DE10246788A1

DE10246788A1 - Schutzvorrichtung für lithographische Masken und Verfahren zu ihrer Verwendung

Info

Publication number: DE10246788A1
Application number: DE10246788A
Authority: DE
Inventors: Christof Matthias Dr. Schilz; Frank-Michael Dr. Kamm
Original assignee: Infineon Technologies AG
Current assignee: Qimonda AG
Priority date: 2002-10-08
Filing date: 2002-10-08
Publication date: 2004-05-06
Anticipated expiration: 2022-10-09
Also published as: DE10246788B4; US20040067424A1

Abstract

Die Erfindung ist gerichtet auf eine Schutzvorrichtung (2) für plattenförmige Objekte (1) wie lithographische Masken, aufweisend zumindest ein Halteelement (3, 10) mit einer planen ersten Kante und einem Schutzelement zum Schutz mindestens einer Oberfläche eines plattenförmigen Objekts (1); ein an der ersten Kante (3a) angeordnetes Polymerpolster (5, 12, 13), das mit einem peripheren Bereich der Oberfläche in Kontakt gebracht werden kann; wobei das Polymerpolster (5, 12, 13) aus einem Polymer besteht, dessen Viskosität und/oder Adhäsivität bei auf die Schutzvorrichtung (2) ausgeübten Zugkräften orthogonal zum peripheren Bereich des Objekts (1) größer ist als bei auf die Schutzvorrichtung (2) ausgeübten Scherkräften parallel zum peripheren Bereich. Die Erfindung ist ebenfalls auf die Verwendung einer solchen Schutzvorrichtung gerichtet.

Description

Schutzvorrichtung für lithographische Masken und Verfahren zu ihrer Verwendung
Die vorliegende Erfindung ist auf eine Schutzvorrichtung für plattenförmige Objekte wie lithographische Masken, insbesondere für Reflexionsmasken, sowie auf ein Verfahren zur Verwendung eines geschützten plattenförmigen Objekts wie einer photolithographischen Maske gerichtet.

Für die EUV- bzw. Röntgenlithographie von integrierten Schaltkreisen werden sogenannte Reflexionsmasken verwendet. Bei diesem Verfahren zur Waferbelichtung strahlt die Belichtungsquelle im Waferbelichtungsgerät unter einem festgelegten Winkel auf die Reflexionsmaske ein. Auf der Oberfläche der Maske befinden sich eingefräste oder eingeätzte Strukturen, die mittels mathematischer Verfahren berechnet worden sind, und an denen das Licht reflektiert und über Reflexionsspiegeloptiken auf den Wafer umgeleitet wird. Die so entstandenen Reflexmuster enthalten die Strukturinformationen der Maske und belichten auf diese Weise den Wafer. Ein besonders kritischer Aspekt beim Einsatz dieser Maskentechnik ist die Forderung nach einer absoluten Defektfreiheit bezüglich der Maskenstrukturen, um fehlerfrei belichtete Waferstrukturen zu erhalten. Jedes auf der Reflexionsmaske befindliche Partikel stört die Reflexion an dieser Stelle und führt zu Abbildungsfehlern auf dem Wafer, was zum Ausfall derart fehlbelichteter integrierter Schaltkreise führen kann.

In herkömmlichen Transmissions-optischen Lithographien werden die Masken durch eine Polymermembran, ein sogenanntes Pellicle, vor einer nachträglichen Partikelkontamination geschützt. Das Pellicle ist eine dünne, meist polymere Membran, die über einen Rahmen gespannt eine Schutzhaut in einem Abstand von einigen Millimetern (beispielsweise 5 bis 10 mm) von der Maskenoberfläche bildet. Auf sie fallende Partikel bis zu einer Größe von etwa 200 um sind bei einer optischen Abbildung außerhalb der Fokusebene, d.h. der Maskenoberfläche, gelegen und werden deshalb nicht auf den Wafer abgebildet. Das Pellicle wird üblicherweise im letzten Schritt der Herstellung einer Maske montiert und ist zum dauerhaften Verbleib auf dieser vorgesehen, wobei es sowohl als Transportschutz als auch im Belichtungsgerät als Schutz während des Einsatzes dient.

