DE1071790B - Silikonkautschuk-Glimiimer-Isolation - Google Patents

Description

DEUTSCHES

Die Erfindung bezieht sich auf eine Mehrschichtisolation, die im wesentlichen Glimmerblättchen auf einer Silikonkautschukunterlage enthält.'

Es ist bekannt, daß Silikonkautschuk weder mit metallischen noch mit nichtmetallischen Werkstoffen ohne weiteres verklebt werden kann.

Zur Verbesserung der Haftfähigkeit von Silikonkautschuk auf Werkstoffoberflächen hat man deshalb vorgeschlagen, vorher gereinigte Metallflächen oder z. B. Glasoberflächen mit Silikaten vor zubehandeln; jedoch läßt dieses Verfahren noch zu wünschen übrig, da die Haftfähigkeit anscheinend durch aktive Füllstoffe im Silikonkautschuk beeinträchtigt wird.

Nach einem bekannten Verfahren wird als Kleber für Silikonkautschuk, auf Werkstoffoberflächen eine Mischung aus,.Silikonkautschuk mit Silikonharzfüllstoffen und einem Vulkanisationsmittel verwendet. Eine solche Mischung eignet sich nicht als Klebemittel für Glimmer auf Silikonkautschuk. ,.,.

Weiterhin ist es bei einem Verfahren zur Herstellung einer elastischen Wicklungsisolation für elektrische Maschinen großer Leistung unter Verwendung von Glimmer, Glasgewebe und Silikonkautschuk bereits vorgeschlagen worden, zur Leiterisolation Glimmer-Silikonkautschuk-Glasgewebe-Bänder zu verwenden, bei denen der Glimmer zwecks Verbesserung der Haftfestigkeit auf den Silikonelastomeren mit einer Grundierung aus Silanen, insbesondere Halogenalkylsilanen vorbehandelt worden ist.

Demgegenüber wird bei einem Verfahren zur Herstellung von Schichtstoffen aus Glimmer auf Silikonkautschuk für elastische Isolationszwecke erfindungsgemäß der Glimmer mit einer an sich bereits vorgeschlagenen Gi'undierung aus einem mit Härter versehenen Methyl- und/oder Methylphenylsilikonharz vorbehandelt und dann mit dem Silikonkautschuk, der eine Grundierung auf Basis von siliciumorganischen Verbindungen oder Organo-Silikaten oder -Titanaten aufweist, verbunden. Es gelingt damit, Schichtstoffe aus Glimmer mit Silikonkautschuk mit ausreichender Haftfähigkeit des Glimmers auf dem Silikonkautschuk herzustellen.

Es ist auch möglich, den mit Harz vorbehandelten Glimmer mit einem Überzug auf Basis von siliciumorganischen Verbindungen, Organo-Silikaten oder -Titanaten zu versehen und darauf unvulkanisierten Kautschuk aufzubringen und auszuhärten.

In bestimmten Fällen wird es zweckmäßig sein, eine Mehrschichtisolation herzustellen derart, daß der Glimmer auf seiner dem Silikonkautschuk abgewandten Seite noch mit verstärkendem Isoliermaterial, wie z. B. Glasgewebe, kaschiert wird, wobei als Bindemittel Silikonharz Verwendung finden kann. Zur Verbesserung der Abriebfestigkeit einer solchen

Anmelder:

LICENTIA Patent-Verwaltungs - G. m. b. H., Frankfurt/M., Theodor-Stern-Kai 1

Dr. rer. nat. Franz Josef Bollig, Kassel-Niederzwehren,

und Erich Rickling, Kassel,
sind als Erfinder genannt worden

Kaschierung aus Glasseidenbelegung kann diese gleichfalls grundiert und mit einer Dispersion von insbesondere Polyfluorcarbonen imprägniert werden, die bei erhöhter Temperatur zu einer glatten Oberfläche aufgesintert werden können.

Ein solches Mehrschichtisoliermaterial eignet sich insbesondere als flexibles Isoliermaterial, das erhöhten Anforderungen in thermischer, elektrischer und mechanischer Hinsicht, z. B. für Hochspannungszwecke, ausreichend genügt.

