DE1177253B - Unsymmetrisch leitende Halbleiteranordnung aus einer Aluminiumoxydschicht und zwei Halbleiter-schichten - Google Patents
Unsymmetrisch leitende Halbleiteranordnung aus einer Aluminiumoxydschicht und zwei Halbleiter-schichtenInfo
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Internat. Kl.: HOIl
Deutsche Kl.: 21g-11/02
Nummer: 1177253
Aktenzeichen:: E18653 VIII c / 211
Anmeldetag: 18. Dezember 1959
Auslegetag: 3. September 1964
Es ist bekannt, daß eine an einer Aluminiumoberfläche elektrolytisch erzeugte Aluminiumoxydschicht
in schwach sauren Elektrolyten gleichrichtend wirkt. Es ist ferner ein Verfahren zum Herstellen eines
Trockengleichrichters bekannt, bei dem auf eine an einer Aluminiumoberfläche elektrolytisch erzeugte
Aluminiumoxydschicht eine Manganschicht aufgetragen, hierauf formiert und mit einer Zuleitungselektrode
versehen wird. Ein auf diese Weise hergestellter Gleichrichter hat eine Sperrspannung von etwa
400 Volt. Des weiteren sind unsymmetrisch leitende Halbleiter- oder Gleichrichteranordnungen bekannt,
die aus einer auf einer Aluminiumunterlage befindlichen Aluminiumoxydschicht und mindestens zwei
weiteren, auf der Aluminiumoxydschicht befindlichen Halbleiterschichten bestehen.
Auf die letztgenannte Art unsymmetrisch leitender Halbleiteranordnungen bezieht sich die Erfindung,
und ihre Auf gäbe ist es, anzugeben, wie die bekannten Anordnungen dieser Art hinsichtlich ihrer Gleichrichterleistung,
insbesondere durch Erhöhung der Sperrspannung wesentlich verbessert werden können.
Außerdem können die Anordnungen nach der Erfindung aus leicht zugänglichen billigen Ausgangsstoffen
in verhältnismäßig einfacher Weise hergestellt werden.
Die Erfindung besteht darin, daß die der Aluminiumoxydschicht benachbarte Halbleiterschicht
aus Manganoxyd oder Bleioxyd mit einem dem des Al2O3 entgegengesetzten Leitungstyp besteht und die
nächstfolgende weitere Schicht in ihrem Material sowohl von dem der ersten als auch von dem der zweiten
Schicht abweicht und einen dem der zweiten Schicht entgegengesetzten Leitungstyp besitzt.
Der Hauptvorteil der erfindungsgemäßen Halbleiteranordnung besteht darin, daß sie aus leicht zugänglichen
billigen Ausgangsstoffen und in recht einfacher Weise hergestellt werden kann und trotzdem
ähnliche Gleichrichterwirkung bzw. Verstärkerwirkung aufweist wie die bekannten Germanium- oder
Siliziumgleichrichter bzw. Transistoren.
Wenn auf eine Schicht des Typs η oder ρ eine Halbleiterschicht des entgegengesetzten Typs, also
z. B. auf eine Schicht des Typs η eine Halbleiterschicht des Typs p, aufgetragen wird, erhält man eine
unsymmetrisch leitende Halbleiteranordnung. Wenn man aber an der äußeren freien Oberfläche dieser
zweiten Halbleiterschicht wieder eine Halbleiterschicht des entgegengesetzten Typs ausbildet, kann
man einen Schichttransistor erhalten.
Auf die auf der Aluminiumunterlage befindliche Al2O3-Schicht wird eine weitere Halbleiterschicht
aufgetragen, die aus halbleitendem Manganoxyd oder Unsymmetrisch leitende Halbleiteranordnung aus
einer Aluminiumoxydschicht und zwei Halbleiterschichten ;
Anmelder: ..:-..-... .:■■■.. J :
Egyesült Izzolämpa es Villamossägi
Reszvenytärsiasäg, Budapest
Reszvenytärsiasäg, Budapest
Vertreter:
Dipl.-Ing. W. Meissner, Berlin 33, Herbertstr. 22, und Dipl.-Ing. H. Tischer, München 2,
Patentanwälte
Patentanwälte
Als Erfinder benannt:
Dr. György Szigeti,
Dr. Zalan Bodo,
Janos Katona, Budapest
Dr. György Szigeti,
Dr. Zalan Bodo,
Janos Katona, Budapest
Beanspruchte Priorität:
Ungarn vom 23. Dezember 1958 (Ee-612)
Bleioxyd besteht. Die dritte Halbleiterschicht kann eine auf einer metallischen Unterlage ausgebildete
Halbleiterschicht oder eine Schicht aus einer Germanium- oder Siliziumverbindung des Typs ρ sein.
