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QUERVERWEIS AUF EINE VERWANDTE ANMELDUNG
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Diese
Anmeldung ist die deutsche nationale Phase der
PCT/JP 2006/317954 , eingereicht
am 11. September 2006, welche die Priorität der
JP 2005-270222 beansprucht,
eingereicht am 16. September 2005, wobei die gesamten Offenbarungen davon
hier einfließen, auf die hier Bezug genommen wird.
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TECHNISCHES GEBIET
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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf das technische Gebiet einer
Vakuumfilmbildungseinrichtung sowie ein Vakuumverdampfungssystem oder
Sputter-System und ein Vakuumfilmbildungsverfahren.
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STAND DER TECHNIK
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Es
gibt ein Sputter-System einer Vakuumfilmbildungseinrichtung, in
welcher Plasma mittels Anregen eines Argongases in einem Vakuum
erzeugt wird. Das Plasma wird zum Kollidieren mit einem Target bzw.
Ziel gebracht, welches als ein Filmbildungsmaterial dient, um Teilchen
des Filmbildungsmaterials in einer Filmbildungs-Prozesskammer zu
streuen. Die gesputterten Teilchen werden auf eine Oberfläche
eines Werkstückes (eines Elements, welches für ein
Filmbilden verarbeitet wird) aufgebracht, welches in der Filmbildungs-Prozesskammer
angeordnet ist. Als ein Ergebnis wird ein Film gebildet.
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Beispielsweise
beinhaltet eine Filmbildungseinrichtung, die durch das
japanische Patent Nr. 3677033 offenbart
wird, eine erste Form, in welcher ein Filmbildungsmittel zum Bilden
eines Films auf einem Werkstück eingebaut ist, und eine
zweite Form, in welcher ein Werkstück eingebaut ist, auf
welchem ein Film gebildet wird. Die erste Form wird auf die zweite
Form geschoben, so dass ein Vakuumfilmbilden in einem geschobenen
Zustand ausgeführt wird. Gemäß der Offenbarung
ist es möglich, ein Werkstück zu bilden und einen
Film durch eine Serie von Formen zu bilden. Die Produktionseffizienz
und die Qualität filmgebildeter geformter Produkte ist
stark verbessert worden. Als Ergebnis wird eine Ausschussrate beträchtlich
verringert und eine Arbeitseffizienz erhöht.
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In
einer derartigen Einrichtung ist es jedoch jedes Mal bei einem Anwenden
eines Filmbildungsvorgangs notwendig, wiederholt einen Schritt durchzuführen,
wo ein Inneres einer Filmbildungs-Prozesskammer von einem atmosphärischen
Druck zu einem Vakuum verschoben wird und zurück zu einem atmosphärischen
Druck. Mit anderen Worten, es benötigt Zeit, die Luft in
der Filmbildungs-Prozesskammer von einem atmosphärischen
Druckzustand in einen Vakuumzustand durch Verwenden einer Pumpe zu
bringen. Deshalb muss eine Verarbeitbarkeit noch zufriedenstellend
sein.
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Um
das Problem zu überwinden, wird eine vorgeschlagene Filmbildungs-Prozesskammer
mit einem Shutter bzw. Verschluss bereitgestellt, um so in eine
Werkstückkammer und eine Targetkammer unterteilt zu sein.
In der Werkstückkammerseite wird ein Verarbeiten eines
Inneren wiederholt, dadurch dass ein atmosphärischer Druck
zu einem Vakuum verschoben wird und zurück zu einem atmosphärischen
Druck. In der Targetkammerseite wird ein Vakuumzustand aufrechterhalten.
Um das Austauschen eines derartigen Targets zu erleichtern, wird
die Filmbildungs-Prozesskammer in die Werkstückkammerseite
und die Targetkammerseite mit dem Shutter unterteilt (siehe beispielsweise
die
japanische veröffentlichte
ungeprüfte Patentanmeldung Nr. H9-31642 ).
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OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
DURCH DIE ERFINDUNG ZU LÖSENDE AUFGABEN
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Jedoch
ist eine derartige Struktur der vorgeschlagenen Filmbildungs-Prozesskammer,
die mit dem Shutter bereitgestellt wird, um so geteilt bzw. unterteilt
zu werden, hauptsächlich für den Zweck eines Ersetzens
des Targets. Mit anderen Worten, die Struktur ist nicht vollständig
für ein häufiges Öffnen und Schließen
eines Shutters konfiguriert. In einer derartigen Einrichtung, wo
ein Arbeitsplatz Gegenstand eines Filmbildungsverarbeitens ist,
wird eine Werkstückkammerseite von einem atmosphärischen Druck
zu einem Vakuum verschoben, und von dem Vakuum zu einem atmosphärischen
Druck. Es gibt keinen Hinweis auf eine konkrete Struktur für
einen derartig gewünschten Shutter. Insbesondere während
die Arbeitskammer von einem Atmosphärendruck zu einem Vakuum
und von einem Vakuum zu einem atmosphärischen Druck verschoben
wird, aufgrund eines Bewegens und/oder Herausnehmens eines Werkstücks,
ist die Targetkammerseite mit dem Shutter versehen, um die Targetkammerseite
in einem Vakuumzustand aufrechtzuerhalten. In diesem Fall benötigt
der Shutter ein zuverlässiges und gleichmäßiges Öffnen
und Schließen und genaues Abdichten. Die vorliegende Erfindung
löst die Aufgabe wie auch andere Aufgaben, und erlaubt
auch verschiedene Vorteile zu erzielen.
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MITTEL ZUM LÖSEN
DER AUFGABEN
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In
einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung beinhaltet eine Vakuumfilmbildungseinrichtung
eine erste Form an einer Seite einer Targetkammer, in welcher ein
Target zum Durchführen eines Vakuumfilmbildens angeordnet
ist; und eine zweite Form an einer Seite einer Werkstückkammer,
in welcher ein Werkstück angeordnet werden kann. Die erste
und zweite Form sind strukturiert, so dass ein Film, welcher auf
dem Werkstück gebildet wird, durch ein Durchführen
eines Matrizenanpassens zwischen der ersten Form und der zweiten
Form gebildet wird, und wobei eine Shutter-Einrichtung zum Öffnen
und Schließen der Targetkammer auf der ersten Form bereitgestellt
wird.
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In
einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist die Vakuumfilmbildungseinrichtung
dadurch gekennzeichnet, dass gemäß einem ersten Aspekt,
die Shutter-Einrichtung eine Basis beinhaltet, die auf einem offenen
Ende der ersten Form getragen wird; und ein Öffnungs- und
Schließ-Element, welches eine Öffnung der Basis öffnet,
um so eine Kommunikation zwischen der Targetkammer und der Werkstückkammer
zu steuern.