Ein Mehrschichtisoliermaterial nach der Erfindung kann beispielsweise zur Herstellung von Nutauskleidüngen in elektrischen Maschinen großer Leistung Verwendung finden. Durch die verbesserte Haftfähigkeit des Glimmers auf dem Silikonkautschuk wird die bekannte Glimmerwanderung in solchen Isolationsschichtstoffen vermieden. Neben der ausreichenden Hochspannungsfestigkeit ermöglicht der Isolierschichtstoff durch seine flexiblen Silikonkautschukwahdungen, z. B. in Form von Nutisolierhülsen, die bei thermischen Wechselbeanspruchungen auftretenden Druckbeanspruchungen einer Nutwicklungsisolation elastisch aufzufangen. Außerdem kann die elastische Kautschukwandung sich den Unebenheiten einer Wicklungsisolation weitgehend hohlraumfrei anpassen.

Die Mehrschichtisolation nach der Erfindung kann

auch als Leiterisolation, z.B. für Nutwicklungen selbst, Verwendung finden.

Als Grundierungsmittel zur Vorbehandlung des Glimmers können die an sich bekannten Methyl- und/oder Methylphenylsilikonharze Verwendung finden, denen Härter, vorzugsweise auf Basis von Eisen- oder Kobaltverbindungen, z. B. organischen Eisenverbindungen auch solche komplexer Art, zugesetzt werden. Das Aufbringen der Grundierung auf die Glimmerblättchen erfolgt in an sich bekannter Weise durch Tauchen, Spritzen oder ähnliche Verfahren.

909 690/423

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Zur Grundierung des Silikonkautschuks zur Verbesserung seiner Haftfähigkeit können Chlorsilane, Äthoxysilane oder ähnliche Verbindungen Verwendung finden, die mit Hydrolysierungsmitteln in Gegenwart von Luftfeuchtigkeit saure oder alkalische .Reaktionsprodukte abgeben. Ferner haben sich¹ als Gruqdierurigsmittel für den Silikonkautschuk Organo-Titanate als geeignet erwiesen.

Als Ausführungsbeispiel nach der Erfindung ist in der Abbildung eine Mehrschichtisolation dargestellt, die eine Silikonkautschukisolation 1 aufweist mit einer Grundierung aus hydrolysierten Silanen2. Mit 3 ist eine ;Grundierung auf Silikonharzbasis auf der Glimmerschicht 4 angedeutet. Zur Verbesserung der Abriebfestigkeit dieser Mehrschichtisolation enthält sie noch einen Überzug 5 auf Basis von Fluorcarbonen. Dieser Fluorcarbonüberzug kann in bekannter Weise durch Aufsintern erfolgen. Die Haftfähigkeit des Fluorcarbonfilmes auf dem Glimmer kann durch eine Grundierung 3 auf Basis von Silikonharz und/oder Silaaverbindungen verbessert werden. An Stelle eines Fluorcarbonüberzuges kann bei geringen Ansprüchen an die Abriebfestigkeit und höheren Ansprüchen an die Reißfestigkeit eine Glasgewebekaschierung erfolgen.

Claims (5)

Patentansprüche:

1. Verfahren zur Herstellung von Schichtstoffen aus Glimmer auf Silikonkautschuk für elektrische Isolationszwecke, dadurch gekennzeichnet, daß der Glimmer mit einer an sich bereits vorgeschlagenen Grundierung aus einem mit Härter versehenen Methyl- und/oder Methylphenylsilikonharz vorbehandelt und dann mit dem Silikonkautschuk, der eine Grundierung auf Basis von siliciumorganischen Verbindungen oder Organo-Silikaten oder -Titanaten aufweist, verbunden wird.

2. Verfahren zur Herstellung von Schichtstoffen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der mit Silikonharz vorbehandelte Glimmer mit einem Überzug auf Basis siliciumorganischer Verbindungen oder Organo-Silikaten oder -Titanaten versehen wird und darauf unvulkanisierter Kautschuk aufgebracht und ausgehärtet wird.

3. Verfahren zur Herstellung eines Glimmer-Silikonkautschuk-Schichtstoffes nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die dem Silikonkautschuk abgewandte Glimmerschichtseite mit einem Überzug aus Fluorcarbonen versehen wird.

4. Verfahren zur Herstellung eines Glimmer-Silikonkautschuk-Schichtstoffes nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß vor dem Aufbringen des Fluorcarbonüberzuges der Glimmer mit einer Grundierung aus Silikonharz und/oder Silanverbindungen versehen wird.

5. Verfahren zur Herstellung eines Glimmer-Silikonkautschuk-Schichtstoffes nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß auf die dem Silikonkautschuk abgewandte Glimmerschichtseite ein Glasgewebe als Trägermaterial aufgebracht wird.

In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 901708;
deutsche Auslegeschrift Nr. 1 044 250.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

© 909 690/423 12.59