DE10316661A1 - Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver - Google Patents

Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver Download PDF

Info

Publication number
DE10316661A1
DE10316661A1 DE10316661A DE10316661A DE10316661A1 DE 10316661 A1 DE10316661 A1 DE 10316661A1 DE 10316661 A DE10316661 A DE 10316661A DE 10316661 A DE10316661 A DE 10316661A DE 10316661 A1 DE10316661 A1 DE 10316661A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
carbon atoms
aqueous dispersion
radical
silicon dioxide
dioxide powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE10316661A
Other languages
English (en)
Inventor
Wolfgang Dr. Lortz
Christoph Dr. Batz-Sohn
Gabriele Perlet
Werner Will
Kathrin Lehmann
Angela Rüttgerodt
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Degussa GmbH filed Critical Degussa GmbH
Priority to DE10316661A priority Critical patent/DE10316661A1/de
Priority to EP04723557A priority patent/EP1625096A1/de
Priority to CNB2004800096761A priority patent/CN100360401C/zh
Priority to US10/546,061 priority patent/US7645335B2/en
Priority to KR1020057019212A priority patent/KR20060002965A/ko
Priority to PCT/EP2004/003209 priority patent/WO2004089825A1/en
Publication of DE10316661A1 publication Critical patent/DE10316661A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/26Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers and other compounds
    • C08G65/2603Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers and other compounds the other compounds containing oxygen
    • C08G65/2615Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers and other compounds the other compounds containing oxygen the other compounds containing carboxylic acid, ester or anhydride groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/141Preparation of hydrosols or aqueous dispersions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/141Preparation of hydrosols or aqueous dispersions
    • C01B33/1415Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by suspending finely divided silica in water
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/331Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen
    • C08G65/332Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof
    • C08G65/3322Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof acyclic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L71/02Polyalkylene oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28Compounds of silicon
    • C09C1/30Silicic acid
    • C09C1/3072Treatment with macro-molecular organic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/22Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80Compositional purity
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/90Other properties not specified above

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

Wässerige Dispersion, welche hydrophobiertes Siliciumdioxidpulver mit einem Gehalt zwischen 5 und 50 Gew.-% enthält und die mindestens eine Verbindung der allgemeinen Formel R·1·-COO-(CH¶2¶-CH(Ph)-O)¶a¶ - (C¶n¶H¶2n-x¶R·2·¶x¶-O)¶b¶-R·3· (I) enthält. Sie wird hergestellt, indem das hydrophobe Siliciumdioxidpulver, Dispergiermittel und gegebenenfalls pH-Wert regulierende Substanzen und weitere Additive in einem wässerigen Medium dispergiert werden. Sie kann als Zusatz zu Hydrofüllern in der Automobilindustrie, als Beschichtungsbestandteil in Can- und Coil-coating-Verfahren, als Additiv in wasserbasierenden UV-härtbaren Formulierungen z. B. für den Holzschutz und als Bestandteil von Lackschutzfolien eingesetzt werden.

