DE112022000982T5 - Gerät zur metallorganischen chemischen gasphasenabscheidung - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung, und zwar geht es um ein Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung, das mit einem Gasversorgungsteil versehen ist, der ein Prozessgas gleichmäßig zuführen kann und der einfach installiert werden kann, und mit dem die Instandhaltung und Wartung leicht gemacht werden.

Description

  • [Technischer Bereich der Erfindung]
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung, und zwar geht es um ein Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung, das mit einem Gasversorgungsteil versehen ist, der ein Prozessgas gleichmäßig zuführen kann und der einfach installiert werden kann, und mit dem die Instandhaltung und Wartung leicht gemacht werden.
  • [Technischer Hintergrund der Erfindung]
  • Das Gerät MOCVD (Metal Organic Chemical Vapour Deposition: Metallorganische chemische Gasphasenabscheidung) ist eine Vorrichtung, die Verbindungshalbleiterkristalle durch thermische Zersetzung auf auf einem erhitzten Substrat wachsen lässt, indem ein Mischgas aus drei Alkyl der Gruppe 3 (organisches Metallrohstoffgas) und Reaktionsgas der Gruppe 5 sowie hochreinem Trägergas in die Reaktionskammer geliefert wird. Das Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung lässt Halbleiterkristalle auf der Oberseite eines Substrats wachsen, indem das Substrat auf einem Suszeptor montiert wird und das Gas von der Seite injiziert wird.
  • In diesem Fall muss, wenn ein Prozessgas einem Verarbeitungsraum zur Verarbeitung von Substraten zugeführt wird, es sichergestellt werden, dass das Prozessgas dem Verarbeitungsraum ohne Vormischung und gleichmäßig zugeführt wird.
  • Bei herkömmlichen Geräten zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung ist, da die Höhe des Verarbeitungsraums zur Verarbeitung von Substraten niedrig und eng ist, die Konstruktion eines Gasversorgungsteils, der ein Prozessgas zuführt, sehr kompliziert, was die Installation schwierig macht. Ferner, da im Wartungsfall der gesamte Gasversorgungsteil demontiert und wieder montiert werden muss, besteht ein Problem darin, dass es viel Zeit und Geld kostet.
  • [Inhalt der Erfindung]
  • [Aufgabe der Erfindung]
  • Um die oben genannten Probleme zu lösen, besteht der Zweck der vorliegenden Erfindung darin, ein Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung bereitzustellen, das mit einem Gasversorgungsteil versehen ist, der ein Prozessgas gleichmäßig zuführen kann, einfach installiert werden kann und eine Instandhaltung und Wartung leicht macht.
  • [Lösung der Erfindung]
  • Wie oben beschrieben, wird der Zweck der vorliegenden Erfindung durch ein Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung erreicht, das dadurch gekennzeichnet ist, dass es die folgenden Teile umfasst: eine Kammer, die einen Verarbeitungsraum bereitstellt, in dem ein Substrat bearbeitet wird; einen Substratträgerteil, der im Inneren der Kammer vorgesehen ist und auf dem das Substrat gut situiert ist; einen Gaszuführungsteil, durch den ein Prozessgas und ein Spülgas zugeführt werden; einen Gasversorgungsteil, der mit einer Führungsbaugruppe versehen ist, die also mit dem Gaszuführungsteil verbunden ist und ein Prozessgas führt, um es in den Verarbeitungsraum gleichmäßig zuzuführen, und auswechselbar verbunden ist, wobei die Führungsbaugruppe mit den folgenden Teilen versehen ist: mehreren Gasführungsplatten, die in einem vorgegebenen Winkel zum Verarbeitungsraum geneigt sind und das Prozessgas zum Verarbeitungsraum führen; und mehrere Befestigungsteile, die die hinteren Endteile der mehreren Gasführungsplatten drücken und befestigen.
  • Hierbei ist der Befestigungsteil mit den folgenden Teilen noch versehen: mehreren ersten Befestigungsteilen, die jeweils die oberen Flächen der die hinteren Endteile der mehreren Gasführungsplatten berühren, drücken und befestigen; mehreren zweiten Befestigungsteilen, die jeweils die unteren Flächen der hinteren Endteile der mehreren Gasführungsplatten berühren, drücken und befestigen, wobei die Führungsbaugruppe die folgenden Teile noch umfassen kann: mehrere dritte Befestigungsteile, die mindestens einen Seitenflächenteil von den mehreren Gasführungsplatten befestigen, und einen Rahmenteil, der den ersten Befestigungsteil und den zweiten Befestigungsteil drückt und befestigt.
  • Zugleich können auf der unteren Fläche des ersten Befestigungsteils und der oberen Fläche des zweiten Befestigungsteils ein erster geneigter Teil und ein zweiter geneigter Teil ausgebildet sein, die einen gleichen Winkel wie eine Neigung aufweisen, mit der die Gasführungsplatte installiert wird.
  • Darüber hinaus kann ein zusätzlicher Befestigungsteil weiter bereitgestellt werden, der die untere Fläche des 2-3-Befestigungsteils am unteren Teil des 2-3-Befestigungsteils stützt, der sich am untersten Teil der mehreren zweiten Befestigungsteile befindet.
  • Indem ein erster Befestigungsteil, der sich am unteren Teil des 1-1-Befestigungsteils befindet, der wiederum sich am obersten Teil unter den mehreren ersten Befestigungsteilen befindet, aus einem Paar besteht, befindet sich das Paar jeweils auf beiden Seitenteil des hinteren Endteils der Gasführungsplatte und so kann eine Zuführungsöffnung, durch die das Prozessgas zugeführt wird, in einem Raum zwischen dem Paar der ersten Befestigungsteile und zwischen den Gasführungsplatten ausgebildet werden.
