DE1210846B - Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen VerbindungenInfo
- Publication number
- DE1210846B DE1210846B DEH46474A DEH0046474A DE1210846B DE 1210846 B DE1210846 B DE 1210846B DE H46474 A DEH46474 A DE H46474A DE H0046474 A DEH0046474 A DE H0046474A DE 1210846 B DE1210846 B DE 1210846B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- mol
- reaction
- yield
- compounds
- hydroquinone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- BOFLDKIFLIFLJA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-1-en-3-yne Chemical group CC(=C)C#C BOFLDKIFLIFLJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- WFYPICNXBKQZGB-UHFFFAOYSA-N butenyne Chemical group C=CC#C WFYPICNXBKQZGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 2
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- -1 hydrogen silanes Chemical class 0.000 description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 12
- 229910002621 H2PtCl6 Inorganic materials 0.000 description 10
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 3
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- SOKKGFZWZZLHEK-UHFFFAOYSA-N butoxy(dimethyl)silane Chemical compound CCCCO[SiH](C)C SOKKGFZWZZLHEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- SSVFCHUBLIJAMI-UHFFFAOYSA-N platinum;hydrochloride Chemical compound Cl.[Pt] SSVFCHUBLIJAMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229920006268 silicone film Polymers 0.000 description 2
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=CC(C=C)=C1 PRJNEUBECVAVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 10-undecenoic acid Chemical group OC(=O)CCCCCCCCC=C FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical group CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHOLUVQPQOXSOE-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(Cl)CCC1=CC=C(C=C)C=C1 Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCC1=CC=C(C=C)C=C1 XHOLUVQPQOXSOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOHUDFHWFDUDID-UHFFFAOYSA-N [Cl].C[SiH](C)C Chemical compound [Cl].C[SiH](C)C UOHUDFHWFDUDID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035508 accumulation Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- IPAIXTZQWAGRPZ-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-phenylsilicon Chemical compound C[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 IPAIXTZQWAGRPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAJFATIYVLZNFC-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)CCl PAJFATIYVLZNFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBXUOBILXDPGKB-UHFFFAOYSA-N dimethylsilyloxy-[[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxy-dimethylsilyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C SBXUOBILXDPGKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- OKHRRIGNGQFVEE-UHFFFAOYSA-N methyl(diphenyl)silicon Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C)C1=CC=CC=C1 OKHRRIGNGQFVEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- OLRJXMHANKMLTD-UHFFFAOYSA-N silyl Chemical compound [SiH3] OLRJXMHANKMLTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- RSNQKPMXXVDJFG-UHFFFAOYSA-N tetrasiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH3] RSNQKPMXXVDJFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQTYRTSKQFQYPQ-UHFFFAOYSA-N trisiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH3] ZQTYRTSKQFQYPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004078 waterproofing Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0801—General processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0825—Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
- C07F7/0827—Syntheses with formation of a Si-C bond
- C07F7/0829—Hydrosilylation reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
- Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen ts ist bekannt, dalS sich Organollydrogensilane und -siloxane an äthylenisch oder acetylenisch ungesättigte Gruppen unter Bildung einer neuen Silicium Kohlenstoff-Bindung addieren können. Diese Addition kann rein thermisch oder durch UV-Licht, aber auch durch Peroxyde, Azoverbindungen und andere Radikallieferanten, besonders aber durch feinverteilte Metalle oder Platin auf Trägern, Platinverbindungen oder Dimethylformamid und Triphenylphosphin katalysiert werden. Die Reaktion verläuft um so schneller und quantitativer, je mehr negative Substituenten am Silicium stehen, welche die Polarität der Si - H-Bindung erhöhen, wie die Chloratome im Silicochloroform oder den Alkyldichlorsilanen.
- Es wurde nun gefunden, daß siliciumorganische Verbindungen durch Addition von Organohydrogensilanen und -siloxanen an Verbindungen mit C -Mehrfachbindungen unter Bestrahlung mit UV-Licht oder in Gegenwart von Platin-Katalysatoren hergestellt werden können, indem man in an sich bekannter Weise Organosiliciumverbindungen der allgemeinen Formel worin R einen organischen Rest, X Sauerstoff, Methylen oder Phenylen, n eine ganze Zahl von 0 bis 10 und Rl Alkyl, Aryl, Chloralkyl, Chloraryl, Chlor oder Wasserstoff bedeutet, mit Vinylacetylen, Isopropenylacetylen oder Divinylbenzol bei Temperaturen zwischen 50 und 20Q"C und Drücken zwischen O und 100 atü umsetzt.
