DE112006000916B4

DE112006000916B4 - Gaslagerspindeln

Info

Publication number: DE112006000916B4
Application number: DE112006000916T
Authority: DE
Inventors: Christopher John Pavey
Original assignee: GSI Group Ltd
Current assignee: Novanta Technologies UK Ltd
Priority date: 2005-04-15
Filing date: 2006-04-11
Publication date: 2013-12-12
Anticipated expiration: 2026-04-12
Also published as: WO2006109039A3; GB2440299B; US20080178795A1; GB0722188D0; GB2440299A; WO2006109039A2; JP2008536073A; DE112006000916T5; GB0507681D0

Abstract

Gaslagerspindel zum Bewegen eines Substrats innerhalb einer Vakuumkammer während eines Verarbeitungsbetriebs, wobei
die Spindel eine innerhalb eines Buchsenteils eines Gaslagers gelagerte, hauptsächlich zylindrische Welle umfasst;
der Buchsenteil ein Teil eines Körpers der Spindel und hauptsächlich zylindrisch ausgebildet ist;
die Welle eingerichtet ist, um ein Substrat anzutreiben, das im Inneren der Vakuumkammer angeordnet ist;
die ganze Oberfläche des Buchsenteils des Gaslagers, der der Welle gegenüber liegt, aus einem Stahl mit einer Vickershärte von mindestens 150 HV ist;
wobei
die Gaslagerspindel so eingerichtet ist, dass sie eine axiale und eine drehende Bewegung der Welle relativ zu dem Buchsenteil ermöglicht; und
mindestens ein Teil der Welle, der innerhalb des Buchsenteils des Gaslagers läuft, mit einem Material beschichtet ist, das härter als das Material des mindestens einen Teils der Oberfläche des Buchsenteilbereichs des Gaslagers ist.

Description

Diese Erfindung bezieht sich auf Gaslagerspindeln, im Besonderen auf Spindeln, die zur Verwendung bei der Positionierung von Substraten in Hochvakuumionenimplantationsvorrichtungen geeignet sind.
In einigen Fällen muss eine solche Spindel eine axiale Bewegung des Substrats innerhalb einer Hochvakuumimplantationskammer zur Verfügung stellen, während es in anderen Fällen notwendig sein kann, eine drehende Bewegung des Substrats oder sowohl eine axiale als auch eine drehende Bewegung zur Verfügung zu stellen. Diese unterschiedlichen Spindelarten bringen unterschiedliche Anforderungen mit sich und die vorliegende Erfindung ist wohl am besten auf Spindeln anwendbar, die eingerichtet sind, axiale Bewegung statt drehender bereitzustellen, oder zumindest nur eine drehende Bewegung bei niedriger Geschwindigkeit.
Spindeln zur Verwendung mit einer Hochvakuumionenimplantationsvorrichtung weisen besondere Anforderungen und/oder Schwierigkeiten auf, die überwunden werden müssen. Wegen des Vakuums innerhalb der Kammer gibt es eine Tendenz, dass beliebige, auf Grund von Abnutzung in der Spindel erzeugte Partikel in die Hochvakuumkammer gesaugt werden. Sobald solche Partikel in der Hochvakuumkammer sind, können diese dazu beitragen, die Umgebung zu kontaminieren und das Ionenimplantationsverfahren zu beeinträchtigen.
Dieses bedeutet, dass besondere Rücksicht genommen werden muss in Bezug auf die Leistung und die Eigenschaften der mit der Vorrichtung verwendeten Spindel.
Bei einer bestehenden Anordnung treten Probleme auf, wenn herkömmliche, auf Bronze basierte Lager mit der Spindel verwendet werden, und durch Abnutzung von diesen Bronzelagern erzeugte Partikel das Ionenimplantationsverfahren innerhalb der Kammer beeinträchtigen.
Aus der DE 100 36 217 A ist eine Anordnung mit einem Luftgleitlager mit einer y-Gleitwelle und einem y-Gleitlager bekannt, die jeweils aus Keramik bestehen, da diese eine hohe Steifigkeit und ein geringes Gewicht aufweist.
In der EP 0 262 939 A2 ist eine Gaslagereinheit mit zylindrischen Buchsen bekannt, die aus porösem Graphit bestehen, so dass ein Gasstrom durch die Poren der Buchsen möglich ist.