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In
einem dritten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist die Vakuumfilmbildungseinrichtung
dadurch gekennzeichnet, dass gemäß dem zweiten
Aspekt, die Basis eine erste Trageplatte beinhaltet, die auf der
ersten Formseite getragen wird; und eine zweite Trageplatte, die
bereitgestellt ist, um so auf die erste Trageplatte laminiert zu
werden, und wobei das Öffnungs- und Schließ-Element
angeordnet ist, um so zwischen beiden Trageplatten frei beweglich
zu sein.
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In
einem vierten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist die Vakuumfilmbildungseinrichtung
dadurch gekennzeichnet, dass gemäß dem dritten
Aspekt, zwischen dem Öffnungs- und Schließ-Element und
der Basis ein Führungsmittel zum Führen des Öffnungs-
und Schließ-Elements bereitgestellt ist, um in Richtung
einer Seite der zweiten Trageplattenseite verschoben zu werden,
wenn sich das Öffnungs- und Schließ-Element in
eine Position bewegt, in welcher die Öffnung geschlossen
ist, und wobei das Öffnungs- und Schließ-Element
in einen Zustand gebracht wird, in welchem das Öffnungs-
und Schließelement die Seite der zweiten Trageplattenseite
in einer abgedichteten Weise berührt, um so von einer Plattenfläche
der ersten Trageplatte in der Position beabstandet zu sein, in welcher
die Öffnung geschlossen ist, so dass ein Vakuumzustand
in der Targetkammer aufrechterhalten wird.
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In
einem fünften Aspekt der vorliegenden Erfindung ist die
Vakuumfilmbildungseinrichtung dadurch gekennzeichnet, dass gemäß irgendeinem
der dritten und vierten Aspekte, während eines Bewegens
von einer geschlossenem Zustand in einen offenen Zustand, das Öffnungs-
und Schließ-Element in Richtung der Plattenoberflächenseite
der ersten Trageplatte durch Aufnehmen eines atmosphärischen
Drucks von der Werkstückkammer verschoben wird, welche
auf die zweite Trageplatte in einer abgedichteten Weise verschoben
ist.
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In
einem sechsten Aspekt beinhaltet ein Vakuumfilmbildungsverfahren
aufeinanderfolgende Schritte eines Durchführens eines Matrizenanpassens
zwischen einer ersten Form, die bei einer Seite einer Targetkammer
angeordnet ist, in welcher ein Target zum Durchführen eines
Vakuumfilmbildens angeordnet ist, und einer zweiten Form, die bei
einer Seite einer Werkstückkammer angeordnet ist, in welcher
ein Werkstück angeordnet ist; und ein Bilden eines Films
auf dem Werkstück. Wenn eine Shutter-Einrichtung, die für
ein Öffnen und Schließen der Targetkammer auf
der ersten Form bereitgestellt ist, in eine offene Position verschoben
wird, während ein Matrizenanpassen der Formen ausgeführt
wird und ein Film gebildet wird, wird ein Vakuumfilmbilden auf das
Werkstück angewandt, und die Shutter-Einrichtung wird in
eine geschlossene Position verschoben, nachdem das Vakuumfilmbilden
abgeschlossen ist, bis ein folgendes Matrizenanpassen ausgeführt
wird, sodass die Targetkammer in einem Vakuumzustand verbleibt.
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EFFEKTE DER ERFINDUNG
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Gemäß dem
ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung kann die Targetkammer in
einem Vakuumzustand gehalten werden, wobei eine Herstellungszeit
(eine Vakuumprozesszeit) verkürzt werden kann, und wobei
die Verarbeitbarkeit verbessert werden kann, was zu einer Reduktion
der Kosten führt.
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Gemäß dem
zweiten oder dritten Aspekt der vorliegenden Erfindung kann das Öffnungs-
und Schließ-Element gleichmäßig geöffnet
und geschlossen werden.
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Gemäß dem
vierten Aspekt der vorliegenden Erfindung kann bei einer geschlossenen
Position des Öffnungs- und Schließ-Elements die
Abdichteffizienz der Targetkammer verbessert werden.
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Gemäß dem
fünften Aspekt der vorliegenden Erfindung kann das Öffnungs-
und Schließelement gleichmäßig geöffnet
und geschlossen werden.
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Gemäß dem
sechsten Aspekt der vorliegenden Erfindung kann die Targetkammer
in einem Vakuumzustand gehalten werden, eine Herstellungszeit (eine
Vakuumprozesszeit) kann verkürzt werden und die Bearbeitbarkeit
kann verbessert werden, was zu einer Reduktion der Kosten beiträgt.
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KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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Die 1 ist
eine Querschnittsansicht eines filmgebildeten geformten Stückes.
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Die 2 ist
ein schematisches Diagramm einer Filmbildungseinrichtung.
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Die 3A, 3B, 3C und 3D sind
schematische Diagramme, welche Herstellungsprozesse der ersten Hälfte
zum Herstellen des filmgebildeten geformten Stückes zeigen.
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Die 4A, 4B, 4C und 4D sind
schematische Diagramme, welche mittlere Herstellungsprozesse zum
Herstellen des filmgebildeten geformten Stückes zeigen.
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Die 5A, 5B, 5C und 5D sind
schematische Diagramme, welche eine spätere Hälfte
von Herstellungsprozessen zum Herstellen des filmgebildeten geformten
Stückes zeigen.
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Die 6A ist
eine Querschnittsansicht entlang der X-X-Linie von 6B,
und 6B ist eine ebene Grundansicht der Shutter-Einrichtung.
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Die 7A ist
eine Querschnittsansicht entlang der X-X-Linie von 7B,
wobei 7B eine ebene Grundansicht einer
ersten Trageplatte ist, und 7C eine
Querschnittsansicht entlang der Y-Y-Linie von 7B ist.
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Die 8A ist
eine Querschnittsansicht entlang der X-X-Linie von 8B, 8B ist
eine ebene Grundansicht einer zweiten Trageplatte, und 8C ist
eine Querschnittsansicht entlang der Y-Y-Linie von 8B.
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Die 9A ist
eine Vorderansicht und 9B ist eine ebene Grundansicht
eines Shutters.
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Die 10A ist eine Vorderansicht eines Führungselements, 10B ist eine ebene Grundansicht eines Verbindungswerkzeugs, 10C ist eine Querschnittsansicht entlang der X-X-Linie
von 10B, und 10D ist
eine Seitenansicht von 10B.
