DE10312631A1 - Magnetron mit Kühlmittelschutz - Google Patents
Magnetron mit Kühlmittelschutz Download PDFInfo
- Publication number
- DE10312631A1 DE10312631A1 DE2003112631 DE10312631A DE10312631A1 DE 10312631 A1 DE10312631 A1 DE 10312631A1 DE 2003112631 DE2003112631 DE 2003112631 DE 10312631 A DE10312631 A DE 10312631A DE 10312631 A1 DE10312631 A1 DE 10312631A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- magnetic
- construction
- target
- magnetron according
- magnetron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3488—Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/3497—Temperature of target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Ein Magnetron (1), welches in einer Vakuumkammer (2) angeordnet ist, umfaßt eine zylindrisch geformte, länglich hohle Targetkonstruktion (21), die in der Vakuumkammer (21) drehbar gelagert ist, und eine Magnetkonstruktion (25) innerhalb der Targetkonstruktion (21), die sich im wesentlichen über deren axiale Länge erstreckt und gegen Mitdrehen gesichert ist. Die Magnetkonstruktion (25) ist gegenüber einem die Targetkonstruktion (21) kühlenden Kühlmittelkreislauf (18) abgedichtet.
Description
- Die Erfindung bezieht sich auf ein Magnetron nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
- Beispielsweise ist aus der WO 91/07521 ein zylindrisches Magnetron bekannt, welches in einer Vakuumkammer-Umfassung aufgebaut ist. Es weist mindestens eine längliche, zylindrisch geformte Targetkonstruktion auf, die innerhalb der Vakuumkammer in einer um ihre Längsachse drehbaren Weise gelagert ist, sowie mit der Targetkonstruktion antriebsmäßig verbundene Mittel zum Drehen der Targetkonstruktion um deren Längsachse. Eine Magnetkonstruktion erstreckt sich innerhalb der Targetkonstruktion im wesentlichen über deren gesamte Länge und ist gegen ein Mitdrehen mit der Targetkonstruktion festgelegt. Eine Mehrzahl von Rollen ist an der Magnetkonstruktion gehaltert und stützt sich an der Innenseite der Targetkonstruktion ab, um so eine Trennung zwischen der Magnetkonstruktion und der Innenfläche der Targetkonstruktion aufrechtzuerhalten.
- Nachteilig an dem aus der WO 91/07521 bekannten Magnetron ist insbesondere, daß die Magnetkonstruktion von dem das Magnetron kühlenden Wasser umströmt wird. Dadurch werden hohe Anforderungen an das Material der Magnete gestellt, wodurch die Magnetkonstruktion teuer und aufwendig wird.
- Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zu Grunde, bei einem Magnetron nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 die Magnetkonstruktion so unterzubringen, daß sie einerseits vor Korrosion durch das Kühlwasser geschützt ist und andererseits das Target zuverlässig gekühlt wird.
- Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.
- Die Magnetkonstruktion ist erfindungsgemäß gegenüber dem Kühlkreislauf des Magnetrons abgedichtet und ermöglicht so eine beliebige Auswahl des Magnetmaterials ohne die Einschränkung, ein Material wählen zu müssen, welches korrosionsbeständig bei Kontakt mit Wasser ist.
- Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen beschrieben.
- Das erfindungsgemäße Magnetron weist dabei vorteilhafterweise ein Magnetschutzrohr auf, in welchem die Magnete angeordnet sind. Das Magnetschutzrohr schützt einerseits die Magnete vor dem Kontakt mit der Kühlflüssigkeit, andererseits stützt es die Magnetkonstruktion so ab, daß eine aufwendige Justierung des Magnetfeldes aufgrund der Durchbiegung der Magnetkonstruktion entfallen kann.
- Weiterhin ist von Vorteil, daß der kombinierte Kühlmittelzu- und -ablauf an einem Ende der Targetkonstruktion mit dem Magnetschutzrohr verbunden ist und dieses dadurch am Mitdrehen mit der Targetkonstruktion gehindert ist.