Description

  • Gegenstand der Erfindung ist eine wässerige Dispersion, welche hydrophobiertes Siliciumdioxidpulver und ein Dispergierhilfsmittel enthält, deren Herstellung und Verwendung.
  • Wichtige Punkte bei der Herstellung von Dispersionen sind:
    • a) eine gute Benetzung der Füllstoffe und Pigmente während der Einarbeitung. Dadurch können die Dispergierzeiten und der Eintrag an Dispergierenergie reduziert werden;
    • b) oftmals ist eine möglichst geringe Viskosität der Dispersionen erwünscht;
    • c) nach Abtrocknung soll ein hoher Glanzgrad erzielt werden;
    • d) die Absetzneigung der festen Phase der Dispersion soll minimal sein, auch bei Langzeitlagerung, Transport über große Entfernungen und bei extremer klimatischer Belastung;
    • e) es soll keine Flokkulation in der Dispersion auftreten. Dies ist von besonderer Bedeutung bei der Herstellung reproduzierbarer Farbtöne bei Verwendung von heute üblichen Farbmischmaschinen;
    • f) die Dispersion soll mit einer Vielzahl von Additiven verträglich sein.
  • Um diesen Punkten gerecht zu werden, werden in der Regel Dispergiermittel der Dispersion zugesetzt. Dazu wurden bereits eine Vielzahl von wasserlöslichen Dispergiermitteln vorgeschlagen. Beispielsweise Dispergiermittel auf Basis preiswerter, ionischer Strukturen, wie Polyphosphate (Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Sixth Edition, Point 3.2.6., 2002; Th. Staffel, Farbe & Lack 100, 1994) und Polyacrylsäuren (WO-A-02/14415, WO-A-01/60925, J. Schröder, Farbe & Lack 91, 1985, 11; R. Hildred, Farbe & Lack, 1990, 857-859) oder amphiphilen Strukturen, das heißt mit definierten hydrophoben und hydrophilen Blöcken, auf Basis von nichtionischen Fettalkohol- oder Alkylphenolethoxylaten bzw. deren anionisch modifizierten Derivaten.
  • Dennoch ist es bislang nicht gelungen hochgefüllte, niedrigviskose, stabile Dispersionen von hydrophobem, pyrogen erzeugtem Siliciumdioxidpulver herzustellen, welche keine ausgeprägte Strukturviskosität oder Thixotropie zeigen. Hochgefüllte Dispersionen sind erwünscht, weil dadurch die Transportkosten gesenkt werden können und weil bei der Einarbeitung in hochgefüllte Lackdispersionen, diese nicht wieder mit stark wasserhaltigen Produkten verdünnt werden sollen.
  • Aufgabe der Erfindung ist es daher, eine Dispersion mit einem hohen Anteil an hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver bereitzustellen, die keine ausgeprägte Strukturviskosität oder Thixotropie zeigt und eine hohe Stabilität aufweist.
  • Die Aufgabe wird gelöst durch eine wässerige Dispersion, welche dadurch gekennzeichnet ist, dass der Gehalt an hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver zwischen 5 und 50 Gew.-% liegt und die Dispersion mindestens eine Verbindung der allgemeinen Formel R1-COO-(CH2-CH(Ph)-O)a-(CnH2n-xR2 x-O)b-R3 (I) enthält,wobei
    R1 Wasserstoff,
    eine lineare oder verzweigte, gesättigte oder ungesättigte Alkylkette mit 1 und bis 29 Kohlenstoffatomen,
    ein Phenylrest, ein alkylsubstituierter Phenylrest mit bis zu zehn Kohlenstoffatomen im Alkylrest, ist,
    R2 Alkylrest mit 1 bis 5 C-Atomen, ist
    R3 Wasserstoff,
    eine Alkylkette mit 1 und bis 18 Kohlenstoffatomen,
    ein Benzylrest,
    ein alkylsubstituierter Benzylrest mit bis zu vier Kohlenstoffatomen im Alkylrest,
    eine C(O)R5-Gruppe mit einem Rest R5, der eine Alkylkette mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen aufweist,
    eine -C(O)NHR6-Gruppe mit einem Rest R6, der ein Wasserstoffatom oder eine Alkylkette mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen aufweist,
    -C(O)OR7, der eine Alkylkette R7 mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen,
    Ph ein Phenylderivat mit der allgemeinen Formel -(C6H5-yR4 y)- ist, worin R4 ein Hydroxyrest, ein Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen oder ein Alkoxyrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen ist, und y eine Zahl von 0 bis 5,
    a 0 bis 5, b 10 bis 150, n 2 bis 4, x 0 oder 1 ist.
  • Vorzugsweise kann x 0 sein. Im Falle, daß x gleich 1 ist, ist R2 bevorzugt -CH3, R3 Wasserstoff, a 0–2, b 50–120, n 2 sein.
  • Beispielsweise kann
    • 1. R1 = C12H25, Ph = C6H5, a = 1, n = 2, x = 0, b = 80, R3 = CH3, oder
    • 2. R1 = C18H37, a = 0, n = 2, x = 0, b = 100, R3 = H, oder
    • 3. R1 = C18H37, a = 0, n = 2, x = 1, R2 = CH3, b = 10, R3 = H, R1 = C18H37, a = 0, n = 2, x = 0, b = 90, R3 = H (als Gemisch) sein.
  • Der Gehalt der Verbindungen der allgemeinen Formel I ist nicht limitiert. Bevorzugt kann er zwischen 0,5 und 50 Gew.-%, bezogen auf die Dispersion, liegen, wobei der Bereich zwischen 2 und 10 Gew.-% besonders bevorzugt sein kann.
  • Der Gehalt an hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver in der erfindungsgemäßen, wässerigen Dispersion liegt zwischen 5 und 50 Gew.-%, bezogen auf die Dispersion, wobei der Bereich zwischen 10 und 30 Gew.-% bevorzugt ist.