Die Verwendung dieser Schutzmembranen ist jedoch aufgrund der besonderen Verhältnisse bei der EUV-Lithographie, insbesondere der hohen Energie der verwendeten Strahlungsquellen, während der Belichtung des Wafers nicht möglich. Selbst eine Verwendung von Pelliclen als temporärer Schutz während des Transports und der Lagerung schieden bisher aus, da die Entfernung der fest mit der Reflexionsmaske verklebten Pellicle-Rahmen aufwendig ist und zur massiven Partikelverschmutzung führt. Andere im Stand der Technik bekannte mechanische Lösungen zum Schutz der Reflexionsmaske führen zu nicht akzeptablen Spannungszuständen in der Maske und damit zu einer Verzerrung der Maskenstrukturen, die sich in einer ungenauen Abbildung auf der Waferoberfläche und damit verbundenen Fehlern der integrierten Schaltkreise niederschlägt. Damit war der Einsatz von Reflexionsmasken bisher äußerst aufwendig, da diese ohne Schutz benutzt und gelagert wurden, was mit ständigen Reinigungsschritten einherging.

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, einen Schutz für Reflexionsmasken bereit zu stellen, der problemlos und spannungsfrei reponibel ist. Diese Aufgabe wird gelöst durch die Bereitstellung einer Schutzvorrichtung für plattenförmige Objekte wie lithographische Masken gemäß dem unabhängigen Patentanspruch 1, ein Verfahren zur Verwendung eines geschützten plattenförmigen Objekts gemäß dem unabhängigen Patentanspruch 13, sowie eine Verwendung gemäß dem unabhängigen Patentanspruch 18. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen, Aspekte und Details der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Patentansprüchen, der Beschreibung und den beigefügten Zeichnungen.

Der Erfindung liegt die Idee zugrunde, Reflexionsmaske und Schutz mit einem adhäsiven bzw. viskosen Polymer miteinander zu verbinden, das in unterschiedliche Richtungen unterschiedliche Widerstandskräfte leisten kann. Auch wenn der Schwerpunkt der Verwendung auf dem Schutz photolithographischer Masken liegt, versteht es sich, dass auch andere Objekte geschützt werden können.

Es handelt sich hierbei um Polymere, welche Eigenschaften Nicht-Newton'scher Flüssigkeiten aufweisen, die drucksensitiv und gelartig sind.

Dementsprechend ist die Erfindung zunächst gerichtet auf eine Schutzvorrichtung für plattenförmige Objekte, die aufweist: zumindest ein Halteelement mit einer planen ersten Kante und einem Schutzelement zum Schutz zumindest einer Oberfläche eines plattenförmigen Objekts; ein an der ersten Kante angeordnetes Polymerpolster, das mit einem peripheren Bereich der Oberfläche in Kontakt gebracht werden kann; wobei das Polymerpolster aus einem Polymer besteht, dessen Viskosität und/oder Adhäsivität bei auf die Schutzvorrichtung ausgeübten Zugkräften orthogonal zum peripheren Bereich des Objekts grö ßer ist als bei auf die Schutzvorrichtung ausgeübten Scherkräften parallel zum peripheren Bereich.