  • Zugleich ist am oberen Teil des Substratträgerteils ein Absperrdeckel weiter vorgesehen, der einen Verarbeitungsraum zwischen dem Substratträgerteil und dem Absperrdeckel bereitstellt, und ein vorderer Endteil der ersten Gasführungsplatte, der sich am obersten Teil unter den mehreren Gasführungsplatten befindet, kann mit dem Absperrdeckel verbunden werden.
  • Da sich unterdessen der vordere Endteil der Gasführungsplatte, der sich am unteren Teil der ersten Gasführungsplatte befindet, noch länger als die erste Gasführungsplatte erstreckt, so kann er in einen Raum zwischen dem Substratträgerteil und dem Absperrdeckel eingeschoben werden.
  • [Wirkungen der Erfindung]
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung mit der oben beschriebenen Konstruktion kann ein Prozessgas gleichmäßig zugeführt werden, die Installation kann einfach durchgeführt werden und die Wartung ist einfach.
  • [Kurze Beschreibung der Zeichnungen]
  • Es liegen:
    • 1 ist eine Seitenansicht eines Gerätes zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
    • 2 ist eine seitliche Querschnittsansicht, die eine Konstruktion des Gasversorgungsteils zeigt;
    • 3 ist eine perspektivische Ansicht des Gasversorgungsteils;
    • 4 ist eine perspektivische Seitenansicht des in 3 in Längsrichtung geschnittenen Gasversorgungsteils;
    • 5 ist eine teilweise vergrößerte Ansicht von 4; und
    • 6 ist eine Zeichnung, die eines der zweiten Befestigungsteile zeigt.
  • [Ausführungsform der Erfindung]
  • Im Folgenden wird unter Hinweis auf die Zeichnungen das Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung im Detail betrachtet.
  • 1 ist eine Seitenansicht eines Gerätes zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung 1000 gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
  • Hinweisend auf 1 ist das Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung 1000 mit folgenden Teilen versehen: einer Kammer 10, einem Substratträgerteil 20 und einem Gasversorgungsteil 30.
  • Die Kammer 10 kann die folgenden Teile umfassen: eine Außenkammer 15 und eine Innenkammer 40, die einen Verarbeitungsraum 46 für die Verarbeitung des Substrats (W) auf der Innenseite der Außenkammer 15 bereitstellt.
  • Die Außenkammer 15 kann die folgenden Teile umfassen: einen Kammerdeckel 11, der den oberen Teil abdeckt; einen Außenwandteil 12, der am Kammerdeckel 11 befestigt ist und einen Seitenteil der Kammer abdeckt; und einen Bodenflansch 13, der die untere Bodenfläche der Kammer bildet.
  • Der Kammerdeckel 11 kann durch ein Befestigungsmittel, beispielsweise einen Bolzen, auswechselbar an dem Außenwandteil 12 befestigt sein und im Kammerdeckel 11 kann ein Kühlkanal 11 a ausgebildet sein. Da der Kühlkanal 11 a so konstruiert ist, dass ein Kühlmedium wie Kühlwasser oder Kühlgas strömen kann, so kühlt er die Kammer 10, die durch Hochtemperaturwärme erhitzt wird, die während des Abscheidungsprozesses im Inneren der Kammer 10 erzeugt wird.
  • Darüber hinaus kann an der Kammerdeckel 11 ein Sensorrohr 52 installiert werden, das als ein optischer Messkanal des optischen Sensors 51 fungiert, um den auf dem Substrat (W) in der Innenkammer 40 abgeschiedenen Dünnfilm optisch zu messen. Das Sensorrohr 52 kann so angeordnet sein, dass es den Kammerdeckel 11 und die Innenkammer 40 durchdringt. Hier kann es so konstruiert sein, dass, indem ein Spülgas in das Sensorrohr 52 eingeführt wird, verhindert wird, dass ein Reaktionsgas aus der Innenkammer 40 in das Sensorrohr 52 abgegeben wird.
  • Der Außenwandteil 12 ist am Kammerdeckel 11 befestigt und so konstruiert, dass er den Seitenteil der Innenkammer 40 abdeckt. In dem Außenwandteil 12 ist eine Auslassbohrung 14 ausgebildet, die mit einer Gasauslassleitung (in Zeichnungen nicht gezeigt) verbunden ist und so konstruiert ist, dass nach Abschluss des Abscheidungsprozesses ein im Verarbeitungsraum 46 verbleibendes Reaktionsgas durch das Auslassbohrung 14 und die Gasauslassleitung (in Zeichnungen nicht gezeigt) zur Außenseite der Kammer 10 abgelassen wird.
  • Unterdessen ist am unteren Teil der Außenkammer 15 ein unterer Flanschteil 13 vorgesehen. Im unteren Flanschteil 13 kann ein Kühlkanal 13a ausgebildet sein. Der Kühlkanal 13a ist so konstruiert, dass ein Kühlmedium wie Kühlwasser oder Kühlgas strömen kann, und ist so konstruiert, dass er die Kammer 10 kühlt, die durch Hochtemperaturwärme erhitzt wird, die während des Abscheidungsprozesses in der Innenkammer 40 erzeugt wird.
  • Zudem ist innerhalb der Innenkammer 40 ein Substratträgerteil 20 angeordnet, auf dem ein Substrat (W) gut situiert ist. Der Substratträgerteil 20 ist mit einer Heizspule 24 versehen, die das Substrat (W) erhitzt. Beispielsweise umfasst der Substratträgerteil 20 die folgenden Teile: einen Heizblock 21, auf dem das Substrat (W) gut situiert ist und erhitzt wird; eine Welle 22, die den Heizblock 21 trägt und dreht; einen Dichtungsteil 23; und eine Heizspule 24, die das Substrat (W) durch induktive Erwärmung des Heizblocks 21 erhitztwird. In diesem Fall kann die Heizspule 24 so konstruiert sein, dass sie von einer Seitenfläche des Heizblocks 21 erhitzt wird.