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Die 11A ist eine Querschnittsansicht entlang der X-X-Linie
von 11B, und 11B ist eine
vergrößerte Ansicht eines Hauptteils zur Erklärung
eines offenen/geschlossenen Zustands des Shutters.
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- 1
- Filmgebildetes
geformtes Stück
- 2
- erstes
geformtes Stück
- 2a
- Filmbildner
- 3
- zweites
geformtes Stück
- 4
- Filmbildungsformeinrichtung
- 5
- bewegliche
Form
- 6
- fixierte
Form
- 7
- Vakuumfilmbildungseinrichtung
- 7a
- Filmbildungsstempel
- 8
- Befestigungsbasis
- 13
- Shutter-Einrichtung
- 14
- Aktuator
- 15
- Betriebselement
- 16
- Führungselement
- 17
- Shutter
- 19
- erste
Trageplatte
- 20
- zweite
Trageplatte
- 21
- Abdichtungsmaterial
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BESTE AUSFÜHRUNGSART
DER ERFINDUNG
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Nachfolgend
wird eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung mit
Bezug auf die Zeichnungen beschrieben. In den 1, 5C und 5D ist
das Bezugszeichen 1 ein filmgebildetes geformtes Stück.
Das filmgebildete geformte Stück 1 wird mittels
eines sekundären Injektionsschrittes hergestellt, welcher
ein erstes geformtes Stück 2 und ein zweites geformtes
Stück 3 integriert, die in Formen bei einem primären
Injektionsschritt gebildet werden. Ein Filmbildner 2a wird auf
das erste geformte Stück 2 (entsprechend einem
Werkstück in der vorliegenden Erfindung) durch einen Filmbildungsschritt
aufgebracht, welcher zwischen den primären und den sekundären Injektionsschritten
bereitgestellt wird (siehe 1, 4D und 5A bis 5D).
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Wie
in 2 dargestellt ist, umfasst die Herstellungseinrichtung 4 zum
Herstellen des filmgebildeten geformten Stückes 1 eine
bewegliche Seitenformbasis 4a und eine fixierte Seitenformbasis 4b, welche
nachfolgend beschrieben werden. Bei der beweglichen Seitenformbasis 4a sind
Formstempel 5d und 5e entsprechend entfernbar
bereitgestellt, in welche Formflächen 5a und 5b zum
Bilden von Flächen der ersten und zweiten geformten Stücke 2a und 3 auf
einer Formfläche 5c ausgeformt sind, und wobei eine
formbare Form 5 von jenen zusammengesetzt ist.
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Wie
in 2 dargestellt ist, befinden sich bei der fixierten
Seitenformbasis 4b Formstempel 6d und 6e,
in welche Formflächen 6a und 6b zum Bilden
von Flächen der ersten und zweiten geformten Stücken 2 und 3 auf
einer Formfläche 6c gebildet sind, und ein Filmbildungsstempel
(entsprechend einer ersten Form in der vorliegenden Erfindung) 7a,
der an einer Seite benachbart zu einer ersten Formstempelfläche 6a der
Formstempel 6d und 6e angeordnet ist und mit einer
Vakuumfilmbildungseinrichtung 7 ausgestattet ist (einer
Vakuumfilmbildungseinrichtung, die einen Film mittels Vakuumdeposition
bildet, Sputterdeposition oder dergleichen), welche nachfolgend beschrieben
wird, werden in einer geraden Linie entfernbar bereitgestellt. Die
fixierte Form 6 weist diese Formstempel 6d und 6e und
den Filmbildungsstempel 7a auf.
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Die
bewegliche Form 5 (die bewegliche Seitenformbasis 4a)
wird auf einer Befestigungsbasis 8 bereitgestellt, auf
welcher sich die Formen benachbart zueinander durch Verwenden eines
Aktuators bewegen, der nicht dargestellt ist (siehe 2).
Auf der Befestigungsbasis 8 wird auch eine Führungsschiene 9 bereitgestellt,
welche in dieselbe Richtung wie die Richtung ausgerichtet ist, in
welche die Formflächen 6a und 6b der
fixierten Form 6 und des Filmbildungsstempels 7a zugeordnet
sind. Die bewegliche Form 5 wird bereitgestellt, um frei
beweglich auf der Führungsschiene 9 zu sein, so
dass sich die bewegliche Form 5 in einer Richtung entlang
der Formfläche 5c bewegen kann (eine horizontale
Richtung in 2).
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Das
Bezugszeichen 10 bezeichnet einen Aktuator für
eine Bewegung, der auf der Befestigungsbasis 8 bereitgestellt
wird (siehe 2) und einen Servomotor aufweist,
welcher ein Steuern einer Antriebsenergie (eine Rotationsmenge)
in der vorliegenden Ausführungsform ermöglicht.
Eine Schraubwelle 11, die in einem Zustand parallel zu
der Führungsschiene 9 angeordnet ist, ist an einer
Ausgabewelle 10a des Aktuators 10 befestigt. Die
bewegliche Form 5 ist mit einem Betriebselement 12 versehen, auf
welchem ein Außengewinde 12a gewunden ist, mit
welchem die Schraubenwelle 11 zusammengeschraubt ist. In
Verbindung mit dem Aktuator 10, welcher positiv und negativ
angetrieben wird, führt die bewegliche Form die Bewegung
aus, die durch die Führungsschiene 9 geführt
wird (siehe 2).
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Um
einen führenden Endabschnitt des Filmbildungsstempels 7a zu öffnen
und zu schließen, wird eine Shutter-Einrichtung 13,
die später beschrieben wird, bei der Vakuumfilmbildungseinrichtung 7 bereitgestellt
(siehe 2, 3A bis 3D, 4A bis 4D und 5A bis 5D).
Die Shutter-Einrichtung 13 wird durch Antreiben des Aktuators 14 geöffnet
und geschlossen. Von dem Aktuator der Shutter-Einrichtung 13 ragt
eine Schraubwelle (Antriebswelle) 14a in eine Richtung
entlang der Formoberfläche 6c (siehe 2)
hervor. Das Betriebselement 15 ist auf der Schraubenwelle 14a gewunden
befestigt. Das Betriebselement 15 bewegt sich entlang der Schraubenwelle 14a in
Verbindung mit einem positiven und negativen Antreiben des Aktuators 14 (siehe 2).
Ein Führungselement 16 ist integral mit einem
führenden Endabschnitt des Betriebselements 15 (siehe 2)
verbunden. Ein Shutter 17 (entsprechend einem Öffnungs-
und Schließ-Element der vorliegenden Erfindung) wird bei
einem führenden Endabschnitt des Führungselements 16 (siehe 2) bereitgestellt.
