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Die
Erfindung betrifft eine Anordnung zur Eliminierung von Falschlicht
bei der Anwendung von Weitfeldoptiken zur Abbildung von heterogen
reflektierenden oder lumineszieren- den, insbesondere fluoreszierenden,
Objekten auf einen ortsauflösenden Detektor
für Strahlung
nach der Patentanmeldung
P 103
30 716.8 .
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Solche
Objekte können
auch Biochips sein, welche auf photo- lithographischem Wege oder
mittels eines Spotters hergestellt wurden, oder Materialoberflächen. Ein
weiteres Anwendungsgebiet ist u. a. die quantitative Fluoreszenzmikroskopie.
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Bei
der Verwendung von Weitfeldoptiken zur Abbildung von heterogen leuchtenden
Flächen,
bzw. flächenhaften
Objekten, auf einen ortsauflösenden Detektor,
beispielsweise eine CCD-Kamera, ergibt sich stets das Problem des
Vorhandenseins von „Falschlicht", welches die Abbildung
des Objektes negativ beeinträchtigt.
So wird unter Falschlicht hier jegliches Licht verstanden, das den
Kontrast der detektierten Intensitätsverteilung verringert oder
verfälscht.
Falschlicht entsteht beispielsweise durch Reflexionen und Streulicht
an Oberflächen,
in Gläsern
z. B. Lufteinschlüsse,
durch Eigenfluoreszenz der verwendeten Gläser, an Fassungen oder bei
Fluoreszenzmessungen durch nicht unterdrücktes Anregungslicht. Weiterhin
kann Falschlicht auch aus außerhalb
der Fokusebene liegenden Bereichen des Objektes oder der Probe kommen,
beispielsweise von der Rückseite
eines Objektträgers.
Problematisch wird das Falschlicht insbesondere dann, wenn die Helligkeitsverteilung
der Probe stark heterogen ist und ein hohes Kontrastverhältnis bei
der Detektion verlangt wird.
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Bei
einem Objekt mit minimalem Kontrast setzt sich beispielsweise die
helle Fläche
aus einer Vielzahl gleichartig fluoreszierender Kügelchen
mit einem scharf definierten Durchmesser zusammen. Somit sollte
im Idealfall dort, wo sich die Kügelchen befinden
maximale Helligkeit vorhanden sein. In den übrigen Bereichen sollte eine
vollkommene Dunkelheit herrschen. Tatsächlich ist jedoch auch dort,
wo es dunkel sein sollte, eine gewisse Resthelligkeit vorhanden,
d. h. ein inhomogener Untergrund, dessen Ursache in dem oben genannten
Falschlicht liegt. Wäre
dieser Untergrund homogen über
das Bild verteilt, könnte
er als „offset" betrachtet werden
und in einfacher Weise von allen Pixelwerten des Detektors subtrahiert
werden. Ein solcher idealer Fall ist jedoch in der Praxis kaum vorhanden,
und demzufolge ist diese Vorgehensweise generell nicht anwendbar.
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Bei
photometrischen Messungen, speziell bei Biochip-Anwendungen und quantitativer Fluoreszenzmikroskopie
im Allgemeinen, wird die nutzbare Intensitätsdynamik, welche das Verhältnis von
größtem zu
kleinstem detektierbaren Intensitätswert beinhaltet, durch den
inhomogenen Untergrund stark eingeschränkt, da bei einer unbekannten
Fluorophor-Verteilung
das Nutzlicht vom Falschlicht nicht unterschieden werden kann. Dieses
ist insbesondere dann problematisch, wenn keine oder kaum Referenzflächen zur
Verfügung
stehen, an denen lokal der Untergrund bestimmt werden kann, also
z. B. bei hochdichten Biochips, welche photolithographisch hergestellt
wurden.