  • Unterdessen ist am oberen Teil des Substratträgerteils 20 ein Absperrdeckel 44 vorgesehen. Der Raum zwischen dem Absperrdeckel 44 und dem Heizblock 21 entspricht dem Verarbeitungsraum 46. Das von dem oben beschriebenen Gasversorgungsteil 30 zugeführte Prozessgas kann dem Substrat (W) des Inneren des Verarbeitungsraums 46 zugeführt werden. Unter den Prozessgasen werden Gase, die nicht an der Reaktion teilgenommen haben, durch das oben erwähnte Auslassbohrung 14 und die Gasauslassleitung (in Zeichnungen nicht gezeigt) zur Außenseite der Kammer 10 abgelassen wird.
  • Der Abstand zwischen dem Absperrdeckel 44 und dem Heizblock 21 kann im Voraus bestimmt werden, da er ein wichtiger Faktor dafür ist, dass der Verarbeitungsprozess für das Substrat (W) reibungslos erreicht wird. Da es in diesem Fall nicht einfach ist, die Höhe einer Innenkammer 40 einzustellen, mit der die Absperrdeckel 44 verbunden ist, so ist es bevorzugt, dass, indem eine Dicke der Absperrdeckel 44 eingestellt wird, ein Abstand zwischen der Absperrdeckel 44 und dem Heizblock 21 angepasst wird.
  • Unterdessen führt der Gasversorgungsteil 30 ein Prozessgas und Spülgas dem im Verarbeitungsraum 46 angeordneten Substrat (W) zu. Im Falle des Zuführens des Prozessgases ist es erforderlich, es gleichmäßig in Richtung auf dem Substrat (W) zuzuführen.
  • Zu diesem Zweck ist die Gasversorgungsteil 30 mit den folgenden Teilen versehen: einem Gaszuführungsteil 350, der das Prozessgas und Spülgas zuführt, und einer Führungsbaugruppe 300, die mit dem Gaszuführungsteil 350 verbunden ist, wobei sie auswechselbar verbunden ist und so führt, dass das Prozessgas gleichmäßig dem Verarbeitungsraum 46 zugeführt wird.
  • 2 ist eine seitliche Querschnittsansicht, die eine Konstruktion des Gasversorgungsteils 30 zeigt, und 3 ist eine perspektivische Ansicht des Gasversorgungsteils 30.
  • Unter Hinweis auf die 2 und 3 dient die Gaszuführungsteil 350 dazu, mithilfe der Führungsbaugruppe 300 verschiedene Gase, einschließlich Prozessgas und Spülgas zuzuführen.
  • Beispielsweise kann der Gaszuführungsteil 350 mit den folgenden Teilen versehen sein: einer Zuführungsquelle eines Prozessgases (in Zeichnungen nicht gezeigt), die das Prozessgas speichert; Gaseinlassanschlüssen 352, 354, 356, 385, die mit der Zuführungsquelle des Prozessgases verbunden sind; und Verbindungskanälen 363, 365, 367, die die Gaseinlassanschlüsse 352, 354, 356, 385 und die Führungsbaugruppe 300 verbinden.
  • Das Prozessgas kann aus einer Vielzahl von Gasen bestehen, so dass ein Verarbeitungsprozess wie ein Abscheidungsprozess auf dem Substrat (W) durchgeführt werden kann, und demzufolge können mehrere Zuführungsquellen eines Prozessgases bereitgestellt werden.
  • Zudem werden Gaseinlassanschlüsse 352, 354, 356, 385 bereitgestellt, die jeweils mit den mehreren Zuführungsquellen eines Prozessgases verbunden sind, wobei die Gaseinlassanschlüsse 352, 354, 356, 385, indem sie mit dem Stützrahmen 349 verbunden sind, von diesem getragen werden können.
  • Die mehreren Gaseinlassanschlüsse 352, 354, 356, 385 können aus den folgenden Teilen bestehen: Gaseinlassanschlüssen 352, 354, 356, durch die ein Prozessgas zugeführt wird, und einem Spülgaseinlassanschluss 385, durch den ein Spülgas zugeführt wird. Die Anzahl der Gaseinlassanschlüsse 352, 354, 356 des Prozessgases ist zwar mit drei dargestellt, ist jedoch nicht darauf beschränkt und kann entsprechend angepasst werden.
  • Die Gaseinlassanschlüsse 352, 354, 356 des Prozessgases können über Verbindungskanäle 363, 365, 367 mit der Führungsbaugruppe 300 verbunden sein. Indem die Verbindungskanäle 363, 365, 367 jeweils Strömungsräume 362, 364, 366 bereitstellen, in denen das Prozessgas strömt, wird das Prozessgas der Führungsbaugruppe 300 zugeführt.
  • Indem die Führungsbaugruppe 300 das zugeführte Prozessgas gleichmäßig dem Substrat (W) im Inneren des Verarbeitungsraums 46 zu führt, kann der Verarbeitungsprozess für das Substrat (W) reibungslos und wiederholt reproduziert werden.