  • Bevorzugterweise kann das hydrophobierte Siliciumdioxidpulver ein solches sein, das durch Hydrophobierung eines pyrogen hergestellten Siliciumdioxidpulvers erhalten wird. Unter pyrogen sind durch Flammhydrolyse oder Flammoxidation hergestellte Pulver zu verstehen. Pyrogenes Siliciumdioxidpulver ist beispielsweise in Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Vol. A23, Seite 635, 5. Auflage beschrieben. Diese Pulver weisen auf ihrer Oberfläche reaktive Zentren auf, die mit einem Hydrophobierungsmittel reagieren können. Besonders geeignet für die erfindungsgemäße, wässerige Dispersion können Aerosil®R7200 ( Hydrophobierungsmittel 2-Propensäure, 2-Methyl-, 3-(Trimethoxysilyl)propylester, spezifische Oberfläche ca. 150 m2/g), Aerosil®R8200 (Silanamin,1,1,1-Trimethyl-N-(trimethylsilyl)-, ca. 150 m2/g), Aerosil®R816 (Silan, Hexadecyltrimethoxy-, ca. 200 m2/g), Aerosil®R972 (Silan, Dichordimethyl-, ca. 100 m2/g), Aerosil®R974 (Silan, Dichordimethyl-, ca. 170 m2/g), Aerosil®R202 (Silicone und Siloxane, dimethyl-, ca. 100 m2/g), Aerosil®R104 (Octamethylcyclotetrasiloxan, ca. 150 m2/g), Aerosil®R106 (Octamethylcyclotetrasiloxan, ca. 250 m2/g), Aerosil®R805 (Octylsilan, ca. 150 m2/g), Aerosil®R812 und R812S (Hexamethyldisilazan, ca. 260 m2/g) sein. Ganz besonders bevorzugt kann Aerosil®R972 sein (alle Degussa AG).
  • Die erfindungsgemäße, wässerige Dispersion kann zusätzlich einen oder mehrere Entschäumer enthalten. Dies können Entschäumer auf Mineralölbasis sein oder Siloxanpolyetherderivate oder auch mit hydrophoben Feststoffen gefüllte organische Polymere sein. Letztgenannte können bevorzugt aus dem Bereich der Polyoxyalkylene stammen. Besonders bevorzugt können organische Polymere oder ein Polyethersiloxancopolymer, welche jeweils mit Kieselsäure gefüllt sind, sein. Solche Kieselsäuren sind ausführlich in der Nummer 42 „Synthetische Kieselsäuren für Entschäumer" der Schriftenreihe Pigmente der Degussa AG erläutert. Beispielsweise können SIPERNAT D 10, SIPERNAT D 17, ACEMATT TS 100, AEROSIL 200, AEROSIL R 972, alle Degussa AG eingesetzt werden. Die erfindungsgemäße, wässerige Dispersion kann bevorzugt 0,1 bis 3,0 Gew.-%, bezogen auf die Dispersion, Entschäumer enthalten. Besonders bevorzugte Entschäumer sind solche beschrieben in DE-A-3807247, EP-A-777010 und US 6433028 .
  • Die erfindungsgemäße, wässerige Dispersion kann ferner mindestens eine pH-Wert regulierende Substanz enthalten. In der Regel kann durch den pH-Wert auch die Viskosität der erfindungsgemäßen, wässerigen Dispersion verändert werden. Die pH-Wert regulierende Substanzen können Säuren, Basen oder Puffersysteme sein. Besonders bevorzugt sind basisch wirkende Substanzen wie beispielsweise Ammoniak, Ammoniumhydroxid, Alkali- und Erdalkalihydroxide, Amine und Aminoalkohole. Besonders bevorzugt können Diethanolamin, Butyldiethanolamin oder Triethanolamin, 2-Amino-2-methyl-1-propanol oder 2-Amino-2-ethyl-1,3-propandiol sein.
  • Darüber hinaus können auch Alkylbenzolsulfonate, phosphorylierte, sulfatierte oder sulfonierte Polyoxyalkylene, Polyphosphate oder Polyacrylsäuren in der erfindungsgemäßen, wässerigen Dispersion enthalten sein. Dies kann vorteilhaft sein, wenn die erfindungsgemäße, wässerige Dispersion anionisch modifizierte Dispergiermittel enthält.
  • Die erfindungsgemäße, wässerige Dispersion kann weitere Dispergiermittel enthalten. Besonders bevorzugt können dies Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymere sein, die Aminoxidgruppen enthalten. Solche Copolymere sind in EP-A-1026178 beschrieben. Dies kann die Stabilität der erfindungsgemäßen, wässerigen Dispersion erhöhen.
  • Die erfindungsgemäße, wässerige Dispersion kann mindestens ein dem Fachmann bekanntes Additiv aus der Gruppe umfassend Biozide, Antiabsetzmittel, Neutralisationsmittel, Verdicker, Feuchthaltemittel, Stabilisatoren, Sikkative, Lichtschutzmittel, organische Lösemittel enthalten.
  • Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen, wässerigen Dispersion, welches dadurch gekennzeichnet ist, dass das hydrophobe Siliciumdioxidpulver, das Dispergiermittel der allgemeinen Formel I und gegebenenfalls pH-Wert regulierende Substanzen und weitere Additive in einem wässerigen Medium mittels einer Dispergiervorrichtung dispergiert werden.
  • Das Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen, wässerigen Dispersion kann so ausgeführt werden, dass das Dispergiermittel, in fester Form oder als wässerige Lösung zugefügt wird. Bevorzugt kann es als wässerige Lösung zugegeben werden.
  • Es kann auch so ausgeführt werden, dass das hydrophobe Siliciumdioxidpulver auf einmal oder portionsweise zu einer wässerigen Lösung des Dispergiermittels der allgemeinen Formel I gegeben wird.
  • Weiterhin ist es möglich das hydrophobe Siliciumdioxidpulver und das Dispergiermittel der allgemeinen Formel I gleichzeitig, portionsweise oder kontinuierlich, in die flüssige Dispersionsphase eingetragen werden.
  • Entschäumer, pH-Wert regulierende Verbindungen und weitere Additive können vor, während oder nach der Dispergierung in Substanz oder in Lösung zugesetzt werden.