- Durch Infrarot- und Protonenresonanzspektren wurde nachgewiesen, daß der Silylrest bei der Addition der H - Si-Komponenten an die Dreifachbindung im Vinylacetylen bzw Isopropenylacetylen ausschließlich endständig eintritt, wobei in einer cis-Addition die trans-Produkte (Formel A) entstehen: Ganz analog bilden sich bei der Addition der Hydrogensilane an eine Vinylgruppe des o-, m- bzw. p-Divinylbenzols oder auch eines Gemisches derselben in ganz überwiegendem Maße die p-Formen (Formel B) mit einer normalen Äthylenbrücke: Erfindungsgemäß ist die Addition nur eines Moleküls des Hydrogensilans an die Dreifachbindung im Vinylacetylen und Isopropenylacetylen bzw. an nur eine Doppelbindung im Divinylbenzol gegenüber der Addition eines weiteren Moleküls bevorzugt. Bei nicht zu hohen Reaktionstemperaturen entstehen deshalb - auch bei Verwendung eines nur geringen Überschusses an ungesättigten Komponenten -praktisch nur die Monoadditionsprodukte.
- Verwendet man siliciumorganische Verbindungen mit zwei Si - H-Gruppen, so lassen sich auch Produkte mit zwei Vinylphenyläthyl-, Butadienyl-oder Isoprenylgruppen erhalten, die besonders reaktionsfähig sind.
- Die Umsetzungen werden bei Temperaturen zwischen 50 und 2000 C vorgenommen, wobei es meist so ist, daß zum Start der Reaktion eine gewisse Mindesttemperatur notwendig ist, bei der dann die meist stark exotherme Addition beginnt und dann ohne weitere Wärmezufuhr zu Ende verläuft.
- Man kann erfindungsgemäß die beiden Komponenten unverdünnt zusammen vorlegen und zur Reaktion bringen. Besonders bei größeren Ansätzen ist es jedoch oft von Vorteil, die ungesättigte Komponente vorzulegen und die Hydrogensilane und -siloxane in dem. Maße zuzutropfen, daß die exotherme Reaktion ohne äußere Wärmezufuhr in Gang bleibt.
- Zur Abführung der Reaktionswärme und Vermeidung von unerwünschten Polymerisationen, aber auch, um bei Verwendung relativ tief siedender Komponenten die notwendige Reaktionstemperatur zu erreichen, arbeitet man zweckmäßigerweise in Gegenwart von unter den Reaktionsbedingungen inerten organischen Lösungsmitteln. Hierbei ist darauf zu achten, daß der Siedepunkt des entstehenden Reaktionsproduktes nicht in die Nähe des Siedepunktes des verwendeten Lösungsmittels fällt, um Schwierigkeiten bei der destillativen Trennung zu vermeiden.
- Besonders bei Verwendung des tiefsiedenden Vinylacetylens arbeitet man vorzugsweise im Autoklav unter Drücken bis etwa 50 atü. Manchmal ist es auch beim Isopropenylacetylen oder Divinylbenzol von Vorteil, unter Druck zu arbeiten, insbesondere wenn das Hydrogensilan tief siedet. Hierbei ist es zweckmäßig - im Falle des zu Explosionen neigenden Vinylacetylens sogar unerläßlich -, unter einer Inertgasatmosphäre zu arbeiten. Gegebenenfalls verdünnt man außerdem das Reaktionsgemisch mit einem inerten organischen Lösungsmittel. Auch bei den Autoklavsätzen kann man wieder beide Reaktionspartner zusammen vorlegen und umsetzen.
- Meist legt man jedoch, wie beim Arbeiten ohne Druck, die ungesättigte Komponente vor und drückt das Hydrogensilan oder -siloxan bei der Reaktionstemperatur in dem Maße ein, wie es verbraucht wird.