  • Beispielsweise kann die Führungsbaugruppe 300 mit den folgenden Teilen versehen sein: mehreren Gasführungsplatten 310, die in einem vorbestimmten Winkel zum Verarbeitungsraum 46 geneigt sind und das Prozessgas zum Verarbeitungsraum 46 führen; und mehreren Befestigungsteilen 320 und 330, die die hinteren Endteile der mehreren Gasführungsplatten 310 drücken und fixieren. Zugleich können die Befestigungsteile 320 und 330 mit den folgenden Teilen versehen sein: mehreren ersten Befestigungsteilen 320, die jeweils in Kontakt mit den oberen Flächen der hinteren Endteile der mehreren Gasführungsplatten 310 kommen und die sie drücken und fixieren; und mehreren zweiten Befestigungsteilen 330, die jeweils in Kontakt mit der unteren Flächen der hinteren Endteile der mehreren Gasführungsplatten 310 kommen und und die sie drücken und fixieren.
  • Darüber hinaus kann die Führungsbaugruppe 300 noch mit den folgenden Teilen versehen sein: dem dritten Befestigungsteil 305, der die mehreren Seitenflächenteile der mehreren Gasführungsplatten 310 befestigt, und einem Rahmenteil 340, der den ersten Befestigungsteil 320 und den zweiten Befestigungsteil 330 drückt und fixiert.
  • Der Rahmenteil 340 kann mit den folgenden Teilen versehen sein: einem Kanalrahmen 344, der mit den Verbindungskanälen 363, 365 und 367 verbunden ist und in dem innere Kanäle 344A, 344B und 344C ausgebildet sind, durch die ein Prozessgas strömt; einem oberen Rahmen 342, der von oben auf den ersten Befestigungsteil 320 sowie den zweiten Befestigungsteil 330 drückt; einem unteren Rahmen 348, der von unten auf den ersten Befestigungsteil 320 und den zweiten Befestigungsteil 330 drückt; einem Seitenteilrahmen 346, der den oberen Rahmen 342 und den unteren Rahmen 348 verbindet; und einem Grundrahmen 341.
  • Der Kanalrahmen 344 ist mit den oben erwähnten Verbindungskanälen 363, 365 und 367 verbunden und führt ein Prozessgas zur Gasführungsplatte 310 zu. Zu diesem Zweck sind in der Innenseite des Kanalrahmens 344 innere Kanäle 344A, 344B und 344C ausgebildet, durch die das Prozessgas strömt. Die inneren Kanäle 344A, 344B und 344C sind entsprechend der Anzahl der Verbindungskanäle 363, 365 und 367 ausgebildet. In diesem Fall kann, wenn eine Änderung der Anzahl der inneren Kanäle 344A, 344B, 344C erforderlich ist, die Anzahl der inneren Kanäle so angepasst werden, dass der Rahmenkörper des Kanalrahmens 344 in geteilter oder in gestapelter Form montiert wird.
  • Unterdessen dienen der obere Rahmen 342 und der untere Rahmen 348 dazu, den ersten Befestigungsteil 320 und den zweiten Befestigungsteil 330 von oben bzw. unten zu drücken. Indem Beispielsweise der obere Rahmen 342 und der untere Rahmen 348 mit oberen Bolzen 343 und unteren Bolzen (in Zeichnungen nicht gezeigt) befestigt werden, um den ersten Befestigungsteil 320 und den zweiten Befestigungsteil 330 zu drücken, ist die Gasführungsplatte 310 so angeordnet, dass sie in einem vorgegebenen Winkel geneigt und fixiert wird.
  • Da in diesem Fall durch den Seitenteilrahmen 346 der obere Rahmen 342 und der untere Rahmen 348 auf der Seitenfläche verbunden werden, wird es verhindert, dass sich der erste Befestigungsteil 320, der zweite Befestigungsteil 330 und die Gasführungsplatte 310 in horizontaler Richtung verdrehen, und sie werden fixiert.
  • Am unteren Teil des Rahmenteils 340 ist ein Grundrahmen 341 vorgesehen, der über den Grundrahmen 341 mit der Kammer 10 verbunden werden kann.
  • Unterdessen ist es, wenn mehrere Prozessgase zugeführt werden, erforderlich, dass die Prozessgase nicht im Voraus gemischt werden, sondern nach dem Zuführen zum Verarbeitungsraum 46 gemischt werden. Daher ist ein Gaseinleitungsraum 47 erforderlich, damit das Prozessgas individuell dem Verarbeitungsraum 46 zugeführt wird. Beispielsweise kann der Gaseinleitungsraum 47 als ein Raum zwischen der oben beschriebenen Innenkammer 40 und der Gaseinleitungsplatte 49 definiert werden.
  • Allerdings kann der Abstand zwischen dem Absperrdeckel 44 und dem Heizblock 21, der dem Verarbeitungsraum 46 entspricht, sehr klein ausgebildet sein, so dass der Verarbeitungsprozess für das Substrat (W) reibungslos durchgeführt werden kann.
  • Daher ist es erforderlich, dass eine Gasführungsplatte 310, die das Prozessgas führt, einen geeigneten Winkel aufweist und geneigt angeordnet ist, damit das Prozessgas vom Gaseinleitungsraum 47, der einen relativ großen Raum einnimmt, zum Verarbeitungsraum 46 geführt wird, der einen relativ geringen Raum und eine relativ geringe Höhe aufweist.
  • In den 2 und 3 ist die Gasführungsplatte 310 so angeordnet, dass sie in einem vorbestimmten Winkel nach unten geneigt ist und sich in Richtung auf den Verarbeitungsraum 46 erstreckt.
  • In diesem Fall kann sich ein Neigungswinkel mindestens einer der mehreren Gasführungsplatten 310 vom Neigungswinkel der anderen Gasführungsplatten 310 unterscheiden.