Die DE 691 23 554 T2 beschreibt eine Drehanoden-Röntgenröhre, die eine in einer zylindrischen Drehstruktur angeordnete ortsfeste Welle aufweist. Lagerflächen der Welle und der zylindrischen Struktur sind hierbei mit einem flüssigen Metallschmiermittel benetzt, das einen stabilen Betrieb des Gleitlagers vom dynamischen Drucktyp gewährleistet.
In „Konstruktionselemente der Feinmechanik”, Carl Hanser Verlag, 1993, ISBN 3-446-16530-4, Seiten 361 und 362 sind als geeignete Werkstoffe für hydrodynamisch laufende Gleitlager verschiedene Metalle und deren Legierungen beschrieben.
Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, mindestens einige der mit dem Stand der Technik verbundenen Probleme zu verringern.
Entsprechend einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Gaslagerspindel bereitgestellt, um ein Substrat innerhalb einer Vakuumkammer während eines Verarbeitungsbetriebs zu bewegen, wobei die Spindel eine hauptsächlich zylindrische Welle umfasst, die innerhalb eines hauptsächlich zylindrischen Buchsenteils eines Gaslagers, das ein Teil eines Körpers der Spindel ist, gelagert ist, die Welle dazu eingerichtet ist, ein Substrat anzutreiben, das im Inneren der Vakuumkammer angeordnet ist, und mindestens ein Teil einer Oberfläche des Buchsenteils des Gaslagers, der der Welle gegenüber liegt, aus Stahl mit einer Vickershärte von mindestens 150 HV besteht.
Die Verwendung von Stahl läuft der Standardingenieurstechnik zuwider, ist aber in der vorliegenden Erfindung überraschender Weise als wirksam und als vorzuziehen befunden worden, da die Erzeugung von verunreinigenden Stoffen, die das Verfahren innerhalb der Vakuumkammer beeinträchtigen können, reduziert werden kann.
Die Verwendung von Stahl ist auf Grund der Kosten und der Einfachheit der Herstellung wünschenswert. Nachfolgend wird der Ausdruck ”hartes Material” verwendet, um zum Zweck der Abkürzung ein Material mit einer Vickershärte von mindestens 150 HV zu bezeichnen.
Die Gesamtheit der Oberfläche des Buchsenteils des Gaslagers, das der Welle/Achse gegenüber liegt, kann aus hartem Material bestehen. Die Gesamtheit des Buchsenteils des Gaslagers kann aus hartem Material bestehen. Die Gesamtheit der Oberfläche des Buchsenteils des Gaslagers, die der Welle/Achse gegenüber liegt, kann aus Stahl bestehen. Die Gesamtheit des Buchsenteils des Gaslagers kann aus Stahl bestehen.
Mindestens ein Teil des Körpers kann so eingerichtet sein, dass er außerhalb der Vakuumkammer angeordnet ist. Die Welle/Achse kann so eingerichtet sein, dass sie von der Außenseite in das Innere der Vakuumkammer eindringt.
Vorzugsweise ist mindestens ein Teil der Welle, der innerhalb des Buchsenteils des Gaslagers läuft, mit einem Material beschichtet, das härter ist als das Material der Oberfläche des Buchsenteils des Gaslagers. Die Beschichtung kann ein auf die Welle plattiertes Material umfassen. Vorzugsweise ist mindestens der Teil der Welle, der innerhalb des Buchsenteils des Gaslagers läuft, mit mindestens einem beschichtet aus: Chrom, Armolloy Chrombeschichtung und Nickel.
Vorzugsweise ist die Welle aus Stahl. Natürlich kann eine Stahlwelle wie oben beschrieben beschichtet werden. Die Verwendung einer mit Chrom oder einer dünnen dichten Chrombeschichtung beschichteten Stahlwelle wird am meisten bevorzugt. Das dünne dichte Chrom kann mikrokugelig und von niedriger Reibung sein. Die dünne dichte Chrombeschichtung kann Armolloy (Handelsname) Chrombeschichtung sein. Die Chrombeschichtung kann im Fall von dünner dichter Chrombeschichtung eine Härte von zum Beispiel 900 HV (Vickershärte) oder zum Beispiel 1400 HV (Vickershärte) aufweisen.
Die Gaslagerspindel kann so eingerichtet sein, dass sie eine axiale Bewegung der Welle in Bezug auf den Buchsenteil ermöglicht. Die Gaslagerspindel kann so angeordnet sein, dass sie eine drehende Bewegung der Welle in Bezug auf den Buchsenteil ermöglicht.
Die Gaslagerspindel kann berührungslose Dichtmittel umfassen, die die Aufrechterhaltung eines Vakuums in der Vakuumkammer ermöglichen.
Die Oberfläche des Lagerbuchsenteils kann eine Vielzahl von axial beabstandeten umlaufenden Auskehlungen umfassen, die mit mindestens einer Vakuumpumpe verbindbar sind. Solch eine Anordnung kann dabei helfen, die Abdichtung der Vakuumkammer bereit zu stellen.
Entsprechend einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Verarbeitungsvorrichtung zur Verfügung gestellt, die eine Vakuumkammer und eine wie oben definierte Gaslagerspindel umfasst, bei der der Hauptkörper der Spindel an der Außenseite der Vakuumkammer montiert ist und die Welle durch eine Wand der Kammer von der Außenseite in das Innere der Kammer eindringt.
Die Verarbeitungsvorrichtung kann eine Waferverarbeitungsvorrichtung sein. Die Verarbeitungsvorrichtung kann eine Ionenimplantationsvorrichtung sein.
Entsprechend einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zum Betrieb einer Verarbeitungsvorrichtung bereitgestellt, wie sie oben definiert ist, in der Wafersubstrate aus Kupfer verarbeitet werden.
Entsprechend einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Gaslagerspindel bereitgestellt, um während eines Verarbeitungsbetriebs ein Substrat innerhalb einer Vakuumkammer zu bewegen, wobei die Spindel eine Welle umfasst, die innerhalb eines Buchsenteils des Gaslagers gelagert ist, das ein Teil eines Körpers der Spindel ist, wobei die Welle zum Antrieb eines Substrate eingerichtet ist, das im Inneren der Vakuumkammer angeordnet ist und wobei die Welle und mindestens ein Teil einer Oberfläche des Buchsenteils des Gaslagers, der der Welle gegenüber liegt, aus Stahl besteht. Entsprechend einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Gaslagerspindel zum Bewegen eines Substrats innerhalb einer Vakuumkammer während eines Verarbeitungsbetriebs bereitgestellt, wobei die Spindel eine Welle umfasst, die innerhalb eines Buchsenteils eines Gaslagers gelagert ist, der ein Teil des Spindelkörpers ist, wobei die Welle zum Antrieb eines Substrates eingerichtet ist, das im Inneren der Vakuumkammer angeordnet ist und wobei die Welle und mindestens ein Teil einer Oberfläche des Buchsenteils des Gaslagers, der der Welle gegenüber liegt, aus Materialien besteht, die mindestens so hart sind wie Stahl.
Entsprechend einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Gaslagerspindel zum Bewegen eines Substrats innerhalb einer Vakuumkammer während eines Verarbeitungsbetriebs bereitgestellt, wobei die Spindel eine Welle umfasst, die innerhalb eines Buchsenteils des Gaslagers gelagert ist, der ein Teil eines Körpers der Spindel ist, wobei die Welle zum Antrieb eines Substrates eingerichtet ist, das im Inneren der Vakuumkammer angeordnet ist und mindestens ein Teil einer Oberfläche des Buchsenteils des Gaslagers, der der Welle gegenüber liegt, aus Stahl besteht.
Entsprechend einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Gaslagerspindel zum Bewegen eines Substrats innerhalb einer Vakuumkammer während einer Verarbeitungsbetriebs bereitgestellt, wobei die Spindel eine Welle umfasst, die innerhalb eines Buchsenteils eines Gaslagers gelagert ist, das ein Teil eines Körpers der Spindel ist, wobei die Welle zum Antrieb eines Substrates eingerichtet ist, das im Inneren der Vakuumkammer angeordnet ist, und mindestens ein Teil einer Oberfläche des Buchsenteils des Gaslagers, der der Welle gegenüber liegt, aus Keramikmaterial besteht.
Entsprechend einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Gaslagerspindel zum Bewegen eines Substrats innerhalb einer Vakuumkammer während eines Verarbeitungsbetriebs bereitgestellt, wobei die Spindel eine Welle umfasst, die innerhalb eines Buchsenteils eines Gaslagers gelagert ist, der ein Teil eines Körpers der Spindel ist, wobei die Welle für den Betrieb auf einem Substrat eingerichtet ist, das im Inneren der Vakuumkammer angeordnet ist und mindestens ein Teil einer Oberfläche des Buchsenteils des Gaslagers, der der Welle gegenüber liegt, aus Siliziumnitrid besteht.
Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nun lediglich beispielhaft mit Bezug auf die begleitende Zeichnung beschrieben, die schematisch eine in einer Ionenimplantationsvorrichtung installierte Gaslagerspindel zeigt.
Die Zeichnung zeigt schematisch einen Teil einer Ionenimplantationsvorrichtung 1, die eine lineare Gaslagerspindel 2 umfasst.
Die Ionenimplantationsvorrichtung 1 umfasst allgemein eine herkömmliche Implantationsausrüstung, die weder in den Zeichnungen im Detail gezeigt ist noch in der vorliegenden Anmeldung im Detail beschrieben ist, da sie für die vorliegende Erfindung nicht relevant ist.
Es ist jedoch wichtig zu beachten, dass die Ionenimplantationsvorrichtung eine Hochvakuumkammer 11 umfasst (von der ein Teil in der Zeichnung gezeigt wird), die durch eine Kammerwand 12 begrenzt ist (von der nur ein Teil in der Zeichnung gezeigt wird). Die Spindel 2 ist auf die Kammerwand 12 montiert.
Die lineare Gaslagerspindel 2 umfasst einen Körper 21, der selbst einen Hauptkörperteil 22 umfasstund einen Buchsenteil des Gaslagers 23, der innerhalb dieses Hauptkörperteils 22 montiert ist.
Im Körper 21 ist eine Welle 3 montiert, die zur axialen Bewegung innerhalb des Körpers 21 eingerichtet ist und die vom Buchsenteil des Gaslagers 23 gelagert wird.
Die Welle 3 verläuft von der Außenseite der Hochvakuumkammer 11 in das Innere der Hochvakuumkammer 11 und verläuft somit durch (oder durchdringt) die Wand 12 der Hochvakuumkammer 11. Das Ende der Welle 3, das innerhalb der Hochvakuumkammer 11 angeordnet ist, ist mit einem Montagebereich 31 versehen, auf dem ein Substrat montiert werden kann, das dem Ionenimplantationsprozess zu unterziehen ist.
Die Welle 3 wird an einem Ende durch das Lager gelagert, d. h., dass die Welle 3 auskragend ist.
Es ist zu bemerken, dass die Welle 3 in einer typischen Ausführung hauptsächlich zylindrisch sein wird, ebenso wie dies die Spindel 2 im Ganzen ist, wobei der Körper 21, der Hauptkörperteil 22 und der Buchsenteil 23 hauptsächlich ringförmig sind.
Es wird bemerkt werden, dass es eine solche Konfiguration, zumindest in der Hauptsache, ermöglicht, dass die Welle 3 relativ zu dem Körper 21 gedreht werden kann, so dass eine von der Welle getragene Probe innerhalb der Kammer 11 sowohl gedreht als auch axial bewegt werden kann. In der vorliegenden Ausführungsform ist jedoch eine lineare Bewegung der Welle 3 alles, was erforderlich ist.
Da innerhalb der Kammer ein hohes Vakuum herrscht und die lineare Gaslagerspindel 2 einen potentiellen Gasflussweg von der Außenseite der Kammer 11 zum Inneren der Kammer 11 darstellt, besteht eine Tendenz des Gases, über die Spindel 2 in die Kammer 11 zu entweichen.
Der Buchsenteil des Gaslagers 23 ist jedoch so eingerichtet, dass ein solches Leck minimiert wird. Im Besonderen ist eine Vielzahl von umlaufenden Auskehlungen 24 auf der inneren gekrümmten Oberfläche des ringförmigen Buchsenteil 23 vorgesehen und diese sind mit entsprechenden Vakuumpumpen (nicht gezeigt) verbunden, um für ein schrittweises Abfallen des Druckes vom atmosphärischen Druck an einem Ende der Spindel 2 zum Hochvakuum innerhalb der Kammer 11 am anderen Ende der Spindel 2 zu sorgen. Die Details einer solchen Ausführungsform zur Bereitstellung einer geeigneten Abdichtung innerhalb der Spindel 2, können zum Beispiel in US 4 726 689 A gefunden werden.
Wie in der Einleitung erwähnt, wäre es bei einer herkömmlichen Spindel oben beschriebenen Typs (zum Beispiel des in US 4 726 689 A beschriebenen) üblich, die Lageroberflächen aus einem weichen Material wie zum Beispiel Bronze herzustellen. Dies ist sogar dann der Fall, wenn es sich bei dem Lager um ein Gaslager handelt, weshalb es, wenn es richtig und ohne Fehlfunktion betrieben wird, keinen Kontakt zwischen der Welle 3 und dem Lagerbuchsenteil 23 geben wird. In solchen Fällen ist es auch gebräuchlich, eine Stahlwelle 3 oder eine mit Chrom beschichtete Stahlwelle 3 zu verwenden, so dass, wenn es zu einem Kontakt zwischen der Welle 3 und dem Lager 23 kommt, das Lager 23 sich auf eine zunehmende und voraussagbare Weise abnutzt, wobei sich harte Stahl- und/oder Chrompartikel, wenn vorliegend, in die Bronze einlagern, anstatt ein katastrophales Versagen zu bewirken.
Normalerweise ist solch eine Abnutzung akzeptabel, aber in den vorliegenden Fällen können Probleme auftreten, wenn von der Abnutzung des Lagers herrührende Partikel in die Kammer 11 gesaugt werden. In der Kammer 11 können die Partikel das Ionenimplantationsverfahren beeinträchtigen.
Dieser Sachverhalt hat bei der Verwendung von solchen Spindeln, wie sie in US 4 726 689 A gezeigt sind, wo bestimmte Arten von Ionenimplantationsprozessen ausgeführt werden, ein wesentliches Problem verursacht. Eine möglicher Weg, diese Probleme zu überwinden, besteht darin, Graphit als ein alternatives Lagermaterial zu verwenden, da dieses die normale Anforderung erfüllt, weich zu sein, und eine Eigenschaft aufweist, die bei Ionenimplantationsverfahren im Allgemeinen inert ist. Auf diese Weise wird beliebiges Graphit, das in die Kammer eintritt, nicht dazu neigen, das Verfahren zu beeinträchtigen.
Die Verwendung von Graphit ist jedoch unerwünscht, da es bei der Herstellung schwierig zu verarbeiten und strukturell schwach ist.
Deshalb ist eine andere Alternative wünschenswert. In der vorliegenden Ausführungsform ist der Buchsenteil 23 des Gaslagers aus Stahl ausgeführt, (in diesem Fall im Besonderen aus austenitischem rostfreiem Stahl, zum Beispiel 303S21 (BS 970), der nichtmagnetisch ist und eine Härte von 183 HV (Vickershärte) aufweist), so wie dies auch der Rest des Körpers 21 ist. Dies läuft konträr zur üblichen Ingenieurspraxis, gemäß der ein weiches Lagermaterial gewählt werden sollte. Jedoch sind überraschenderweise zufrieden stellende Ergebnisse mit dieser Bauweise erzielt worden.
In der vorliegenden Ausführungsform ist die Welle 3, oder mindestens der Teil der Welle 3, der an irgendeinem Punkt auf dem Weg der Welle durch den Buchsenteil 23 verläuft, mit Chrom 3a beschichtet ist. Alternativ dazu kann die Welle 3 mit einer dünnen dichten Chrombeschichtung (zum Beispiel mit einer Chrombeschichtung aus Armolloy (Handelsmarke)) beschichtet werden. Dies hilft dabei, der Welle 3 einen sehr präzisen und glatten Oberflächenzustand zu verleihen, der dabei hilft, jegliche Abnutzung im Buchsenteil 23 zu minimieren. Während die Auswahl von Stahl der Ingenieurspraxis entgegenläuft, weist es als Lagermaterial den Vorteil auf, dass, wenn es zu einer Abnutzung kommt und Partikel aus Stahl in die Kammer 11 gelangen, diese ein Ionenimplantationsverfahren, bei dem ein Kupfersubstrat verwendet wird, nicht beeinträchtigen. Dies steht im Gegensatz zu der Situation, in der ein Lagermaterial aus Bronze verwendet wird.
Es ist auch möglich, andere, unübliche Lagermaterialien wie Siliziumnitrid oder andere keramische Materialien zu verwenden. Die Verwendung einer sehr harten, aber sehr glatten Wellenbeschichtung und eines harten Lagermaterials können dazu dienen, die Menge an erzeugten Abnutzungspartikeln zu reduzieren.
Es gibt wohl einige Einschränkungen bezüglich der axialen Geschwindigkeit der Bewegung der Welle 3, die die vorliegende Ausführungsform tolerieren kann, und ebenso Begrenzungen der Drehgeschwindigkeit, die toleriert werden können, wenn die Welle 3 so eingerichtet ist, dass sie drehend relativ zum Körper 21 angetrieben wird. Genaue Grenzen für diese Geschwindigkeiten können einfach genug durch Ausführen unkomplizierter Tests bestimmt werden.
Bei einer Alternative kann die Stirnfläche des Lagers, die der Welle gegenüber liegt, ebenfalls mit Chrom oder einer Chrombeschichtung aus Armolloy beschichtet werden.

Claims

Gaslagerspindel zum Bewegen eines Substrats innerhalb einer Vakuumkammer während eines Verarbeitungsbetriebs, wobei die Spindel eine innerhalb eines Buchsenteils eines Gaslagers gelagerte, hauptsächlich zylindrische Welle umfasst; der Buchsenteil ein Teil eines Körpers der Spindel und hauptsächlich zylindrisch ausgebildet ist; die Welle eingerichtet ist, um ein Substrat anzutreiben, das im Inneren der Vakuumkammer angeordnet ist; die ganze Oberfläche des Buchsenteils des Gaslagers, der der Welle gegenüber liegt, aus einem Stahl mit einer Vickershärte von mindestens 150 HV ist; wobei die Gaslagerspindel so eingerichtet ist, dass sie eine axiale und eine drehende Bewegung der Welle relativ zu dem Buchsenteil ermöglicht; und mindestens ein Teil der Welle, der innerhalb des Buchsenteils des Gaslagers läuft, mit einem Material beschichtet ist, das härter als das Material des mindestens einen Teils der Oberfläche des Buchsenteilbereichs des Gaslagers ist.
Gaslagerspindel nach Anspruch 1, bei der der ganze Buchsenteil des Gaslagers aus einem Material mit einer Vickershärte von mindestens 150 HV ist.
Gaslagerspindel nach jedem der vorangehendem Anspruch, bei der mindestens ein Teil des Körpers so eingerichtet ist, dass er außerhalb der Vakuumkammer angeordnet werden kann.
Gaslagerspindel nach Anspruch 3, bei der die Welle so angeordnet ist, dass sie von der Außenseite in das Innere der Vakuumkammer eindringt.
Gaslagerspindel nach Anspruch 4, bei der ein freies Ende der Welle eingerichtet ist, um das Substrat zu lagern.
Gaslagerspindel nach einem der vorangehenden Ansprüche, bei der die Beschichtung ein auf die Welle plattiertes Material umfasst.
Gaslagerspindel nach Anspruch 6, bei der zumindest der Teil der Welle, der innerhalb des Buchsenteils des Gaslagers läuft, mit mindestens einem aus: Chrom, dünner dichter Chrombeschichtung und Nickel beschichtet ist.
Gaslagerspindel nach Anspruch 7, bei der die Chrombeschichtung eine Härte von 900 HV (Vickershärte) oder im Falle von dünner dichter Chrombeschichtung von 1400 HV (Vickershärte) aufweist.
Gaslagerspindel nach einem vorangehenden Anspruch, bei der die Welle aus Stahl ist.
Gaslagerspindel nach einem vorangehenden Anspruch, die ein berührungsloses Dichtmittel umfasst, das die Aufrechterhaltung eines Vakuums in der Vakuumkammer ermöglicht.
Gaslagerspindel nach einem vorangehenden Anspruch, bei der die Oberfläche des Lagerbuchsenteils eine Vielzahl von axial beabstandeten umlaufenden Auskehlungen umfasst, die mit mindestens einer Vakuumpumpe verbindbar sind.
Verarbeitungsvorrichtung, die eine Vakuumkammer und eine Gaslagerspindel entsprechend einem vorangehenden Anspruch umfasst, bei der der Hauptkörper der Spindel an der Außenseite der Vakuumkammer montiert ist und die Welle durch eine Wand der Kammer von der Außenseite in das Innere der Kammer eindringt.
Verarbeitungsvorrichtung nach Anspruch 12, bei der ein Ende der Welle innerhalb des Inneren der Kammer angeordnet ist.
Verarbeitungsvorrichtung nach Anspruch 12 oder Anspruch 13, die eine Waferverarbeitungsvorrichtung ist.
Verarbeitungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 14, die eine Ionenimplantationsvorrichtung ist.