  • Als Dispergiervorrichtung eignet sich jede Vorrichtung, die in der Lage ist eine intensive Benetzung des hydrophoben Pulvers mit der wässerigen Phase zu ermöglichen. In der Lackindustrie werden hierzu gerne Dissolver verwendet, deren relativ einfacher Aufbau eine wartungsarme und leicht zu reinigende Produktionsweise ermöglicht. Je nach geforderter Viskosität oder auch Füllgrad der zu erzeugenden wässrigen Dispersion hydrophober pyrogener Kieselsäure ist jedoch noch ein intensives Dispergieren oder Nachvermahlen notwendig. Das Nachvermahlen kann beispielsweise in Rührwerkskugelmühlen erfolgen. Vielfach reicht jedoch eine intensive Scherung mit Hilfe von Rotor/Stator-Maschinen aus. Ein zweckdienliche Kombination aus Benetzung- und Dispergiermöglichkeit stellen die Rotor/Stator-Maschinen der Firma Ystral, die es ermöglichen, das Pulver einzusaugen und nach dem Schließen der Pulver-Einsaugöffnung intensiv scherend zu dispergieren.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren kann vorteilhafterweise so ausgeführt werden, dass die wässerige Dispersion von Luft, anhaftender wie auch eindispergierter, befreit wird. Dies kann durch Verwendung von Vakuum, beispielsweise durch evakuierbare Dispergiervorrichtungen oder mit dem Vakuum-Entlüfter DA/DA-VS der Firma Netzsch Feinmahltechnik GmbH erfolgen. Hierzu kann beispielsweise das System PSI-Mix, ein Inline-Misch- und Dispergiersystem der Firma Netzsch Feinmahltechnik GmbH eingesetzt werden. Ferner kann das hydrophobe Siliciumdioxidpulver bereits vor der Dispergierung entlüftet werden. Besonders vorteilhaft kann die Zugabe von Entschäumern sein.
  • Es kann von Vorteil sein, das erfindungsgemäße Verfahren so auszuführen, dass die Dispersion eine Temperatur von 50°C nicht übersteigt. Dies kann durch Kühlung des Ansetzbehälters mittels eines Wärmetauschers erfolgen.
  • Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist die Verwendung der erfindungsgemäßen, wässerigen Dispersion als Zusatz zu Hydrofüllern in der Automobilindustrie, als Beschichtungsbestandteil in Can- und Coil-coating-Verfahren und als Bestandteil von Lackschutzfolien.
  • Bestimmung der Viskosität der Dispersionen: Die Viskosität der erzeugten Dispersionen wurde mit einem Rotations-Rheometer der Firma Physica Model 300 und dem Meßbecher CC 27 bei 25°C ermittelt. Der Viskositätswert wurde bei einer Schergeschwindigkeit von 10 s–1 und 100 s–1 ermittelt. Diese Schergeschwindigkeit liegt in einem Bereich, in dem die Viskosität der erzeugten Dispersionen praktisch unabhängig von der Scherbeanspruchung ist.
  • Bestimmung der in der Dispersion vorliegeaden Partikelgröße: Die in der Dispersion vorliegende Partikelgröße wird mittels dynamischer Lichtstreuung bestimmt. Verwendet wird das Gerät Zetasizer 3000 HSa (Malvern Instruments, UK). Angegeben wird der Median-Wert der Volumenverteilung d50(V).
  • Dispergiervorrichtnagen: Als Dispergiervorrichtungen wurden zum Beispiel ein Dissolver vom Typ Dispermat AE-3M, Fa. VMA-GETZMANN mit einem Dissolverscheibendurchmesser von 80 mm und ein Rotor/Stator-Dispergieraggregat vom Typ Ultra-Turrax T 50 der Firma IKA-WERKE mit den Dispergierwerkzeugen S50N–G45G verwendet. Bei Verwendung des Rotor-Stator-Gerätes wird der Ansatzbehälter auf Raumtemperatur gekühlt.
  • Der 55 kg-Ansatz wurde mit einer Rotor-/Stator-Maschinen Typ Conti-TDS 3 der Firma Ystral gefertigt. Es kam ein 4 mm Statorschlitz-Kranz und 1 mm Statorschlitz-Kranz zum Einsatz. Die Enddispergierung wurde bei 3000 U/min durchgeführt.
  • Beispiel 1: 100 g Aerosil® R 972 werden mittels eines Dissolvers bei einer Einstellung von ca. 2500 U/min portionsweise in 192,5 g VE-Wasser, 88 g eine Gemisches des Dispergiermittels R1-COO-(CH2-CH(Ph)-O)a-(CnH2n-xR2 x-O)b-R3 mit R1 = C18H3 7, a = 0, n = 2, x = 0, b = 100, R3 = H und des Aminoxid enthaltenden Maleinsäureanhydrid-Copoylmeren aus Beispiel 1, EP-A-1026178 als Dispergieradditiv, in einem Mischungsverhältnis von 85 : 15, als 40 prozentige Lösung in Wasser und 7,5 g Tego Foamex 810, Degussa AG eingearbeitet. Dabei wird mit insgesamt 1,79 g 90 prozentiger 2-Amino-2-Methyl-1-Propanol-Lösung der pH-Wert bei 10 gehalten. Nach Zugabe der restlichen 110,21 g voll entsalztes Wasser wird mit 3000 U/min für 15 Minuten weiter homogenisiert. Die eigentliche Dispergierung erfolgt anschließend mit Hilfe eines Ultra Turrax bei 7000 U/min für 30 Minuten.
  • d50(V) beträgt 193 nm, die Viskosität bei 10 s–1 310 mPas, bei 100 s–1 275 mPas. Die Dispersion zeigt nach 30 Tagen keinerlei Auftrennung oder Sedimentation.
  • Beispiel 2: In einem 60 l Edelstahl-Ansatzbehälter werden 31,6 kg VE-Wasser, 10,0 kg des Dispergiermittels R1-COO-(CH2-CH(Ph)-O)a-(CnH2n-xR2 x-O)b-R3 mit R1 = C18H37 , a = 0 , n = 2, x = 0, b = 100, R3 = H als 40 prozentige Lösung in Wasser und 1,4 kg Tego Foamex 830, Degussa AG vorgelegt. Anschließend werden mit Hilfe des Saugrüssels der Ystral Conti-TDS 3 (Statorschlitze: 4 mm Kranz und 1 mm Kranz) unter Scherbedingungen 11,0 kg AEROSIL® R 972 eingezogen. Während des Eindispergierens des AEROSIL® R 972 wird der pH-Wert mit 90 prozentiger 2-Amino-2-Methyl-1-Propanol-Lösung auf pH 10 gehalten. Nach Beendigung des Einziehens wird der Einsaugstutzen geschlossen und die Dispersion noch bei 3000 U/min 10 min lang nachgeschert. Hierbei wird der pH-Wert durch weitere Zugabe von 90 prozentiger 2-Amino-2-Methyl-1-Propanol-Lösung bei 10 gehalten. Insgesamt werden 0,21 kg verwendet. Mit weiteren 0,8 kg VE-Wasser wird die Konzentration auf 20% eingestellt. Während des Dispergiervorganges wird die Temperatur durch einen Wärmetauscher auf maximal 40°C begrenzt.
  • d50(V) beträgt 179 nm, die Viskosität bei 10 s–1 285 mPas, bei 100 s–1 240 mPas. Die Dispersion zeigt nach 30 Tagen keinerlei Auftrennung oder Sedimentation.

