DE1097148B - Verfahren und Vorrichtung zur Dickenkontrolle von Halbleiterkoerpern bei der Bearbeitung - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Dickenkontrolle von Halbleiterkoerpern bei der Bearbeitung

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DE1097148B
DE1097148B DEP23270A DEP0023270A DE1097148B DE 1097148 B DE1097148 B DE 1097148B DE P23270 A DEP23270 A DE P23270A DE P0023270 A DEP0023270 A DE P0023270A DE 1097148 B DE1097148 B DE 1097148B
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semiconductor
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DEP23270A
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Dr Robert Norton Noyce
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Space Systems Loral LLC
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Philco Ford Corp
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    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material

Description

  • Verfahren und Vorrichtung zur Dickenkontrolle von Halbleiterkörpern bei der Bearbeitung Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Dickenkontrolle bzw. -messung von Halbleiterkörpern bei der Bearbeitung, beispielsweise bei der formgebenden Bearbeitung von Haibleiterkörpern für Halbleiteranordnungen, wie Transistoren u. dgl.
  • Bei der Herstellung bestimmter Halbleiteranordnungen, wie beispielsweise Transistoren, ist es häufig erforderlich, Halbleiterkörper herzustellen, die wenigstens in einem Bereich eine sehr kleine reproduzierbare Dicke aufweisen, wobei diese Herstellung so erfolgen soll, daß dabei keine unerwunschten Zugspannungen in dem Halbleitermaterial hervorgerufen werden. So hat sich beispielsweise ergeben, daß bei der Herstellung von Oberflächen-pn-Schicht- oder Legierungs-pn-Schicht-Transistoren gute Hochfrequenztransistoren erzielbar sind, sofern es gelingt, in dem Halbleiterkörper eine hinreichend dünne, im wesentlichen einheitliche Basiszone frei von Spanntingen herzustellen. Ein Verfahren zur Erzielung der erforderlichen Kontrolle der Basisdicke besteht darin, daß ein Halbleiterkörper von anfänglich einheitlicher Dicke unter kontrollierten Bedingungen geätzt wird, wobei die zur Durchlöcherung des Körpers erforderliche Zeit festgestellt und sodann das Verfahren an einer benachbarten Stelle des gleichen Körpers mit der gleichen oder einer im wesentlichen entsprechenden Anordnung und unter denselben Verfahrensbedingungen wiederholt wird. Obwohl dieses Verfahren für viele Zwecke geeignet ist, dürfte doch klar sein, daß aus Gründen der Wirtschaftlichkeit, Genauigkeit und Einfachheit ein Verfahren erwünscht wäre, das eine Kontrolle der Basisdicke eines Halbleiterkörpers derart gewährleistet, daß nur ein einziger Arbeitsgang der Dickenverringerung erforderlich ist und wobei man sich nicht auf genaue Parallelität der gegenüberliegenden Oberíiächen des Halbleiterkörpers und auf die Gleichheit der Verfahrensbedingungen zur Erzielung der erwünschten Genauigkeit zu verlassen braucht. Es ist ferner erwünscht, daß das betreffende Verfahren ohne wesentliche Abänderung zur Behandlung von Halbleiterkörpern stark unterschiedlichen Widerstands anwendbar ist, so daß Unreinheitsbestandteile verschiedener Art und verschiedener Konzentration in dem Halbleitermaterial verwendet werden können, ohne daß eine Anderung der Vorrichtung oder des Verfahrens erforderlich wird.
  • Das zur Lösung dieser Aufgabe dienende Verfahren gemäß der Erfindung besteht darin, daß der Halbleiterlcörper an der bezüglich der Dicke zu kontrollierenden Stelle mit einem Wellenlängenband elektro magnetischer Strahlung bestrahlt wird, welches die für eine vorgegebene Dicke des Materials charakteristische spektrale Durchlässigkeitsgrenze einschließt und nach Durchsetzen des Halbleiterkörpers mit einem auf die betreffende Strahlung ansprechenden Strahlungsdetektor analysiert wird.
  • Die gemäß der Erfindung vorgesehene Verwendung einer geeigneten elektromagnetischen Strahlung zur Dickenkontrolle bzw. -messung ergibt ein Verfahren, daß in einfacher Weise an die verschiedensten Bearbeitungsvorgänge während der Halbleiterherstellung angepaßt werden kann, wobei der Meßvorgang das Halbleiterwerkstück mechanisch, elektrisch oder chemisch in keiner Weise beeinflußt, kontinuierlich während der Bearbeitung vorgenommen werden kann und eine äußerst hohe Genauigkeit gestattet.