- Vorteilhafterweise durchströmt die Kühlflüssigkeit das Magnettragrohr und anschließend turbulent einen engen Ringraum zwischen dem Targettragrohr und dem Magnetschutzrohr, so daß ein optimaler Wärmetransport gewährleistet ist.
- Nachfolgend werden vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung anhand eines bevorzugten Ausführungsbeispiels und der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
-
1 eine schematische Gesamtdarstellung eines Ausführungsbeispiels eines erfindungsgemäß ausgestalteten Magnetrons im Schnitt; -
2 die Targetanordnung des erfindungsgemäßen Magnetrons gemäß1 in einer axialen Schnittdarstellung; und -
3 die Targetanordnung gemäß2 in einer radialen Schnittdarstellung. -
1 zeigt in einer schematischen Schnittansicht ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäß ausgestalteten Magnetrons1 in einer Gesamtansicht. Das Magnetron ist in einer Vakuumkammer2 angeordnet, welche beispielsweise in Form eines Trogs3 mit einem Deckel4 ausgeführt sein kann. - Das erfindungsgemäße Magnetron
1 ist insbesondere zur Beschichtung von großflächigen Substraten, beispielsweise Flachglas, mittels eines Zerstäubungs- bzw. Sputterverfahrens geeignet. Hierbei wird eine ein- oder mehrschichtige Beschichtung, beispielsweise eine Wärmeschutzbeschichtung, auf das Substrat aufgebracht. - In
1 ist ein Substrat5 unterhalb des Magnetrons1 dargestellt, welches auf einer beispielsweise aus mehreren Rollen6 bestehenden Fördereinrichtung7 durch die Vakuumkammer2 unter dem Magnetron1 vorbeigeführt und dabei beschichtet wird. - Das Magnetron
1 ist in der Vakuumkammer2 fest angeordnet. Eine Antriebskonstruktion8 , welche beispielsweise in Form eines Zahnriemenantriebs8 ausgeführt sein kann, ist an einem ersten Ende9 des Magnetrons1 zum rotatorischen Antrieb der rotierenden Bauteile des Magnetrons1 vorgesehen. Dabei greift ein Zahnriemen10 in eine entsprechend ausgestaltete Zahnscheibe11 ein, welche in kraftschlüssiger Verbindung mit einer Welle12 steht. Die Welle12 ist in einem Lager13 gelagert, welches in einem Gehäuse14 des Zahnriemenantriebs8 angeordnet ist. Die Vakuumkammer2 ist gegen das Gehäuse14 durch geeignete Dichtvorrichtung abgedichtet. - Ein Kühlmittelzu- und -ablauf
15 ist an einem zweiten Ende16 des Magnetrons1 vorgesehen. Der Kühlmittelzu- und -ablauf15 ist dabei ebenfalls in einem Gehäuse17 angeordnet, welches gegenüber der Vakuumkammer2 geeignet abgedichtet ist. Eine detaillierte Darstellung des Magnetrons1 und des das Magnetron1 kühlenden Kühlmittelkreislaufs18 ist den2 und3 sowie der folgenden Beschreibung zu entnehmen. - Die rotierenden Bauteile des Magnetrons
1 sind am zweiten Ende16 des Magnetrons1 in einem Lager19 gelagert, welches im Ausführungsbeispiel an dem Gehäuse14 des Kühlmittelzu- und -ablaufs15 ausgebildet ist. -
2 zeigt in einer ausschnittsweisen axialen Schnittdarstellung das Magnetron1 ohne Antriebskonstruktion8 und Kühlmittelzu- und -ablauf15 . Mit1 übereinstimmende Bauteile sind dabei in allen Figuren mit gleichen Bezugszeichen versehen. - Das Magnetron