- So vermeidet man am sichersten größere Wärmestauungen, die zur völligen Verkohlung des Reaktionsgutes und sogar zur Zerstörung des Autoklavs führen können.
- Die Addition wird durch die bekannten Katalysatoren, z. B. UV-Licht, insbesondere aber durch Platin auf Aktivkohle oder auch auf Aluminiumoxyd, sowie durch Lösungen von Platinchlorwasserstoffsäure in Glykoläthern oder Alkoholen katalysiert.
- Um unerwünschte Polymerisationen der ungesättigten und leicht polymerisierbaren Ausgangskomponenten sowie auch der Verfahrensprodukte zu vermeiden, ist es zweckmäßig, die Umsetzungen in Gegenwart von Polymerisationsinhibitoren, z. B. Nitroverbindungen und Hydrochinonen, vorzunehmen. Bei der Destillation hat sich besonders Schwefel in. äußerst geringen Mengen als Inhibitor sehr gut bewährt.
- Selbstverständlich müssen alle Additionsreaktionen mit Hydrogensilanen und -siloxanen, die zusätzlich noch eine siliciumständige hydrolysierbare Gruppe tragen, unter Ausschluß von Luftfeuchtigkeit durchgeführt werden.
- Die Verfahrensprodukte sind gute Hydrophobiermittel, da sie sich mit Hilfe ihrer ungesättigten, leicht polymerisierenden Gruppen über stabile chemische Hauptvalenzbindungen auf geeigneten Unterlagen fest verankern lassen. Dies ist von besonderer Bedeutung, denn der tatsächliche technische Nutzen eines Hydrophobiermittels hängt nicht nur von seiner hydrophobierenden Wirkung ab. Ganz entscheidend ist vielmehr seine Haftfestigkeit auf der Unterlage, etwa einer Natur- oder auch Chemiefaser. Diese Fixierung wird bisher immer dadurch erreicht, daß zunächst mit Hilfe von Lösungen oder Emulsionen, die in allen Fällen bereits fertig polymerisierte Polysiloxane enthalten, ein Film auf die Faser aufgebracht wird. Dieser zunächst noch lösliche Film wird dann durch Weiterkondensation vernetzt, also unlöslich, und haftet dann rein adsorptiv auf der Faser (vgl.
- W. Noll, Chemie und Technologie der Silikone, S. 371 bis 374). Bei den Methylhydrogenpolysiloxanen geschieht dies z. B. durch Hydrolyse der Si-H-Bindungen mit Wasser, am besten im alkalischen Milieu. Hierbei bilden sich Silanolgruppen, die dann bei Temperaturen um 150"C intermolekular unter Vernetzung zu Siloxanbrücken weiter reagieren können.
- Bei den m, w'-Bis-hydroxy-methylpolysiloxanen erfolgt die Vernetzung über die endständigen Silanolgruppen, die bei Temperaturen um 150"C ebenfalls zu intermolekularen Siloxanbrücken kondensieren. Allerdings muß hier die Haftfestigkeit des Silikonfilms auf der Faser zuvor mit Hilfe von sogenannten Mittlersubstanzen, z. B. Oxihydraten von Titan und Zirkon, erhöht werden.
- Die nach einem dieser Verfahren auf die Faser aufgebrachten Polysiloxanfilme sind nun zwar in sich selbst vernetzt. Sie sind jedoch nicht durch chemische Hauptvalenzbindungen mit der Faser unlösbar verbunden. Man kann daher die Fasern quantitativ herauslösen. Dieses Fehlen einer chemischen Hauptvalenzbindung zwischen Faser und Hydrophobierfilm ist dann dafür verantwortlich, daß sich der hydrophobierende Effekt z. B. beim mehrmaligen Waschen oder Reinigen rasch vermindert, da hierbei der Silikonfilm durch mechanische und auch chemische Einflüsse angegriffen wird.
- Hier bringen nun die verfahrensgemäß beanspruchten siliciumorganischen Verbindungen mit einer oder auch zwei leicht polymerisierbaren Butadienyl-, Isoprenyl- oder p-Vinylphenyläthylgruppen einen grundsätzlichen technischen Fortschritt. Setzt man sie nämlich z. B. mit Fasern, die mehrere ungesättigte Gruppen besitzen, um, dann copolymerisieren die ungesättigten Gruppen beider Partner miteinander.