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So
umfaßt
gemäß dem Gegenstand
der Patentanmeldung
P 103 30
716.8 eine Anordnung zur Durchführung eines Verfahrens zur
Eliminierung von Falschlicht bei der Abbildung von heterogenen, leuchtenden
oder beleuchteten, flächenhaften
Objekten eine Strahlungsquelle mit nachgeordneter, die Strahlung
homogenisierender Beleuchtungsoptik zur homogenen Ausleuchtung einer
nachgeordneten Feldblendenebene, in welcher eine strukturierte Feldblende
zur Erzeugung einer dem Objekt oder der Probe überlagerten Beleuchtungsstruktur
angeordnet ist. Diese Beleuchtungsstruktur wird durch erste optische
Mittel auf die Probe abgebildet, wobei diese ersten optischen Mittel
einen Beleuchtungstubus, gegebenenfalls einen Farbteiler und ein
Objektiv umfassen können.
Es sind ferner zweite optische Mittel zur Abbildung der Probe zusammen
mit der überlagerten
Beleuchtungsstruktur auf einen ortsauflö- senden Detektor, insbesondere
für optische
Strahlung, vorgesehen. Die Anordnung enthält ferner Einstellmittel, mit
denen die Beleuchtungsstruktur in der Objektebene auf dem Objekt
oder der Probe definiert positionierbar ist. Der Detektor ist mit
einer Auswerteeinheit zur Ermittlung und Eliminierung des Falschlichtes
verbunden.
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Die
bei dieser Anordnung vorgesehene strukturierte Hellfeldbeleuchtung,
bei welcher die Objektbeleuchtung und die Abbildung des Objektes
zusammen mit der aufbelichteten Feldblendenstruktur durch ein einziges
Objektiv erfolgen, kann durch das Anregungslicht im Objektiv Falschlicht,
insbesondere durch Eigenfluoreszenz der verwendeten Gläser, erzeugt
werden. Weiterhin wird die Rückseite,
z. B. eines Biochips, nahezu mit der gleichen Anregungsintensität bestrahlt
wie die Fokusebene. Daher kann auch die durch die Kontamination
der Rückseite
bedingte Fluoreszenzintensität
entsprechend hoch sein und zu Meßfehlern Anlaß geben.
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Der
Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, bei einer Anordnung mit einer
Weitfeldoptik zur Abbildung flacher Objekte und Proben, bei denen
die gesuchte Information innerhalb der Tiefenschärfe des verwendeten Objektivs
liegt, den Einfluß von Falschlicht
jeglicher Art auf Messungen und Beobachtungen zu eliminieren und
den Intensitäts-Dynamikbereich
derartiger Anordnungen zu erweitern.
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Erfindungsgemäß wird diese
Aufgabe mit einer gemäß dem Anspruch
7 der Patentanmeldung
P 103
30 716.8 ausgebildeten Anordnung dadurch gelöst, daß die ersten
optischen Mittel zur Abbildung der strukturierten Feldblende auf
die Probe als eine Einheit nach Art einer Einrichtung zur Dunkelfeldbeleuchtung
ausgebildet sind.
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Dabei
ist es vorteilhaft, wenn die besagte Einheit als ein Beleuchtungsobjektiv
mit kleiner Apertur ausgebildet ist, um einen großen Tiefenschärfebereich
zu erhalten, wobei die optische Achse des Beleuchtungsobjektivs
und die durch die zweiten optischen Mittel definierte optische Achse
einen Winkel einschließen,
wobei dieser Winkel bei > 50° liegen soll,
um die Strahlungsintensität
auf der Unterseite von transparenten Proben zu minimieren.
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Ferner
ergibt sich eine vorteilhafte Anordnung, wenn die Einheit eine an
sich bekannte Scheimpflugoptik ist. In diesem Fall kann eine größere numerische
Apertur für
die Dunkelfeldbeleuchtung verwendet werden, da die Fokusebene der
Beleuchtung an die Oberseite der Probe angepaßt werden kann. In analoger
Weise kann auch die Abbildungsoptik als Scheimpflugoptik ausgeführt sein.
In diesem Fall steht die optische Achse des Beleuchtungsobjektivs
senkrecht zur Oberfläche
der Probe, während die
optische Achse des Abbildungsobjektivs unter einem Winkel α zur optischen
Achse des Beleuchtungsobjektivs steht.