1 umfaßt, wie bereits in der vorangegangenen Beschreibung erwähnt, rotatorisch angetriebene Bauteile, welche die Beschichtung mittels eines rotierenden, rohrförmigen Targets20 ermöglichen. Eine Targetkonstruktion21 des Magnetrons1 umfaßt dabei das Target20 , welches auf einem Targettragrohr22 angeordnet ist. Das Target20 und das Targettragrohr22 sind dabei hohlzylindrisch ausgebildet. - In dem Targettragrohr
22 ist erfindungsgemäß ein Magnetschutzrohr23 angeordnet, welches von dem Targettragrohr22 durch einen Ringraum24 beabstandet ist. Innerhalb des Magnetschutzrohres23 verläuft eine Magnetkonstruktion25 , welche ein Magnettragrohr26 , Magnete27 und ein Magnetjoch28 umfaßt. - Die Kühlflüssigkeit wird über einen Zulauf
29 im zweiten Ende16 des Magnetrons1 zugeführt und durchströmt in Pfeilrichtung das Magnettragrohr26 . Am ersten Ende9 des Magnetrons1 wird die Kühlflüssigkeit durch eine Bohrung30 in einem Abschlußbauteil31 geführt, welches einerseits als Abschluß für das Magnetschutzrohr23 und andererseits mit einer Gegenplatte32 zur Aufnahme des Lagers33 dient. - Wie bereits in der Beschreibung zu
1 erläutert, greift an der Gegenplatte32 die Welle12 an, welche über die Zahnscheibe11 von dem Zahnriemenantrieb8 angetrieben wird. Dadurch wird das mit der Gegenplatte32 verbundene Targettragrohr22 mit dem Target20 gegenüber dem Magnetschutzrohr23 gedreht, welches selbst ortsfest bleibt. - Die Kühlflüssigkeit durchströmt das Abschlußbauteil
31 und tritt durch seitliche Bohrungen34 aus. Es strömt dann durch den Ringraum24 zwischen Targettragrohr22 und Magnetschutzrohr23 zum zweiten Ende16 des Magnetrons1 zurück, wo es durch einen Ablauf35 abgeleitet wird. - Der Ringraum
24 ist dabei so dimensioniert, daß in Abhängigkeit von der Kühlflüssigkeitsmenge eine turbulente Strömung entsteht, welche zu einem guten Wärmeübergang und somit zu einer effektiven Kühlung führt. -
3 zeigt in einer radialen Schnittdarstellung einen Schnitt durch das in2 dargestellte Magnetron1 . - Wie bereits weiter oben erläutert, sind Target
20 , Targettragrohr22 und Magnetschutzrohr23 hohlzylindrisch ausgeführt. - In dem Magnetschutzrohr
23 ist das im Querschnitt quadratische Magnettragrohr26 angeordnet. An diesem ist der Magnetjochträger28 befestigt, welcher das Magnetjoch40 aufnimmt und welcher U-förmig oder trogförmig ausgebildet sein kann und sich vorzugsweise an der Innenseite36 des Magnetschutzrohres23 abstützt. Dadurch kann die Magnetkonstruktion25 auf der gesamten axialen Länge stabil und gleichmäßig unterstützt werden. Aufwendige und kostenintensive Justierungen des durch die Magnete27 erzeugten Magnetfeldes können dadurch vermieden werden, da die Magnetkonstruktion25 dadurch eine hohe Biegesteifigkeit erreicht. - Die Magnete
27 können dabei bedingt durch das erfindungsgemäße Magnetschutzrohr23 aus beliebigen magnetischen Materialien hergestellt werden, ohne daß Rücksicht auf die Materialauswahl hinsichtlich der Korrosionsbeständigkeit gegenüber der Kühlflüssigkeit genommen werden muß. Von den drei Magneten27 weisen die zwei äußeren Magnete eine gleichsinnige Polung auf. Diese sind rechts und links des gegensinnig gepolten, mittleren Magneten27 angeordnet, wodurch ein doppel-bogenförmiges Magnetfeld erzeugt wird.