Das heißt, die Shutter-Einrichtung 13 ist konfiguriert,
um die führende Endöffnung des Filmbildungsstempels 7a zu öffnen
und zu schließen, basierend auf der Tatsache, dass der
Shutter 17 durch eine Bewegung des Betriebselements 15 basierend
auf das positive und negative Antreiben des Aktuators 14 verschoben
wird.
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Nachfolgend
werden Herstellungsprozesse des filmgebildeten geformten Stückes 1,
welches durch Implementieren der vorliegenden Erfindung hergestellt
wird, durch Heranziehen der 3A bis 3D, 4A bis 4D,
und 5A bis 5D beschrieben.
Zunächst bewegt sich die bewegliche Form 5 von
einem Zustand, in welchem die Formfläche 5c der
Formoberfläche 6c der fixierten Form 6 gegenüberliegt,
in eine Richtung zu der fixierten Form 6, um ein Stempelanpassen
(siehe 3A) durchzuführen.
In dem Stempelanpassungszustand wird dann der primäre Injektionsschritt
ausgeführt, in welchem die ersten und zweiten geformten
Stücke 2 und 3 (erste und zweite Werkstücke)
spritzgegossen werden (siehe 3B).
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Anschließend
bewegt sich die bewegliche Form 5 in einer Formtrennungsrichtung.
Zu dieser Zeit wird das erste geformte Stück 2 konfiguriert,
um auf der Seite der beweglichen Form 5 zu bleiben, und das
zweite geformte Stück 3 ist konfiguriert, um auf der
Seite der fixierten Form 6 (siehe 3C) zu
bleiben.
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Anschließend
bewegt sich die bewegliche Form 5 in eine Richtung (nach
links in der Zeichnung) entlang der Formoberfläche 5c,
so dass der erste Formstempel 5d, welcher einer zweiten
Form in der vorliegenden Erfindung entspricht, dem Filmbildungsstempel 7a (siehe 3D)
gegenüberliegt. Anschließend bewegt sich die bewegliche
Form 5 in eine Richtung einer Stempelanpassung, um eine Stempelanpassung
der Formen 5d und 7a (siehe 4A)
durchzuführen. Bis die Stempelanpassung abgeschlossen ist,
bleibt der Shutter 17 der Shutter-Einrichtung 13 geschlossen
und die Targetkammer 7b verbleibt in einem Vakuum. Nachdem
die Stempelanpassung abgeschlossen ist, bewegt sich der Shutter 17 in
einer Öffnungsrichtung, um sich so in einer offenen Position
basierend auf dem Antreiben des Aktuators 14 zu befinden.
In Übereinstimmung damit wird die Shutter-Einrichtung 13 zu
einer Position verschoben, so dass die Targetkammer 7b des
Filmbildungsstempels 7a und des ersten Formstempels 5d (die
Werkstückkammer 5f) miteinander kommunizieren
(siehe 4B). In dem vorhergehenden Zustand,
wenn eine Vakuumpumpe P betrieben wird, um einen gewünschten
Vakuumzustand in einem Inneren der Filmbildungseinrichtung Einrichtung 7 zu
bilden (einem Vakuumprozess) und Vakuumfilmbildungsbedingungen herzustellen,
wird der Filmbildner 2a auf einer Ebene aufgebracht, welche
von der Formfläche 6a des ersten geformten Stückes 2 getrennt
ist (ein Filmbildungsprozess, siehe 4C). Nachdem
der Filmbildner 2a aufgebracht ist, bewegt sich der Shutter 17 in
eine Schließrichtung, basierend auf einem negativen Antreiben
des Aktuators 14. Die Shutter-Einrichtung 13 schließt
somit ein Inneres des Filmbildungsstempels 7a in einer
hermetisch abgedichteten Weise (siehe 4D). Dieses
hermetisch abgedichtete Verschließen wird bis zu einem
nachfolgenden Filmbildungsschritt aufrechterhalten (ein Stempelanpassungsvorgang
zum Bilden eines Films).
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Anschließend
bewegt sich die bewegliche Form 5 in eine Formtrennungsrichtung,
um so von der Form der Filmbildungseinrichtung 7 getrennt
zu werden (siehe 5A). Anschließend bewegt
sich die bewegliche Form 5 in eine Richtung entlang der Formoberfläche 5c (nach
rechts in der Zeichnung) und wobei das erste geformte Stück 2 und
das zweite geformte Stück 3 einander gegenüberliegen
(siehe 5B). Wenn es zusätzlich
nötig ist, dass Elemente, so wie eine Lichtquelle und dergleichen,
in den ersten und zweiten geformten Stücken 2 und 3 eingerichtet
werden, kann ein Befestigungsprozess der benötigten Elemente
bei einer Stufe bereitgestellt werden, bei welcher der Filmbildner 2a auf
das erste geformte Stück 2, das von der Form anschließend
getrennt wird, (eine Stufe von 5A) oder
bei einer Stufe aufgebracht wird, bei welcher die ersten und zweiten
geformten Stücke 2 und 3 einander gegenüberliegen
(eine Stufe von 5B).
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Anschließend
wird das Stempelanpassen der Formen 5 und 6 in
einem Zustand ausgeführt, in welchem die ersten und zweiten
geformten Stücke 2 und 3 einander gegenüberliegen.
Die ersten und zweiten geformten Stücke 2 und 3 sind
mit einem Harzmaterial 18 integriert, welches den sekundären Injektionsschritt
(siehe 5C) zum Herstellen des filmgebildeten
geformten Stücks 1 durchführt. Anschließend
bewegt sich die bewegliche Form 5 in eine Formtrennungsrichtung,
und wobei das filmgebildete geformte Stück 1 ausgegeben
wird (siehe 5D). Die bewegliche Form 5 bewegt
sich dann in eine Richtung entlang der Formoberfläche (nach links
in der Zeichnung), so dass die Formflächen 5a und 6a,
und 5b und 6b, die einander entsprechen, einander
gegenüberliegen. Durch Wiederholen einer Serie dieser Schritte
kann das filmgebildete geformte Stück 1 in Folge
hergestellt werden. Das heißt, das filmgebildete geformte
Stück 1 wird mittels des primären Formens,
dem Filmbilden und dem sekundären Formen hergestellt.