- Diese Reaktion verläuft bei Temperaturen um 70"C, bei Zugabe von Radikale liefernden Verbindungen (Peroxyden, Azoverbindungen) bereits bei Temperaturen um 40° C. Durch diese Copolymerisationsreaktion wird die hydrophobierende siliciumorganische Komponente mit der zu hydrophobierenden Faser über covalente, stabile C - C-Bindungen fest verknüpft.
- Die auf diesem Weg erzielbaren hydrophobierenden Effekte sind zwar naturgemäß nicht prinzipiell besser als die der handelsüblichen Silikon-Hydrophobiermittel, dafür aber viel dauerhafter. So hat z. B. eine Celluloseacetatfaser, bei der etwa 5 bis 8 0/o der Acetatgruppen durch Crotonat- oder Undecylenatgruppen ersetzt sind, nach der Behandlung mit einer der verfahrensgemäß herstellbaren Verbindungen, z. B. einem Tri- oder Tetrasiloxan-Derivat mit zwei Butadienyl- oder Isoprenyl-Endgruppen, auch nach zwanzigfacher Seifenwäsche oder nach fünfmaliger Tetrachlorkohlenstoffwäsche noch praktisch das gleiche Wasseraufnahmevermögen von etwa 150/o wie vor dem Waschen. Im Gegensatz hierzu ist die prozentuale Wasseraufnahme derselben Faser, die mit einem handelsüblichen Silikonhydrophobiermittel behandelt wurde, bereits nach zehnfacher Seifenwäsche auf über 40 U/o und nach fünfmaliger Tetrachlorkohlenstoffwäsche auf etwa 300/o angestiegen.
- Die nach dem Verfahren der Erfindung hergestellten siliciumorganischen Produkte sind außerdem auch wertvolle Vernetzerkomponente für Makromoleküle mit äthylenisch ungesättigten Gruppen. Die erfindungsgemäß herstellbaren Verbindungen können außerdem auch als härtbare Isolationsmittel sowie als Homo-und Copolymerisationskomponenten verwendet werden.
- Beispiel 1 In einem Rührgefäß, das mit Rückflußkühler und in die Reaktionslösung eintauchendem Thermometer ausgerüstet war, wurden 47,5 g (0,16 Mol) 1-Hydrononamethyltetrasiloxan, 40 g (0,6 Mol) Isopropenylacetylen, 50ml Xylol, 0,5 g Hydrochinon und 1 ml einer 1°/Oigen Lösung von H2PtCl6 in Glykoldimethyläther 7 Stunden unter Rückfluß erhitzt, bis im Reaktionsgefäß eine Temperatur von 120°C erreicht wurde, und dann an einer Kolonne mit etwa zwölf theoretischen Böden unter Zusatz einer geringen Menge Schwefel aufdestilliert.
- Ausbeute an 1-Isoprenyl-nonamethyltetrasiloxan: 32,8 g = 570/o; Kp.0,6 = 70 bis 71°C; n2D = 1,4271; D20 = 0,8914.
- Bei der Umsetzung der beiden Komponenten unter Stickstoff in einem Autoklav während einer Stunde bei 100°C und mit Platin auf Aktivkohle (SOlo Pt) als Katalysator erhält man eine Ausbeute von etwa 650/o an analysenreinem destilliertem Produkt.
- Beispiel 2 In einem 250-ml-Autoklav wurden 80 ml = 53 g (0,8 Mol) Isopropenylacetylen, 18,8 g (0,2 Mol) Dimethylchlorsilan, 0,5 g m-Dinitrobenzol und 1 ml einer 1 %igen Lösung von Hexachlorplatinsäure in Glykoldimethyläther unter trockenem Stickstoff und Feuchtigkeitsausschluß 1 Stunde auf 100°C erhitzt.
- Nach Abkühlen wurde vom überschüssigen Isopropenylacetylen befreit und der Rückstand unter Zusatz einer geringen Menge Schwefel an einer Kolonne mit etwa zwölf theoretischen Böden destilliert.