  • Beispielsweise kann ein Neigungswinkel der ersten Gasführungsplatte 312, die sich auf dem obersten Teil unter den mehreren Gasführungsplatten 310 befindet, relativ am größten sein und ein Neigungswinkel der dritten Gasführungsplatte, die sich an dem untersten Teil unter den mehreren Gasführungsplatten 310 befindet, kann den relativ kleinsten sein. Allerdings kann der Winkel der Gasführungsplatte 310 je nach Anordnung und Größe des Gaseinleitungsraums 47 und des Verarbeitungsraums 46 entsprechend verändert werden.
  • Unterdessen kann sich eine Länge mindestens einer der mehreren Gasführungsplatten 310 von der Länge der anderen Gasführungsplatten 310 unterscheiden.
  • Beispielsweise kann eine Länge der ersten Gasführungsplatte 312, die sich auf dem obersten Teil unter den mehreren Gasführungsplatten 310 befindet, am kürzesten sein, und die Längen der zweite Gasführungsplatte 314 und der dritten Gasführungsplatte 314, die sich an dem unteren Teil der ersten Gasführungsplatte 312 befinden, können relativ länger sein. Das heißt, indem sich die vorderen Endteile der zweiten Gasführungsplatte 314 und der dritten Gasführungsplatte 316 länger als die erste Gasführungsplatte 312 erstrecken, können sie in einen Raum zwischen dem Absperrdeckel 44 und dem Heizblock 21 eingeschoben werden.
  • Da, wie oben erwähnt, die Höhe des Verarbeitungsraums 46 kleiner als die Höhe des Gaseinleitungsraums 47 ist, ist es schwierig, dass die vorderen Endteile aller Gasführungsplatten 310 in einen Raum zwischen der Absperrdeckel 44 und dem Heizblock 21.
  • Zugleich kann der vordere Endteil der ersten Gasführungsplatte 312 mit dem Absperrdeckel 44 verbunden werden. Beispielsweise kann ein Neigungswinkel der ersten Gasführungsplatte 312 beibehalten werden, indem ein Befestigungsnutteil 45 am Absperrdeckel 44 ausgebildet ist, und der vordere Endteil der ersten Gasführungsplatte 312 in den Befestigungsnutteil 45 eingefügt und fixiert wird.
  • Unterdessen können die vorderen Endteile der zweiten Gasführungsplatte 314 und der dritten Gasführungsplatte 316 durch den Absperrdeckel 44 nicht gestützt werden, da die vorderen Endteile der zweiten Gasführungsplatte 314 und der dritten Gasführungsplatte 316 in einen Raum zwischen dem Absperrdeckel 44 und dem Heizblock 21 eingeschoben werden. In diesem Fall können die vorderen Endteile der zweiten Gasführungsplatte 314 und der dritten Gasführungsplatte 316 nach unten durchhängen.
  • Im Fall der vorliegenden Erfindung wird es verhindert, dass die vorderen Endteile der zweiten Gasführungsplatte 314 und der dritten Gasführungsplatte 316 durchhängen, indem ein dritter Befestigungsteil 305 bereitgestellt wird, der mindestens einen Seitenflächenteil der mehreren Gasführungsplatten 310 fixiert.
  • Beispielsweise können Seitennutteil 315 und 317 jeweils auf den Seitenflächenteilen der zweiten Gasführungsplatte 314 bzw. der dritten Gasführungsplatte 316 ausgebildet sein. In diesem Fall kann an dem dritten Befestigungsteil 305 ein Befestigungsvorsprungsteil (in Zeichnungen nicht gezeigt) ausgebildet sein, der in die Seitennutteile 315 und 317 eingefügt wird. Im Falle des Installierens der zweiten Gasführungsplatte 314 und der dritten Gasführungsplatte 316 kann es verhindert werden, über einen Winkel hinaus durchzuhängen, den die zweite Gasführungsplatte 314 und die dritte Gasführungsplatte 316 voreingestellt haben, da Seitenflächenteile der zweiten Gasführungsplatte 314 und der dritten Gasführungsplatte 316 durch den dritten Befestigungsteil 305 gestützt werden.
  • In dieser Ausführungsform besteht die Gasführungsplatte 310 zwar aus Quarz, jedoch ist das Material nicht besonders eingeschränkt und eine Führungsplatte aus Metall ist ebenfalls möglich.
  • Wenn die Gasführungsplatte 310 in einem vorbestimmten Winkel geneigt angeordnet ist, kann der Winkel der Gasführungsplatte kann beibehalten werden, da die oberen und unteren Teile der hinteren Endteile der Gasführungsplatte 310 durch den oben beschriebenen ersten Befestigungsteil 320 und den zweiten Befestigungsteil 330 fixiert werden.
  • 4 ist eine perspektivische Seitenansicht des in 3 in Längsrichtung geschnittenen Gasversorgungsteils 30 und 5 ist eine teilweise vergrößerte Ansicht von 4.
  • Unter Hinweis auf die 2 , 4 und 5 ist der erste Befestigungsteil 320 auf dem oberen Teil der mehreren Gasführungsplatten 310 angeordnet, wobei er die obere Fläche des hinteren Endteils der Gasführungsplatte 310 drückt und fixiert. Außerdem ist der zweite Befestigungsteil 330 am unteren Teil der mehreren Gasführungsplatten 310 angeordnet, wobei er die untere Fläche des hinteren Endteils der Gasführungsplatten 310 drückt und fixiert.