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Jetzt
wird die Shutter-Einrichtung 13, die in der Vakuumfilmbildungseinrichtung 7 bereitgestellt wird,
auf welche die vorliegende Erfindung implementiert wurde, im Detail
beschrieben. Die Shutter-Einrichtung 13 ist, wie vorhergehend
beschrieben wurde, an einem offenen Ende des Filmbildungsstempels 7a der
Vakuumfilmbildungseinrichtung 7 versehen und weist den
Aktuator 14, das Betriebselement 15, das Führungselement 16 und
den Shutter 17 auf (siehe 2). Die
Shutter-Einrichtung 13 weist weiter eine Basis der vorliegenden
Erfindung auf, die von dem offenen Ende des Filmbildungsstempels 7a getragen
wird (fixiert ist). Die Basis der Shutter-Einrichtung 13 weist
erste und zweite Trageplatten 19 und 20 auf, die
in einem laminierten Zustand angeordnet sind. Kontinuierliche Löcher 19a und 20a zum
Beugen von Targetteilchen, die durch diese ersten und zweiten Trageplatten 19 und 20 offen
sind, werden durch den Shutter 17 geöffnet und geschlossen,
der eingerichtet ist, um zwischen den ersten und zweiten Trageplatten 19 und 20 frei
beweglich zu sein.
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In
den Schritten eines Bildens des filmgebildeten geformten Stücks 1 wird
der erste Formstempel 5d auf einen äußeren
Randabschnitt geschoben, bei welchem der Shutter 17 der
Shutter-Einrichtung 13 eingerichtet ist, das heißt,
angeordnet bei einem offenen Ende des Filmbildungsstempels 7a,
so dass ein Stempelanpassen in einem Zustand ausgeführt wird,
in welchem der äußere Randabschnitt in einer abgedichteten
Weise bedeckt wird. Die Targetkammer 7b bei einer Seite
des Filmbildungsstempels 7a, in welcher die Filmbildungseinrichtung 7 eingerichtet ist,
und die Werkstückkammer 5f bei einer Seite des ersten
Formstempels 5d sind durch die Shutter-Einrichtung 13 geteilt
(Bezug auf 4A). Da der Shutter 17 in
eine offene Position verschoben wird, kommunizieren die Targetkammer 7b und
die Werkstückkammer 5f miteinander durch die kontinuierlichen
Löcher 19a und 20a (Bezug auf 4B).
Jetzt werden nachfolgend Beschreibungen der Shutter-Einrichtung 13 in
einem Zustand ausgeführt, in welchem der eingerichtete
Zustand von 2 als eine Vorderansicht definiert
ist.
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Die
erste Trageplatte 19 ist eine Platte, die angeordnet ist,
um bei einer Seite der Targetkammer 7b (der oberen Seite)
positioniert zu sein, wie in 2 dargestellt
ist. Das erste kontinuierliche Loch 19a zum Beugen eines
Targets ist bei einem im Wesentlichen zentralen Teil (siehe 6A, 6B, 7A, 7B, 7C, 11A und 11B)
offen. Bei einer unteren Seitenoberfläche (einer Plattenoberfläche
bei einer Seite der zweiten Trageplatte 20) bei einem äußeren
peripheren Abschnitt des ersten kontinuierlichen Lochs 19a,
ist ein erster rechteckiger konkaver Abschnitt 19c ausgeformt, dessen
Rillentiefe als H1 festgelegt ist. Bei einer unteren Seite 19b der
ersten Trageplatte 19 ist ein rechteckiger zweiter konkaver
Abschnitt 19d gebildet, welcher bei einer linken Seite
des ersten konkaven Abschnitts 19c (an einer Seite, bei
welcher der Aktuator 14 eingerichtet ist) angeordnet und
dessen Rillentiefe als H2 festgelegt ist, die tiefer als H1 des ersten
konkaven Abschnitts 19c ist. Ein dritter konkaver Abschnitt 19e wird
gebildet, um so bei einem Hauptteil in einer Anteroposterior-Richtung
des zweiten konkaven Abschnitts 19d angeordnet zu sein
und eine Rillentiefe aufzuweisen, die als H3 festgelegt ist, die
tiefer als H2 von dem zweiten konkaven Abschnitt 19d ist.
Bei einem linken Randabschnitt des ersten konkaven Abschnitts 19c,
zwischen dem ersten konkaven Abschnitt 19c und dem zweiten
konkaven Abschnitt 19d oder dem dritten konkaven Abschnitt 19e, die
benachbart sind, ist eine linke geneigte Ebene 19f ausgeformt,
deren linker Randendabschnitt mehr in Richtung einer Seite der Targetkammer 7b abweicht (siehe 7A).
Bei einem rechten Randabschnitt des ersten konkaven Abschnitts 19c,
zwischen dem ersten konkaven Abschnitt 19c und einer unteren Seitenoberfläche 19b,
ist eine geneigte Führungsebene 19g ausgeformt,
deren rechter Randendabschnitt mehr in Richtung einer unteren Seite (zweite
Trageplatte 20) abweicht und die ein Führungsmittel
der vorliegenden Erfindung strukturiert. Zusätzlich wird
eine Bewegungseinschränkungsebene 19h, die in
einer vertikalen Richtung ausgerichtet ist, bei einem unteren Randabschnitt
der geneigten Führungsebene 19g ausgeformt.
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Die
zweite Trageplatte 20 ist angeordnet, um so bei der Werkstückkammer 5f (an
einer unteren Seite) angeordnet zu sein, wie in der 2 dargestellt
ist. Die zweite Trageplatte 20 weist auch eine flache Plattenoberfläche
auf, und das kontinuierliche Loch 20a, das mit dem ersten
kontinuierlichen Loch 19a kommuniziert, ist darin offen
(siehe 6A, 6B, 8A, 8B und 8C).
Die zweite Trageplatte 20 ist mit der ersten Trageplatte 19 integriert,
um so in einem verschobenen Zustand laminiert zu sein, so dass Spielräume,
entsprechend zu den Rillentiefen H1, H2 und H3 der ersten, zweiten und
dritten konkaven Abschnitte 19c, 19d und 19e zwischen
den ersten und zweiten Trageplatten 19 und 20 gebildet
werden. Das Führungselement 16 und der Shutter 17 sind
eingerichtet, um so horizontal frei in den Spielräumen
beweglich zu sein.