- Ausbeute an Isoprenyldimethylchlorsilan: 17,8 g = 58°/o; Kp.ll = 48 bis 50°C; n200 = 1,4761; D20 = 0,9243.
- Die Umsetzung führt praktisch zur gleichen Ausbeute, wenn man Platin auf Aluminiumoxyd (Solo Pt) als Katalysator verwendet.
- Beispiel 3 Analog Beispiel 2 wurden 21,8 g (0,2 Mol) Chlormethyldimethylsilan zusammen mit 53 g (0,8 Mol) Isopropenylacetylen und 1 ml einer 1%igen Lösung von H2PtClß in Isopropanol umgesetzt und unter Zusatz von Hydrochinon destilliert.
- Ausbeute an Isoprenylchlormethyldimethylsilan: 10 g = 29°/o; Kp.12 = 740C; n200 = 1,4940; D20 = 0,9419.
- Bei einem analogen Ansatz, der unter Zusatz von Schwefel destilliert wurde, ergab sich eine Ausbeute von 17 g = 49 °/0.
- Beispiel 4 In einem Autoklav wurden unter Stickstoff zu 157 g (2,4 Mol) Isopropenylacetylen, 100 ccm Tetrahydrofuran, 0,5 g Hydrochinon und 2 ml einer 1°/Oigen H2PtCl6-Lösung in Äthylenglykoldimethyläther bei 100°C innerhalb 2 Stunden 80,4 g (0,6 Mol) 1,3-Dihydrotetramethyldisiloxan gedrückt und nach beendeter Zugabe noch ½ Stunde auf 100°C erhitzt und analog Beispiel 2 aufgearbeitet.
- Ausbeute an 1,3-Bis-isoprenyl-tetramethyldisiloxan: 56 g = 35 %; Kp.0,4 = 60°C / 0,4; nD20 = 1,4745; D20 = 0,8672.
- Aus dem Vorlauf wurden außerdem noch 12 g 1-Isoprenyl-3-hydro-tetramethyldisiloxan (vgl. Beispiel 5) isoliert.
- Beispiel 5 Analog Beispiel 4 wurden zu 80,4 g (0,6 Mol) 1,3-Dihydro-1,1,3,3-tetramethyldisiloxan, 100 ml Tetrahydrofuran, 0,5 g Hydrochinon und 2 ccm einer 1 %igem Lösung von Platinchlorwasserstoffsäure in Äthylenglykoldimethyläther 19,8 g (0,3 Mol) Isopropenylacetylen eingedrückt und wie im Beispiel 4 aufgearbeitet.
- Ausbeute an 1-Isoprenyl-3-hydro-tetramethyldisiloxan: 65 g = 55 %; Kp.14 = 58 bis 60°C; n2Do = 1,4415; D20 = 0,8363.
- Aus dem Nachlauf konnten noch 12 g 1,3-Bisisoprenyl-tetramethyldisiloxan (vgl. Beispiel 4) isoliert werden.
- Beispiel 6 Analog Beispiel 4 wurden 40 g (0,6 Mol) Isopropenylacetylen, 50ml Tetrahydrofuran, 0,5 g Hydrochinon und 100mg Platin auf Aktivkohle (5 % Pt) mit 42,3 g (0,15 Mol) 1,7-Dihydrooctamethyltetrasiloxan umgesetzt und aufgearbeitet.
- Ausbeute an 1,7-Bis-isoprenyl-octamethyltetrasiloxan: 27 g = 44°/0; Kp.0,2 = 88 bis 89°C;nD20 = 1,4516; D20 = 0,9010.
- Aus dem Vorlauf konnten noch 9 g des einseitigen Derivates isoliert werden.
- Beispiel 7 Analog Beispiel 2 wurden 26 g (0,14 Mol) 1-Hydro-3-chlormethyl-tetramethyldisilmethylen zusammen mit 39,6 g (0,6 Mol) Isopropenylacetylen, 0,1 g Hydrochinon und 1 ml einer 1 %igen Lösung von H2PtCl6 in Glykoldimethyläther umgesetzt und aufgearbeitet.