Die Herstellung dieser Halbleiteranordnung kann in verschiedener Weise erfolgen. Die »erste« Halbleiterschicht
wird derart hergestellt, daß das AIuminium der Unterlage oberflächlich in einen Halbleiter
umgewandelt wird, was z. B. durch elektrolytisches Oxydieren erfolgen kann. Hierzu geeignete
elektrolytische Oxydierungsverfahren sind an sich bekannt. So kann z. B. diese oberflächliche Oxydation
in einer wäßrigen Lösung von 5% Borsäure und 0,5 ο/α Borax mit einer Stromdichte von 2 bis
4mA/cm2 erfolgen. Hierbei erhöht man die Spannung bis etwa 500 Volt und hält sie dann konstant,
bis der gewünschte Durchleitungsstrom von z. B.
0,01 μΑ/ν/μΡ eingestellt ist.
Die »zweite« Halbleiterschicht aus Manganoxyd oder Bleioxyd kann sowohl durch unmittelbares Auftragen
dieser Stoffe hergestellt werden als auch durch Auftragen einer Verbindung, aus welcher diese
Oxyde durch pyrolytische Zersetzung gewonnen werden. Besteht z. B. diese »zweite« Schicht aus
Manganoxyd, kann dieselbe derart hergestellt werden,
409 659/314
daß auf die »erste« Halbleiterschicht zunächst Mangannitrat aufgetragen und anschließend zersetzt wird.
Es können aber auch die einzelnen Halbleiterschichten gesondert hergestellt und dann z. B. mittels
einer entsprechenden Wärmebehandlung miteinander vereinigt werden. Auf diese Art kann auch die sich
auf der Metallunterlage befindende Halbleiterschicht erzeugt werden.
Selbstverständlich können die erfindungsgemäßen fertigen Anordnungen in an sich bekannter Weise auch
formiert werden; vorerst müssen sie aber mit den üblichen Zuleitungselektroden versehen werden, was
in beliebiger bekannter Weise erfolgen kann. Die endgültige Herstellung, wie das Anordnen in einem entsprechenden
Schutzgehäuse od. dgl., kann ebenfalls in bekannter Weise erfolgen.
Claims (1)
- Patentanspruch:Unsymmetrisch leitende Halbleiteranordnung, bestehend aus einer auf einer Aluminiumunterlage ao befindlichen Aluminiumoxydschicht sowie mindestens zwei weiteren, auf der Aluminiumoxydschicht befindlichen Halbleiterschichten, dadurch gekennzeichnet, daß die der Aluminiumoxydschicht benachbarte Halbleiterschicht aus Manganoxyd oder Bleioxyd mit einem dem des Al2O3 entgegengesetzten Leitungstyp besteht und die nächstfolgende weitere Schicht in ihrem Material sowohl von dem der ersten als auch von dem der zweiten Schicht abweicht und einen dem der zweiten Schicht entgegengesetzten Leitungstyp besitzt.In Betracht gezogene Druckschriften:Deutsche Patentschriften Nr. 610 126, 918 098;deutsche Patentanmeldungen ρ 13513 D VIII c/21 g (bekanntgemacht am 22.2.1951), L 8455 VIII c/21 g (bekanntgemacht am 29.5.1952), S 12974VIIIc/ 21g (bekanntgemacht am 6. 11. 1952);belgische Patentschriften Nr. 499 802, 520 122;USA.-Patentschriften Nr. 2 749 489, 2 786166;W. Crawford Dunlap, »An Introduction to Semiconductors«, New York, 1957, S. 322/324;»Electronics«, 1. 11. 1957, S. 144/149;»Solid state physics«, Bd. 3, New York, 1956, S. 307/308 und 400/402.409 659/314 8.64
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NL (1) | NL246765A (de) |
Cited By (1)
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- 1959-12-18 DE DEE18653A patent/DE1177253B/de active Pending
- 1959-12-23 GB GB4370459A patent/GB944027A/en not_active Expired
- 1959-12-23 BE BE585948A patent/BE585948A/fr unknown
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