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Das
Bezugszeichen 21 bezeichnet ein erstes Abdichtungsmaterial,
welches in einem Abdichtungsloch 20b angeordnet ist, welches
konkav in einer Plattenoberfläche (einer oberen Seitenoberfläche) bei
der ersten Trageplatte 19 Seite der zweiten Trageplatte 20 ist
(siehe 8A und 8B) und
ist konfiguriert, um eine untere Seitenoberfläche 19b der
ersten Trageplatte 19 zu berühren, um zwischen diesen
abzudichten. Bezugszeichen 22 ist ein zweites Abdichtungsmaterial,
das in einem Abdichtungsloch 20c angeordnet ist, welches
in der oberen Seitenoberfläche (siehe 8A und 8B)
konkav und konfiguriert ist, um eine untere Seitenoberfläche des
Shutters 17 bei einer geschlossenen Position zu berühren,
um so eine Abdichtung zu bilden. Das Bezugszeichen 23 ist
ein drittes Abdichtungsmaterial, welches in einem Abdichtloch 20d angeordnet
ist, welches in einer Plattenoberfläche bei der Werkstückkammer-5f-Seite
der zweiten Trageplatte 20 konkav (siehe 8A und 8B)
und konfiguriert ist, um eine offene Endebene des ersten Formstempels 5d zu
berühren, auf welchem ein Stempelanpassen ausgeführt
wurde, um zwischen diesen abzudichten.
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Der
Shutter 17 hat eine Wandstärke H4, die dünner
als die Rillentiefe von H1 des ersten konkaven Abschnitts 19c ist
(siehe 9A). Der Shutter 17 weist
auch einen rechteckigen Hauptkörperteil 17a auf,
welcher im Wesentlichen die gleiche Form wie der erste konkave Abschnitt 19c aufweist.
Der Hauptkörperteil 17a ist konfiguriert, um die
ersten und zweiten kontinuierlichen Löcher 19a und 20a abzudecken (zu
schließen). Ein Zinkenrillenförmiger (dovetail groove-like)
konkaver Abschnitt 19b wird gebildet, um so durch einen
linken Seitenabschnitt des Shutter-Hauptkörperteils 17a vertikal
zu verlaufen. Ein Verbindungswerkzeug 16b, mit welchem
ein rechtes Ende 16a des Führungselements 16 gewunden
montiert und integriert ist, wird angepasst, um so frei in den konkaven
Abschnitt 17b vertikal zu gleiten (um relativ frei beweglich
zu sein). Der Shutter 17 und das Führungselement 16 sind
horizontal in einem frei beweglichen Zustand in den Spielräumen
untergebracht, die zwischen den ersten und zweiten Trageplatten 19 und 20 gebildet
werden, und wobei sich Verschiebungspositionen zwischen einer geschlossenen
Position, bei welcher sich der Shutter 17 und das Führungselement 16 befinden,
bei einer rechten Seite der ersten und zweiten Trageplatten 19 und 20 angeordnet
sind, um so die kontinuierlichen Löcher 19a und 20a zu
schließen, und eine offene Position, bei welcher sich der
Shutter 17 und das Führungselement 16 bei
einer linken Seite der ersten und zweiten Trageplatten 19 und 20 befinden,
um so die kontinuierlichen Löcher 19a und 20a zu öffnen.
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Bei
einem rechten Randabschnitt des Shutter-Hauptkörperteils 17a sind
eine geneigte Führungsebene 17c, die eine geneigte
Ebene aufweist, die nach unten, mehr in Richtung einer rechten Endseite
der geneigten Führungsebene 17c abweicht, und
eine Bewegungsbeschränkungsebene 17d, die bei
einem unteren Randabschnitt der geneigten Führungsebene 17c angeordnet
ist, um so vertikal ausgerichtet zu werden. Die geneigte Führungsebene 17c und
die Bewegungsbeschränkungsebene 17d liegen der
geneigten Führungsebene 19g und der Bewegungsbeschränkungsebene 19h gegenüber, die
bei dem rechten Randabschnitt des ersten konkaven Abschnitts 19c der
ersten Trageplatte 19 ausgeformt sind. Ein Abschnitt, in
welchem der konkave Abschnitt 17b des Shutters 17 ausgeformt
ist, ist ausgeformt, um so eine Wandstärke aufzuweisen
und mehr als eine obere Oberfläche des Hauptkörperteils 17a nach
oben hinauszuschwellen. Demgemäß wird eine obere
seitengeneigte Ebene 17e zwischen dem Hauptkörperteil 17a und
den den konkaven Abschnitt 17b bildenden Abschnitt gebildet.
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In
der Shutter-Einrichtung 13, die auf diesem Weg strukturiert
wird, befindet sich bei der geschlossenen Position des Shutters 17,
in welcher die kontinuierlichen Löcher 19a und 20a geschlossen
sind, der Shutter-Hauptkörperteil 17a in einem
Zustand, in welchem die geneigte Führungsebene 17c,
die bei dem rechten Rand die geneigte Führungsebene 19g der
ersten Trageplatte 19 berührt, wobei die Bewegungseinschränkungsebene 17d die
Bewegungseinschränkungsebene 19h der ersten Trageplatte 19 berührt,
und wobei die obere seitengeneigte Ebene 17e die linke
geneigte Ebene 19f der ersten Trageplatte 19 berührt.
In Übereinstimmung damit, da eine untere Fläche
des Shutter-Hauptkörperteils 17a eine flache obere
Oberfläche der zweiten Trageplatte 20 in einer nah
kontaktierten Weise berührt, wird das zweite kontinuierliche
Loch 20a zuverlässig abgedichtet.
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Wie
in 4A dargestellt ist, wird der Betrieb derart festgelegt,
dass in einem Zustand, in welchem eine Stempelanpassung zwischen
dem Filmbildungsstempel 7a und dem ersten Formstempel 5d ausgeführt
wird, und der erste Formstempel 5d auf die Shutter-Einrichtung 13 geschoben
wird, sich der Shutter 17 der Shutter-Einrichtung 13 in
einer geschlossenen Position befindet, und in Übereinstimmung
damit teilt die Shutter-Einrichtung 13 zwischen der Targetkammer 7b bei
der Filmbildungsstempel-7a-Seite und der Werkstückkammer 5f bei
der ersten Formstempel-5d-Seite. Zu dieser Zeit wird der erste Formstempel 5d strukturiert,
so dass die Formoberfläche 5c auf die zweite Trageplatte 20 geschoben
wird, und wobei sich die Formfläche 5a bei einer inneren
Seite des dritten abdichtenden Materials 23 der zweiten
Trageplatte 20 befindet, um so die Werkstückkammer 5f abzudichten.