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Die
Erfindung soll nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden.
In der zugehörigen
Zeichnung ist vereinfacht der optische Gesamtaufbau der erfindungsgemäßen Anordnung dargestellt.
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Die
Zeichnung zeigt vereinfacht den optischen Gesamtaufbau der erfindungsgemäßen Anordnung,
mit dem eine scharfe Ab- bildung einer strukturierten Feldblende
mittels Dunkelfeldbeleuchtung auf ein Objekt oder eine Probe realisiert
werden kann.
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Die
Anordnung zur Durchführung
des Verfahrens zur Eliminierung von Falschlicht bei der Anwendung
von Weitfeldoptiken zur Abbildung heterogener beleuchteter Objekte
nach 1 umfaßt
eine Licht- oder Strahlungsquelle 1, der beispielsweise
ein Verschluß 3 und
vorteilhaft, den Strahlengang homogenisierende optische Elemente 4,
wie z. B. ein Lichtleitstab oder ein innen verspiegelter Glashohlstab, und
Beleuchtungsoptiken 5 und 6 zur homogenen Ausleuchtung
einer in der Feldblendenebene 7 im Strahlengang angeordneten,
strukturierten Feldblende 8 nachgeordnet sind. Diese Feldblende 8 ist
im Strahlengang in den beiden Koordinaten der Feldblendenebene 7 definiert
positionierbar angeordnet. Sie kann also in dieser Ebene 7 verschoben
werden. Durch der Feldblende 8 nachgeordnete, erste optische
Mittel, wie z. B. ein Beleuchtungstubus 9, einen Ablenkspiegel 10,
Anregungsfilter 2, und ein Objektiv 18, wird die
strukturierte Feldblende 8 in Dunkelfeldbeleuchtung auf
das zu untersuchende oder zu messende Objekt oder die Probe 12 abgebildet.
Die ersten optischen Mittel bilden insgesamt eine an sich bekannte
Scheimpflugoptik, deren optische Achse unter einem Winkel α zur senkrecht
zur Oberfläche
der Probe 12 verlaufenden optischen Achse zweiter optischer
Mittel angeordnet ist. Vorteilhaft ist der Winkel α > 50°. Durch diese zweiten optischen
Mittel, die beispielsweise ein Objektiv 11, Emissionsfilter 16 sowie einen
Abbildungstubus 13 umfassen, wird die Probe 12 kontrastreich
zusammen mit der ihr überlagerten Beleuchtungsstruktur
auf einen ortsauflösenden
Detektor 14 für
optische Strahlung abgebildet. Dieser Detektor 14 umfaßt eine
Matrix aus CCD- oder CMOS-Elementen
und kann Bestandteil einer CCD-Kamera sein. Der Detektor 14 ist
mit einer Auswerteeinheit 15 verbunden, durch welche die
Meßergebnisse
erstellt werden und die Ermittlung bzw. Eliminierung des Falschlichtes
bei der Abbildung der Probe 12 erfolgt.
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In
analoger Weise können
jedoch auch die eine Abbildungsoptik bildenden zweiten optischen Mittel
als eine Scheimpflugoptik ausgebildet sein. In diesem Fall steht
die optische Achse der ersten Mittel (Abbildungsobjektiv 18)
senkrecht auf der Oberfläche der
Probe 12. Mit dieser optischen Achse bildet dann die optische
Achse der zweiten Mittel (Objektiv 11) den Winkel α.
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- 1
- Strahlungsquelle
- 2
- Anregungsfilter
- 3
- Verschluß
- 4
- homogenisierendes
optisches Element
- 5,
6
- Beleuchtungsoptik
- 7
- Feldblendenebene
- 8
- Feldblende
- 9
- Beleuchtungstubus
- 10
- Ablenkspiegel
- 11
- Abbildungobjektiv
- 12
- Probe
- 13
- Abbildungstubus
- 14
- Detektor
- 15
- Auswerteeinheit
- 16
- Emissionsfilter
- 18
- Abbildungsobjektiv