Claims (13)

  1. Wässerige Dispersion enthaltend hydrophobiertes Siliciumdioxidpulver, dadurch gekennzeichnet, dass der Gehalt an hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver zwischen 5 und 50 Gew.-% liegt und die Dispersion mindestens eine Verbindung der allgemeinen Formel R1-COO-(CH2-CH(Ph)-O)a-(CnH2n-xR2 x-O)b-R3 (I) enthält,wobei R1 Wasserstoff, eine lineare oder verzweigte, gesättigte oder ungesättigte Alkylkette mit 1 und bis 29 Kohlenstoffatomen, ein Phenylrest, ein alkylsubstituierter Phenylrest mit bis zu zehn Kohlenstoffatomen im Alkylrest, ist, R2 Alkylrest mit 1 bis 5 C-Atomen, ist R3 Wasserstoff, eine Alkylkette mit 1 und bis 18 Kohlenstoffatomen, ein Benzylrest, ein alkylsubstituierter Benzylrest mit bis zu vier Kohlenstoffatomen im Alkylrest, eine C(O)R5-Gruppe mit einem Rest R5, der eine Alkylkette mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen aufweist, eine -C(O)NHR6-Gruppe mit einem Rest R6, der ein Wasserstoffatom oder eine Alkylkette mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen aufweist, -C(O)OR7, der eine Alkylkette R7 mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen, Ph ein Phenylderivat mit der allgemeinen Formel -(C6H5-yR4 y)- ist, worin R4 ein Hydroxyrest, ein Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen oder ein Alkoxyrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen ist, und y eine Zahl von 0 bis 5 ist, a 0 bis 5, b 10 bis 150, n 2 bis 4, x 0 oder 1 ist.
  2. Wässerige Dispersion nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Anteil der Verbindung der allgemeinen Formel I zwischen 0,5 und 50 Gew.-%, bezogen auf die Dispersion, liegt.
  3. Wässerige Dispersion nach den Ansprüchen 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Anteil an hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver zwischen 10 und 30 Gew.-%, bezogen auf die Dispersion, liegt.
  4. Wässerige Dispersion nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das hydrophobierte Siliciumdioxidpulver durch Hydrophobierung eines pyrogen hergestellten Siliciumdioxidpulvers erhalten wird.
  5. Wässerige Dispersion nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass sie zusätzlich einen oder mehrere Entschäumer enthält.
  6. Wässerige Dispersion nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass sie mindestens eine pH-Wert regulierende Substanz enthält.
  7. Wässerige Dispersion nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass sie weitere Dispergiermittel enthält.
  8. Wässerige Dispersion nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass sie mindestens ein Additiv aus der Gruppe umfassend Biozide, Antiabsetzmittel, Neutralisationsmittel, Verdicker, Feuchthaltemittel, Stabilisatoren, Sikkative, Lichtschutzmittel, organische Lösemittel enthält.
  9. Verfahren zur Herstellung der wässerigen Dispersion gemäß den Ansprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass das hydrophobe Siliciumdioxidpulver, Dispergiermittel und gegebenenfalls pH-Wert regulierende Substanzen und weitere Additive in einem wässerigen Medium dispergiert werden.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindungen der allgemeinen Formel I in Form einer wässerigen Lösung zugegeben werden.
  11. Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass die wässerige Dispersion von Luft befreit wird.
  12. Verfahren nach den Ansprüchen 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Dispersion eine Temperatur von 50°C nicht übersteigt.
  13. Verwendung der Dispersion gemäß der Ansprüche 1 bis 8 als Zusatz zu Hydrofüllern in der Automobilindustrie, als Beschichtungsbestandteil in Can- und Coil-coating-Verfahren, als Additiv in wasserbasierenden UV-härtbaren Formulierungen z.B. für den Holzschutz und als Bestandteil von Lackschutzfolien.
DE10316661A 2003-04-11 2003-04-11 Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver Withdrawn DE10316661A1 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10316661A DE10316661A1 (de) 2003-04-11 2003-04-11 Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver
EP04723557A EP1625096A1 (de) 2003-04-11 2004-03-26 Wässrige dispersion hydrophobierter kieselsäurepulver ein dispergiermittel enhaltend
CNB2004800096761A CN100360401C (zh) 2003-04-11 2004-03-26 包含分散剂的疏水性二氧化硅粉末的水分散体
US10/546,061 US7645335B2 (en) 2003-04-11 2004-03-26 Aqueous dispersion of hydrophobized silicon dioxide powder comprising a dispersing agent
KR1020057019212A KR20060002965A (ko) 2003-04-11 2004-03-26 분산제를 포함하는 소수화 이산화규소 분체의 수분산액
PCT/EP2004/003209 WO2004089825A1 (en) 2003-04-11 2004-03-26 Aqueous dispersion of hydrophobized silicon dioxide powder comprising a dispersing agent

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10316661A DE10316661A1 (de) 2003-04-11 2003-04-11 Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10316661A1 true DE10316661A1 (de) 2004-11-04