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Aus
dem Zustand, in welchem ein Stempelanpassen ausgeführt
wurde, wird der Shutter 17 in eine offene Position verschoben,
um einen Film auf dem ersten geformten Stück 2 zu
bilden. Wenn das Führungselement 16 mit Kraft
nach links durch ein Antreiben des Aktuators 14 verschoben
wird, befindet sich die Targetkammer-7b-Seite in einem Vakuumzustand
und die Werkstückkammer-5f-Seite befindet sich in einem
atmosphärischen Druckzustand. Der Shutter-Hauptkörperteil 17a wird
somit in Richtung der Targetkammer-7b-Seite gedrückt. Das heißt,
der Shutter-Hauptkörperteil 17a ist konfiguriert, so
dass die geneigte Führungsebene 17c an der rechten
Endseite auf eine Bodenoberfläche des ersten konkaven Abschnitts 19c gedrückt
wird, das heißt, einen Lochrand des ersten kontinuierlichen Lochs 19a in
einem Zustand entlang der geneigten Führungsebene 19g der
ersten Trageplatte in Übereinstimmung mit der kraftvollen
Verschiebung nach links. Der Shutter-Hauptkörperteil 17a ist
somit konfiguriert, um so in Richtung der ersten Trageplatten-19-Seite
mit Bezug auf das Verbindungswerkzeug 16b verschoben zu
werden, so dass ein Öffnungsbetrieb entlang des ersten
konkaven Abschnitts 19c der ersten Trageplatte 19 ausgeführt wird.
Zu dieser Zeit ist der Shutter-Hauptkörperteil 17a konfiguriert,
um so einen Öffnungsbetrieb in einem Zustand durchzuführen,
in welchem Kontaktbereiche (Berührungsbereiche) mit den
ersten und zweiten Trageplatten 19 und 20 gering
sind, da der zweite konkave Abschnitt 19d in der Rillenform
tiefer als der konkave Abschnitt 19c auf der linken Seite des
ersten konkaven Abschnitts 19c der ersten Trageplatte 19 ausgeformt
ist. Demgemäß ist die Shutter-Einrichtung 13 konfiguriert,
wie in den 4B und 4C oder
mittels virtueller Linien in 11 dargestellt
wird, so dass sich die Targetkammer 7b und die Werkstückkammer 5f in
einem kommunizierenden Zustand befinden, wenn der Shutter 17 in
eine offene Position verschoben wird.
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Das
Bezugszeichen 20e bezeichnet eine Vielzahl von Vorspannmitteln
(Vorspannern), die intern bei Rand-Abschnitten des kontinuierlichen Lochs 20a zum
Drücken des Shutter-Hauptkörperteils 17a in
Richtung der ersten Trageplatten 19 Seite eingerichtet
sind.
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Wenn
die Shutter-Einrichtung 13 geschlossen wird, nachdem der
Filmbildungsschritt (siehe 4C) abgeschlossen
ist, befinden sich beide, die Targetkammer 7b und eine
Werkstückkammer 5f in einem Vakuumzustand. Der
Shutter-Hauptkörperteil 17a wird nicht durch irgendeine
Belastung, basierend auf einem Unterschied in einem atmosphärischen Druck
beeinflusst. Der Shutter-Hauptkörperteil 17a schließt
die kontinuierlichen Löcher 19a und 20a aufgrund
der Verschiebung des Führungselements 16 nach
rechts gemäß dem Antreiben des Aktuators 14. Es
gibt keinen Unterschied in dem atmosphärischen Druck zwischen
beiden Seiten des Shutter-Hauptkörperteils 17a bis
die geneigte Führungsebene 17c an dem rechten
Rand die geneigte Führungsebene 19e der ersten
Trageplatte 19 erreicht. Der Shutter-Hauptkörperteil 17a wird
nach rechts entlang der ersten Trageplatte 19 verschoben,
und der führende Rand der geneigten Führungsebene 17c bei
der Shutter-Seite erreicht die geneigte Führungsebene 19g bei
der zweiten Trageplattenseite. Der Shutter-Hauptkörperteil 17a wird
somit mittels der geneigten Führungsebene 19g bei
der zweiten Trageplattenseite geführt. Anschließend
ist der Shutter-Hauptkörperteil 17a konfiguriert,
um so nicht nur nach rechts verschoben zu werden, sondern auch zu
der unteren Seite gegen das Vorspannmittel 20e, und wird
anschließend konfiguriert, um sich nach rechts zu bewegen,
bis die geneigten Führungsebenen 17c und 19g und
die Bewegungsbeschränkungsebenen 17d und 19h aufeinander
verschoben werden. Eine Bewegungsbeschränkung des Shutter-Hauptkörperteils 17a wird
somit ausgeführt. In diesem Zustand wird der Shutter-Hauptkörperteil 17a auf
die zweite Trageplatte 20 Seite gedrückt, um so
in einer dicht kontaktierten Weise abgedichtet zu sein. Wie in 5A dargestellt
ist, wird die Targetkammer 7b gut abgedichtet, und somit
kann ein Vakuumzustand andauern, sogar wenn der erste Formstempel 5d,
welcher auf die zweite Trageplatte 20 geschoben wird, von
der Form getrennt wird.
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In
der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, die wie
vorhergehend beschrieben strukturiert ist, wird das filmgebildete
geformte Stück 1 mittels des primären
Injektionsschrittes eines Bildens der ersten und zweiten geformten
Stücke 2 und 3 des Filmbildungsschritts
eines Bildens des ersten geformten Stücks 2, und
des sekundären Injektionsschritts eines Integrierens der
ersten und zweiten geformten Stücke 2 und 3 hergestellt.
Die Shutter-Einrichtung 13 wird zwischen dem Filmbildungsstempel 7a und
dem ersten Formstempel 5d bereitgestellt, die zueinander
stempelangepasst sind, wenn ein Filmbilden auf das erste geformte
Stück 2 angewandt wird. Die Targetkammer 7b und
die Werkstückkammer 5f kommunizieren nur miteinander,
wenn ein Vakuumfilmbildungsschritt ausgeführt wird. Die Targetkammer-7b-Seite
kann somit in einem Vakuumzustand verbleiben. Als Ergebnis, wenn
ein Vakuumfilmbilden mit Bezug auf das erste geformte Stück 2 ausgeführt wird,
wird der erste Formstempel 5d mit dem Filmbildungsstempel 7a stempelangepasst,
und beide, Targetkammer 7b und Werkstückkammer 5f kommunizieren
miteinander, wobei dann die Targetkammer 7b in einem Vakuumzustand
bei dem Prozess eines Herstellens beider Kammern 7b und 5f in
einem Vakuumzustand (einem Vakuumprozess) aufrechterhalten wird.