Bereitgestellt wird also ein Schutzelement, dessen plane, d.h. auf einer Ebene befindlichen Kante auf die im allgemeinen ebenfalls planen Objektoberfläche des Objekts etc. aufgesetzt werden könnte. Um eine Verbindung der beiden Elemente miteinander herzustellen, wird jedoch nunmehr ein Polymerpolster auf die Kante aufgebracht, das eine Adhäsionsverbindung zwischen Kante und damit Schutzelement und Oberfläche des Objekts herstellt. Es versteht sich, dass diese Verbindung in einem peripheren Bereich oder mehreren peripheren Bereichen des Objekts erfolgen soll, wobei unter peripheren Bereichen hierbei solche Bereiche zu verstehen sind, die vorzugsweise außerhalb eines zu schützenden Bereichs des Objekts, beispielsweise der Reflexionsstrukturen auf einer lithographischen Maske liegen und die damit nicht geschützt werden müssen bzw. bei denen Rückstände des Polymerpolsters akzeptabel sind. Alternativ kann der periphere Bereich auch so gewählt sein, dass er beispielsweise bei bis zum Rand gehenden Strukturen noch innerhalb der Strukturmuster der Maske liegt, wobei die Maske dann vor dem Betrieb gereinigt wird. Der Kern der Erfindung liegt in der Auswahl eines dem Anspruch genügenden Polymers. Dieses weist bezüglich seines adhäsiven bzw. viskosen Verhaltens zwei vorzugsweise zueinander orthogonale Vorzugsrichtungen auf. Es wird im Polymerpolster so orientiert, dass es bei Zugkräften, die orthogonal zur Oberfläche des Objekts bzw. den peripheren Bereichen einwirken und damit als trennende Kräfte angesehen werden können, wie sie beispielsweise beim Anheben des plattenförmigen Objekts oder ähnlichem an der Schutzvorrichtung auftreten, eine relativ größere adhäsive Wirkung hat als bei Kräften, die parallel zu peripheren Bereichen der Oberfläche wirken und damit ein Gleiten der Schutzvorrichtung auf dem Objekt bewirken würden. Auf diese Weise kann erreicht werden, dass einerseits das Objekt an der Schutzvorrichtung transportiert werden kann und die Schutzvorrichtung dabei nicht einfach vom Objekt abgehoben werden kann, dass aber andererseits vor dem Einsatz des Objekts die Schutzvorrichtung durch seitliches Bewegen einfach vom Objekt getrennt und dann entfernt werden kann. Spannungen werden abgebaut und es findet eine Verbesserung der Lagegenauigkeit der mit der Maske erzeugten Strukturen statt.

Wie bereits ausgeführt und beispielhaft illustriert, ist das plattenförmige Objekt vorzugsweise eine lithographische Maske, insbesondere eine Reflexionsmaske für den Einsatz bei der EUV-Lithographie.

Für die Erfindung konkret geeignete Polymere oder Polymermischungen sind solche, welche die Eigenschaften typischer PSA (pressure sensitive adhesives)-Werkstoffe oder "release coatings" aufweisen. Für diese Stoffklasse gilt das rheologische Dahlquist-Kriterium des Kriechverhaltens (J) von benötigten minimal 10⁶ cm²/dyn bei Gebrauchstemperatur. PSA-Werkstoffe weisen bei einer Tg von –25°C typische G'-Module von größer 10⁶ dyn/cm² auf. Ihr Abschälverhalten (G') steigt stark mit der Schälgeschwindigkeit. Typische Vertreter sind etwas TESA 7475 (TM), Poly-Dimethoxysilane oder "Eastotac" (TM)-PSAs auf Basis niedermolekularer aliphatischer Kohlenwasserstoffharze.

Vorzugsweise ist die erfindungsgemäße Schutzvorrichtung eine Schutzhaube, welche aufweist: als Halteelement einen Rahmen mit einer seitlich umlaufenden Wandung und der planen ersten Kante an der Wandung, und als Schutzelement eine über den Rahmen gespannte Membran, welche den gesamten Rahmen überdeckt, wobei der Rahmen mit seinem Polymerpolster auf den pe ripheren Bereich des plattenförmigen Objekts auf setzbar ist. Diese Ausführungsform der vorliegenden Erfindung entspricht im wesentlichen dem Aufbau bisheriger Pellicle-Rahmen/Maskenanordnungen, bei denen die Rahmen auch während der Belichtung auf den Masken verbleiben. Der entscheidende Unterschied liegt jedoch darin, dass Objekt bzw. Maske und Rahmen über das spezielle Polymerpolster miteinander verbunden sind und damit vor Verwendung der Maske in einfacher Weise trennbar sind.