- Ausbeute an 1-Isoprenyl-3-chlormethyl-tetramethyldisilmethylen: 21,4 g = 61 %; Kp.0,3 = 61 bis 63°C; nD20 = 1,4938; D20 = 0,9284.
- Beispiel 8 Analog Beispiel 1 wurden 53 g (0,8 Mol) Isopropenylacetylen zusammen mit 60 g (0,3 Mol) Diphenylmethylsilan, 100 ml Xylol und 0,5 g Hydrochinon unter Bestrahlung mit einer UV-Lampe 2 Stunden unter Rückfluß erhitzt und aufgearbeitet.
- Ausbeute an Isoprenyldiphenylmethylsilan: 39 g = 50 %; Kp.0,2 112 bis 114°C; n2D0 = 1,5840; D20 = 0,0049.
- Beispiel 9 Analog Beispiel 2 wurden 43 g (0,275 Mol) Methylphenylchlorsilan zusammen mit 33 g (0,5 Mol) Isopropenylacetylen, 0,5 g Hydrochinon und 1 ml einer 1 %igen Lösung von H2PtCl6 in Diäthylenglykoldimethyläther umgesetzt und aufgearbeitet.
- Ausbeuteanlsoprenyhnethylchiorsilan: 37 g 550/; Kp.0,2 = 67 bis 68°C; n2D0 = 1,5481; D20 = 1,0485.
- Beispiel 10 In einem Autoklav wurden unter Stickstoff zu 93,6 g (1,8 Mol) Vinylacetylen, 150 ml Tetrahydrofuran, 0,5 g Hydrochinon und 2 ml einer 1 %igen H2PtCl6-Lösung in Glykoldimethyläther bei 100°C innerhalb einer Stunde 48,6 g (0,45 Mol) Chlor methyldimethylsilan eingedrückt, danach noch 1/2 Stunde auf 100°C gehalten und analog Beispiel 2 aufgearbeitet.
- Ausbeute an Butadienylchlormethyldimethylsilan: 33,5 g = 47 %, Kp.13 = 58 bis 59°C; nD20 = 1,4895; D20 = 0,9360.
- Beispiel 11 In einem Autoklav wurden unter Stickstoff 30,0 g (Q,1 Mol) 1 Hydro-nonamethyltetrasiloxan zusammen mit 20,8 g (0,4 Mol) Vinylacetylen, 0,2 g Hydrochinon, 50 ml Tetrahydrofuran und 100 mg Platin auf Alu miniumoxyd (5 0/o Pt) 1 Stunde auf 1000 C erhitzt und analog Beispiel 2 aufgearbeitet.
- Ausbeute an 1-Butadienyl-nonamethyltetrasiloxan: 16g = 46°/o; Kp.12 = 107°C; n2D0 = 1,4895; D20 = 0,9360.
- Beispiel 12 Analog Beispiel 10 wurden 93,6 g (1,8 Mol) Vinylacetylen, 100 ml Glykoldimethyläther, 0,2 g Hydrochinon und 2 ml einer 1 %igen Lösung von H2PtCl6 in Glykoldimethyläther mit 60 g (0,45 Mol) Di methylbutoxysilan umgesetzt und aufgearbeitet.
- Ausbeute an Butadienyldimethylbutoxysilan: 41,5 g = 50 %; Kp.12 = 68 bis 70°C; nD20 = 1,4434; D20 = 0,8343.
- Beispiel 13 Analog Beispiel 10 wurden zu 93,6 g (1,8 Mol) Vinylacetylen, 100 ml Tetrahydrofuran, 0,2 g Hydrochinon und 2 ml einer 2 %igen Lösung von H2PtCl6 in Glykoldimethyläther 46,8 g (0,225 Mol) 1,5-Dihydro-hexamethyltrisiloxan eingedrückt und aufgearbeitet, wie dort beschrieben.
- Ausbeute an 1,5-Bis-butadienyl-hexamethyltrisiloxan: 33,8 g = 49 %; Kp.0,15 = 53 bis 54°C; nD20 - 1,4580; D20 = 0,9056.