Family

ID=33103326

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10316661A Withdrawn DE10316661A1 (de) 2003-04-11 2003-04-11 Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7645335B2 (de)
EP (1) EP1625096A1 (de)
KR (1) KR20060002965A (de)
CN (1) CN100360401C (de)
DE (1) DE10316661A1 (de)
WO (1) WO2004089825A1 (de)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006053326A1 (de) * 2006-11-10 2008-05-15 Bühler PARTEC GmbH Ausrüstung von Substraten
EP2107086A1 (de) 2008-04-02 2009-10-07 Evonik Degussa GmbH Dispersion enthaltend hydrophobierte Siliciumdioxidpartikel
DE102008041466A1 (de) 2008-08-22 2010-02-25 Wacker Chemie Ag Wäßrige Dispersionen hydrophober Kieselsäuren
DE102010043721A1 (de) 2010-11-10 2012-05-10 Evonik Degussa Gmbh Hydrophobierte Siliciumdioxidpartikel enthaltende Dispersion und Lackzubereitung
US11053152B2 (en) 2015-12-18 2021-07-06 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass
US11236002B2 (en) 2015-12-18 2022-02-01 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of an opaque quartz glass body
US11299417B2 (en) 2015-12-18 2022-04-12 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a melting crucible of refractory metal
US11708290B2 (en) 2015-12-18 2023-07-25 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven
US11952303B2 (en) 2015-12-18 2024-04-09 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Increase in silicon content in the preparation of quartz glass

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004010504B4 (de) * 2004-03-04 2006-05-04 Degussa Ag Hochtransparente lasermarkierbare und laserschweißbare Kunststoffmaterialien, deren Verwendung und Herstellung sowie Verwendung von Metallmischoxiden und Verfahren zur Kennzeichnung von Produktionsgütern
DE102004021532A1 (de) * 2004-05-03 2005-12-08 Degussa Ag Dispersion mit insektizider Wirkung
DE102004031785A1 (de) * 2004-07-01 2006-01-26 Degussa Ag Polyol enthaltende Siliciumdioxid-Dispersion
DE102004037044A1 (de) 2004-07-29 2006-03-23 Degussa Ag Mittel zur Ausstattung von auf Cellulose und/oder Stärke basierenden Substraten mit Wasser abweisenden und gleichzeitig pilz-, bakterien-, insekten- sowie algenwidrigen Eigenschaften
DE102004037045A1 (de) 2004-07-29 2006-04-27 Degussa Ag Wässrige Silan-Nanokomposite
DE102004049427A1 (de) 2004-10-08 2006-04-13 Degussa Ag Polyetherfunktionelle Siloxane, polyethersiloxanhaltige Zusammensetzungen, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
DE102005004872A1 (de) * 2005-02-03 2006-08-10 Degussa Ag Wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen und deren kondensierten Oligomeren, deren Herstellung und Verwendung zur Oberflächenbehandlung
US7704586B2 (en) * 2005-03-09 2010-04-27 Degussa Ag Plastic molded bodies having two-dimensional and three-dimensional image structures produced through laser subsurface engraving
DE102005032427A1 (de) * 2005-07-12 2007-01-18 Degussa Ag Aluminiumoxid-Dispersion
DE102006006656A1 (de) * 2005-08-26 2007-03-01 Degussa Ag Silan enthaltendes Bindemittel für Verbundwerkstoffe
DE102006006655A1 (de) * 2005-08-26 2007-03-01 Degussa Ag Cellulose- bzw. lignocellulosehaltige Verbundwerkstoffe auf der Basis eines auf Silan basierenden Komposits als Bindemittel
DE102005053071A1 (de) * 2005-11-04 2007-05-16 Degussa Verfahren zur Herstellung von ultrafeinen Pulvern auf Basis Polymaiden, ultrafeinen Polyamidpulver sowie deren Verwendung
DE102006003956A1 (de) * 2006-01-26 2007-08-02 Degussa Gmbh Korrossionsschutzschicht auf Metalloberflächen
DE102006013090A1 (de) * 2006-03-20 2007-09-27 Georg-August-Universität Göttingen Kompositwerkstoff aus Holz und thermoplastischem Kunststoff
DE102006017701A1 (de) * 2006-04-15 2007-10-25 Degussa Gmbh Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith
US7846492B2 (en) * 2006-04-27 2010-12-07 Guardian Industries Corp. Photocatalytic window and method of making same
DE102007021199B4 (de) * 2006-07-17 2016-02-11 Evonik Degussa Gmbh Zusammensetzungen aus organischem Polymer als Matrix und anorganischen Partikeln als Füllstoff, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung und damit hergestellte Formkörper
DE102006039269A1 (de) * 2006-08-22 2008-02-28 Evonik Degussa Gmbh Dispersion von Aluminiumoxid, Beschichtungszusammensetzung und tintenaufnehmendes Medium
US8155674B2 (en) * 2006-08-22 2012-04-10 Research In Motion Limited Apparatus, and associated method, for dynamically configuring a page message used to page an access terminal in a radio communication system
WO2008094928A1 (en) 2007-01-29 2008-08-07 Evonik Degussa Gmbh Fumed metal oxides for investment casting
EP1982964B1 (de) * 2007-04-20 2019-02-27 Evonik Degussa GmbH Organosiliciumverbindung enthaltende Mischung und deren Verwendung
DE102007038314A1 (de) * 2007-08-14 2009-04-16 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur kontrollierten Hydrolyse und Kondensation von Epoxy-funktionellen Organosilanen sowie deren Condensation mit weiteren organofunktionellen Alkoxysilanen
DE102007040153A1 (de) * 2007-08-24 2009-02-26 Dürr Systems GmbH Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Overspray eines flüssigen Beschichtungsmaterials
DE102007040246A1 (de) * 2007-08-25 2009-02-26 Evonik Degussa Gmbh Strahlenhärtbare Formulierungen
DE102008007261A1 (de) 2007-08-28 2009-03-05 Evonik Degussa Gmbh Wässrige Silansysteme basierend auf Bis(trialkoxysilyalkyl)aminen
DE102007045186A1 (de) * 2007-09-21 2009-04-09 Continental Teves Ag & Co. Ohg Rückstandsfreies, schichtbildendes, wässriges Versiegelungssystem für metallische Oberflächen auf Silan-Basis
DE102007049743A1 (de) * 2007-10-16 2009-04-23 Evonik Degussa Gmbh Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith
DE102007061455A1 (de) 2007-12-20 2009-06-25 Evonik Degussa Gmbh Entschäumerformulierung
DE102008006883A1 (de) * 2008-01-31 2009-08-13 Evonik Degussa Gmbh Siliciumdioxid-Dispersion
ES2644759T3 (es) * 2008-07-18 2017-11-30 Evonik Degussa Gmbh Dispersión de partículas de dióxido de silicio hidrofobizadas y granulado de la misma
DE102009002477A1 (de) 2009-04-20 2010-10-21 Evonik Degussa Gmbh Quartäre-aminofunktionelle, siliciumorganische Verbindungen enthaltende Zusammensetzung sowie deren Herstellung und Verwendung
DE102009002499A1 (de) 2009-04-20 2010-10-21 Evonik Degussa Gmbh Dispersion enthaltend mit quartären, aminofunktionellen siliciumorganischen Verbindungen oberflächenmodifizierte Siliciumdioxidpartikel
US8933164B2 (en) * 2009-07-16 2015-01-13 Evonik Degussa Gmbh Dispersion and method for modifying a surface with hydrophobized silica
DE102010031184A1 (de) 2010-07-09 2012-01-12 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Siliciumdioxidpartikel und Kationisierungsmittel aufweisenden Dispersion
CN102407032B (zh) * 2011-04-22 2014-03-12 江苏擎宇化工科技有限公司 农用纳米杂化有机硅消泡剂及其制备方法
DE102013226798A1 (de) 2013-12-20 2015-06-25 Evonik Industries Ag Oberflächenbehandlung von Partikeln und deren Verwendung
TWI794150B (zh) 2015-12-18 2023-03-01 德商何瑞斯廓格拉斯公司 自二氧化矽顆粒製備石英玻璃體
KR20180095616A (ko) 2015-12-18 2018-08-27 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 용융 가열로에서 이슬점 조절을 이용한 실리카 유리체의 제조
WO2017103131A1 (de) 2015-12-18 2017-06-22 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verringern des erdalkalimetallgehalts von siliziumdioxidgranulat durch behandlung von kohlenstoffdotiertem siliziumdioxidgranulat bei hoher temperatur
KR102436069B1 (ko) 2022-02-03 2022-08-25 주식회사 웃샘 휠체어용 환자 격리장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19530339A1 (de) * 1995-08-18 1997-02-20 Degussa Pyrogene Kieselsäure, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung
DE10049202A1 (de) * 2000-10-05 2002-04-11 Clariant Gmbh Verfahren zur Herstellung von flüssigen Pigmentpräparationen