Der Rahmen kann eine zweite zur ersten im wesentlichen parallele Kante aufweisen, wobei die Membran an der zweiten Kante befestigt ist. Auf diese Weise wird ein Abstand zwischen Membran und Oberfläche des Objekts/der Maske erreicht.

Die Wandung des Rahmens kann eine Höhe von 5 bis 10 mm, gemessen von der Oberfläche des Objekts bis zur Membran, aufweisen, was auf dem Gebiet lithographischer Masken im wesentlichen den Verhältnissen bei vorbekannten Pellicle-Rahmen entspricht.

Als Schutzvorrichtung kann ein herkömmliches Pellicle dienen, wie sie etwa von der Microlithography Inc. vertrieben werden, auf dessen Membran-abgewandter Rahmenkante das Polymerpolster aufgebracht ist. Die optischen Eigenschaften der Polymerfolie sind hierbei unbedeutend.

In einer alternativen Ausführungsform kann die Erfindung dadurch gekennzeichnet sein, dass sie eine verschließbare Box zur Aufnahme eines plattenförmigen Objekts, wie einer Maske, ist und einen Deckel und einen Boden aufweist, wobei am Deckel und am Boden Vorsprünge als Halteelemente angeordnet sind, die jeweils eine plane Kante mit daran angeordneten Po lymerpolstern aufweisen und das plattenförmige Objekt zwischen den Polymerpolstern der Vorsprünge gehaltert werden kann. Auf diese Weise wird das plattenförmige Objekt sowohl an seiner Ober- als auch an seiner Unterseite gehaltert, was einen besonders sicheren Transport und einen guten Schutz vor Umwelteinflüssen ermöglicht. Bei dieser Ausführungsform der vorliegenden Erfindung entfernt man sich vom Konzept des klassischen Pellicle-Rahmens durch Bereitstellen einer optimierten Aufbewahrungsvorrichtung für eine photolithographische Maske.

Die Vorsprünge können ähnlich wie die Kanten der Pellicle-Rahmen ausgeführt sein, es ist jedoch auch möglich, für den jeweiligen Einsatzzweck und optimiert auf Gewicht oder Schwungmassen der zu schützenden plattenförmigen Objekte, wie photolithographischer Masken, optimierte Vorsprünge bereit zu stellen.

Die erfindungsgemäße Box kann zusätzlich ein Sicht/Inspektionsfenster aufweisen, um zum Beispiel eine Inspektion von Masken zu ermöglichen. Dieses Sichtfenster weist vorzugsweise die Eigenschaft einer DUV-Durchlässigkeit im Wellenlängenbereich von 157-365 nm auf, mit der Folge, dass eine bei entsprechendem Licht durchgeführte Inspektion ohne Entfernung der Maske aus der Box möglich ist.

Vorzugsweise ist der Deckel der Box so gestaltet, dass er durch eine Schiebebewegung oder eine Drehbewegung abgenommen werden kann. Auf diese Weise können die zum Trennen von Objekt und Vorsprüngen notwendigen Scherkräfte, die der Überwindung der Viskosität der Polymerpolster dienen, einfach ausgeübt werden. Klappdeckel sind hingegen weniger vorteilhaft, da sie eine orthogonale Bewegung der Polymerpolster verursachen würden, die höhere Reaktionshaltekräfte der Polster und möglicherweise deren Zerreißen mit den daraus folgenden Rückstandsbildungen auf dem Objekt bewirken würden.

Der Grenzwert der ausübbaren orthogonalen Zugkräfte (also von dem Objektoberfläche weggerichteten Kräfte), bei denen es nicht zu einer Überwindung der Adhäsion des Polymerpolsters kommt, sollte so groß sein, dass beim üblichen Handhaben die Schutzvorrichtung an der Oberfäche fixiert bleibt und der Grenzwert der ausübbaren parallelen Scherkräfte (also Kräfte, die im wesentlichen parallel zu der Objektoberfläche ausgeübt werden) nicht zu einer Überwindung der Adhäsion des Polymerpolsters kommt, sollte so klein sein, dass ihre Überwindung durch manuelles oder mechanisches seitliches Verschieben der Komponenten zueinander möglich ist.