Claims (18)
- Magnetron (
1 ), welches in einer Vakuumkammer (2 ) angeordnet ist, mit einer länglichen hohlen Targetkonstruktion (21 ), die in der Vakuumkammer (2 ) drehbar gelagert ist, und einer innerhalb der Targetkonstruktion (21 ) angeordneten Magnetkonstruktion (25 ), welche zumindest einen Magneten (27 ) aufweist, und mit einem die Targetkonstruktion (21 ) kühlenden Kühlmittelkreislauf (18 ), dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetkonstruktion (25 ) gegenüber dem Kühlkreislauf (18 ) so abgedichtet ist, daß dessen Kühlmittel nicht mit dem zumindest einen Magneten (27 ) der Magnetkonstruktion (25 ) in Berührung kommt. - Magnetron nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetkonstruktion (
25 ) in einem Magnetschutzrohr (23 ) angeordnet ist. - Magnetron nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Magnete vorgesehen sind und daß die Magnete (
27 ) an einem Magnetjochträger (28 ) angeordnet sind. - Magnetron nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Magnetjochträger (
28 ) U-förmig ausgebildet ist und sich an einer Innenseite (36 ) des Magnetschutzrohres (23 ) abstützt. - Magnetron nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Magnetjochträger (
28 ) zusätzlich an einem Magnettragrohr (26 ) im Magnetschutzrohr (23 ) befestigt ist. - Magnetron nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Magnete (
27 ), ein Magnetjoch (40 ), der Magnetjochträger (28 ) und das Magnettragrohr (26 ) im Wesentlichen über die gesamte axiale Länge des Magnetschutzrohres (23 ) erstrecken. - Magnetron nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß sich das Magnetschutzrohr (
23 ) im Wesentlichen über die gesamte axiale Länge der Targetkonstruktion (21 ) erstreckt. - Magnetron nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Targetkonstruktion (
21 ) ein Targettragrohr (22 ) und ein rohrförmiges Target (20 ) umfaßt. - Magnetron nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetkonstruktion (
25 ) in dem Targettragrohr (22 ) angeordnet ist. - Magnetron nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Targettragrohr (
22 ) und das Target (20 ) gegenüber dem Magnetschutzrohr (23 ) der Magnetkonstruktion (25 ) drehbar gelagert sind. - Magnetron nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Targetkonstruktion (
21 ) durch eine Antriebskonstruktion (8 ) angetrieben ist. - Magnetron nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Antriebskonstruktion (
8 ) als Zahnriemenantrieb (8 ) ausgeführt ist. - Magnetron nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Zahnriemenantrieb (
8 ) an einem ersten Ende (9 ) der Targetkonstruktion (21 ) in Eingriff ist. - Magnetron nach einem der Ansprüche 8 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß an einem zweiten Ende (
16 ) der Targetkonstruktion (21 ) ein Kühlmittelzu- und -ablauf (15 ) vorgesehen ist. - Magnetron nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß der Kühlmittelzu- und -ablauf (
15 ) fest mit dem Magnetschutzrohr (23 ) verbunden ist. - Magnetron nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Kühlmittelzu- und -ablauf (
15 ) mit einem Ringraum (24 ) zwischen dem Targettragrohr (22 ) und dem Magnetschutzrohr (23 ) in Verbindung steht. - Magnetron nach einem der Ansprüche 14 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Kühlmittelzu- und -ablauf (
15 ) mit dem Magnettragrohr (26 ) in Verbindung steht. - Magnetron nach einem der Ansprüche 8 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Targetkonstruktion (
21 ) an einem zweiten Ende (16 ) in einem Lager (19 ) drehbar gelagert ist.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2003112631 DE10312631A1 (de) | 2003-03-21 | 2003-03-21 | Magnetron mit Kühlmittelschutz |
PCT/EP2004/001226 WO2004084588A1 (de) | 2003-03-21 | 2004-02-10 | Magnetron mit kühlmittelschutz |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2003112631 DE10312631A1 (de) | 2003-03-21 | 2003-03-21 | Magnetron mit Kühlmittelschutz |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10312631A1 true DE10312631A1 (de) | 2004-10-07 |