  • Der erste Befestigungsteil 320 und der zweite Befestigungsteil 330 können aus Kunstharz bestehen. Beispielsweise können der erste Befestigungsteil 320 und der zweite Befestigungsteil 330 aus technischem Kunststoff oder hochtechnischem Kunststoff hergestellt werden. Darüber hinaus können der erste Befestigungsteil 320 und der zweite Befestigungsteil 330 aus einem oder einer Kombination von zwei oder mehreren Materialien bestehen, die unter den folgenden Materien ausgewählt werden: Polysulfon (PSU), Polyarylat (PAR), Polyetherimid (PEI), Polyethersulfon (PES) und Polyphenyl. Es kann aus einem oder einer Kombination aus zwei oder hergestellt sein weitere ausgewählt aus Rensulfon (PPS), Polyimid (PI), Teflon (PTFE) und Polyetheretherketon (PEEK).
  • Im Falle der vorliegenden Erfindung können der erste Befestigungsteil 320 und der zweite Befestigungsteil 330 aus Kunstharzen hergestellt werden, die unterschiedliche Festigkeit aufweisen. Beispielsweise kann der erste Befestigungsteil 320 aus Teflon hergestellt werden und der zweite Befestigungsteil 330 aus Polyimid hergestellt werden, und umgekehrt ist es auch möglich.
  • Wenn sowohl der erste Befestigungsteil 320 als auch der zweite Befestigungsteil 330 aus hochfestem Kunstharz hergestellt werden, so kann es zu einer Verformung oder Beschädigung der Gasführungsplatte 310 kommen, während die Gasführungsplatte 310 gedrückt wird. Denn das ist möglich. Insbesondere wenn die Gasführungsplatte 310 aus Quarz hergestellt wird, kann es leicht zu Beschädigungen und Brüchen an der Gasführungsplatte 310 kommen.
  • Indem Festigkeiten des ersten Befestigungsteils 320 und des zweiten Befestigungsteils 330 daher unterschiedlich sind, kann es verhindert werden, dass es zu Beschädigungen und Brüchen der Gasführungsplatte 310 kommt, da, wenn sie durch den Rahmenteil 340 gedrückt werden, eine Verformung absorbiert wird, die durch einen ausgeübten Druck auf den Befestigungsteil mit relativ geringer Festigkeit verursacht wird.
  • Unterdessen drückt der 1-1-Befestigungsteil 322, der sich auf dem obersten Teil unter den mehreren ersten Befestigungsteilen 320 befindet, die obere Fläche des hinteren Endteils der ersten Gasführungsplatte 312. Indem der zweite 1-2-Befestigungsteil 324 zwischen dem 2-1-Befestigungsteil 332 und der zweiten Gasführungsplatte 314 angeordnet ist, drückt er die obere Fläche des hinteren Endteils der der zweiten Gasführungsplatte 314. Indem zugleich der 1-3-Befestigungsteil 326 zwischen dem 2-2-Befestigungsteil 334 und der dritten Gasführungsplatte 316 angeordnet ist, drückt er die obere Fläche des hinteren Endteils der dritten Gasführungsplatte 316.
  • Unterdessen drückt der 2-1-Befestigungsteil 332, der sich auf dem obersten Teil unter den mehreren zweiten Befestigungsteilen 330 befindet und zwischen der ersten Gasführungsplatte 312 und dem 1-2-Befestigungsteil 324 angeordnet ist, die untere Fläche des hinteren Endteils der ersten Gasführungsplatte 312. Indem der zweite 2-2-Befestigungsteil 334 zwischen dem 1-3-Befestigungsteil 326 und der zweiten Gasführungsplatte 314 angeordnet ist, drückt er die untere Fläche des hinteren Endteils der der zweiten Gasführungsplatte 314. Zugleich drückt der 2-3-Befestigungsteil 336 am unteren Teil der dritten Gasführungsplatte 316 die obere Fläche des hinteren Endteils der dritten Gasführungsplatte 316.
  • In diesem Fall kann noch ein zusätzlicher Befestigungsteil 328 vorgesehen sein, um den 2-3-Befestigungsteil 336 zu stützen. Das heißt, der zusätzliche Befestigungsteil 328 befindet sich am unteren Teil des 2-3-Befestigungsteils 336, wobei er den 2-3-Befestigungsteil 336 von unten stützt. Der zusätzliche Befestigungsteil 328 kann durch den oben beschriebenen Grundrahmen 341 und die Gaseinleitungsplatte 49 gestützt werden.
  • Unterdessen ist, wie oben beschrieben, die Gasführungsplatte 310 in einem vorbestimmten Winkel zum Verarbeitungsraum 46 geneigt angeordnet. Wenn bei dieser Struktur der erste Befestigungsteil 320 und der zweite Befestigungsteil 330 die obere oder untere Fläche des hinteren Endteils der Gasführungsplatte 310 durch die horizontale Fläche drücken, so ist die Gasführungsplatte 310 in einem vorbestimmten Winkel verdreht ist, da der vordere Endteil der Gasführungsplatte 310 angehoben wird.
  • Daher können auf der unteren Fläche des ersten Befestigungsteils 320 und auf der oberen Fläche des zweiten Befestigungsteils 330 jeweils ein erster geneigter Teil 323 und zweite geneigten Teile 333A, 334A und 336A ausgebildet sein, die einen gleichen Winkel wie eine Neigung aufweisen, mit der die Gasführungsplatte 310 installiert wird.
  • Der erste geneigte Teil 323 des ersten Befestigungsteils 320 und die zweiten geneigten Teile 333A, 334A und 336A des zweiten Befestigungsteils 330 sind mit dem gleichen Winkel wie dem Installationswinkel der Gasführungsplatte 310 ausgebildet. Dementsprechend kann ein Neigungswinkel der Gasführungsplatte 310 mit dem gleichen Winkel wie dem vorbestimmten Winkel beibehalten werden, selbst wenn der erste Befestigungsteil 320 und der zweite Befestigungsteil 330 durch den oberen Rahmen 342 und den unteren Rahmen 348 von oben und unten gedrückt werden.