Die Erfindung ist weiter auf ein Verfahren gerichtet. Alles bezüglich der Vorrichtung Gesagte gilt auch für das nachfolgend vorgestellte Verfahren und umgekehrt, so dass wechselseitig Bezug genommen wird.

Das erfindungsgemäße Verfahren zur Verwendung einer geschützten photolithographischen Maske weist folgende Schritte auf:
Bereitstellen einer Anordnung mit einem plattenförmigen Objekt und einer Schutzvorrichtung mit zumindest einem Halteelement mit einer planen ersten Kante, einem Schutzelement zum Schutz zumindest einer Oberfläche des plattenförmigen Objekts, einem an der ersten Kante angeordneten Polymerpolster, das mit einem peripheren Bereich der Oberfläche des Objekts in Kontakt steht, wobei das Polymerpolster aus einem Polymer besteht, dessen Viskosität und/oder Adhäsivität bei auf die Schutzvorrichtung ausgeübten Zugkräften orthogonal zum peripheren Bereich des Objekts größer ist als bei auf die Schutz vorrichtung ausgeübten Scherkräften parallel zum peripheren Bereich;
Trennen von Objekt und Schutzvorrichtung durch Ausüben einer hinreichenden Scherkraft, die zu einer lateralen Relativbewegung von Objekt und Schutzvorrichtung zur Überwindung der Adhäsion führt;
Verwenden des Objekts für einen vorgesehenen Zweck; und nach Abschluss der Verwendung Verbinden von Objekt und Schutzvorrichtung durch orthogonales Zusammenführen von Objekt und Schutzvorrichtung bezüglich der Oberfläche und der Kante.

Das Verfahren zielt also darauf ab, beim Trennen von Schutzelement und plattenförmigem Objekt eine parallel zur Oberfläche des Objekts laufende Bewegung bzw. Krafteinwirkung auszuüben, um die beiden Elemente voneinander trennen zu können, und beim Zusammenfügen die beiden Elemente orthogonal aufeinander zu setzen, um die Adhäsivkräfte wieder herzustellen.

Vorzugsweise handelt es sich bei dem plattenförmigen Obbjekt um eine lithhographische Maske, beispielsweise eine Reflexionsmaske, und die Verwendung ist eine Belichtung eines Wafers.

Insbesondere wird es bevorzugt, dass die für das erfindungsgemäße Verfahren verwendete Schutzvorrichtung eine erfindungsgemäße, oben offenbarte Schutzvorrichtung ist.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann nach dem Trennen von Schutzvorrichtung und plattenförmigem Objekt den weiteren Schritt aufweisen:
Reinigen des Objekts von Rückständen des Polymerpolsters.

Auf diese Weise können eventuell an dem plattenförmigen Objekt zurückbleibende Rückstände des Polymerpolsters entfernt werden und damit, insbesondere im Bereich von Maskenstrukturen bei Masken, das Auftreten von Fehlern bei der Belichtung von Wafern vermieden werden.

Vorzugsweise wird das Reinigen durch eine Bestrahlung mit einer Xenon-W-Excimer-Lampe unter einem O₂/N₂-Gasgemisch durchgeführt, welches sich als effektiv zur Entfernung von Polymerpolsterresten herausgestellt hat.