Family
ID=32946036
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2003112631 Ceased DE10312631A1 (de) | 2003-03-21 | 2003-03-21 | Magnetron mit Kühlmittelschutz |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE10312631A1 (de) |
WO (1) | WO2004084588A1 (de) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1655762A1 (de) * | 2004-11-05 | 2006-05-10 | Applied Films GmbH & Co. KG | Katodenanordnung zur Zerstäubung eines drehbaren Targetrohres |
DE112006003026B4 (de) * | 2005-10-24 | 2010-06-10 | Guardian Industries Corp., Auburn Hills | Sputtergerät mit Kühlvorrichtung |
DE112006003027B4 (de) * | 2005-10-24 | 2010-06-17 | Guardian Industries Corp., Auburn Hills | Sputter-Target mit Vorrichtung zum Kühlen des Targets |
DE112006003022B4 (de) * | 2005-10-24 | 2010-10-07 | Guardian Industries Corp., Auburn Hills | Sputtergerät mit gekühlter Targetröhre |
DE102009033546A1 (de) * | 2009-07-16 | 2011-01-27 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Versorgungsendblock für ein rotierendes Magnetron |
DE102011075543A1 (de) * | 2011-05-10 | 2012-11-15 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Anordnung zur Kühlung eines längserstreckten Magnetron |
DE102012107448A1 (de) | 2012-08-14 | 2014-02-20 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und Anordnung zum Schutz eines Rohrtargets eines Rohrmagnetrons vor Korrosion |
DE102014101582A1 (de) * | 2014-02-07 | 2015-08-13 | Von Ardenne Gmbh | Lagervorrichtung |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1826292A1 (de) * | 2006-02-23 | 2007-08-29 | Bekaert Advanced Coatings | Zerstäubungseinheit. |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4422916A (en) * | 1981-02-12 | 1983-12-27 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
US4904362A (en) * | 1987-07-24 | 1990-02-27 | Miba Gleitlager Aktiengesellschaft | Bar-shaped magnetron or sputter cathode arrangement |
WO1991007521A1 (en) * | 1989-11-08 | 1991-05-30 | The Boc Group, Inc. | Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating |
US5200049A (en) * | 1990-08-10 | 1993-04-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons |
US5571393A (en) * | 1994-08-24 | 1996-11-05 | Viratec Thin Films, Inc. | Magnet housing for a sputtering cathode |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4031424A (en) * | 1971-09-07 | 1977-06-21 | Telic Corporation | Electrode type glow discharge apparatus |
EP0543931A4 (en) * | 1990-08-10 | 1993-09-08 | Viratec Thin Films, Inc. | Shielding for arc suppression in rotating magnetron sputtering systems |
US5180478A (en) * | 1990-12-19 | 1993-01-19 | Intevac, Inc. | Sputter coating source |
CA2218736A1 (en) * | 1995-05-11 | 1996-11-14 | Steven D. Hurwitt | Sputtering apparatus with isolated coolant and sputtering target therefor |
DE10213049A1 (de) * | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Dieter Wurczinger | Drehbare Rohrkatode |
-
2003
- 2003-03-21 DE DE2003112631 patent/DE10312631A1/de not_active Ceased
-
2004
- 2004-02-10 WO PCT/EP2004/001226 patent/WO2004084588A1/de active Application Filing
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4422916A (en) * | 1981-02-12 | 1983-12-27 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
US4904362A (en) * | 1987-07-24 | 1990-02-27 | Miba Gleitlager Aktiengesellschaft | Bar-shaped magnetron or sputter cathode arrangement |
WO1991007521A1 (en) * | 1989-11-08 | 1991-05-30 | The Boc Group, Inc. | Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating |
US5200049A (en) * | 1990-08-10 | 1993-04-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons |
US5571393A (en) * | 1994-08-24 | 1996-11-05 | Viratec Thin Films, Inc. | Magnet housing for a sputtering cathode |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1655762A1 (de) * | 2004-11-05 | 2006-05-10 | Applied Films GmbH & Co. KG | Katodenanordnung zur Zerstäubung eines drehbaren Targetrohres |