- Beispiel 14 Analog Beispiel 10 wurden zu 156,0 g (3,0 Mol) Vinylacetylen, 200 ml Tetrahydrofuran, 0,05 g m-Dinitrobenzol und 3 ml einer 1 %igen Lösung von H2PtCl6 in Glykoldimethyläther 70,5 g (0,75 Mol) Dimethylchlorsilan eingedrückt und aufgearbeitet, wie dort beschrieben.
- Ausbeute an Butadienyldimethylchlorsilan: 56 g = 510/o; Kp.25 = 47 bis 48°C; nD20 = 1,4700; D = 0,92278.
- Beispiel 15 In der im Beispiel 1 beschriebenen Apparatur wurden 13 g (0,1 Mol) p-Divinylbenzol zusammen mit 10 ml trockenem Xylol 0,5 g Hydrochinon und 1 ml einer 1 %igen Lösung von H2PtCl6 in Glykoldimethyläther auf 147°C erhitzt und hierzu ohne weitere Wärmezufuhr unter Rühren 9,4 g (0,1 Mol) Dimethylchlorsilan so zugetropft, daß die Temperatur im Reaktionskolben nicht über 150°C anstieg. Nach beendeter Zugabe wurde das Reaktionsgemisch noch 15 Minuten bei derselben Temperatur gehalten und dann wie im Beispiel 1 aufgearbeitet.
- Ausbeute an p-Vinylphenyläthyldimethylchlorsilan: 10,8 g = 480/o; Kp.0,2 = 73 bis 78°C; n200 = 1,5400; D20 = 1,0028.
- Analog verläuft die Umsetzung, wenn man die Komponenten gleich zusammengibt und auf 75°C erwärmt, wobei die oxotherme Additionsreaktion beginnt und ohne weitere Wärmezufuhr zu Ende verläuft.
- Beispiel 16 In einem Rührgefäß, das mit Rückflußkühler und in die Reaktionslösung eintauchendem Thermometer ausgerüstet war, wurden 13 g (0,1 Mol) p-Divinylbenzol, 10 ml trockenes Xylol, 0,5 g Hydrochinon und 37 g (0,1 Mol) 1-Hydro undecamethylpentasiloxan und 1 mi einer 1 %igen Lösung von Hexachlorplatinsäure in Glykoldimethyläther unter Rühren auf 700.C Innentemperatur erhitzt. Hierbei beginnt die exotherme Addition und die Temperatur steigt von allein auf 160"C. Nach Abklingen der Reaktionswärme wurde die Reaktionsmischung nach 10 Minuten auf 140°C erhitzt und wie im Beispiel 1 aufgearbeitet.
- Ausbeute an 1-p-Vinylphenyläthyl-undecamethylpentasiloxan: 26,5 g = 5301o; Kp.0,2 = 128 bis 1300C; n2D = 1,4516; D20 = 0,9345.
- Beispiell7 Analog Beispiel 16 wurden 39 g (0,3 Mol) eines Gemisches der isomeren Divinylbenzole, 0,2 g Hydrochinon, 15 ml Xylol, 39,6 g (0,3 Mol) Dimethylbutoxysilan und 1 ml einer 1 %igen Lösung von H2PtCl6 in Glykoldimethyläther auf etwa 85° C erhitzt, bis die exotherme Addition begann, nach Abklingen der Reaktionswärme wurde noch 10 Minuten auf 120°C erhitzt und destilliert.
- Ausbeute an Vinylphenyläthyldimethylbutoxysilan: 36 g = 460/o; Kp.0,7 = 115 bis 122°C; nD20 = 1,5059; D20= 0,9.162.