Im Folgenden wird die Erfindung anhand konkretisierter Ausführungsbeispiele näher erläutert werden, wobei auf den konkreten Anwendungsfall einer lithographischen Maske abgestellt wird und auf die. beigefügten Zeichnungen Bezug genommen werden wird, in denen Folgendes dargestellt wird:
1 zeigt eine erste Ausführungsform der vorliegenden Erfindung mit einem Aufbau ähnlich einem herkömmlichen Pellicle-Rahmen; und
2 zeigt eine weitere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, bei der die photolithographische Maske mittels einer Box geschützt ist.
Die Schutzvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet Polymerpolster aus bestimmten für diesen Zweck geeigneten Polymeren zur Verbindung der Schutzvorrichtung mit der photolithographischen, zu schützenden Maske. Sie können beispielsweise auf herkömmliche Pellicle-Rahmen aufgetragen werden, und diese Rahmen können als temporärer Partikelschutz verwendet werden. Durch leichte mechanische Scherkräfte lassen sich die Haftkräfte überwinden und das Pellicle von der Maske ohne zusätzliche Partikelerzeugung lösen. Eventuell dabei anfallende leichte organische Rückstände im Falle eines adhäsiv-koesiven Bindungsbruchs im Polymer nahe der Maskenoberfläche liegen in Monolagenbereichen und lassen sich daher durch eine kurze Bestrahlung der Maske mit einer Xe-UV-Excimer-Lampe im O₂/N₂-Gasgemisch innerhalb von Minuten entfernen.
1 zeigt eine erste Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, bei der eine photolithographische Maske 1 durch eine Schutzvorrichtung 2 an ihrer Oberseite geschützt werden soll. Die Schutzvorrichtung 2 weist einen Rahmen 3 auf, der beispielsweise einem üblichen Pellicle-Rahmen entsprechen kann, sowie eine Membran 4 aus einem Polymer oder einer Metallfolie oder ähnlichem. Ein Vorteil bei der vorliegenden Erfindung ist die große Erweiterbarkeit des für die Membran verwendbaren Materials, da keine Rücksicht auf die optische Durchgängigkeit genommen werden muss, da die Membran lediglich dem Lager- und Transportschutz vor Partikeln dient, nicht hingegen während des eigentlichen Belichtungsvorganges auf der Maske verbleibt. Auch Metallfolien sind daher zur Verwendung als Membran hier geeignet. Auch kann die Membran, falls gewünscht, dicker sein, um so einen besseren mechanischen Schutz zu gewährleisten. Erfindungsgemäß befindet sich zwischen einer Kante 3a des Rahmens 3 und der Maske 1 ein Polymerpolster 5 aus den zuvor beschriebenen spezifischen Polymeren mit Vorzugsrichtungseigenschaften. Das Polymerpolster bewirkt eine Anhaftung der Schutzvorrichtung 2 an der Maske 1 und gewährleistet damit deren Schutz vor Partikelablagerung.
In der 2 ist das Konzept der Schutzvorrichtung weiter entwickelt bis zu einer die Maske komplett umgebenden Schutzbox. Die Maske 1 befindet sich im Inneren der Schutzvorrich tung 2, die eine Box 6 ist. Die Box 6 weist Seitenwände 7 auf, einen Deckel 8 und einen Boden 9 auf. Am Deckel 8 sind Vorsprünge 10 und am Boden 9 sind Vorsprünge 11 angeordnet. An den Kanten 10a. 11a der Vorsprünge sind jeweils Polymerpolster 12 bzw. 13 angeordnet. Die Vorsprünge 10 und 11 sind so bemessen, dass sie zusammen mit dem Polymerpolster so weit in die Box hinein ragen, dass sie die aufzunehmende Maske 1 zwischen den Polymerpolstern haltern können. Auf diese Weise lässt sich ein Schutz sowohl gegen Einflüsse auf der Strukturseite der Maske 1 als auch auf der anderen Oberfläche der Maske 1 erzielen. Gegebenenfalls kann der Deckel 8 der Box 6 ein Inspektionsfenster 14 aus einem durchsichtigen Material, beispielsweise aus Glas oder aus einem Polymer, enthalten, um eine Inspektion der darunter befindlichen Maske bzw. die Feststellung der Anwesenheit der Maske zu ermöglichen.
Der besondere Vorteil der vorliegenden Erfindung liegt in der Einführung einer neuen preiswerten Hafttechnik für Rahmen auf lithographischen Masken oder anderen zu schützenden plattenförmigen Objekten mit empfindlichen Oberflächen. Die Erfindung ist in ihrem Einsatzzweck nicht auf Reflexionsmasken beschränkt, obwohl sie im Hinblick auf diese entwickelt worden ist, sondern kann beispielsweise auf für Durchlichtmasken eingesetzt werden. Auch andere Objekte, die man als Maske bezeichnen kann, und deren Oberfläche bei Lagerung partikelfrei bleiben sollen, können damit geschützt werden. Einsatzgebiete sind beispielsweise in der optischen Industrie, wo hochreine Oberflächen während Zwischenstufen der Produktherstellung Wünschenswerterweise erhalten bleiben sollen, um das Einschließen von Staubpartikel oder ähnlichem in beispielsweise photographischen Objektiven oder Teleskopen zu verhindern. Weitere Einsatzgebiete liegen im Bereich der Kenntnisse des Fachmanns auf dem Gebiet der Partikelschutztechnik. Durch die Verwendung der genannten Polymere können weiterhin herkömmliche preiswerte Standardpellicle zum Schutz photolithographischer Masken verwendet werden. Dies spart Kosten und Entwicklungszeit. Außerdem wird das Problem der Kontakt induzierten Partikelerzeugung durch die Verwendung hochviskoser weicher Polymer umgangen. Ausgasungen der verwendeten Materialien sind klar identifiziert und ihre Beseitigung mittels Xe-Lampen unproblematisch.

1: Plattenförmiges Objekt/Maske
2: Schutzvorrichtung
3: Rahmen
3a: Rahmenkante
4: Membran
5: Polymerpolster
6: Box
7: Seitenwandung
8: Deckel
9: Boden
10: Deckelvorsprung
10a: Kante des Deckelvorsprungs
11: Bodenvorsprung
11a: Kante des Bodenvorsprungs
12: Polymerpolster
13: Polymerpolster
14: Sicht-Inspektionsfenster (zur DUV-Inspektion)

Claims

Schutzvorrichtung (2) für plattenförmige Objekte (1), umfassend: zumindest ein Halteelement (3, 10) mit einer planen ersten Kante und einem Schutzelement zum Schutz zumindest einer Oberfläche eines plattenförmigen Objekts (1); gekennzeichnet durch ein an der ersten Kante (3a) angeordnetes Polymerpolster (5, 12, 13), das mit einem peripheren Bereich der Oberfläche in Kontakt gebracht werden kann; wobei das Polymerpolster (5, 12, 13) aus einem Polymer besteht, dessen Viskosität und/oder Adhäsivität bei auf die Schutzvorrichtung (2) ausgeübten Zugkräften orthogonal zum peripheren Bereich des Objekts (1) größer ist als bei auf die Schutzvorrichtung (2) ausgeübten Scherkräften parallel zum peripheren Bereich.
Schutzvorrichtung (2) gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das plattenförmige Objekt (1) eine lithographische Maske ist.
Schutzvorrichtung (2) gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Polymer des Polymerpolsters (5) ausgewählt ist aus TESA 7475 (TM), Poly-Dimethoxysilanen oder "Eastotac"-PSAs auf Basis niedermolekularer aliphatischer Kohlenwasserstoffharze.
Schutzvorrichtung (2) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine Schutzhaube ist, aufweisend als Halteelement einen Rahmen (3) mit einer seitlich umlaufenden Wandung und der planen ersten Kante (3a) an der Wandung, und als Schutzelement eine über den Rahmen (3) gespannte Membran (4), welche den gesamten Rahmen (3) überdeckt, wobei der Rahmen (3) mit seinem Polymerpolster (5) auf den peripheren Bereich des plattenförmigen Objekts (1) aufsetzbar ist.
Schutzvorrichtung (2) gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Rahmen (3) eine zweite, zur ersten im wesentlichen parallele Kante aufweist und die Membran (4) an der zweiten Kante befestigt ist.
Schutzvorrichtung (2) gemäß Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Membran (4) aus einem Polymer oder einem kristallinem Material besteht.
Schutzvorrichtung (2) gemäß einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Wandung des Rahmens (3) eine Höhe von 5 mm bis 10 mm, gemessen von der Oberfläche des plattenförmigen Objekts (1) bis zur Membran (4), aufweist.
Schutzvorrichtung (2) gemäß einem der Ansprüche 4 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass sie ein Pellicle-Rahmen ist, auf dessen membranabgewandte Rahmenkante (3a) das Polymerpolster (5) aufgebracht ist.
Schutzvorrichtung (2) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine verschließbare Box (6) zur Aufnahme eines plattenförmigen Objekts (1) ist und einen Deckel (8) und einen Boden (9) aufweist, wobei am Deckel (8) und am Boden (9) Vorsprünge (10, 11) als Halteelemente angeordnet sind, die jeweils eine plane Kante (10a, 11a) mit daran angeordneten Polymerpolstern (12, 13) aufweisen, und das plattenförmige Objekt (1) zwischen den Polymerpolstern (12, 13) der Vorsprünge (10, 11) gehaltert werden kann.