  • Indem der erste Befestigungsteil 320 und der zweite Befestigungsteil 330 durch den ersten geneigte Teil 323 und die zweiten geneigten Teile 333A, 334A und 336 jeweils in Flächenkontakt mit der Gasführungsplatte 310 kommen, da die Kontaktfläche vergrößert wird, also kann es durch Reibung verhindert werden, dass die Gasführungsplatte 310 getrennt wird, und sie kann fest fixiert werden.
  • Unterdessen ist 6 eine Zeichnung, die den 2-1-Befestigungsteil 332 zeigt. 6a ist eine obere perspektivische Ansicht des 2-1-Befestigungsteils 332 und 6b ist eine untere perspektivische Ansicht des 2-1-Befestigungsteils 332.
  • Unter Hinweis auf 6 kann der 2-1-Befestigungsteil 332 mit dem oben beschriebenen zweiten geneigten Teil 333A und einem Körperteil 333C versehen sein, der mit dem zweiten geneigten Teil 333A verbunden ist. Der Körperteil 333C kann auf beiden Seitenflächenteilen mit Befestigungslöchern 333D versehen sein. Ein oberer Bolzen 343, der den oberen Rahmen 342 durch das Befestigungsloch 333D befestigt, kann durch es hindurch befestigt werden.
  • Unterdessen kann ein erster konkaver Teil 333B auf der unteren Fläche des 2-1-Befestigungsteils 332 ausgebildet sein. Der erste konkave Teil 333B kann auf der unteren Fläche des Körperteils 333C mit einer vorbestimmten Breite und Tiefe ausgebildet sein.
  • Unter Hinweis auf die 4 bis 6 wird der 2-1-Befestigungsteil 332, der an der Führungsbaugruppe 300 montiert wird, in engem Kontakt mit der unteren Fläche des ersten Rahmens 370 des Rahmenteils 340 eingeschoben und fixiert. In diesem Fall wird der erste Vorsprungsteil 372, der von der Mitte des ersten Rahmens 370 vorspringend ausgebildet, in den ersten konkaven Teil 333B eingefügt, wobei er den 2-1-Befestigungsteil 332 stützt.
  • Unterdessen werden ein zweiter konkaven Teil 334B und ein dritter konkaven Teil 336B auch jeweils an dem 2-2-Befestigungsteil 334 und dem 2-3-Befestigungsteil 336, die am unteren Teil des 2-1-Befestigungsteils 332 montiert sind. Wenn der 2-2-Befestigungsteil 334 und der 2-3-Befestigungsteil 336 an der Führungsbaugruppe 300 montiert werden, so kommen sie jeweils in engem Kontakt mit dem zweiten Rahmen 374 des Rahmen 340s und der unteren Fläche des dritten Rahmenteils 377, wobei sie eingeschoben und fixiert werden. In diesem Fall werden der zweite Vorsprung 375 und der dritte Vorsprung 378, die von den zentralen Teilen des zweiten Rahmens 374 und des dritten Rahmens 377 vorspringend ausgebildet sind, jeweils in den zweiten konkaven Teil 334B und in den dritten konkaven Teil 336B eingefügt, und sie stützen die 2-2-Befestigungsteil 334 und das 2-3-Befestigungsteil 336.
  • Unterdessen ist der Fall der Installation der Gasführungsplatte 310 wie folgt. Zuerst wird während des Installierens des 2-3-Befestigungsteils 336 die dritte Gasführungsplatte 316 entlang der oberen Fläche des 2-3-Befestigungsteils 336 eingeschoben. In diesem Fall wird eine Vorsprungslänge der dritten Gasführungsplatte 316 bestimmt, indem der hintere Endteil der dritten Gasführungsplatte 316 den vorderen Endteil des dritten Rahmens 377 berührt. Obwohl in der Zeichnung der vordere Endteil des dritten Rahmens 377 nicht gezeigt wird, kann der vordere Endteil des dritten Rahmens 377 entsprechend der Installationsneigung der dritten Gasführungsplatte 316 geneigt ausgebildet sein. Dadurch kommt der vordere Endteil des dritten Rahmens 377 in Flächenkontakt mit dem hinteren Endteil der dritten Gasführungsplatte 316, da die Kontaktfläche vergrößert wird, und der vordere Endteil des dritten Rahmens 377 kann fest fixiert werden.
  • In Falle des Installierens der zweiten Gasführungsplatte 314 und der ersten Gasführungsplatte 312 wird eine Vorsprungslänge insofern bestimmt, als die hinteren Endteile jeder Gasführungsplatte die vorderen Endteils des zweiten Rahmens 374 und des ersten Rahmens 370 berührt. Darüber hinaus können die vorderen Endteile des zweiten Rahmens 374 und des ersten Rahmens 370 auch entsprechend der Installationsneigung der zweiten Gasführungsplatte 314 und der ersten Gasführungsplatte 312 geneigt ausgebildet sein.
  • Unterdessen kann der 1-1-Befestigungsteil 322 so ausgebildet sein, dass er sich lang genug erstreckt, um die gesamte obere Fläche des hinteren Endteils der ersten Gasführungsplatte 312 abzudecken. Wenn jedoch der 1-2-Befestigungsteil 324 und der 1-3-Befestigungsteil 326 ebenso wie der 1-1-Befestigungsteil 322 ausgebildet sind, wird es schwierig, eine Zuführungsöffnung bereitzustellen, durch die ein Prozessgas zugeführt werden kann.
