1 (en) | Photoelectrosolography | |
DE2906500A1 (en) | TWO-COLOR ELECTROPHOTOGRAPHIC PROCESS AND MATERIAL FOR THIS PROCESS | |
DE1268973B (en) | Electrophotographic reproduction process | |
DE2110553A1 (en) | Electrophotographic imaging process and device for carrying out the process | |
DE2615624A1 (en) | MULTI-LAYER PHOTO RECEPTOR ELEMENTS | |
DE1295373B (en) | Electrophotographic process for making images | |
DE1146750B (en) | Electrophotographic process for reproducing a photograph with the aid of the electrolysis of an indium compound | |
DE1483294C3 (en) | Use of a substance as a photoconductive material | |
DE2226292C3 (en) | Process for making copies | |
DE1522598C3 (en) | Electrophotographic recording material | |
DE1572345A1 (en) | Data storage | |
DE1035473B (en) | Xeroradiography | |
DE1772122C3 (en) | Process for the production of an electrophotographic recording material with a glass binder | |
DE2849573A1 (en) | FLEXIBLE MULTI-LAYER PHOTO RECEPTOR FOR ELECTROPHOTOGRAPHY | |
DE1017911B (en) | Material and process for electrostatic imaging and a device for performing the process | |
DE3020940C2 (en) | Electrophotographic recording material | |
DE1941241B2 (en) | ELECTRICALLY CONDUCTIVE TONER FOR THE DEVELOPMENT OF ELECTROSTATIC CHARGE IMAGES | |
DE1764864C3 (en) | Process for producing a photosensitive powder from CdS crystals | |
DE1597867C (en) | Electrophotographic plate | |
DE1597866C (en) | Electrophotographic recording material | |
DE1597868B1 (en) | USE OF AN ELECTROPHOTOGRAPHIC RECORDING MATERIAL | |
DE1522752C (en) | Electrophoretic photographic method and apparatus for carrying out the same | |
DE1597853C3 (en) | Process for the imagewise charging of an insulating recording material |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |