DE112017004469T5 - Substratlagerungsbehälter bzw. Substrataufbewahrungsbehälter und Gasaustauscheinheit - Google Patents

Substratlagerungsbehälter bzw. Substrataufbewahrungsbehälter und Gasaustauscheinheit Download PDF

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Abstract

Ein Substratlagerungsbehälter und eine Gasaustauscheinheit werden bereitgestellt, in denen Variationen der Feuchtigkeit oder der Konzentration in einem Innenraum gering sind, selbst wenn sich der gelagerte Zustand der Substrate ändert.Der Substratlagerungsbehälter umfasst einen Behälterkörper (2), der in der Lage ist Substrate (W) aufzunehmen, ein Einlassventil (50) zum Zuführen eines Gases (G) von außerhalb des Behälterkörpers (2) an den Innenraum und Gasaustauscheinheiten (3R, 3L) zum Blasen des von dem Einlassventil zugeführten Gases in den Innenraum des Behälterkörpers (2), wobei der Behälterkörper (2) als eine Box mit vorderer Öffnung ausgebildet ist, wobei in dem Substratlagerungsbehälter (1) das Einlassventil (50) an der Rückseite (B) einer Bodenfläche (2f) befestigt ist, wobei die Gasaustauscheinheiten (3R, 3L) jeweils ein Gehäuseelement (31) und ein Abdeckelement (32), das die Öffnung des Gehäuseelements (31) abdeckt, umfassen, wobei das Gehäuseelement (31) eine Vielzahl an ersten Ausblaslöchern (31a ... 31z) zum Blasen des gelagerten Gases (G) in der Richtung der Vorderseite (F) des Behälterkörpers (2) besitzt und wobei das Abdeckelement (32) eine Vielzahl an zweiten Ausblaslöchern (32a ... 32f), die in der rückwärtigen Richtung entgegengesetzt zu der Blasrichtung der ersten Ausblaslöcher (31a ... 31z) ausblasen, besitzt.

Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Die vorliegende Erfindung betrifft einen Substratlagerungsbehälter bzw. Substrataufbewahrungsbehälter und eine Gasaustauscheinheit zum Aufnehmen einer Vielzahl an Substraten.
  • STAND DER TECHNIK
  • Substrate wie Halbleiterwafer werden in dem Innenraum eines Substratlagerungsbehälters gelagert, der für die Lagerung in einem Lagerhaus, den Transport zwischen Halbleiterbearbeitungsmaschinen, den Transport zwischen Fabriken oder dergleichen verwendet wird. Um die Oxidation oder Kontamination der in dem Innenraum untergebrachten Substrate zu verhindern, muss der Innenraum mit einem Inertgas, wie Stickstoffgas oder trockener Luft, ausgetauscht werden.
  • So ein Substratlagerungsbehälter umfasst einen Behälterhauptkörper zum Lagern einer Vielzahl an Substraten und einen Deckel, der abnehmbar an der Öffnung des Behälterhauptkörpers eingebaut ist, wobei Einlassventile zum Zuführen eines Gases von außerhalb des Behälterhauptkörpers zu dem Innenraum an der Bodenplatte des Behälterhauptkörpers eingebaut sind, eine hohle Ausblasdüse, die mit den Einlassventilen kommuniziert, aufrecht bereitgestellt ist und ein Ausblasloch zum Blasen von Gas in die Richtung des Substrats an der Umfangswand der Ausblasdüse bereitgestellt ist (siehe Patentdokument 1).
  • [Dokumente des Stands der Technik]
  • [Patentdokumente]
  • [Patentdokument 1] Ungeprüfte japanische Patentanmeldung 2016-4949
  • Offenbarung der Erfindung
  • Von der Erfindung zu lösendes Problem
  • Allerdings können in dem in Patentdokument 1 offenbarten Substratlagerungsbehälter, wenn sich der gelagerte Zustand des Substrates ändert, Variationen in der Feuchtigkeit oder der Konzentration des Gases zwischen den Substraten zunehmen.
  • Daher wurde die vorliegende Erfindung im Hinblick auf die obigen Probleme gemacht, sodass es, selbst wenn sich der gelagerte Zustand der Substrate ändert, eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, einen Substratlagerungsbehälter und eine Gasaustauscheinheit bereitzustellen, wobei Variationen in der Feuchtigkeit oder der Konzentration von Gas in dem Innenraum gering sind.
  • MITTEL ZUR LÖSUNG DES PROBLEMS
    1. (1) Gemäß der vorliegenden Erfindung umfasst ein Aspekt einen Behälterkörper, der in der Lage ist, eine Vielzahl an Substraten zu lagern, ein Einlassventil zum Zuführen von Gas von außerhalb des Behälterkörpers zu dem Innenraum und eine Gasaustauscheinheit, die das von dem Einlassventil zugeführte Gas in den Innenraum des Behälterkörpers bläst, wobei der Behälterkörper als eine Box mit vorderer Öffnung ausgebildet ist und das Einlassventil an der Rückseite der Bodenfläche befestigt ist, wobei die Gasaustauscheinheit ein Gehäuseelement, das das von dem Einlassventil zugeführte Gas lagert, und ein Abdeckelement, das eine Öffnung des Gehäuseelements abdeckt, umfasst, wobei die Öffnung des Gehäuseelements in der rückwärtigen Richtung des Behälterkörpers orientiert ist und der untere Teil des Gehäuseelements mit dem Einlassventil verbunden ist, wobei das Gehäuseelement eine Vielzahl an ersten Ausblaslöcher zum Blasen des gelagerten Gases in Richtung der Vorderseite des Behälterkörpers besitzt und wobei das Abdeckelement eine Vielzahl an zweiten Ausblaslöcher zum Ausblasen in einer rückwärtigen Richtung entgegengesetzt zu der Blasrichtung der ersten Ausblaslöcher besitzt.
    2. (2) Gemäß der vorliegenden Erfindung umfasst ein anderer Aspekt einen Behälterkörper, der in der Lage ist, eine Vielzahl an Substraten zu lagern, ein Einlassventil zum Zuführen von Gas von außerhalb des Behälterkörpers zu dem Innenraum und eine Gasaustauscheinheit, die das von dem Einlassventil zugeführte Gas in den Innenraum des Behälterkörpers bläst, wobei der Behälterkörper als eine Box mit vorderer Öffnung ausgebildet ist und das Einlassventil an der Rückseite der Bodenfläche befestigt ist, wobei die Gasaustauscheinheit ein Gehäuseelement, das das von dem Einlassventil zugeführte Gas lagert, und ein Abdeckelement, das eine Öffnung des Gehäuseelements abdeckt, umfasst, wobei die Öffnung des Gehäuseelements in der vorderen Richtung des Behälterkörpers orientiert ist und der untere Teil des Gehäuseelements mit dem Einlassventil verbunden ist, wobei das Abdeckelement eine Vielzahl an ersten Ausblaslöcher zum Blasen des gelagerten Gases in Richtung der Vorderseite des Behälterkörpers besitzt und wobei das Gehäuseelement eine Vielzahl an zweiten Ausblaslöcher zum Ausblasen in einer rückwärtigen Richtung entgegengesetzt zu der Blasrichtung der ersten Ausblaslöcher besitzt.
    3. (3) Gemäß einem der Aspekte (1) oder (2) oben, wobei wenigstens eine der Gasaustauscheinheiten das Gas in drei verschiedene Richtungen ausbläst.
    4. (4) Gemäß einem der Aspekte (1) bis (3) oben, wobei wenigstens einer des oberen Teils und des Mittelteils des Gehäuseelements unter Verwendung eines Durchgangslochs, das in der Rückwand des Behälterkörpers ausgebildet ist, positioniert und fixiert ist.
    5. (5) Gemäß einem der Aspekte (1) bis (4) oben, wobei wenigstens eines der ersten Ausblaslöcher niedriger als das niedrigste Level der in dem Behälterkörper gelagerten Substrate positioniert ist.
    6. (6) Gemäß einem der Aspekte (1) bis (5) oben, wobei die Gasaustauscheinheit ein luftdurchlässiges Filterelement innerhalb des Gehäuseelements und des Abdeckelements umfasst.
    7. (7) Gemäß einem der Aspekte (1) bis (6) oben, wobei das Gas Stickstoffgas oder trockene Luft ist.
    8. (8) Gemäß der vorliegenden Erfindung umfasst ein anderer Aspekt eine Gasaustauscheinheit für einen Substratlagerungsbehälter, der einen Behälterkörper, der in der Lage ist, eine Vielzahl an Substraten zu lagern, und ein Einlassventil zum Zuführen von Gas von der Außenseite des Behälterkörpers zu dem Innenraum besitzt, wobei das Einlassventil an der Rückseite einer Bodenfläche des Behälterkörpers befestigt ist, wobei die Gasaustauscheinheit umfasst: ein Gehäuseelement, das das von dem Einlassventil zugeführte Gas lagert, und ein Abdeckelement, das die Öffnung des Gehäuseelements abdeckt, wobei die Öffnung des Gehäuseelements in der rückwärtigen Richtung des Behälterkörpers orientiert ist und der untere Teil des Gehäuseelements mit dem Einlassventil verbunden ist, wobei das Gehäuseelement eine Vielzahl an ersten Ausblaslöcher zum Blasen des gelagerten Gases in Richtung der Vorderseite des Behälterkörpers besitzt und wobei das Abdeckelement eine Vielzahl an zweiten Ausblaslöcher zum Ausblasen in einer rückwärtigen Richtung entgegengesetzt zu der Blasrichtung der ersten Ausblaslöcher besitzt.
    9. (9) Gemäß der vorliegenden Erfindung umfasst ein anderer Aspekt eine Gasaustauscheinheit für einen Substratlagerungsbehälter, der einen Behälterkörper, der in der Lage ist, eine Vielzahl an Substraten zu lagern, und ein Einlassventil zum Zuführen von Gas von der Außenseite des Behälterkörpers zu dem Innenraum besitzt, wobei das Einlassventil an der Rückseite einer Bodenfläche des Behälterkörpers befestigt ist, wobei die Gasaustauscheinheit umfasst: ein Gehäuseelement, das das von dem Einlassventil zugeführte Gas lagert, und ein Abdeckelement, das die Öffnung des Gehäuseelements abdeckt, wobei die Öffnung des Gehäuseelements in der vorderen Richtung des Behälterkörpers orientiert ist und der untere Teil des Gehäuseelements mit dem Einlassventil verbunden ist, wobei das Abdeckelement eine Vielzahl an ersten Ausblaslöcher zum Blasen des gelagerten Gases in Richtung der Vorderseite des Behälterkörpers besitzt und wobei das Gehäuseelement eine Vielzahl an zweiten Ausblaslöcher zum Ausblasen in einer rückwärtigen Richtung entgegengesetzt zu der Blasrichtung der ersten Ausblaslöcher besitzt.
  • VORTEILE DER ERFINDUNG
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung ist es möglich, selbst wenn sich der gelagerte Zustand der Substrate ändert, einen Substratlagerungsbehälter und eine Gasaustauscheinheit bereitzustellen, wobei Variationen in der Feuchtigkeit oder Konzentration des Gases innerhalb des Innenraums gering sind.
  • Figurenliste
    • 1 ist eine perspektivische Explosionsansicht, die einen Substratlagerungsbehälter gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt.
    • 2 ist eine Vorderansicht des Behälterkörpers.
    • 3 ist eine Unteransicht des Behälterkörpers.
    • 4 ist ein Querschnitt einer Aufsicht des Behälterkörpers.
    • 5 ist eine perspektivische Ansicht der Gasaustauscheinheit der ersten Ausführungsform.
    • 6 ist eine perspektivische Explosionsansicht der Gasaustauscheinheit der ersten Ausführungsform.
    • 7 (a) ist eine Vorderansicht, 7 (b) ist eine Aufsicht, 7 (c) ist eine Unteransicht und (d) ist eine Rückansicht der Gasaustauscheinheit der ersten Ausführungsform.
    • 8 ist eine entlang der Linie AA in 7 (a) aufgenommene Querschnittsansicht der Gasaustauscheinheit der ersten Ausführungsform.
    • 9 (a) ist eine schematische Vorderansicht des Behälterkörpers, 9 (b) ist eine vergrößerte perspektivische Ansicht eines oberen Befestigungsteils der Gasaustauscheinheit und 9 (c) ist eine vergrößerte perspektivische Ansicht des unteren Befestigungsteils der Gasaustauscheinheit.
    • 10 ist eine vergrößerte perspektivische Ansicht eines oberen Befestigungsteils der Gasaustauscheinheit.
    • 11 ist eine vergrößerte Ansicht (a) eines unteren Befestigungsteils einer Gasaustauscheinheit und (b) einer perspektivischen Querschnittsansicht.
    • 12 ist eine perspektivische Querschnittsansicht, die einen Gasstrom, der von einem Einlassventil einströmt, zeigt.
    • 13 ist eine perspektivische Ansicht einer Gasaustauscheinheit gemäß einer zweiten Ausführungsform.
    • 14 ist eine perspektivische Explosionsansicht einer Gasaustauscheinheit gemäß der zweiten Ausführungsform.
    • 15 (a) ist eine Vorderansicht, 15 (b) ist eine Aufsicht, 15 (c) ist eine Unteransicht und 15 (d) ist eine Rückansicht der Gasaustauscheinheit der zweiten Ausführungsform.
  • ART UND WEISE ZUM AUSFÜHREN DER ERFINDUNG
  • Im Folgenden werden Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung detailliert in Bezug auf die Abbildungen beschrieben. In den Ausführungsformen der vorliegenden Beschreibung werden durchgängig die gleichen Referenzzeichen den gleichen Elementen gegeben. Zusätzliche werden in den Zeichnungen die Richtungen der Vorderseite F und der Rückseite (Rückwand) B durch durchgehende Pfeile angegeben. Weiterhin beziehen sich Links und Rechts auf den Zustand, wie er von der Vorderseite F aus gesehen wird.
  • (Erste Ausführungsform)
  • Der Substratlagerungsbehälter 1 der ersten Ausführungsform wird beschrieben. 1 ist eine perspektivische Explosionsansicht eines Substratlagerungsbehälters gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; 2 ist eine Vorderansicht des Behälterkörpers; 3 ist eine Unteransicht des Behälterkörpers und 4 ist ein Querschnitt einer Aufsicht des Behälterkörpers.
  • Der in 1 gezeigte Substratlagerungsbehälter 1 umfasst einen Behälterkörper 2 für die Lagerung einer Vielzahl an Substraten W und einen Deckel 4, der abnehmbar an der Öffnung des Behälterkörpers 2 befestigt ist. Einige Beispiele der Substrate W, die in dem Substratlagerungsbehälter 1 gelagert werden können, umfassen einen Halbleiterwafer mit einem Durchmesser von 300 mm oder 450 mm, eine Glasmaske oder dergleichen.
  • Der Behälterkörper 2 ist ein sogenannter Typ einer Box mit vorderer Öffnung (bzw. Frontöffnungskastentyp), der durch einen Rahmen mit vorderer Öffnung (bzw. Frontöffnungsrahmen) 2a, einer Rückwand 2b, einer rechten Seitenwand 2c, einer linken Seitenwand 2d, einer Oberseite 2e und einer Bodenfläche 2f gebildet ist.
  • Der Deckel 4 ist an der Öffnung des Rahmens mit vorderer Öffnung 2a des Behälterkörpers 2 befestigt, und ist so befestigt, dass eine Verschlussdichtung (nicht gezeigt) dem Rahmen mit vorderer Öffnung 2a des Behälterkörpers 2 gegenübersteht. Wenn der Deckel 4 an dem Behälterkörper 2 befestigt ist, steht die Verschlussdichtung in engem Kontakt mit dem Umfangsrandbereich zwischen dem Behälterkörper 2 und dem Deckel 4, um so die Luftdichtheit des Innenraums des Substratlagerungsbehälters 1 aufrechtzuerhalten. Die Luft im Innenraum des Substratlagerungsbehälters 1, dessen Luftdichtheit aufrecht erhalten wird, wird durch ein Gas G über Gasaustauscheinheiten 3R und 3L, die später beschrieben werden, ausgetauscht.
  • An der Rückwand 2b des Behälterkörpers 2 sind Vorsprünge, die weiter in Richtung der Rückseite vorstehen, sowohl an den linken als auch den rechten Seiten ausgebildet (siehe 4). Diese Vorsprünge dienen als Beinteile, wenn sie mit der Öffnung der Vorderseite F des Behälterkörpers 2 nach oben zeigend angeordnet sind. Weiterhin wird an der mittleren Außenseite der Rückwand 2b des Behälterkörpers 2 eine Skala oder dergleichen, die die Anzahl der Substrate, die gelagert werden können, angibt, angezeigt (siehe 1).
  • In dem Bereich der Mitten der äußeren rechten Seitenwand 2c und der linken Seitenwand 2d des Behälterkörpers 2 sind jeweils Griffe (23), die für einen Greifvorgang verwendet werden können, befestigt.
  • Eine Vielzahl an linken und rechten Paaren an Trägerstücken 21 für das horizontale Tragen der gelagerten Substrate W sind an der inneren rechten Seitenwand 2c und der linken Seitenwand 2d des Behälterkörpers 2 und an der inneren Rückseite B der rechten Seitenwand 2c und der linken Seitenwand 2d bereitgestellt, und positionsregulierende Teile 22 sind für das Regulieren der Einsetzposition der Substrate W, wenn die Substrate W in Richtung der Rückseite B eingesetzt werden, bereitgestellt.
  • Die Paare der linken und rechten Trägerstücke 21 werden in einem vorbestimmten Abstand in der vertikalen Richtung angeordnet, und jedes Trägerstück 21 ist in einer länglichen Plattenform ausgebildet, um die Umfangskanten der Substrate W zu tragen. In der vorliegenden Ausführungsform sind die Trägerstücke 21 so bereitgestellt, dass sie 25 Substrate W tragen können, aber die maximal gelagerte Anzahl an Substraten W ist nicht auf 25 beschränkt.
  • Da die Substrate W in einem vollständig beladenen Zustand oder einer kleineren Anzahl als dem vollständig beladenen Zustand in dem Behälterkörper 2 gelagert werden können, wie es benötigt wird, können die Lagerungspositionen geändert werden, und die gelagerte Anzahl und der Lagerungszustand innerhalb des Behälterkörpers 2 hängen von der Verwendung des Substratlagerungsbehälters 1 ab. Zum Beispiel kann eine Vielzahl an Substraten W so gelagert werden, dass sie aufwärts oder abwärts vorgespannt werden, oder kann so gelagert werden, dass eines in jedem anderen Raum positioniert ist.
  • Ein oberer Flansch 25, wie ein automatischer Flansch, wird an der Außenseite der Oberseite 2e des Behälterkörpers 2 befestigt. Der obere Flansch 25 wird für den Transport zwischen Verfahren verwendet, beispielsweise wenn er von einem Überkopf-Beförderungswagen in einer Halbleiterherstellungsfabrik gegriffen wird, und/oder wird für das Positionieren in einer Deckelöffnungs/-verschlussvorrichtung, wie einem Halbleiterbearbeitungsgerät, verwendet.
  • An der Außenseite der Bodenfläche 2f des Behälterkörpers 2 ist eine Bodenplatte 26 zum Positionieren und Platzieren des Behälterkörpers 2 befestigt.
  • Teile wie der Behälterkörper 2 und der Deckel 4 sowie der Griff 23, der obere Flansch 25 und die Bodenplatte 26 sind mit einem Harzformungsmaterial spritzgegossen oder eine Kombination einer Vielzahl an Teilen sind spritzgegossen. Beispiele des Harzes, das in dem Formungsmaterial enthalten ist, umfassen thermoplastische Harze, wie Polycarbonat, cyclisches Olefinpolymer, Polyetherimid, Polyetherketon, Polyetheretherketon, Polybutylenterephthalat, Polyacetal, Flüssigkristallpolymer oder Legierungen davon.
  • Zusätzlich können leitende Substanzen, die aus Kohlenstofffasern, Kohlenstoffpulvern, Kohlenstoffnanoröhren, leitenden Polymeren oder dergleichen bestehen, oder antistatische Mittel, wie Anionen, Kationen, nichtionische Additive oder dergleichen, wie benötigt zu diesen Harzen gegeben werden. Weiterhin können ein Ultraviolettabsorptionsmittel oder eine verstärkende Faser zur Verbesserung der Steifheit wie benötigt zugegeben werden. Der Behälterkörper 2, der Deckel 4, der Griff 23, der obere Flansch 25, die Bodenplatte 26 und dergleichen können transparent, lichtundurchlässig oder lichtdurchlässig sein, aber der Behälterkörper 2 und der Deckel 4 sind vorzugsweise transparent.
  • Anschließend wird eine Struktur, in der der Innenraum des Substratlagerungsbehälters 1 mit den Gasaustauscheinheiten 3R, 3L mit einem Gas ausgetauscht wird, beschrieben. 5 ist eine perspektivische Ansicht der Gasaustauscheinheit der ersten Ausführungsform und 6 ist eine perspektivische Explosionsansicht der Gasaustauscheinheit der ersten Ausführungsform. In 7 ist (a) eine Vorderansicht, ist (b) eine Aufsicht, ist (c) eine Unteransicht und ist (d) eine Rückansicht der Gasaustauscheinheit einer ersten Ausführungsform. 8 ist eine entlang der Linie AA in 7 aufgenommene Querschnittsansicht der Gasaustauscheinheit der ersten Ausführungsform. Weiterhin zeigen 5 bis 8 die Gasaustauscheinheit 3R auf der rechten Seite, wie von der Vorderseite F aus gesehen.
  • Da die Gasaustauscheinheiten 3R und 3L den Innenraum des Behälterkörpers 2 mit einem Gas G austauschen, sind die Einheiten vertikal in der Längsrichtung an sowohl den linken als auch rechten Seiten der Rückseite B (nahe der Rückwand 2b oder des vorstehenden Teils) des Behälterkörpers 2 bereitgestellt, um so die Substrate W nicht zu stören, selbst wenn die Substrate W eingesetzt sind (siehe 1 und 2).
  • Die Gasaustauscheinheiten 3R und 3L blasen das Gas G in den Innenraum des Behälterkörpers 2. Das einzublasende Gas G kann ein inertes Gas oder trockene Luft sein. Weiterhin umfassen Beispiele des inerten Gases Stickstoffgas, Argongas oder dergleichen, aber im Hinblick auf die Kosten ist Stickstoffgas bevorzugt.
  • Zurück zu 3: Auf der Bodenfläche 2f des Behälterkörpers 2 sind drei Einlassventile 50 und ein Auslassventil 60 bereitgestellt. Die Einlassventile 50 und das Auslassventil 60 sind so konfiguriert, dass sie die Verschlechterung der Oberfläche der gelagerten Substrate W unterdrücken, indem sie dem Gas G ermöglichen, von dem Äußeren des Substratlagerungsbehälters 1 zu dem Innenraum oder von dem Innenraum nach außen zu strömen, wodurch der Druckunterschied zwischen dem Innenraum des Substratlagerungsbehälters 1 und der Außenseite beseitigt wird.
  • Von diesen sind zwei Einlassventile 50 an den linken und rechten Seiten der Rückseite B der Bodenfläche 2f bereitgestellt. Die unteren Teile der Gasaustauscheinheiten 3R und 3L sind mit diesen zwei Einlassventilen 50 so verbunden, dass das Gas G strömen kann. Zusätzlich sind ein Einlassventil 50 und ein Auslassventil 60 an den linken und rechten Seiten nahe der Vorderseite F der Bodenfläche 2f bereitgestellt.
  • Jedes Einlassventil 50 besitzt eine Durchführungsdichtung (grommet) 50a, die in einer Aussparung in der Bodenfläche 2f des Behälterkörpers 2 befestigt ist, ein luftdurchlässiges Filterelement 51, das an einem Endteil der Durchführungsdichtung 50a befestigt ist, und ein Rückschlagventil 52 (siehe 12).
  • Die Durchführungsdichtung 50a ist aus einem elastischen Harzelement wie einem Elastomer gebildet. Das Filterelement 51 filtriert das zugeführte Gas G, um so Staub zu entfernen, und ein Vliesfilter oder dergleichen kann verwendet werden. Das Rückschlagventil 52 ist durch eine Schraubenfeder 53 in der Richtung des Verschließens des Ventils vorgespannt und ist in dem Ventilgehäuse 54 gelagert (siehe 12).
  • Weiterhin besitzt das Auslassventil 60 ein Rückschlagventil (nicht gezeigt) und indem beispielsweise ein Feuchtigkeits- (oder Konzentrations-)sensor angebracht wird, ist es möglich, die Feuchtigkeit (oder Konzentration) des Innenraums des Substratlagerungsbehälters 1 nach dem Austauschen des Innenraums des Substratlagerungsbehälters 1 mit dem Gas G zu messen, und es ist auch möglich, zu kontrollieren, ob der Austausch des Gases G in dem Innenraum des Substratlagerungsbehälters 1 normal durchgeführt wurde.
  • Die Gasaustauscheinheiten 3R und 3L werden detaillierter beschrieben. Da allerdings die Gasaustauscheinheit 3L, wie in 2 gezeigt ist, die gleiche Form und Struktur wie die Gasaustauscheinheit 3R besitzt, mit der Ausnahme, dass sie damit bilateral symmetrisch ist, wird deren Erklärung ausgelassen.
  • Die in 5 gezeigte Gasaustauscheinheit 3R umfasst ein Gehäuseelement 31 und ein Abdeckelement 32 und ist in einer im Wesentlichen pentagonalen Prismenform ausgebildet, aber die Form ist nicht darauf beschränkt. Weiterhin kann die Gasaustauscheinheit 3R aus dem gleichen Harz gebildet sein, wie das des Behälterkörpers 2, oder sie kann aus einem unterschiedlichen Harz gebildet sein.
  • Das Gehäuseelement 31 ist in einer Boxenform, in der eine Seite offen ist (in der Richtung der Rückseite B), um das Gas G zu lagern, ausgebildet, und das Abdeckelement 32 ist in einer Plattenform ausgebildet und ist so eingebaut, dass es diese offene Oberfläche durch ein Verriegelungsmittel (Eingriffsmittel) wie einen Haken oder durch Schweißmittel wie Ultraschallwellen bedeckt (siehe 6). Ein Raum zum Lagern des Gases G wird durch das Gehäuseelement 31 und das Abdeckelement 32 gebildet.
  • Hier besitzt das Gehäuseelement 31 zwei Oberflächen 31A, 31B unterschiedlicher Größe und die Oberflächen schneiden sich unter einem vorbestimmten Winkel. Der Schnittwinkel zwischen der Oberfläche 31A und der Oberfläche 31B ist im Bereich von 120° bis 170° in dem Innenwinkel. Weiterhin ist die Fläche der Oberfläche 31A größer als die Fläche der Oberfläche 31B.
  • Ein zylindrisches Verbindungselement 311, in das das Gas G aus dem Einlassventil 50 strömt, steht aus der unteren Oberfläche 31C des Gehäuseelements 31 vor. In der Umgebung des Verbindungselements 311 ist ein rotationsstoppender Vorsprung 312, zum Positionieren der Rotationsrichtung, ausgebildet, der die Rotation der Gasaustauscheinheit 3R in der Links-Rechts-Richtung stoppt (siehe 7). Andererseits ist an der oberen Oberfläche 31D des Gehäuseelements 31 ein zylindrischer positionierender Vorsprung 313, zum Positionieren und Fixieren des Behälterkörpers 2, ausgebildet.
  • In der vorliegenden Ausführungsform sind die Oberfläche 31A, die Oberfläche 31B, die untere Oberfläche 31C und die obere Oberfläche 31D des Gehäuseelements 31 als ein Stück geformt, aber wenigstens eine von entweder der unteren Oberfläche 31C oder der oberen Oberfläche 31D kann getrennt geformt sein.
  • Wie in 7(a) gezeigt ist, sind auf der Oberfläche 31A des Gehäuseelements 31 sechsundzwanzig horizontal längliche im Wesentlichen rechteckige Ausblaslöcher als eine erste Gruppe an Ausblaslöchern 31a, 31b, 31c...31x, 31y, 31z (im Folgenden als „Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z“ bezeichnet, falls notwendig) in der vertikalen Richtung (Längsrichtung) in der Reihenfolge von oben ausgebildet.
  • Auf der Oberfläche 31B des Gehäuseelements 31 sind sechsundzwanzig horizontal längliche im Wesentlichen rechteckige Ausblaslöcher als eine dritte Gruppe an Ausblaslöchern 33a, 33b, 33c...33x, 33y, 33z (im Folgenden als „Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z“ bezeichnet, falls notwendig) in der vertikalen Richtung (Längsrichtung) in der Reihenfolge von oben ausgebildet.
  • Durch Ausbilden der Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z und der Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z auf den Oberflächen 31A bzw. 31B, die sich unter einem vorbestimmten Winkel schneiden, kann das Gas G unterschiedlich eingeblasen werden, und das Gas G diffundiert leicht in den Innenraum des Substratlagerungsbehälters 1.
  • Die Öffnungshöhe des obersten Erste-Gruppe-Ausblaslochs 31a ist etwas größer als die Öffnungshöhe des zweiten Erste-Gruppe-Ausblaslochs 31b; das heißt, die Öffnungsfläche des Erste-Gruppe-Ausblaslochs 31a ist etwas größer als die Öffnungsfläche des Erste-Gruppe-Ausblaslochs 31b. Weiterhin sind die Öffnungsflächen von dem Erste-Gruppe-Ausblasloch 31b zu dem Erste-Gruppe-Ausblasloch 31u alle gleich; jede der Öffnungsflächen ausgehend von dem Erste-Gruppe-Ausblasloch 31v zu dem Erste-Gruppe-Ausblasloch 31y wird graduell größer als die der Öffnungsfläche des Erste-Gruppe-Ausblaslochs 31u; und die Öffnungsfläche des Erste-Gruppe-Ausblaslochs 31z ist kleiner als die Öffnungsfläche des Erste-Gruppe-Ausblaslochs 31y. Dasselbe gilt für die Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z.
  • Dann sind das unterste Erste-Gruppe-Ausblasloch 31z und das Dritte-Gruppe-Ausblasloch 33z unterhalb der Substrate W, die durch das unterste Trägerstück 21 des Behälterkörpers 2 getragen werden, angeordnet. Allerdings ist die Anzahl an Löchern, wie die Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31z und die Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33z, die sich unterhalb des untersten Substrates W befinden, nicht auf eins beschränkt, sondern es können mehrere sein.
  • Für diesen Aufbau ist in den Erste-Gruppe-Ausblaslöchern 31a - z und den Dritte-Gruppe-Ausblaslöchern 33a - z die Öffnungsfläche für jedes des Erste-Gruppe-Ausblaslochs 31a und des Dritte-Gruppe-Ausblaslochs 33a in der obersten Stufe größer; dadurch nimmt, selbst wenn der Raum, der zwischen dem obersten Substrat W und der inneren Oberfläche der Oberseite 2e des Behälterkörpers 2 gebildet wird, größer ist als der Raum, der zwischen dem Substrat W der anderen Stufe und dem Substrat W der benachbarten Stufe gebildet wird, das Luftvolumen des Gases G, das aus dem obersten Erste-Gruppe-Ausblasloch 31a ausgeblasen wird, zu, und die Feuchtigkeit oder Konzentration des Gases G in dem Raum oberhalb des Substrates W unterscheidet sich nicht in Abhängigkeit der Position (des Levels) des Substrates W und ist in einem einheitlichen Zustand.
  • Weiterhin wird, da die Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z und die Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z jeweils eine größere Öffnungsfläche an der unteren Seite haben, selbst dann, wenn die Geradlinigkeit des von unten zugeführten Gases G hoch ist, das Gas G dennoch einheitlich von der unteren Seite zu der oberen Seite der Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z und der Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z geblasen. Da außerdem das Erste-Gruppe-Ausblasloch 31z und das Dritte-Gruppe-Ausblasloch 33z auch unter dem untersten Substrat W ausgebildet sind und da das Gas G auch zwischen dem untersten Substrat W und der Bodenfläche 2f ausgeblasen wird, strömt, selbst wenn irgendeine abwärtsströmende Luft in dem Reinraum in das Innere von der Öffnung der Vorderseite F des Behälterkörpers 2 eindringt, die abwärtsströmende Luft in dem Reinraum nicht mehr als nötig, da das Gas G in Richtung der Vorderseite F über die obere Oberfläche der Bodenfläche 2f geblasen wird.
  • Weiterhin sind, wie in 7(d) gezeigt ist, in dem Abdeckelement 32 sechs im Wesentlichen rechteckige oder quadratische Ausblaslöcher als eine zweite Gruppe an Ausblaslöchern 32a, 32b...32e, 32f (im Folgenden als „Zweite-Gruppe-Ausblaslöcher 32a - f“ bezeichnet, falls notwendig) in der vertikalen Richtung in der Reihenfolge von oben ausgebildet. Die Höhenposition des obersten Zweite-Gruppe-Ausblaslochs 32a ist im Wesentlichen dieselbe wie die Höhenposition des Erste-Gruppe-Ausblaslochs 31c. Im Folgenden fallen das Zweite-Gruppe-Ausblasloch 32b und das Erste-Gruppe-Ausblasloch 31h auf im Wesentlichen derselben Höhe zusammen. Das Zweite-Gruppe-Ausblasloch 32c und das Erste-Gruppe-Ausblasloch 31m fallen auf im Wesentlichen derselben Höhe zusammen. Das Zweite-Gruppe-Ausblasloch 32d und das Erste-Gruppe-Ausblasloch 31s fallen auf im Wesentlichen derselben Höhe zusammen. Das Zweite-Gruppe-Ausblasloch 32e und das Erste-Gruppe-Ausblasloch 31w fallen auf im Wesentlichen derselben Höhe zusammen. Das Zweite-Gruppe-Ausblasloch 32f und das Erste-Gruppe-Ausblasloch 31y fallen auf im Wesentlichen derselben Höhe zusammen.
  • Hier kann das Verhältnis der gesamten Öffnungsfläche S1, S2, S3 für jedes der Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z, Zweite-Gruppe-Ausblaslöcher 32a - f und Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z so eingestellt werden, dass Variationen der Feuchtigkeit unter der Vielzahl an Substraten W, die in dem Behälterkörper 2 gelagert werden, abnimmt. Indem die Ausblaslöcher der Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z, der Zweite-Gruppe-Ausblaslöcher 32a - f und der Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z, die in dem Gehäuseelement 31 und dem Abdeckelement 32 bereitgestellt sind, auf eine unterschiedliche Art eingestellt werden oder in dem alle geeigneten Ausblaslöcher geschlossen werden, kann die Öffnungsfläche eingestellt werden.
  • Zurück zu 4: Da die Gasaustauscheinheiten 3R, 3L an den linken und rechten Seiten an der Rückseite B (die Rückwand 2b oder die Umgebung der Vorsprünge) des Behälterkörpers 2 bereitgestellt sind, wie es oben beschrieben ist, wird, um das abgeführte Gas G einheitlich in dem Innenraum des Substratlagerungsbehälters 1 zu diffundieren, das Gas im Wesentlichen von den Erste-Gruppe-Ausblaslöchern 31a - z und den Dritte-Gruppe-Ausblaslöchern 33a - z in Richtung der Vorderseite F ausgeblasen, und die Luft wird dann durch das Gas G ausgetauscht werden. Zu diesem Zeitpunkt wird, da es auch Luft von der Rückwand 2b zu der rechten Seitenwand 2c oder der linken Seitenwand 2d, hinter der Position, an der die Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z und die Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z bereitgestellt sind, gibt, das Gas G vorzugsweise von den Zweite-Gruppe-Ausblaslöcher 32a - f in Richtung der Rückseite B ausgeblasen.
  • Der Bereich an der Vorderseite F, wo die Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z und die Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z bereitgestellt sind, ist deutlich größer als der Bereich an der Rückseite B, wo die Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z und die Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z bereitgestellt sind; daher ist es im Hinblick auf die gesamte Öffnungsfläche S1 der Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z und die gesamte Öffnungsfläche S3 der Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z, die der Vorderseite F gegenüberliegen, bevorzugt, sie größer zu machen als die gesamte Öffnungsfläche S2 der Zweite-Gruppe-Ausblaslöcher 32a - f, die der Rückseite B gegenüberliegen.
  • Zusätzlich blasen, wie es oben beschrieben ist, die Gasaustauscheinheiten 3R und 3L im Wesentlichen das Gas G in Richtung der Vorderseite F, aber sind in der Nähe der rechten Seitenwand 2c oder linken Seitenwand 2d bereitgestellt; Dadurch kann die Menge des Gases G, die entlang der rechten Seitenwand 2c oder der linken Seitenwand 2d zu der Vorderseite F gerichtet ist, gering sein; allerdings kann das Gas G, das in Richtung der Mitte des Behälterkörpers 2 gerichtet ist, größer sein. Daher ist es bevorzugt, die gesamte Öffnungsfläche S1 der Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z größer zu machen als die gesamte Öffnungsfläche S2 der Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z.
  • Darauf basierend kann das Verhältnis der gesamten Öffnungsfläche von S1, S2 und S3 für jedes der Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z, der Zweite-Gruppe-Ausblaslöcher 32a - f bzw. der Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z S1: S2: S3 = 3: 1: 2 oder dergleichen sein.
  • Zurück zu 6: Ein luftdurchlässiges Filterelement 34 ist innerhalb des Gehäuseelements 31 bereitgestellt und auf ähnliche Weise ist innerhalb des Abdeckelements 32 auch ein luftdurchlässiges Filterelement 35 bereitgestellt. Beispiele der Filterelemente 34, 35 umfassen einen Vliesfilter oder dergleichen.
  • Dann wird das Gas G über die zylindrischen Verbindungselemente 311 in den Raum, der durch das Gehäuseelement 31 und das Abdeckelement 32 gebildet ist, eingeführt und wird gelagert. Das gelagerte Gas G läuft durch die Filterelemente 34, 35, und wird von den Erste-Gruppe-Ausblaslöchern 31a - z, den Zweite-Gruppe-Ausblaslöchern 32a - f und den Dritte-Gruppe-Ausblaslöchern 33a - z in den Innenraum des Behälterkörpers 2 ausgeblasen.
  • Ein Verfahren zum Befestigen der Gasaustauscheinheit 3R an den Behälterkörper 2 wird beschrieben. 9(a) ist eine schematische Vorderansicht, (b) ist eine vergrößerte perspektivische Ansicht des oberen Befestigungsteils der Gasaustauscheinheit und (c) ist eine vergrößerte perspektivische Ansicht des unteren Befestigungsteils der Gasaustauscheinheit. 10 ist eine vergrößerte perspektivische Ansicht eines oberen Befestigungsteils der Gasaustauscheinheit. 11 ist eine vergrößerte Ansicht (a) eines unteren Befestigungsteils einer Gasaustauscheinheit und (b) einer perspektivischen Querschnittsansicht.
  • Die Gasaustauscheinheit 3R ist durch ein positionsfixierendes Element 8 und ein Offsetelement 9 an dem Behälterkörper 2 befestigt. Insbesondere ist der obere Teil der Gasaustauscheinheit 3R an dem positionsfixierenden Element 8 befestigt und der untere Teil der Gasaustauscheinheit 3R ist an dem Offsetelement 9 befestigt.
  • Daher werden kreisförmige Durchgangslöcher 27 in den linken und rechten Seiten der Rückwand 2b des Behälterkörpers 2 ausgebildet, um das positionsfixierende Element 8 zu fixieren, und auch ein Stopper 28 ist über dem Durchgangsloch 27 ausgebildet. Andererseits werden Befestigungslöcher 29 an den linken und rechten Seiten der Bodenfläche 2f des Behälterkörpers 2 ausgebildet, um das Offsetelement 9 zu fixieren. Die Befestigungslöcher 29 sind in einer im Wesentlichen elliptischen Form anstelle einer kreisförmigen Form ausgebildet, indem ein großer Kreis und ein kleiner Kreis verbunden werden.
  • Das positionsfixierende Element 8, das in 10 gezeigt ist, hat eine längliche Form, deren eine Endseite in einer im Wesentlichen plattenförmigen Form ausgebildet ist und deren andere Endseite durch eine rechteckige Welle ausgebildet ist. Drei scheibenförmige Flansche 81, 82, 83 sind in Richtung der anderen Endseite um diese Welle herum ausgebildet. Der Wellenendflansch 83 und der mittlere Flansch 82 sind kleiner als der Durchmesser des Durchgangslochs 27 in der Rückwand 2b und sind in das Durchgangsloch 27 eingesetzt. Ein mit einem kleinen Durchmesser abgestufter Teil ist in dem mittleren Flansch 82 ausgebildet und ein O-Ring 84A ist darin eingepasst. Ein mit einem kleinen Durchmesser abgestufter Teil ist auch in dem inneren Flansch 81 ausgebildet und ein O-Ring 84B ist darin eingepasst. Der innere Flansch 81 und der O-Ring 84B sind größer ausgebildet als der Durchmesser des Durchgangslochs 27, und wenn die andere Endseite des positionsfixierenden Elements 8 in das Durchgangsloch 27 eingesetzt ist, entweicht das Gas G nicht, da der O-Ring 84B zwischen dem Behälterkörper 2 und dem Flansch 81 angeordnet ist.
  • Nach dem Einsetzen des positionsfixierenden Elements 8 in das Durchgangsloch 27 wird eine rechteckige Welle zwischen dem Wellenendflansch 83 und dem Behälterkörper 2 mit einem dazwischen eingesetzten C-Ring 85 positioniert, wobei die innere Oberfläche des C-Rings eine rechteckige Form bildet und sein äußerer Durchmesser größer ist als das Durchgangsloch 27; das positionsfixierende Element 8 wird durch das Durchgangsloch 27 an dem Behälterkörper 2 fixiert. Insbesondere wird das Abdichten verbessert, indem der C-Ring 85 eingesetzt wird, während der O-Ring 84B zwischen dem Flansch 81 und dem Behälterhauptkörper 2 eingequetscht wird und während der Wellenendflansch 83 in Richtung der Außenseite gezogen wird.
  • Weiterhin hat ein Ende des positionsfixierenden Elements 8 eine nach oben gebogene Plattenform, und ein länglicher Schlitz 86 ist ausgebildet. Der positionierende Vorsprung 313 und der Stopper 28 des Gehäuseelements 31 sind in den Schlitz 86 eingepasst. Das Ende 87 ist weiterhin nach oben gebogen und eine U-förmige Kerbe 88 ist weiterhin an der Spitze davon ausgebildet.
  • Ein in 11 gezeigtes Offsetelement 9 ist zwischen der Offsetplattenpressvorrichtung 90, die an der Innenseite der Bodenseite 2f angeordnet ist, und der Offsetplatte 95, die an der Außenseite der Bodenfläche 2f angeordnet ist, bereitgestellt und ist über einen O-Ring 94 (siehe 12) eingebaut, sodass eine Lücke, durch die das Gas G strömen kann, gebildet wird.
  • Die Offsetplattenpressvorrichtung 90 ist mit einer Aussparung 92, in die der rotationsstoppende Vorsprung 312 des Gehäuseelements 31 passt, ausgebildet, und wenn der rotationsstoppende Vorsprung 312 in die Aussparung 92 passt, sind die Richtung und die Position der rotierenden Gasaustauscheinheit 3R fixiert. Ein Einsetzloch 96 ist in der Offsetplattenpressvorrichtung 90 zum Einsetzen des Verbindungselements 311 der Gasaustauscheinheit 3R ausgebildet, und das Verbindungselement 311 wird durch eine Dichtung 93 eingesetzt. In dem Befestigungsloch 29 ist die Offsetplattenpressvorrichtung 90 über einen O-Ring 91 eingepasst (siehe 12).
  • Ein konkaver Teil, in den das Einlassventil 50 eingepasst ist, ist in der Offsetplatte 95 ausgebildet, sodass die Mitte des Einlassventils 50 an einer Position lokalisiert ist, die zu der Mittelposition der Dichtung 93 versetzt ist, wie in der Aufsicht gesehen wird (siehe 12).
  • Mit so einem Aufbau wird in der Gasaustauscheinheit 3R das untere Verbindungselement 311 zuerst an dem Offsetelement 9 befestigt, und danach wird der obere positionierende Vorsprung 313 an dem positionsfixierenden Element 8 befestigt und an dem Behälterkörper 2 befestigt.
  • Genauer gesagt, da das Verbindungselement 311 an dem unteren Teil der Gasaustauscheinheit 3R in die Dichtung 93 eingesetzt wird und geneigt wird, biegt sich das positionsfixierende Element 8, indem der positionierende Vorsprung 313 an dem oberen Teil der Gasaustauscheinheit 3R von dem Ende 87 in Richtung des Schlitzes 86 gedrückt wird, und der positionierende Vorsprung 313 passt in den Schlitz 86. Gleichzeitig kommt der positionierende Vorsprung 313 auch mit dem Stopper 28 in Kontakt, sodass seine Position in dem Schlitz 86 fixiert wird, und der obere Teil der Gasaustauscheinheit 3R wird in einer Position fixiert.
  • Abschließend wird der Strom des Gases G beschrieben. 12 ist eine perspektivische Querschnittsansicht, die den Strom des Gases, das von dem Einlassventil strömt, zeigt. Der Strom des Gases G wird durch Pfeile angegeben. In 12 läuft das Gas G, das unter einem hohen Druck von dem Einlassventil 50 eingeführt wird, durch das Filterelement 51 und strömt durch die Lücke zwischen der Offsetplattenpressvorrichtung 90 und der Offsetplatte 95 und wird zu dem Verbindungsteil zwischen der Offsetplattenpressvorrichtung 90 an der Rückseite B und dem Verbindungselement 311 an dem unteren Teil der Gasaustauscheinheit 3R gerichtet.
  • Danach wird das Gas G aus den Erste-Gruppe-Ausblaslöchern 31a - z, den Dritte-Gruppe-Ausblaslöchern 33a - z und den Zweite-Gruppe-Ausblaslöchern 32a - f ausgeblasen, während es sich in den Speicherraum der Gasaustauscheinheit 3R vorwärts bewegt (siehe 8). Zu diesem Zeitpunkt wird das Gas G in drei unterschiedliche Richtungen ausgeblasen, d.h. in die Richtung in Richtung der Mitte der Vorderseite F, in die Richtung in Richtung der rechten Seitenwand 2c und in die Richtung in Richtung der Rückwand 2b an der Rückseite B (siehe 4).
  • Hier wird die Richtung des Gases G, das aus den Erste-Gruppe-Ausblaslöchern 31a - z in Richtung der Nähe der Mitte der Seite der Vorderseite F des Behälterkörpers 2 ausgeblasen wird, und die Richtung des Gases G, das von den Dritte-Gruppe-Ausblaslöchern 33a - z in Richtung der rechten Seitenwand 2c oder linken Seitenwand 2d des Behälterkörpers 2 ausgeblasen wird, spezifisch beschrieben.
  • Die Fortbewegungsrichtung der Ausblasöffnungen der Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z oder Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z, d.h. die Normallinie, die durch die Mitte der Oberfläche 31A oder der Oberfläche 31B, wo die Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z oder die Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z ausgebildet sind, läuft, schneidet nicht die rechte Seitenwand 2c oder die linke Seitenwand 2d und ist vorzugsweise in einem Bereich, der die Öffnung des Rahmens mit vorderer Öffnung 2a des Behälterkörpers 2 erreicht. Bevorzugter ist, im Fall der Gasaustauscheinheit 3R, die Normallinie zu der Oberfläche 31A im Bereich von 10° bis 40° in Bezug auf die Normallinie NL (senkrecht) von der Öffnung des Rahmens mit vorderer Öffnung 2a des Behälterkörpers 2, und die Normallinie des Oberflächenteils 31B ist im Bereich von 5° von der Mittelseite zu 10° an der rechten Seitenwand 2c, wobei die Normallinie NL (senkrecht) von der Öffnung des Rahmens mit vorderer Öffnung 2a des Behälterkörpers 2 dazwischen liegt. Im Fall der Gasaustauscheinheit 3L ist sie symmetrisch zu der Gasaustauscheinheit 3R.
  • Die Oberfläche 31A und die Oberfläche 31B (oder die Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z und die Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z) sind so ausgebildet, dass sie innerhalb solch eines Bereichs sind, und in dem die Gasaustauscheinheiten 3R, 3L innerhalb des Behälterkörpers 2 angeordnet werden, stößt das aus den entsprechenden Ausblaslöchern ausgeblasene Gas G nicht mit der rechten Seitenwand 2c oder linken Seitenwand 2d des Behälterkörpers 2 zusammen, um zurückgeworfen zu werden. Daher ist es möglich, da in dem Gasstrom des Gases G keine Turbulenzen auftreten, den Innenraum des Behälterkörpers 2 schnell und verlässlich mit dem Gas G auszutauschen.
  • Wenn der Deckel 4 an dem Behälterkörper 2 befestigt ist, wird das Gas G dem Behälterkörper 2 unter einem hohen Druck zugeführt und wenn der Innenraum gefüllt ist, strömt das Gas G aus dem Behälterkörper 2 von dem Auslassventil 60 aus, gezeigt in 3. Aufgrund dieses Herausströmens von Luft wird der Innenraum des Substratlagerungsbehälters 1 mit dem Gas G, das ein Spülgas ist, ausgetauscht.
  • Andererseits, wenn der Deckel 4 nicht befestigt ist, strömt herabströmende Luft von einer äußeren Vorrichtung wie einem Reinraum (nicht gezeigt) von der Vorderseite F des Behälterkörpers 2 ein, aber der Innenraum des Substratlagerungsbehälters 1 wird mit dem Gas G, das ein Spülgas ist, ausgetauscht, während er dieser Luft widersteht.
  • Wie oben beschrieben umfasst der Substratlagerungsbehälter 1 gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung einen Behälterkörper 2, der in der Lage ist, eine Vielzahl an Substraten W zu lagern, Einlassventile 50 zum Zuführen des Gases G von außerhalb des Behälterkörpers 2 an den Innenraum und Gasaustauscheinheiten 3R und 3L zum Blasen des von den Einlassventilen 50 zugeführten Gases G in den Innenraum des Behälterkörpers 2, wobei der Behälterkörper 2 als eine Box mit vorderer Öffnung ausgebildet ist, wobei der Substratlagerungsbehälter 1, in dem die Einlassventile 50 an der Rückseite B einer Bodenfläche 2f befestigt sind, wobei die Gasaustauscheinheiten 3R und 3L jeweils ein Gehäuseelement 31, das das von dem Einlassventil 50 zugeführte Gas G lagert, und ein Abdeckelement 32, das die Öffnung des Gehäuseelements 31 abdeckt, umfassen, wobei die Öffnung des Gehäuseelements 31 in Richtung der Rückseite B des Behälterkörpers 2 orientiert ist und der untere Teil des Gehäuseelements 31 mit den Einlassventilen 30 verbunden ist, wobei das Gehäuseelement 31 eine Vielzahl an ersten Ausblaslöchern 31a, 31b, 31c...31x, 31y, 31z zum Blasen des gelagerten Gases G in die Richtung der Vorderseite F des Behälterkörpers 2 besitzt, und wobei das Gehäuseelement 32 eine Vielzahl an zweiten Ausblaslöchern 32a, 32b, 32c, 32d, 32e, 32f, die in der rückwertigen Richtung entgegengesetzt zu der Blasrichtung der ersten Ausblaslöcher 31a, 31b, 31c...31x, 31y, 31z ausblasen, besitzt.
  • Als ein Ergebnis strömt das aus den Erste-Gruppe-Ausblaslöchern 31a - z der Gasaustauscheinheiten 3R, 3L ausgeblasene Gas G von der Umgebung der Mitte des Behälterkörpers 2 in Richtung der Vorderseite F, und das aus den Zweite-Gruppe-Ausblaslöchern 32a - f ausgeblasene Gas G stößt mit der Rückwand 2b des Behälterkörpers 2 zusammen, bewegt sich nach links und rechts sowie nach oben und unten und strömt durch die Lücke zwischen dem Behälterkörper 2 und den Gasaustauscheinheiten 3R und 3L und strömt in Richtung der Vorderseite F. Daher ist es möglich, selbst wenn sich der Lagerzustand der Substrate W ändert, einen Substratlagerungsbehälter 1 bereitzustellen, der geringere Variationen der Feuchtigkeit oder Konzentration unter den Substraten W besitzt.
  • In der vorliegenden Ausführungsform bläst wenigstens eine der Gasaustauscheinheiten 3R, 3L das Gas G in drei verschiedene Richtungen. Als ein Ergebnis kann, da die Gasaustauscheinheiten 3R und 3L mit den Dritte-Gruppe-Ausblaslöchern 33a - z zum Blasen des Gases G auch in der Richtung der Vorderseite F entlang der rechten Seitenwand 2c oder der linken Seitenwand 2d, zusätzlich zu der zentralen Richtung und der Richtung der Rückwand 2b des Behälterkörpers 2, bereitgestellt sind, das Gas G in den gesamten Innenraum des Behälterhauptkörpers 2 ausgeblasen werden.
  • In der vorliegenden Ausführungsform ist wenigstens einer des oberen Teils und des mittleren Teils des Gehäuseelements 31 positioniert und fixiert durch die Verwendung der Durchgangslöcher 27, die in der Rückwand 2b des Behälterkörpers 2 ausgebildet sind. Daher, da die Gasaustauscheinheiten 3R, 3L unter Verwendung des positionsfixierenden Elements 8, das leicht an den Durchgangslöchern 27 befestigt werden kann und davon gelöst werden kann, befestigt sind, können die Gasaustauscheinheiten 3R, 3L leicht an dem Behälterhauptkörper 2 befestigt werden oder davon gelöst werden. Selbst wenn der Behälterkörper 2 gereinigt wird, können die Gasaustauscheinheiten 3R, 3L leicht entfernt werden und jede Ecke des Innenraums des Behälterkörpers 2 kann gereinigt werden. Zusätzlich können die entfernten Gasaustauscheinheiten 3R, 3L leicht gereinigt werden.
  • In der vorliegenden Ausführungsform ist wenigstens eines der Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z niedriger positioniert als das Substrat W auf dem niedrigsten Level, das in dem Behälterhauptkörper 2 gelagert wird. Das ermöglicht es auch, dass das Gas G gleichmäßig unter dem untersten Substrat W strömt. Daher ist es möglich, selbst wenn sich der Lagerungszustand der Substrate W ändert, einen Substratlagerungsbehälter 1 bereitzustellen, der geringere Variationen in der Feuchtigkeit unter den Substraten W besitzt.
  • In der vorliegenden Ausführungsform umfassen die Gasaustauscheinheiten 3R und 3L luftdurchlässige Filterelemente 34, 35 innerhalb des Gehäuseelements 31 und des Abdeckelements 32. Als ein Ergebnis wird, selbst wenn Staub in dem zugeführten Gas G vorliegt, da der Staub durch die Filterelemente 34, 35 gefangen wird und nicht in den Behälterkörper 2 geblasen wird, der Innenraum des Substratlagerungsbehälters 1 nicht kontaminiert.
  • In der vorliegenden Ausführungsform ist das Gas G Stickstoffgas oder trockene Luft. Als ein Ergebnis werden, da der Innenraum des Substratlagerungsbehälters 1 inaktiv gehalten wird oder eine geringe Feuchtigkeit besitzt, die Oberfläche der Substrate W nicht degeneriert.
  • (Zweite Ausführungsform)
  • Im Folgenden wird eine zweite Ausführungsform des Substratlagerungsbehälters 1 beschrieben. Der Substratlagerungsbehälter 1 der zweiten Ausführungsform ist der gleiche wie der Substratlagerungsbehälter 1 der ersten Ausführungsform, mit der Ausnahme, dass die Gasaustauscheinheiten 3R und 3L sich von den Gasaustauscheinheiten 3R und 3L der ersten Ausführungsform unterscheiden. Daher werden in der zweiten Ausführungsform diejenigen Merkmale, die die gleichen sind wie in der ersten Ausführungsform, nicht beschrieben, und diejenigen Merkmale (Gasaustauscheinheiten 3R, 3L), die sich von der ersten Ausführungsform unterscheiden, werden beschrieben.
  • Somit werden die Gasaustauscheinheiten 3R und 3L der zweiten Ausführungsform beschrieben. 13 ist eine perspektivische Ansicht einer Gasaustauscheinheit der zweiten Ausführungsform und 14 ist eine perspektivische Explosionsansicht einer Gasaustauscheinheit der zweiten Ausführungsform. 15 (a) ist eine Vorderansicht, (b) ist eine Aufsicht, (c) ist eine Unteransicht und (d) ist eine Rückansicht der Gasaustauscheinheit der ersten Ausführungsform. Weiterhin zeigen 13 und 14 die Gasaustauscheinheit 3R an der rechten Seite, wie von der Vorderseite F aus gesehen.
  • Wie mit der ersten Ausführungsform hat die Gasaustauscheinheit 3L die gleiche Form und Struktur, mit der Ausnahme, dass sie bilateral symmetrisch mit der Gasaustauscheinheit 3R ist, sodass auf eine Erklärung verzichtet wird.
  • Die in 13 gezeigte Gasaustauscheinheit 3R umfasst ein Gehäuseelement 31 und ein Abdeckelement 32 und ist in einer im Wesentlichen pentagonalen Prismenform ausgebildet, aber die Form ist nicht darauf beschränkt. Weiterhin kann die Gasaustauscheinheit 3R aus dem gleichen Harz wie der Behälterkörper 2 oder dergleichen gebildet sein oder kann aus einem unterschiedlichen Harz gebildet sein.
  • Das Gehäuseelement 31 ist als eine Boxform, in der eine Seite offen ist (die Richtung der Vorderseite F) ausgebildet und ein Abdeckelement 32 ist durch Verriegelungsmittel (Eingriffsmittel) wie einen Haken oder durch Schweißmittel wie Ultraschallwellen befestigt, um diese offene Seite zu bedecken (siehe 14) . Ein Raum zum Lagern des Gases G wird durch das Gehäuseelement 31 und das Abdeckelement 32 gebildet.
  • Hier ist das Abdeckelement 32 in einer L-förmigen Plattenform mit zwei Oberflächen 31A und 31B mit unterschiedlichen Größen, die sich unter einem vorbestimmten Winkel schneiden, ausgebildet (siehe 14). Der Schnittwinkel zwischen der Oberfläche 31A und der Oberfläche 31B liegt im Bereich von 120° bis 170° in dem Innenwinkel. Weiterhin ist die Fläche der Oberfläche 31A so ausgebildet, dass sie größer ist als die Fläche der Oberfläche 31B. Ähnlich zu der ersten Ausführungsform sind Erste-Gruppe-Ausblasöffnungen 31a, 31b, 31c...31x, 31y, 31z und Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a, 33b, 33c...33x, 33y, 33z jeweils in der Oberfläche 31A und der Oberfläche 31B des Abdeckelements 32 ausgebildet.
  • Ein zylindrisches Verbindungselement 311, in das das Gas G von den Einlassventilen 50 strömt, steht von der unteren Oberfläche 31C des Gehäuseelements 31 vor. In der Umgebung des Verbindungselements 311 ist die Rotation der Gasaustauscheinheit 3R in der Links-Rechts-Richtung gestoppt, und ein rotationsstoppender Vorsprung 312 zum Fixieren der Rotationsrichtung ist ausgebildet (siehe 15). Andererseits ist an der oberen Oberfläche 31D des Gehäuseelements 31 ein zylindrischer positionierender Vorsprung 313 zum Positionieren und Fixieren an den Behälterkörper 2 ausgebildet.
  • Das Verbindungselement 311, der rotationsstoppende Vorsprung 312 und der positionierende Vorsprung 313 der zweiten Ausführungsform haben die gleiche Funktion wie das Verbindungselement 311, der rotationsstoppende Vorsprung 312 und der positionierende Vorsprung 313 der ersten Ausführungsform.
  • In dem Hauptkörper 31E des Gehäuseelements 31 sind, wie in 15(d) gezeigt ist, sechs im Wesentlichen rechteckige oder quadratische Ausblaslöcher als die Zweite-Gruppe-Ausblaslöcher 32a, 32b,...32e, 32f in der Reihenfolge von oben in der vertikalen Richtung (Längsrichtung) ausgebildet. Die Höhenposition des obersten Zweite-Gruppe-Ausblaslochs 32a ist im Wesentlichen dieselbe wie die Höhenposition des Erste-Gruppe-Ausblaslochs 31c; das Zweite-Gruppe-Ausblasloch 32b und das Erste-Gruppe-Ausblasloch 31h fallen auf im Wesentlichen derselben Höhe zusammen; das Zweite-Gruppe-Ausblasloch 32c und das Erste-Gruppe-Ausblasloch 31m fallen auf im Wesentlichen derselben Höhe zusammen; das Zweite-Gruppe-Ausblasloch 32d und das Erste-Gruppe-Ausblasloch 31s fallen auf im Wesentlichen derselben Höhe zusammen; das Zweite-Gruppe-Ausblasloch 32e und das Erste-Gruppe-Ausblasloch 31w fallen auf im Wesentlichen derselben Höhe zusammen; und das Zweite-Gruppe-Ausblasloch 32f und das Erste-Gruppe-Ausblasloch 31y fallen auf im Wesentlichen derselben Höhe zusammen.
  • In der zweiten Ausführungsform sind die untere Oberfläche 31C, die obere Oberfläche 31D und der Hauptkörperteil 32E als ein Stück in dem Gehäuseelement 31 geformt, aber wenigstens eine der unteren Oberfläche 31C oder der oberen Oberfläche 31D kann getrennt geformt sein.
  • (Modifikationen)
  • In den Gasaustauscheinheiten 3R, 3L der obigen Ausführungsform sind die Öffnungsfläche, die Anzahl und die Anordnung der Erste-Gruppe-Ausblaslöcher 31a - z, der Dritte-Gruppe-Ausblaslöcher 33a - z und der Zweite-Gruppe-Ausblaslöcher 32a - f nicht auf die obigen Ausführungsformen beschränkt, und die Menge an geblasener Luft, die nach unten geblasen wird, kann erhöht werden, sodass sie der Luft von der Außenseite, wie der herabströmenden Luft, die entlang der oberen Oberfläche der Bodenfläche 2f geblasen wird, entgegenwirken kann.
  • Weiterhin kann, durch selektives Blockieren oder Bohren der Zweite-Gruppe-Ausblaslöcher 32a - f, das Verhältnis des Volumens an geblasener Luft zu der Vorderseite F und der Rückseite D eingestellt werden. Weiterhin kann durch Ändern der Position der Aussparung 12 des Offsetelements 9 die Richtung der Gasaustauscheinheiten 3R, 3L geändert werden. Alternativ kann der Schnittwinkel der zwei Oberflächen 31A, 31B des Gehäuseelements 31 geändert werden oder die Fläche kann geändert werden, um die Ausblasrichtung und/oder das Verhältnis der Ausblas-Luftströmungs-Rate einzustellen. Diese Änderungen können vorgenommen werden, indem Einsätze in der Gießform verwendet werden.
  • Zusätzlich kann das Gehäuseelement 31 nicht an dem oberen Teil sondern an dem Mittelteil positioniert und fixiert werden oder es kann an dem unteren Teil und dem Mittelteil positioniert und fixiert werden. Zu diesem Zeitpunkt wird die Position des Durchgangslochs 27, das in der Rückwand 2b ausgebildet ist, in geeigneter Weise geändert und die Form des positionsfixierenden Elements 8 wird in geeigneter Weise geändert.
  • In der obigen Ausführungsform kann zusätzlich zu den Gasaustauscheinheiten 3R und 3L eine Vielzahl anderer Gasaustauscheinheiten bereitgestellt werden oder alternativ kann eine beliebige der Gasaustauscheinheiten 3R und 3L verwendet werden. Zusätzlich sind die Gasaustauscheinheiten 3R, 3L nicht auf die zwei Positionen an den linken und rechten Seiten an der Rückseite B beschränkt und sie können im Bereich der Mitte der Rückseite B angeordnet sein, wenn es in dieser Fläche einen Bereich gibt, der die Substrate B nicht stört.
  • Obwohl die bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung oben detailliert beschrieben wurden, ist die vorliegende Erfindung nicht auf die oben beschriebenen Ausführungsformen beschränkt und verschiedene Modifikationen und Änderungen sind innerhalb des Umfangs des Kerns der vorliegenden Erfindung, wie in den Ansprüchen beschrieben, möglich.
  • Bezugszeichenliste
    • 1
    Substratlagerungsbehälter
    2
    Behälterkörper
    2a
    Rahmen mit vorderer Öffnung
    2b
    Rückwand
    2c
    Rechte Seitenwand
    2d
    Linke Seitenwand
    2e
    Obere Seite
    2f
    Bodenfläche
    21
    Trägerstück(e)
    22
    Positionsregulierende Teile
    23
    Griff
    25
    Oberer Flansch
    26
    Bodenplatte
    27
    Durchgangsloch/Durchgangslöcher
    28
    Stopper
    29
    Befestigungsloch/Befestigungslöcher
    3L, 3R
    Gasaustauscheinheit(en)
    31
    Gehäuseelement
    31A, 31B
    Oberfläche(n)
    31C
    Untere Oberfläche
    31D
    Obere Oberfläche
    31E
    Hauptkörper
    311
    Verbindungselement
    312
    Rotationsstoppende(r) Vorsprung/Vorsprünge
    313
    Positionierende(r) Vorsprung/Vorsprünge
    32
    Abdeckelement
    31a...z
    Erste-Gruppe-Ausblasloch/-löcher
    32a...f
    Zweite-Gruppe-Ausblasloch/-löcher
    33a...z
    Dritte-Gruppe-Ausblasloch/-löcher
    34, 35
    Filterelement(e)
    4
    Deckel
    50
    Einlassventil(e)
    50a
    Durchführungsdichtung
    51
    Filterelement
    52
    Rückschlagventil
    53
    Schraubenfeder
    54
    Ventilgehäuse
    60
    Auslassventil
    8
    Positionsfixierendes Element
    81, 82, 83
    Flansch(e)
    84A, 84B
    O-Ring(e)
    85
    C-Ring
    86
    Schlitz
    87
    Ende
    88
    Kerbe
    9
    Offsetelement
    90
    Offsetplattenpressvorrichtung
    91
    O-Ring
    92
    Aussparung
    93
    Dichtung
    94
    O-Ring
    95
    Offsetplatte
    96
    Einsetzloch
    F
    Vorderseite
    B
    Rückseite
    G
    Gas
    W
    Substrat
    NL
    Normallinie

Claims (9)

  1. Substratlagerungsbehälter, umfassend: einen Behälterkörper, der in der Lage ist, eine Vielzahl an Substraten zu lagern, ein Einlassventil zum Zuführen von Gas von außerhalb des Behälterkörpers zu dem Innenraum und eine Gasaustauscheinheit, die das von dem Einlassventil zugeführte Gas in den Innenraum des Behälterkörpers bläst, wobei der Behälterkörper als eine Box mit vorderer Öffnung ausgebildet ist und das Einlassventil an der Rückseite der Bodenfläche befestigt ist, wobei die Gasaustauscheinheiten ein Gehäuseelement, das das von dem Einlassventil zugeführte Gas lagert, und ein Abdeckelement, das eine Öffnung des Gehäuseelements abdeckt, umfassen, wobei die Öffnung des Gehäuseelements in der rückwärtigen Richtung des Behälterkörpers orientiert ist und der untere Teil des Gehäuseelements mit dem Einlassventil verbunden ist, wobei das Gehäuseelement eine Vielzahl an ersten Ausblaslöchern zum Blasen des gelagerten Gases in Richtung der Vorderseite des Behälterkörpers besitzt und wobei das Abdeckelement eine Vielzahl an zweiten Ausblaslöchern zum Ausblasen in einer rückwärtigen Richtung entgegengesetzt zu der Blasrichtung der ersten Ausblaslöcher besitzt.
  2. Substratlagerungsbehälter, umfassend: einen Behälterkörper, der in der Lage ist, eine Vielzahl an Substraten zu lagern, ein Einlassventil zum Zuführen von Gas von außerhalb des Behälterkörpers zu dem Innenraum und Gasaustauscheinheiten, die das von dem Einlassventil zugeführte Gas in den Innenraum des Behälterkörpers blasen, wobei der Behälterkörper als eine Box mit vorderer Öffnung ausgebildet ist und das Einlassventil an der Rückseite der Bodenfläche befestigt ist, wobei die Gasaustauscheinheiten ein Gehäuseelement, das das von dem Einlassventil zugeführte Gas lagert, und ein Abdeckelement, das eine Öffnung des Gehäuseelements abdeckt, umfassen, wobei die Öffnung des Gehäuseelements in der vorderen Richtung des Behälterkörpers orientiert ist und der untere Teil des Gehäuseelements mit dem Einlassventil verbunden ist, wobei das Abdeckelement eine Vielzahl an ersten Ausblaslöchern zum Blasen des gelagerten Gases in Richtung der Vorderseite des Behälterkörpers besitzt und wobei das Gehäuseelement eine Vielzahl an zweiten Ausblaslöchern zum Ausblasen in einer rückwärtigen Richtung entgegengesetzt zu der Blasrichtung der ersten Ausblaslöcher besitzt.
  3. Substratlagerungsbehälter gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei wenigstens eine der Gasaustauscheinheiten das Gas in drei verschiedene Richtungen ausbläst.
  4. Substratlagerungsbehälter gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei wenigstens einer des oberen Teils und des Mittelteils des Gehäuseelements unter Verwendung eines Durchgangslochs, das in der Rückwand des Behälterkörpers ausgebildet ist, positioniert und fixiert ist.
  5. Substratlagerungsbehälter gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei wenigstens eines der ersten Ausblaslöcher niedriger als das niedrigste Level der in dem Behälterkörper gelagerten Substrate positioniert ist.
  6. Substratlagerungsbehälter gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die Gasaustauscheinheit ein luftdurchlässiges Filterelement innerhalb des Gehäuseelements und des Abdeckelements umfasst.
  7. Substratlagerungsbehälter gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das Gas Stickstoffgas oder trockene Luft ist.
  8. Gasaustauscheinheit für einen Substratlagerungsbehälter, der einen Behälterkörper, der in der Lage ist, eine Vielzahl an Substraten zu lagern, und ein Einlassventil zum Zuführen von Gas von der Außenseite des Behälterkörpers zu dem Innenraum besitzt, wobei das Einlassventil an der Rückseite einer Bodenfläche des Behälterkörpers befestigt ist, wobei die Gasaustauscheinheit umfasst: ein Gehäuseelement, das das von dem Einlassventil zugeführte Gas lagert, und ein Abdeckelement, das die Öffnung des Gehäuseelements abdeckt, wobei die Öffnung des Gehäuseelements in der rückwärtigen Richtung des Behälterkörpers orientiert ist und der untere Teil des Gehäuseelements mit dem Einlassventil verbunden ist, wobei das Gehäuseelement eine Vielzahl an ersten Ausblaslöchern zum Blasen des gelagerten Gases in Richtung der Vorderseite des Behälterkörpers besitzt und wobei das Abdeckelement eine Vielzahl an zweiten Ausblaslöchern zum Ausblasen in einer rückwärtigen Richtung entgegengesetzt zu der Blasrichtung der ersten Ausblaslöcher besitzt.
  9. Gasaustauscheinheit für einen Substratlagerungsbehälter, der einen Behälterkörper, der in der Lage ist, eine Vielzahl an Substraten zu lagern, und ein Einlassventil zum Zuführen von Gas von der Außenseite des Behälterkörpers zu dem Innenraum besitzt, wobei das Einlassventil an der Rückseite einer Bodenfläche des Behälterkörpers befestigt ist, wobei die Gasaustauscheinheit umfasst: ein Gehäuseelement, das das von dem Einlassventil zugeführte Gas lagert, und ein Abdeckelement, das die Öffnung des Gehäuseelements abdeckt, wobei die Öffnung des Gehäuseelements in der vorderen Richtung des Behälterkörpers orientiert ist und der untere Teil des Gehäuseelements mit dem Einlassventil verbunden ist, wobei das Abdeckelement eine Vielzahl an ersten Ausblaslöchern zum Blasen des gelagerten Gases in Richtung der Vorderseite des Behälterkörpers besitzt und wobei das Gehäuseelement eine Vielzahl an zweiten Ausblaslöchern zum Ausblasen in einer rückwärtigen Richtung entgegengesetzt zu der Blasrichtung der ersten Ausblaslöcher besitzt.
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