DE112006003026B4 (de) * | 2005-10-24 | 2010-06-10 | Guardian Industries Corp., Auburn Hills | Sputtergerät mit Kühlvorrichtung |
DE112006003027B4 (de) * | 2005-10-24 | 2010-06-17 | Guardian Industries Corp., Auburn Hills | Sputter-Target mit Vorrichtung zum Kühlen des Targets |
DE112006003022B4 (de) * | 2005-10-24 | 2010-10-07 | Guardian Industries Corp., Auburn Hills | Sputtergerät mit gekühlter Targetröhre |
DE202006021107U1 (de) | 2005-10-24 | 2012-11-30 | Guardian Industries Corp. | Sputtering Target und Mittel zum Kühlen des Targets |
DE102009033546A1 (de) * | 2009-07-16 | 2011-01-27 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Versorgungsendblock für ein rotierendes Magnetron |
DE102009033546B4 (de) * | 2009-07-16 | 2014-07-17 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Versorgungsendblock für ein rotierendes Magnetron |
DE102011075543A1 (de) * | 2011-05-10 | 2012-11-15 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Anordnung zur Kühlung eines längserstreckten Magnetron |
DE102011075543B4 (de) * | 2011-05-10 | 2015-10-08 | Von Ardenne Gmbh | Anordnung zur Kühlung eines längserstreckten Magnetron |
DE102012107448A1 (de) | 2012-08-14 | 2014-02-20 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und Anordnung zum Schutz eines Rohrtargets eines Rohrmagnetrons vor Korrosion |
DE102014101582A1 (de) * | 2014-02-07 | 2015-08-13 | Von Ardenne Gmbh | Lagervorrichtung |
DE102014101582B4 (de) * | 2014-02-07 | 2017-10-26 | Von Ardenne Gmbh | Lagervorrichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2004084588A1 (de) | 2004-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102007052524B4 (de) | Transportmittel und Vakuumbeschichtungsanlage für Substrate unterschiedlicher Größe | |
WO2007025397A1 (de) | Werkstückträgereinrichtung | |
EP1910590A2 (de) | Einrichtung zur behandlung von substraten, insbesondere zur galvanisierung von substraten | |
DE10312631A1 (de) | Magnetron mit Kühlmittelschutz | |
DE2051778C3 (de) | Vorrichtung zum Galvanisieren von zylindrischen Gegenständen | |
EP0829350A2 (de) | Kammerrakeleinrichtung für ein Kurzfarbwerk einer Rotationsdruckmaschine | |
WO1992011398A1 (de) | Lagerausbildung für die achsen oder achsverbindungen von getaucht in schmelzbädern rotierenden führungsrollen für bandförmiges behandlungsgut | |
DE102010008822A1 (de) | Rührwerk | |
EP1442646B1 (de) | Vorrichtung zum transport von flexiblem flachmaterial, insbesondere leiterplatten | |
DE102006017455A1 (de) | Rohrkathode | |
DE3622963A1 (de) | Pumpe, vorzugsweise behaelterpumpe | |
EP1481785A1 (de) | Anlage zum Aufbereiten von Stoffen | |
DE2407409C3 (de) | Schwimmfähige Vorrichtung zum Beseitigen auf einer Wasseroberfläche schwimmenden Verunreinigungen | |
DE2647149C2 (de) | Sputter-Beschichtungseinrichtung zur Herstellung beschichteter Träger | |
DE20304601U1 (de) | Vorrichtung zum Transport von flexiblem Flachmaterial, insbesondere Leiterplatten | |
WO2007014779A2 (de) | Einrichtung zur behandlung von substraten, insbesondere zur galvanisierung von leiterplatten, und verfahren | |
DE3114449A1 (de) | Dichtungssystem fuer einen rotationsverdampfer | |
DE1941342C2 (de) | Vorrichtung zum Einleiten von chemischen Reaktionen in einem Plasma | |
DE102004027989B4 (de) | Werkstückträgervorrichtung zum Halten von Werkstücken | |
DE10319840B3 (de) | Wellenlagerung für eine getaucht in einem Metallschmelzebad angeordnete Umlenk- oder Führungsrolle | |
DE102004006849B4 (de) | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten | |
EP1469504B1 (de) | Magnetron mit zweistufiger Dichtung | |
DE102012207134B4 (de) | Beölungsvorrichtung für eine Achse mit Stirntrieb | |
EP1743959A1 (de) | Vorrichtung zum galvanischen Abschieden von Metallen und/oder Metalllegierungen unter Verwendung einer Galvanisiertrommel | |
DE2753852C2 (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8131 | Rejection |