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3902915A (en) * 1972-06-30 1975-09-02 Ppg Industries Inc Dispersible silica pigment
CH619264A5 (de) * 1977-02-02 1980-09-15 Savonnerie Union Generale
EP0110416B1 (de) * 1982-12-02 1989-07-26 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Verfahren zur Erhöhung der Farbdichte und zur Verbesserung der Farbechtheit von gefärbten Textilmaterialien
US4507426A (en) * 1983-01-03 1985-03-26 The Dow Chemical Company Synergistic mixture of polyurethane and emulsion polymers useful as thickeners for aqueous systems
US4532289A (en) * 1983-11-28 1985-07-30 Sermatech International, Inc. Primer coating composition
US5663224A (en) * 1991-12-03 1997-09-02 Rohm And Haas Company Process for preparing an aqueous dispersion
EP0555950B1 (de) * 1992-02-11 1996-12-18 Zeneca Limited Dispersion
US5261927A (en) * 1992-12-21 1993-11-16 Henkel Corporation Defoamer
GB9624548D0 (en) * 1996-11-25 1997-01-15 Nycomed Imaging As Improvements in or relating to surfactants
US6063182A (en) * 1997-09-08 2000-05-16 Ciba Speciality Chemicals Corporation Stir-in pigment compositions
DE19836253C1 (de) * 1998-08-11 1999-12-23 Goldschmidt Ag Th Endfunktionalisierte Polymethacrylsäureester und deren Verwendung als Dispergiermittel zur Herstellung wäßriger Pigmentpasten
AUPR510001A0 (en) * 2001-05-18 2001-06-14 Jupitar Pty Ltd Formulation and method

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19530339A1 (de) * 1995-08-18 1997-02-20 Degussa Pyrogene Kieselsäure, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung
DE10049202A1 (de) * 2000-10-05 2002-04-11 Clariant Gmbh Verfahren zur Herstellung von flüssigen Pigmentpräparationen