  • Indem daher ein 1-1 -Befestigungsteil 322, der sich am obersten Teil unter den mehreren ersten Befestigungsteilen 320 befindet, und ein 1-2-Befestigungsteil 324, der sich an dem unteren Teil des 1-1-Befestigungsteils 324 befindet, sowie ein 1-3-Befestigungsteil 326 und der zusätzliche Befestigungsteil 328 aus einem Paar bestehen, können sie sich jeweils auf beiden Seitenteilen des hinteren Endteils der Gasführungsplatte 310 befinden.
  • Das heißt, wie in 4 gezeigt, wird eine erste Zuführungsöffnung 32, durch die das erste Prozessgas zugeführt wird, in einem Raum zwischen der ersten Gasführungsplatte 312 und der zweiten Gasführungsplatte 314 sowie zwischen einem Paar von den 1-2-Befestigungsteilen 324 ausgebildet. Zugleich wird eine zweite Zuführungsöffnung 34, durch die das zweite Prozessgas zugeführt wird, in einem Raum zwischen der zweiten Gasführungsplatte 314 und der dritten Gasführungsplatte 316 sowie zwischen einem Paar von den 1-3-Befestigungsteilen 326 ausgebildet, und dann wird eine dritte Zuführungsöffnung 36, durch die das dritte Prozessgas zugeführt wird, in einem Raum zwischen der dritten Gasführungsplatte 316 und der Gaseinleitungsplatte 49 sowie zwischen einem Paar von zusätzlichen Befestigungsteilen 328 ausgebildet.
  • Obwohl die vorliegende Erfindung oben unter Hinweis auf bevorzugte Ausführungsformen beschrieben wird, kann ein durchschnittlicher Fachmann verschiedene Modifikationen und Änderungen an der vorliegenden Erfindung vornehmen, ohne vom Geist und Umfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen, wie er in den nachstehend beschriebenen Ansprüchen dargelegt ist. Wenn daher die modifizierte Durchführung im Wesentlichen die Elemente der Ansprüche der vorliegenden Erfindung umfasst, sollte sie als im technischen Umfang der vorliegenden Erfindung enthalten angesehen werden.

Claims (7)

  1. Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung, dadurch gekennzeichnet, dass es die folgenden Teile umfasst: eine Kammer, die einen Verarbeitungsraum bereitstellt, in dem ein Substrat bearbeitet wird; einen Substratträgerteil, der im Inneren der Kammer vorgesehen ist und auf dem das Substrat gut situiert ist; einen Gaszuführungsteil, durch den ein Prozessgas und ein Spülgas zugeführt werden; einen Gasversorgungsteil, der mit einer Führungsbaugruppe versehen ist, die also mit dem Gaszuführungsteil verbunden ist und ein Prozessgas führt, um es in den Verarbeitungsraum gleichmäßig zuzuführen, und auswechselbar verbunden ist, wobei die Führungsbaugruppe mit den folgenden Teilen versehen ist: mehreren Gasführungsplatten, die in einem vorgegebenen Winkel zum Verarbeitungsraum geneigt sind und das Prozessgas zum Verarbeitungsraum führen; und mehrere Befestigungsteile, die die hinteren Endteile der mehreren Gasführungsplatten drücken und befestigen.
  2. Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Befestigungsteil mit den folgenden Teilen noch versehen ist: mehreren ersten Befestigungsteilen, die jeweils die oberen Flächen der die hinteren Endteile der mehreren Gasführungsplatten berühren, drücken und befestigen; mehreren zweiten Befestigungsteilen, die jeweils die unteren Flächen der hinteren Endteile der mehreren Gasführungsplatten berühren, drücken und befestigen, wobei die Führungsbaugruppe die folgenden Teile noch umfasst: mehrere dritte Befestigungsteile, die mindestens einen Seitenflächenteil von den mehreren Gasführungsplatten befestigen, und einen Rahmenteil, der den ersten Befestigungsteil und den zweiten Befestigungsteil drückt und befestigt.
  3. Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass auf der unteren Fläche des ersten Befestigungsteils und auf der oberen Fläche des zweiten Befestigungsteils jeweils ein erster geneigter Teil und ein zweiter geneigter Teile ausgebildet sein, die einen gleichen Winkel wie eine Neigung aufweisen, mit der die Gasführungsplatte installiert wird.
  4. Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein zusätzlicher Befestigungsteil weiter bereitgestellt wird, der die untere Fläche des 2-3-Befestigungsteils am unteren Teil des 2-3-Befestigungsteils stützt, der sich am untersten Teil der mehreren zweiten Befestigungsteile befindet.
  5. Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass, indem ein erster Befestigungsteil, der sich am unteren Teil des 1-1-Befestigungsteils befindet, der wiederum sich am obersten Teil unter den mehreren ersten Befestigungsteilen befindet, aus einem Paar besteht, sich das Paar jeweils auf beiden Seitenteil des hinteren Endteils der Gasführungsplatte befindet und eine Zuführungsöffnung, durch die das Prozessgas zugeführt wird, in einem Raum zwischen dem Paar der ersten Befestigungsteile und zwischen den Gasführungsplatten ausgebildet wird..
  6. Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass am oberen Teil des Substratträgerteils ein Absperrdeckel weiter vorgesehen ist, der einen Verarbeitungsraum zwischen dem Substratträgerteil und dem Absperrdeckel bereitstellt, und ein vorderer Endteil der ersten Gasführungsplatte, der sich am obersten Teil unter den mehreren Gasführungsplatten befindet, wird mit dem Absperrdeckel verbunden.
  7. Gerät zur metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass, da sich der vordere Endteil der Gasführungsplatte, der sich am unteren Teil der ersten Gasführungsplatte befindet, noch länger als die erste Gasführungsplatte erstreckt, er in einen Raum zwischen dem Substratträgerteil und dem Absperrdeckel eingeschoben wird.
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