Die Vakuumpumpe P kann somit nur über eine Menge betrieben
werden, die benötigt wird, um die Werkstückkammer-5f-Seite
in einen Vakuumzustand zu bringen. Es besteht kein Bedarf, dass
beide, die Targetkammer 7b und die Werkstückkammer 5f von
einem atmosphärischen Druck zu einem Vakuum, und zu einem
atmosphärischen Druck, wie im herkömmlichen Stand
der Technik, verschoben werden. Deshalb kann eine Herstellungszeit
(eine Vakuumprozesszeit) verkürzt werden. Eine Bearbeitbarkeit
kann auch verbessert werden, und eine Reduktion der Kosten kann
erzielt werden.
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Darüber
hinaus, in Übereinstimmung mit der vorliegenden Ausführungsform,
ist die Shutter-Einrichtung 13 konfiguriert, so dass die
ersten und zweiten Trageplatten 19 und 20 als
eine Basis verwendet werden, und der Shutter 17, der zwischen
den beiden Platten 19 und 20 angeordnet ist, betrieben
wird, um geöffnet und geschlossen zu sein. Wenn sich der Shutter 17 in
der geschlossenen Position befindet, kann der Shutter 17 geschlossen
werden, um so auf die ebene untere Oberfläche der zweiten
Trageplatte 20 gedrückt zu werden, die einen größeren
Berührungsbereich bei der Werkstückkammer 5f aufweist. Deshalb
kann die Abdichteffizienz der Targetkammer 7b erhöht
werden. Die Aufrechterhaltung des Vakuumzustands in der Targetkammer 7b kann
ebenso verlässlich gewährleistet werden.
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Wenn
sich der Shutter 17 der Shutter-Einrichtung 13 von
der geschlossenen Position in der offenen Position befindet, wird
ein atmosphärischer Druck bei der Werkstückkammer-5f-Seite
auf den Shutter-Hauptkörperteil 17a angewandt,
welcher in Richtung der zweiten Trageplatten-20-Seite verschoben
wird, welche den größeren Berührungsbereich aufweist,
um so die Targetkammer 7b in einen Vakuumzustand basierend
auf der Tatsache abzudichten, dass der Shutter-Hauptkörperteil 17a nach
links durch ein Antreiben des Aktuators 14 verschoben wird.
Der Shutter 17 kann somit in Richtung der ersten Trageplatte-19-Seite
gedrückt (verschoben) werden, basierend auf einer Führung
der geneigten Führungsebenen 17c und 19g gemäß der
Shutter-Hauptkörperteil-17a-Verschiebung nach links. Als ein
Ergebnis kann eine hohe Abdichteffizienz des Shutters 17 gewährleistet
werden, um so eng mit der zweiten Trageplatte 20 in dem
geschlossenen Zustand kontaktiert zu werden. Wenn der Shutter 17 geöffnet
wird, wird der Shutter 17 in Richtung der Seite der ersten
Trageplatte 19 verschoben, die einen geringeren Berührungsbereich
aufweist. Somit kann ein gleichmäßiger Öffnungsbetrieb
des Shutters entlang der ersten Trageplatte 19 ausgeführt
werden. Somit kann die Shutter-Einrichtung 13 eine exzellente
Betreibbarkeit annehmen.
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Darüber
hinaus, in Übereinstimmung mit der Offenbarung, wird der
Shutter 17 der Shutter-Einrichtung 13 geöffnet,
wenn der erste Formstempel 5d stempelangepasst mit dem
Filmbildungsstempel 7a ist, zu welchem die Shutter-Einrichtung 13 bereitgestellt
wird. Nachdem der Filmbildner 2a auf das erste geformte
Stück 2 angewandt wird, wird der Shutter 17 in
Richtung der geschlossenen Position verschoben, bevor der erste
Formstempel 5d von dem Filmbildungsstempel 7a getrennt
wird. Die Targetkammer-7b-Seite, die durch den Shutter 17 geschlossen wird,
kann somit in dem Vakuumzustand aufrechterhalten werden. Es besteht
kein Bedarf, um wiederholt beide Kammern der Targetkammer 7b und
der Werkstückkammer 5f jedes Mal unter Vakuum
zu stellen, wenn der Filmbildungsschritt ausgeführt wird.
Deshalb kann eine Herstellungszeit verkürzt werden und die
Bearbeitbarkeit kann verbessert werden, was zu einer Reduktion der
Kosten führt.
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GEWERBLICHE ANWENDBARKEIT
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Die
vorliegende Erfindung ist nützlich für eine Vakuumfilmbildungseinrichtung,
so wie ein Vakuumverdampfungssystem oder ein Sputter-System, und ein
Vakuumfilmbildungsverfahren. Da die Shutter-Einrichtung zwischen
dem ersten Formstempel und dem Filmbildungsstempel bereitgestellt
wird, zwischen welchen ein Stempelanpassen ausgeführt wird,
wenn ein Vakuumfilmbilden auf den ersten Formstempel angewandt wird,
kann die Abdichteffizienz der Targetkammer verbessert werden, und
die Aufrechterhaltung des Vakuumzustands in der Targetkammer kann
zuverlässig gewährleistet werden. Darüber
hinaus, da die Targetkammer in dem Vakuumzustand in dem Vakuumprozess
aufrechterhalten wird, nachdem beide, die Targetkammer und die Werkstückkammer
miteinander kommunizieren, kann die Vakuumpumpe nur durch die Menge
betrieben werden, die zum Herstellen der Vakuumkammerseite in einen
Vakuumzustand benötigt wird. Falls der Filmbildungsschritt
sogar wiederholt ausgeführt wird, kann die Vakuumprozesszeit
verkürzt werden. Somit kann die Bearbeitbarkeit verbessert
werden und die Kosten können reduziert werden.
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ZUSAMMENFASSUNG
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Eine
Vakuumfilmbildungseinrichtung beinhaltet eine Targetkammer, in welcher
ein Target zum Durchführen eines Vakuumfilmbildens angeordnet ist;
eine erste Form bei einer Seite der Targetkammer; und eine zweite
Form, die eine Werkstückkammer beinhaltet, in welcher ein
Werkstück angeordnet werden kann. Die erste Form und die
zweite Form sind strukturiert, sodass ein Film, der auf dem Werkstück
gebildet wird, durch ein Stempelanpassen zwischen der ersten Form
und der zweiten Form ausgeführt werden kann, und wobei
eine Shutter-Einrichtung für ein Öffnen und Schließen
der Targetkammer bei der ersten Form bereitgestellt wird.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - JP 2006/317954 [0001]
- - JP 2005-270222 [0001]
- - JP 3677033 [0004]
- - JP 9-31642 [0006]