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006053326A1 (de) * 2006-11-10 2008-05-15 Bühler PARTEC GmbH Ausrüstung von Substraten
US8377193B2 (en) 2008-04-02 2013-02-19 Evonik Degussa Gmbh Dispersion comprising hydrophobized silicon dioxide particles
EP2107086A1 (de) 2008-04-02 2009-10-07 Evonik Degussa GmbH Dispersion enthaltend hydrophobierte Siliciumdioxidpartikel
WO2009121680A1 (en) * 2008-04-02 2009-10-08 Evonik Degussa Gmbh Dispersion comprising hydrophobized silicon dioxide particles
CN101981135B (zh) * 2008-04-02 2013-08-28 赢创德固赛有限公司 包含疏水化二氧化硅粒子的分散体
DE102008041466A1 (de) 2008-08-22 2010-02-25 Wacker Chemie Ag Wäßrige Dispersionen hydrophober Kieselsäuren
WO2012062559A1 (de) 2010-11-10 2012-05-18 Evonik Degussa Gmbh Hydrophobierte siliciumdioxidpartikel enthaltende dispersion und lackzubereitung
DE102010043721A1 (de) 2010-11-10 2012-05-10 Evonik Degussa Gmbh Hydrophobierte Siliciumdioxidpartikel enthaltende Dispersion und Lackzubereitung
US11053152B2 (en) 2015-12-18 2021-07-06 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass
US11236002B2 (en) 2015-12-18 2022-02-01 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of an opaque quartz glass body
US11299417B2 (en) 2015-12-18 2022-04-12 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a melting crucible of refractory metal
US11708290B2 (en) 2015-12-18 2023-07-25 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven
US11952303B2 (en) 2015-12-18 2024-04-09 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Increase in silicon content in the preparation of quartz glass

Also Published As

Publication number Publication date
EP1625096A1 (de) 2006-02-15
US20070145327A1 (en) 2007-06-28
US7645335B2 (en) 2010-01-12
CN1771196A (zh) 2006-05-10
WO2004089825A1 (en) 2004-10-21
CN100360401C (zh) 2008-01-09
KR20060002965A (ko) 2006-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10316661A1 (de) Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver
EP2107086B1 (de) Dispersion enthaltend hydrophobierte Siliciumdioxidpartikel
EP2324081B1 (de) Wässrige universalpigmentpaste
EP0036597B1 (de) Schaumdämpfungsmittel und dessen Verwendung in Kunstharz-, Lack- und Farbdispersionen
EP2049603B1 (de) Mit polysiloxan oberflächenmodifizierte partikel und herstellungsverfahren
EP2112205B1 (de) Stabile Dispersion von anorganischen Nanopartikeln
EP2638114B1 (de) Hydrophobierte siliciumdioxidpartikel enthaltende dispersion und lackzubereitung
EP1529821A2 (de) Dispergiermittel zur Herstellung wässriger Pigmentpasten
DE10232908A1 (de) Verwendung organfunktionell modifizierter, Phenylderivate enthaltender Polysiloxane als Dispergier- und Netzmittel für Füllstoffe und Pigmente in wässrigen Pigmentpasten und Farb- oder Lackformulierungen
DE10253447A1 (de) Wäßrige, kolloidale Gasrußsuspension
DE10011564C1 (de) Verfahren zur Herstellung von Polyorganosiloxanemulsionen
EP3319906A1 (de) Sio2 enthaltende dispersion mit hoher salzstabilität
DE602004000862T2 (de) Wässrige dispersion von alkydharz behandelt mit einem oxidationsmittel, mit verbesserter trocknung
DE10297612T5 (de) Anorganisches Oxid
EP0147726B1 (de) Entschäumer für wässrige Dispersionen und Lösungen von Kunstharzen
DE102013016889B4 (de) Wässrige, bindemittelfreie Pigmentpräparationen und deren Verwendungen
EP2145928B1 (de) Dispersion von hydrophobierten Siliciumdioxidpartikeln und Granulat hiervon
EP3891228B1 (de) Hydrophiles siliziumdioxid und silanol haltige wässrige dispersion und lackzubereitung
DE102006059316A1 (de) Dispersion von hochoberflächigem Siliciumdioxid
EP3467052B1 (de) Wässrige dispersion enthaltend siliziumdioxid und trimethyl 1,6-hexamethylendiamin
EP0149139B1 (de) Entschäumer für wässrige Dispersionen und Lösungen von Kunstharzen
DE4140733A1 (de) Fassadenanstrichmittel und putze mit hoher fruehwasserbestaendigkeit
EP3271426A1 (de) Lacksystem enthaltend ein bewuchshemmendes metalloxid und eine pyrogene kieselsäure
EP4183842A1 (de) Pigmentpaste und ihre verwendung
EP3795646A1 (de) Farb- und füllstoffpasten unter verwendung anorganischer partikel mit beschichteter oberfläche als spacer

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: DEGUSSA AG, 40474 DUESSELDORF, DE

Owner name: GOLDSCHMIDT AG, 45127 ESSEN, DE

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: DEGUSSA AG, 40474 DUESSELDORF, DE

Owner name: GOLDSCHMIDT GMBH, 45127 ESSEN, DE

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: DEGUSSA GMBH, 40474 DUESSELDORF, DE

Owner name: GOLDSCHMIDT GMBH, 45127 ESSEN, DE

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: GOLDSCHMIDT GMBH, 45127 ESSEN, DE

Owner name: EVONIK DEGUSSA GMBH, 40474 DUESSELDORF, DE

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: EVONIK GOLDSCHMIDT GMBH, 45127 ESSEN, DE

Owner name: EVONIK DEGUSSA GMBH, 40474 DUESSELDORF, DE

R081 Change of applicant/patentee

Owner name: EVONIK DEGUSSA GMBH, DE

Free format text: FORMER OWNERS: EVONIK DEGUSSA GMBH, 40474 DUESSELDORF, DE; EVONIK GOLDSCHMIDT GMBH, 45127 ESSEN, DE

Effective date: 20131024

Owner name: EVONIK DEGUSSA GMBH, DE

Free format text: FORMER OWNER: EVONIK DEGUSSA GMBH, EVONIK GOLDSCHMIDT GMBH, , DE

Effective date: 20131024

R120 Application withdrawn or ip right abandoned