  • Nach einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, daß das Wellenlängenband der auf den Halbleiterkörper auftreffenden Strahlung etwa mit der spektralen Durchlässigkeitsgrenze für die vorgegebene Dicke des Halbleitermaterials beginnt, derart, daß vor Erreichung der vorgegebenen Dicke praktisch keine Strahlung den Halbleiterkörper durchdringt und die Intensität der durchgelassenen Strahlung nach Erreichung der vorgegebenen Materialdicke sich sprunghaft ändert.
  • Durch diese Maßnahme wird erreicht, daß die Erreichung der vorgegebenen kritischen Dicke besonders einfach und genau nachweisbar ist, da sie mit einer sprunghaften Änderung der als mittelbare Meßgröße dienenden durchgelassenen elektromagnetischen Strahlung verbunden ist.
  • Nach einer vorteilhaften Ausführungsform ist hierbei vorgesehen, daß die im Durchlässigkeitsbereich jenseits der spektralen Durchlässigkeitsgrenze für die vorgegebene Materialdicke liegenden Wellenlängenkomponenten der Strahlung vor dem Auftreffen auf den Halbleiterkörper ausgefiltert werden.
  • Vorzugsweise wird das Verfahren gemäß der Erfindung kontinuierlich während der Bearbeitung ausgeführt, derart, daß ohne-Beeinträchtigung des Bearbeitungsvorganges eine laufende genaue Kontrolle der Dicke ermöglicht wird.
  • Im besonderen eignet sich das Verfahren gemäß der Erfindung zur Anwendung während der Bearbeitung des Halbleiterkörpers nach einem der elektrolytischen Ätzverfahren. Nach einer besonders vorteilhaftenAusführungsform dieser Art ist vorgesehen, daß die Dickenkontrolle bzw. -messung während der Materialabtragung im elektrolytischen Strahlätzverfahren vorgenommen wird, derart, daß die elektromagnetische Strahlung den Halbleiterkörper durch den elektrolytischenAtzstrahl koaxial ~mit diesem zugeführt wird.
  • Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens; nach einer besonderen Ausführungsform weist eine derartige Vorrichtung eine Strahlungsquelle mit optischer Strahlbündelung, welche ein Bündel der elektromagnetischen Strahlung durch einen Halbleiterkörper an der zu kontrollierenden Stelle schickt, eine auf der gegenüberliegenden Seite des Halbleiterkörpers angeordnete Strahlungsdetektorvorrichtung, auf welche die durchgelassene Strahlung auftrifft und welche ein der auftreffenden, durchgelassenen Strahlung - proportionales elektrisches Ausgangssignal erzeugt, sowie eine Meß- und Anzeigevorrichtung für das Ausgangssignal der Strahlungsdetektorvorrichtung auf.
  • Nach einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, daß bei einer zur Durchführung des Verfahrens beim elektrolytischen Strahlätzen geeigneten- Vorrichtung das elektromagnetische Strahlungsbündel durch die Düse und den elektrolytischen Ätzstrahl hindurch koaxial mit diesem auf den Halbleiterkörper gerichtet wird.
  • Vorzugsweise wird für das Verfahren gemäß der Erfindung ein Strahlungswellenband im Ultrarotbereich verwendet, das eine kurzwellige Durchlässigkeitskante des Halbleitermaterials für die vorgegebene Dicke aufweist, wobei die auf der langwelligen Seite der kurzwelligen Durchlässigkeitskante liegenden Strahlungskomponenten ausgefiltert werden.
  • Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen an Hand der Zeichnung; in dieser zeigt Fig. 1 in schematischer Darstellung eine zur Anwendung des Verfahrens bei der Bearbeitung von Halbleiterkörpern im elektrolytischen Strahlätzverfahren geeignete Vorrichtung, Fig:-2 eine graphische Darstellung, welche den zeitlichen Verlauf des von der Meß; bzw. Registriervorrichtung angezeigten Ausgangssignals der Strahlungsdetektorvorrichtung für einen typischen Fall erkennen läßt, Fig. 3 schematisch den registrierenden Teil der Vorrichtung bei einer anderen Ausführungsform, bei welcher die Registnervorrichtung ~ gleichzeitig den elektrolytischen ätzvorgang in Abhängigkeit von der Dickenkontrolle- steuert.
  • In Fig. 1 ist mit 10 der Hälbleiterköiper bezeichnet, dessen Dicke auf den vorgegebenen geringen Wert verringert werden soll. Dieser Körper kann- beispiels- weise ein -Kristall aus N-Germanium mit einer Löcherlebensdauer in der Größenordnung von 100 Mikrosekunden und einem spezifischen Widerstand in der Größenordnung von 5 Ohm-cm sein. EineFlüssigkeitspumpe 11 pumpt Elektrolytflüssigkeit aus einem nicht dargestellten Behälter durch eineRohrleitung 12, einen Behälter 13 und die Düse 14, wobei sämtliche Teile aus Glas sein können, und erzeugt einen gegen die Unterseite des Körpers 10 gerichteten Elektrolytstrahl 15. Der Halbleiterkörper ist- an einer mit einer Mittelöffnung 17 versehenen Metallscheibe 16 befestigt. Der Strahl 15 wird gegen einen der Öffnung 17 unmittelbar gegenüberliegenden Oberflächenbereich des Körpers 10 gerichtet; das geeignete Ätzpotential wird dem Elektrolyten aus einer Spannungsquelle 18 iiber einen veränderlichen Reihenwiderstand 19, einen Schalter 20 und inerte Elektroden 21 zugeführt, die in der Rohrleitung 12 in den Elektrolyten eintauchen.
  • Die geeignete elektromagnetische Strahlung wird dem gläsernen Behälter 13 und dem Strahl 15 in folgender Weise zugeführt: Eine Strahlungsquelle22. die im wesentlichen ultrarote Strahlung aussendet, liefert die Strahlung, welche mittels einer Blende 24 und Kondensorlinsen 25 zu einem Strahl gebündelt und durch den Spiegel 26 gegen die Unterseite des Behälters 13 in einen direkt der Austrittsdüse 14 gegenüberliegenden Punkt geworfen wird. Diese Strahlung durchsetzt sodann die Düse 13 und anschließend den Strahl 15 und gelangt-so an die Unterseite des Halbleiterkörpers 10. Wie bereits erwähnt, wird die auf den Körper 10 auftreffende Strahlung, in dem Maße wie der Körper dünner ist, wenigstens bis zu einem gewissen Grad von dem Körper durchgelassen und kann mit der strahlungsempfindlichen Zelle 27 nachgewiesen werden.
  • Zur besseren Verstärkung und Rauschminderung kann das von der Strahlungsquelle 22 kommende Strahtungsbündel periodisch unterbrochen werden, und zwar mittels des scheibenförmigen Strahlungszerbackers 28, der durch den Motor 29 angetrieben wird und eine hinreichende Anzahl von Zähnen aufweist, um den Strahl mit einer zur Verstärkung daraus gebildeter elektrischer Signale geeigneten Frequenz von beispielsweise 750 Hz zu unterbrechen, die zwischen den Harmonischen der üblichen 60-Hz-Netzfrequenz liegt, so daß Interferenzerscheinungen mit anderen Lichtquellen weitgehend ausgeschaltet werden.
  • Die strahlungsempfinbliche Zelle 27 ist mit ihrem empfindlichen Bereich 30 der Öffnung 17 in der Scheibe 16 gegenüberstehend angeordnet, so daß sie von derjenigen Strahlung, welche von dem Bereich des Halbleiterkörpers 10 unter dem Strahl 15 durchgelassen wird; getroffen wird und ein Ausgangssignal erzeugt, das sich in Abhängigkeit von Änderungen der Intensität der auf sie- auffallenden Strahlung, soweit sie innerhalb eines vorgegebenen Wellenlängenbandes liegt, ändert. Für die Zelle 27 kann irgendeine von verschiedenen bekannten Ausführungen verwendet werden; bei der Anwendung des Verfahrens auf die Behandlung von Germanium wird als Strahlungsdetektor vorzugsweise eine Germamum-Oberflächen grenzschichtdiode verwendet, welche einen metallischen Kontakt 31, beispielsweise aus Zink, aufweist, der auf einer Oberfläche eines Germaniumplättchens 32 gegenüber jedoch in geringem Abstand von der bestrahlten Oberfläche 30 im Elektroplattierverfahren aufgebracht ist. Der elektroplattierte Kontakt 31 bildet einen Gleichrichtkontakt an dem Plättchen 32> während die angelötete Metallasche 33 einen ohmschen Kontakt mit dem Halbleiterplättchen bildet. v Das an den Kontakten 31 und 33 abgenommeneAusgangssignal der strahlungsempfindlichen Zelle 27 wird den Eingangsklemmen eines Gleichrichterverstärkers 35 und sodann einer 5 ignalanzeigevorrichtung 36 zugeführt, welche eine Anzeige der verstärkten Signale in geeigneter Form liefert. Der Gleichrichterverstärker 35 kann einen Breitband-Niederfrequenzverstärker und einen Diodengleichrichter herkömmlicher Art aufweisen; die Anzeigevorrichtung 36 kann beispielsweise ein Registriergerät oder eine ähnliche Vorrichtung sein, die eine visuelle Anzeige der Momentanwerte des verstärkten und gleichgerichteten Signals ermöglicht.
  • Der Übersichtlichkeit halber wurde in der Darstellung nicht gezeigt, daß natürlich geeignete Strahlungsabschirmmittel vorgesehen sein können, um das Strahlungsbündel im wesentlichen auf die in der Figur dargestellten gestrichelten geraden Linien zu begrenzen und eine Beleuchtung der strahlungsempfindlichen Zelle 27 durch Streustrahlung, welche nicht den Elektrolytenstrahl 15 und den Halbleiterkörper 10 durchsetzt hat, zu verhindern. Zur weiteren Verringerung störender Effekte, beispielsweise Streulichteffekte, können in bestimmten Anwendungsfällen zusätzliche gebräuchliche Vorkehrungen getroffen werden; beispielsweise kann der Verstärker35 als Tastgleichrichtverstärker ausgebildet sein, der synchron mit dem Antrieb des Zerhackers 28 so gesteuert wird, daß er bei der jeweiligen Freigabe des Lichtweges durch die Zähne des Zerhackers 28 hochgetastet wird; gebräuchliche Maßnahmen dieser Art gehören jedoch nicht zum Erfindungsgegenstand, so daß hierauf nicht näher eingegangen zu werden braucht.
  • Es ist bekannt, daß die spektralen Durchlässigkeitscharakteri stiken von Germanium und ähnlichen Stoffen für auffallende Strahlung eine Funktion der jeweiligen Dicke des Germaniummaterials sind. Die Dicke des Plättchens 10 kann anfänglich verhältnismäßig groß, beispielsweise in der Größenordnung von 5 10 cm sein; der in Frage stehende Bereich des Germaniumplättchens wird dann Licht von verhältnismäßig großer Wellenlänge durchlassen, die Durchlässigkeit nimmt jedoch bei Wellenlängen von etwa 1,9 Mikron rasch ab und wird für Strahlung unterhalb etwa 1,7 Mikron vernachlässigbar klein. Trägt man die Wellenlängen in horizontaler Richtung und die Durchlässigkeit in vertikaler Richtung gegeneinander auf, so kann die untere Grenze oder die Kante der Durchlässigkeitskurve in Form einer S-förmigen Kurve dargestellt werden, die zwischen den erwähnten Wellenlängen von etwa 1,9 und 1,7 Mikron absinkt und ober- und unterhalb des abfallenden Teils der Kurve einen annähernd horizontalen Verlauf zeigt.
  • In dem Maße, in dem sich die Dicke des Germanium plättchens 10 infolge der elektrolytischen Atzwirkung des Strahles 15 verringert, verschiebt sich diese kurzwellige Durchlässigkeitskante allmählich in Richtung zu kürzeren Wellenlängen. Ist die Germaniumdicke beispielsweise auf 5 i0-4 cm verringert, wie es häufig für Oberflächen-pn-Schichttransistoren erwünscht ist, so setzt eine Durchlässigkeit für Strahlung verhältnismäßig kurzer Wellenlängen, wie beispielsweise etwa 1 Mikron, ein. Zur Bestimmung dieses Zeitpunkts weist das Spektrum der Ultrarotstrahlungsquelle 22 vorzugsweise eine Bande auf, welche die Wellenlänge 1 Mikron einschließt.
  • Ein von Strahlung durchsetzter Elektrolyt weist bekanntlich eine spezifische spektrale Durchlässigkeitscharakteristik auf, die vor allem von der Weglänge abhängt, welche die Strahlung in dem Elektrolyten zurücklegt. Beispielsweise hat ein aus Wasser oder verdünnter elektrolyter Ätzlösung bestehender Strahl 15 von 0,6 cm Länge ein spektrales Durchlässigkeitsband, dessen obere Grenze bei etwa 1 bis 1,35 Mikron liegt, wobei diese obere Durchlässigkeitsgrenze zwischen den genannten Werten von 1 und 1,35 Mikron einen Abfall aufweist, welcher der Richtung des Abfalls des Durchlässigkeitsbandes von Germanium entgegengesetzt ist. Die Länge des Strahls 15 und damit die Lage des Kantenabfalls des Durchlässigkeitsbandes können in bezug auf die erwähnten Durchlässigkeitsbänder des Germanium bei den verschiedenen Dicken geeignet gewählt werden. Man erkennt, daß das Germaniumplättchen 10 nur Strahlung der von dem Elektrolytstrahl durchgelassenen Wellenlängen erhält, während der jenseits des Germaniumplättchens liegende Bereich des Detektors 27 nur Strahlung erhält, die von dem Elektrolytstrahl und dem Germaniumplättchen durchgelassen wurde, d. h. Strahlung mit Wellenlängen innerhalb eines begrenzten Überlappungsge bietes der Durchlässigkeitskurven des Plättchens 10 und des Strahls 15. Ein derartiger Überlappungsbereich besteht überhaupt nur, sobald die Plättchendicke auf einen vorgegebenen Wert verringert ist. Nur dann wird Strahlung nennenswert zu dem Detektor 27 durchgelassen, und zwar nur innerhalb eines begrenzten Wellenlängenbereichs, nämlich im Überlappungsgebiet. Dies ist unabhängig von der Strahlungsintensität.
  • Demzufolge gibt die Photozelle 27 nur dann nennenswerte elektrische Signale ab, sobald eine bestimmte Dünne des Plättchens 10 erreicht wurde. Diese Signale werden nach üblicher Verstärkung und Gleichrichtung der Anzeigevorrichtung 36 zugeführt. Die Änderung des Ausgangssignals dieser Anzeigevorrichtung als Funktion der Ätzdauer ist für einen typischen Fall in Fig. 2 dargestellt, wobei die Zeit auf der Abzisse, die Größe des Signals auf der Ordinate abgetragen sind.
  • Bei Verwendung eines Registriergerätes herkömmlicher Art als Anzeigevorrichtung 36 entspricht die Anzeige des Registriergerätes im wesentlichen dem in Fig. 2 gezeigten Kurvenverlauf. Wie aus Fig. 2 ersichtlich, ist das Ausgangssignal anfänglich klein, da für große Dicken die selektive Durchlässigkeit des Körpers 10 jede von dem Elektrolyten durchgelassene Strahlungskomponente erheblich schwächt. Im typischen Fall nimmt das Ausgangssignal sogar während einer beträchtlichen Zeit nach Atzbeginn ab, was darauf zurückzuführen ist, daß der Strahl in dem Germanium eine rundbögige Vertiefung erzeugt, so daß durch Refraktion und innere Reflektionen mit zunehmender Vertiefung der Ausnehmung ein immer größer werdender Teil der auffallenden Strahlung gehindert wird, bis zum empfindlichen Teil der Photozelle durchzudringen. Diese allmähliche Abnahme des Ausgangs der Photozelle setzt sich von der Zeit Null bis zur Zeit t1 fort; in diesem Zeitpunkt setzt eine merkliche Zunahme der Ausgangsgröße ein, wie dies beispielsweise im Bereich zwischen t1 und t2 dargestellt ist. In diesem Zeitpunkt beginnt nämlich die kurzwellige Durchlässigkeitsgrenze des Körpers 10, das Durchlässigkeitsband des Elektrolyten in nennenswertem Ausmaß zu überlappen, so daß immer mehr auf den Körper 10 auftreffende Strahlung durch diesen durchgelassen wird. Wird die Ätzung mit der gleichen Geschwindigkeit fortgesetzt, so nimmt das Ausgangssignal, wie durch gestrichelte Linie dargestellt, weiter sehr schnell bis zur Durchlöcherung des Plättchens bei t3 zu. Im Interesse einer größeren Genauigkeit wird jedoch die Ätzgeschwindigkeit vorzugsweise verringert, beispielsweise durch Erniedrigung des Ätzpotentials, sobald das Signal eine bestimmte Größe erreicht hat; als Folge hiervon ist die Zunahme des Ausgangssignals weniger stark, wie dies durch die stark ausgezogene Kurve im Gebiet zwischen to und t5 veranschaulicht ist. Läßt man dabei die Ätzung sich bis zum Zeitpunkt t5 fortsetzen, so wird das Plättchen durchlöchert, Der genaueZeitpunkt, an dem dieDurchlöcherung eintritt, hängt bis zu einem gewisse Grade vom Stahldruck ab, so daß es zur Herstellung äußerst dünner Germaniummembranen häufig vorteilhaft ist, den Druck bei Annäherung an die Endstärke herabzusetzen, was vorzugsweise im gleichen Zeitpunkt ri vorgenommen wird, in welchem die Atzgeschwindigkeit verringert wird.
  • Die Größe des Signals im Bereich zwischen t, und t5 ist daher eine direkte Anzeige der unter dem Strahl verbleibenden Material stärke und kann daher ohne Schwierigkeit in Angaben der Plättchendicke geeicht werden, indem man die Ätzung an verschiedenen Punkten entlang dieser Kurve für verschiedene Plättchen unterbricht unddie Dicken dieser Plättchen bestimmt. Mit Hilfe einer derartigen Eichung wird es dann möglich, jede innerhalb dieses Bereichs gelegene gewünschte Halbleiterdicke herzustellen, indem man die Ätzung in dem geeigneten Punkt im aufsteigenden Teil der Kurve in Fig. 2 unterbricht, beispielsweise in Punkt t4. Beim vorliegend beschriebenenAusfiihrungsbeispiel wird diese Unterbrechung vorzugsweise durch Öffnung des Schalters 20 vorgenommen, sobald die Dickenanzeige erreicht ist.
  • Die Erfindung wurde vorstehend zwar in besonderer Anwendung auf die Behandlung von Germanium beschrieben; selbstverständlich kann man sie auch zur Bearbeitung anderer Halbleitermaterialien, wie beispielsweise Silizium, verwenden. Da jedoch die kurzwellige Durchlässigkeitsgrenze für Silizium bei kürzeren Wellen als für Germanium gleicher Dicke liegt, wird man bei der Anwendung der Erfindung auf Silizium die nachgewiesene Strahlung auf kürzerwellige Komponenten als bei Germanium beschränken müssen, und zwar entweder durch Verwendung einer Strahlungsquelle, die auf kürzerwellige Komponenten beschränkt ist, oder durch Anwendung eines Spektralfilters, das nur kürzerwellige Komponenten durchläßt, oder schließlich, indem man einen nur auf kürzerwellige auffallende Strahlung ansprechenden Strahlungsdetektor anwendet. Beispielsweise kann man die Länge des Elektrolytstrahls 15 vergrößern, um die erwünschte Begrenzung der auffallenden Strahlung auf kürzere Wellenlängen zu erzielen. Schließlich kann man selbstverständlich für Silizium auch andere Ätzlösungen wie beispielsweise Natriumfluorid, venTrenden. Dient die Erfindung zur Herstellung von Körpern vorgegebener Dicke, so kann die Unterbrechung der Ätzung mittels einer in Fig. 3 dargestellten Abänderung auch automatisch statt von Händ erfolgen.
  • Bei dieser Ausführungsforin ist der Schalter 20 aus Fig. 1- durch einen relaisgesteuerten Schalter 40 ersetzt, der in normalerweise geschlossenem Zustand den elektrolytischen Ätzstrom für den Strahl 15 schließt, der jedoch automatisch öffnet und Somit die Ätzung unterbricht, sobald das Ausgangssignal des Detektorverstärkers 35 einen der gewünschten Dicke entsprechenden Wert erreicht. Zu diesemZweck kann das Ausgangssignal des Detektorverstärkers 35 einen Thyratron 41 oder - -einen entsprechenden herkomrnlichen, nuf einen Schwellenwert ansprechenden Einrichtung iugeführt--werded, wobei das Thyratron-sc eingestellt ist, daß es die Strombetätigung des Relaisschalters 40 zur Öffnung des Schalters -hervorrufY sobald die vom Detektorverstärker 35 kommenden Signale den der erwünschten Dicke des Halbleitermaterials entsprechenden Wert erreicht. Eine entsprechende Vorrichtung kann auch vorgesehen werden, um die Ätzgeschwindigkeit bei jeder gewünschten Dicke durch automatische Kontrolle des veränderlichen Widerstandes 19 verändern zu können.
  • Die mit dem Dickenmeß- und Kontrollverfahren gemäß der-Erfindung erzielten Vorteile ergeben sich aus der vorhergehenden Beschreibung ohne weiteres. Beispielsweise ist klar ersichtlich, daß mit diesem Verfahren die Erreichung der gewünschten Halbleiterdicke durch Nachweis der Verschiebung der kurzwelligen Durchlässigkeitsgrenze des Halbleiterkörpers gegenüber deren anfänglicher Lage feststellbar ist.
  • Dies erfolgt durch Messung von Intensitätsänderungen der vom Körper bei dieser Dicke durchgelassenen Strahlungskomponenten. Ohne die Filterwirkung des Elektrolyten und die Wellenlängenabhängigkeit der Empfindlichkeit des Strahlungsdetektors würde die durch die Verschiebung der Durchlässigkeitsgrenze hervorgerufene Vergrößerung der gemessenen Signalausgangsgröße nur eine verhältnismäßig kleine prozentuelle Änderung der gemessenen Signalausgangsgröße ausmachen, da dieses Signal auch bei größeren Dicken verhältnismäß groß wäre.
  • Beschränkt man jedoch gemäß der Erfindung die zum Nachweis verwendeten Strahlungskomponenten auf solche mit Wellenlängen in der Nähe der kurzwelligen Durchlässigkeitsgrenze bei der gewünschten Dicke, indem man die Strahlung durch einen Elektrolyten mit geeignetem Durchlässigkeitsband schickt, so wird die gemessene Signalausgangsgröße bis zur Annäherung an die gewünschte Dicke klein bleiben, und die prozentuale Empfindlichlteit der gemessenen Signalausgangsgröße in bezug auf Dickenänderungen im Bereich des gewünschten Dickenweftes wird daher groß sein. Die Erreichung der gewünschten Dicke ist daher einfach und genau nachweisbar, wie sich aus der Kurvendarstellung in Fig. 2 ergibt.
  • Aus Fig. 2 ergibt sich noch ein weiterer Vorteil; da nämlich mit dem Verfahren gemäß der Erfindung eine kontinuierliche und sofortige Anzeige der jeweiligen Dicke des Halbleiterkörpers erzielt wird, sindAbsolutmessungen von Spannung oder Strom und damit kritische Einstellungen und Präzisionsbauteile nicht erforderlich. Das in Fig. 2 dargestellte Ausgangssignal hat eine leicht erkennbare allgemeine Gestalt, so daß man lediglich die Kurve während ihres Entstehens, insbesondere ihre Anstiegsgeschwindigkeit, zu beobachteii braucht, um die Erreichung der geeigneten Dicke festzustellen. So ergibt sich beispielsweise aus Fig. 2 ohne weiteres, daß der zur Beendigung des Ätzens geeignete Zeitpunkt ohne weiteres aus einer bloßen Betrachtung der Kurve festgestellt werden kann, selbst wenn die Gleichspannungskomponente der Signalausgangsgröße, die weitgehend auf elektrischem Rauschen und unkontrollierbaren Störsignalen beruht, sich infolge eines thermischen Gangs in den Parametern der Schaltanordnung, beispielsweise des Detektorverstärkers35, langsam ändern sollte.
  • Obwohl die Erfindung vorstehend in bezug auf eine Ausführungsform beschrieben wurde, bei welcher der ElelEtrolyístrahl ein auf der der Strahlungsquelle benachbarten Seite des Germaniumplättchens liegendes Filter darstellt, so kann doch die gleiche Wirkung mit einem an der gegenüberliegenden Seite des Plättchens angeordneten Elektrolytstrahl erzielt werden, tatsächlich kann die Begrenzung des Bandes der zum Nachweis dienenden Strahlung durch eine oder mehrere Anordnungen bewirkt werden, die irgendwo zwischen der Strahlungsquelle und dem Ausgang der Photozelle 27 einschließlich der Photozelle selbst, die auf Grund der ihr innewohnenden charakteristischen Empfindlichkeitsverteilung selbst ein derartiges Tiefpaßfilter darstellen kann, angeordnet sein können.
  • So können beispielsweise je ein Elektrolytstrahl mit durchlässiger Düse der beschriebenen Art des Plättchens vorgesehen werden, wobei sich die Durchlässigkeitscharakteristik der Gesamtanordnung additiv aus dem Durchlässigkeits- und Filtereigenschaften der beiden Elektrolytstrahlen und Düsen ergibt.
  • Die Erfindung ist vorstehend an Hand eines speziellen Ausführungsbeispiels beschrieben worden, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein. Beispielsweise ist die Erfindung auch in Fällen anwendbar, in welchen der Körper durch Vergrößerung statt durch Verringerung seiner Dicke verändert wird, wie beispielsweise beim Plattieren von Germanium aus der Lösung. In diesem Fall nimmt die Signalausgangsgröße im fraglichen Bereich merklich ab und kann ebenfalls in Dickenwerten geeicht werden. Entsprechend kann man in anderen Fällen die Lage einer langwelligen Durchlässigkeitsgrenze des Materials statt die einer kurzwelligen Durchlässigkeitsgrenze als Anzeige der Dicke heranziehen, wobei in diesem Fall die dem Körper zugeführte Strahlung Komponenten in dem Bereich aufweisen müßte, durch welchen sich die langweilige Durchlässigkeitsgrenze während desDickenänderungsverfahrens bewegt und auch eine gewisse Unterscheidung gegenüber einigen Strahlungskomponenten in diesem Bereich vorgesehen werden müßte. Beispielsweise ist ohne weiteres ersichtlich, daß bei Verwendung eines Körpers 10 mit bekannten und festen Abmessungen das Verfahren und die Anordnung nach Fig. 1 zur Einstellung der Länge des Elektrolytstrahls 15 auf einen geeigneten Wert verwendet werden können, indem man den Schalter 20 öffnet, um eine Ätzung auszuschalten, und die durch Änderung des Abstands der Düse 13 von dem Körper 10 hervorgerufenen Anderungen der Anzeige beobachtet. Diese Änderungen beruhen auf änderungen der Lage der langwelligen Durchlässigkeitsgrenze des Lichtweges im Elektrolytstrahl und liefern daher die gewünschte Anzeige der Länge des Elektrolytstrahls 15.
  • PATENTANSPROCRE: 1. Verfahren zur Bestimmung und Kontrolle der Dicke eines Körpers aus halbleitendem Material bei der Bearbeitung, z. B. bei der formgebenden Bearbeitung eines Halbleiterkörpers für Halbleiteranordnungen, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterkörper an der bezüglich der Dicke zu kontrollierenden Stelle mit einem Wellenlängenband elektromagnetischer Strahlung bestrahlt wird, welches die für eine vorgegebene Dicke des Materials charakteristische spektrale Durchlässigkeitsgrenze einschließt und nach Durchsetzen des Halbleiterkörpers mit einem auf die betreffende Strahlung ansprechenden Strahlungsdetektor analysiert wird.

Claims (1)

  1. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Wellenlängenband der auf den Halbleiterkörper auftreffenden Strahlung etwa mit der spektralen Durchlässigkeitsgrenze für die vorgegebene Dicke des Halbleitermaterials beginnt derart, daß vor Erreichung der vorgegebenen Dicke praktisch keine Strahlung den Halbleiterkörper durchdringt und die Intensität der durchgelassenen Strahlung nach Erreichung der vorgegebenen Materialdicke sich sprunghaft ändert.
    3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die im Durchlässigkeitsbereich jenseits der spektralen Durchlässigkeitsgrenze für die vorgegebene Materialdicke liegenden Wellenlängenkomponenten der Strahlung vor dem Auftreffen auf den Halbleiterkörper ausgefiltert werden.
    4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Dickenmessung bzw. -kontrolle des Halbleiterkörpers kontinuierlich während dessen Bearbeitung erfolgt.
    5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Dickenmessung bzw. -kontrolle während der Materialabtragung an der kontrollierten Stelle des Halbleiterkörpers vorgenommen wird.
    6. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Dickenmessung bzw. -kontrolle während der Materialabtragung im elektrolytischen Ätzverfahren vorgenommen wird, derart, daß die elektromagnetische Strahlung dem Halbleiterkörper durch die als Flüssigkeitsfilter wirkende Elektrolytflüssigkeit hindurch zugeführt wird, welche den im Durchlässigkeitsbereich der Durchlässigkeitscharakteristik vor der Spektraldurchlässigkeitsgrenze für die vorgegebene Dicke liegenden Wellenlängenbereich der Strahlung ausfiltert.
    7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Dickenkontrolle bzw. -messung während der Materialabtragung im elektrolytischen Strahlätzverfahren vorgenommen wird, derart, daß die elektromagnetische Strahlung den Halbleiterkörper durch den elektrolytischen Ätzstrahl koaxial mit diesem zugeführt wird.
    8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Wellenband der elektromagnetischen Strahlung eine kurzwellige Durchlässigkeitskante des Halbleiterkörpers für die betreffende Strahlung bei einer vorgegebenen Dicke enthält.
    9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß aus der Strahlung die auf der langwelligen Seite der kurzwelligen Durchlaßkante für die vorgegebene Dicke liegenden Wellenkomponenten ausgefiltert werden.
    10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Wellenlängenbad im Ultrarotbereich des Spektrums liegt.
    11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, insbesondere nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Bearbeitung des Halbleiterkörpers, beispielsweise die Materialabtragung zur D ickenverringerung, nach Maßgabe der Dickenkontrolle bzw. -messung verlangsamt und/oder abgebrochen wird.
    12. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, insbesondere nach Ansprüchen 6 bis 10, gekennzeichnet durch eine Strahlungsquelle (22) mit optischer Strahlbündelung (24, 25, 26), welche ein Bündel der elektromagnetischen Strahlung durch einen Halbleiterkörper (10) an der zu kontrollierenden Stelle schickt, durch eine auf der gegenüberliegenden Seite des Halbleiterkörpers angeordnete Strahlungsdetektorvorrichtung (27), auf welche die durchgelassene Strahlung auftrifft und welche ein der auftreffenden, durchgelassenen Strahlung proportionales elektrisches Ausgangs signal erzeugt, sowie durch eine Meß- und Anzeigevorrichtung (35, 36) für das Ausgangssignal der Strahlungsdetektorvorrichtung.
    13. Vorrichtung nach Anspruch 12 zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das elektromagnetische Strahlungsbündel durch die Düse (13, 14) und den elektrolytischen Ätzstrahl (15) hindurch koaxial mit diesem auf den Halbleiterkörper (10) gerichtet wird.
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EP0396010A2 (de) * 1989-05-05 1990-11-07 Applied Materials, Inc. Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung der Wachstums- und Ätzgeschwindigkeit von Materialien

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