Claims (1)
- Patentanspruch: Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen durch Addition von Organohydrogensilanen oder -siloxanen an Verbindungen mit C - C-Mehrfachhindungen unter Bestrahlung mit UV-Licht oder in Gegenwart von Platinkatalysatoren, d a d u r c h g e k e n n z e i c hn e t, daß man in an sich bekannter Weise Organosiliciumverbindungen der allgemeinen Formel worin R einen organischen Rest, X Sauerstoff, Methylen oder Phenylen, n eine ganze Zahl von 0 bis 10 und R1 Alkyl, Aryl, Chloralkyl, Chloraryl, Chlor oder Wasserstoff bedeutet, mit Vinylacetylen, Isopropenylacetylen oder Divinylbenzol bei Temperaturen zwischen 50 und 200°C und unter Drücken von 0 bis 100 atü umsetzt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEH46474A DE1210846B (de) | 1962-07-27 | 1962-07-27 | Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEH46474A DE1210846B (de) | 1962-07-27 | 1962-07-27 | Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1210846B true DE1210846B (de) | 1966-02-17 |
Family
ID=7156116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEH46474A Pending DE1210846B (de) | 1962-07-27 | 1962-07-27 | Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1210846B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0278863A2 (de) * | 1987-02-13 | 1988-08-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Methode zur Herstellung einer Cycloalkylsilan-Verbindung |
-
1962
- 1962-07-27 DE DEH46474A patent/DE1210846B/de active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0278863A2 (de) * | 1987-02-13 | 1988-08-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Methode zur Herstellung einer Cycloalkylsilan-Verbindung |
EP0278863A3 (en) * | 1987-02-13 | 1990-06-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | A method for the preparation of a cycloalkyl silane compound |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1495921C3 (de) | Verfahren zur katalytischen Addition einer Süiciumverbindung, die ein oder mehrere Wasserstoffatome aufweist, die an Silicium gebunden sind, an eine organische Verbindung mit olefinischer oder acetylenischer Mehrfachbindung | |
DE1570686C3 (de) | Verfahren zur Umsetzung von Organosiliciumverbindungen, die zumindestens ein Wasserstoffatom an ein Siliciumatom pro Molekül und nicht mehr als zwei Wasserstoffatome an Silicium gebunden aufweisen, mit einer Verbindung die aliphatische Kohlenstoffatome, die durch Mehrfachbindungen miteinander verknüpft sind, aufweist | |
EP0600266B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von SiH-Gruppen aufweisenden Organopolysiloxanen | |
DE69501664T2 (de) | Acetylenische Alkohole und Ethern als Beschleuniger für Hydrosilylierung | |
DE69422589T2 (de) | Verfahren zur Erhaltung der katalytischen Wirkung während eines Hydrosilylierungsverfahrens | |
DE3889103T2 (de) | Verfahren zur herstellung von organopolysiloxanen mit einer alkenyl-endgruppe. | |
DE3518878C2 (de) | ||
DE1289842B (de) | Verfahren zur Spaltung von Disilanen | |
DE1154235B (de) | Verwendung von Organosiliciumverbindungen zum Dauerwellen lebender Haare | |
DE2801780A1 (de) | Verfahren zum herstellen von acyloxysilanen und gegebenenfalls acyloxysiloxanen | |
DE1210846B (de) | Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Verbindungen | |
EP0629718B1 (de) | Verfahren zur elektrochemischen Synthese von Organosiliciumverbindungen sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens und ihre Verwendung zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen | |
DE2345923C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von halogensubstituierten linearen oder verzweigten OrganopolysUoxanen | |
DE3886063T2 (de) | Methode zur Herstellung einer Cycloalkylsilan-Verbindung. | |
DE2511187A1 (de) | Verfahren zur herstellung von fluoralkyl enthaltenden organosilanen | |
DE2146416A1 (de) | Acetylenische Zinkderivate | |
DE2159991A1 (de) | Siliciumhaltige dioxolanderivate und ihre verwendung zur herstellung von epoxygruppen enthaltenden organosilanestern | |
DE3503262A1 (de) | Verfahren zum aufarbeiten von bei der siliciumherstellung anfallenden halogensilangemischen | |
DE1241827B (de) | Verfahren zur Herstellung von tert.-Halogenbutoxysilanen | |
DE2409383A1 (de) | Schwefelhaltige perfluoralkylsiliciumverbindungen | |
DE2921570A1 (de) | Verfahren zur herstellung von siliciumcarbid | |
DE879839C (de) | Verfahren zur Herstellung von methylolgruppenhaltigen Siloxanen | |
DE1189992B (de) | Verfahren zur Herstellung von siliciumorganischen Di-aethylbenzolderivaten | |
DE1114326B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organopolysiloxanen | |
DE1161542B (de) | Verfahren zur Herstellung von Borwasserstoffen |