Schutzvorrichtung (2) gemäß Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Box (6) ein Sicht-/Inspektionsfenster (14) aufweist.
Schutzvorrichtung (2) gemäß Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Deckel (8) der Box (6) durch eine Schiebebewegung oder eine Drehbewegung abgenommen werden kann.
Schutzvorrichtung (2) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass der Grenzwert der ausübbaren orthogonalen Zugkräfte, bei denen es nicht zu einer Überwindung der Adhäsion des Polymerpolsters (5, 12, 13) kommt, so groß ist, dass beim üblichen Handhaben die Schutzvorrichtung (2) an der Oberfläche fixiert bleibt; und der Grenzwert der ausübbaren parallelen Scherkräfte, bei denen es nicht zu einer Überwindung der Adhäsion des Polymerpolster kommt, so klein ist, dass ihre Überwindung durch manuelles oder mechanisches seitliches Verschieben möglich ist.
Verfahren zur Verwendung eines geschützten plattenförmigen Objekts (1), die folgenden Schritte aufweisend: – Bereitstellen einer Anordnung mit einem plattenförmigen Objekt (1) und einer Schutzvorrichtung (2) mit zumindest ei nem Halteelement (3, 10, 11) mit einer planen ersten Kante (3a, 10a, 11a); einem Schutzelement (4, 8) zum Schutz zumindest einer Oberfläche des plattenförmigen Objekts (1); einem an der ersten Kante (3a, 10a, 11a)angeordnetes Polymerpolster (5, 12, 13), das mit einem peripheren Bereich der Oberfläche des Objekts (1) in Kontakt ist; wobei das Polymerpolster (5, 12, 13) aus einem Polymer besteht, dessen Viskosität und/oder Adhäsivität bei auf die Schutzvorrichtung (2) ausgeübten Zugkräften orthogonal zum peripheren Bereich des Objekts (1) größer ist als bei auf die Schutzvorrichtung (2) ausgeübten Scherkräften parallel zum peripheren Bereich; – Trennen von Objekt (1) und Schutzvorrichtung (2) durch Ausüben einer hinreichenden Scherkraft, die zu einer lateralen Relativbewegung von Objekt (1) und Schutzvorrichtung (2) zur Überwindung der Adhäsion führt; – Verwenden des Objekts (1) für einen vorgesehenen Zweck; und – Verbinden von Objekt (19 und Schutzvorrichtung (2) durch orthogonales Zusammenführen von Objekt (1) und Schutzvorrichtung (2) bezüglich der Oberfläche und der Kante (3a, 10a, 11a).
Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass das plattenförmige Objekt (1) eine lithographische Maske ist.
Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzvorrichtung (2) eine Schutzvorrichtung (2) nach einem der Ansprüche 1 bis 12 ist.
Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass es den weiteren Schritt nach dem Trennen aufweist: – Reinigen des Objekts (1) von Rückständen des Polymerpolsters (5, 12, 13).
Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass zum Reinigen eine Bestrahlung mit einer Xe-UV Excimer Lampe unter O₂/N₂-Gasgemisch durchgeführt wird.
Verwendung einer Box mit Sicht-/Inspektionsfenster nach einem der Ansprüche 10 bis 12 zur Inspektion mit DUV-Licht, vorzugsweise in einem Wellenlängenbereich von 157 nm bis 365 nm.