DE10245551A1 - Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung - Google Patents

Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung Download PDF

Info

Publication number
DE10245551A1
DE10245551A1 DE10245551A DE10245551A DE10245551A1 DE 10245551 A1 DE10245551 A1 DE 10245551A1 DE 10245551 A DE10245551 A DE 10245551A DE 10245551 A DE10245551 A DE 10245551A DE 10245551 A1 DE10245551 A1 DE 10245551A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
current
circuit arrangement
voltage
semiconductor circuit
hall sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE10245551A
Other languages
English (en)
Inventor
Carsten Ohlhoff
Peter Beer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Qimonda AG
Original Assignee
Infineon Technologies AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies AG filed Critical Infineon Technologies AG
Priority to DE10245551A priority Critical patent/DE10245551A1/de
Priority to US10/675,761 priority patent/US6891431B2/en
Publication of DE10245551A1 publication Critical patent/DE10245551A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R15/00Details of measuring arrangements of the types provided for in groups G01R17/00 - G01R29/00, G01R33/00 - G01R33/26 or G01R35/00
    • G01R15/14Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks
    • G01R15/20Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using galvano-magnetic devices, e.g. Hall-effect devices, i.e. measuring a magnetic field via the interaction between a current and a magnetic field, e.g. magneto resistive or Hall effect devices
    • G01R15/202Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using galvano-magnetic devices, e.g. Hall-effect devices, i.e. measuring a magnetic field via the interaction between a current and a magnetic field, e.g. magneto resistive or Hall effect devices using Hall-effect devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R19/00Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof
    • G01R19/0092Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof measuring current only

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)
  • Measuring Magnetic Variables (AREA)
  • Measuring Instrument Details And Bridges, And Automatic Balancing Devices (AREA)

Abstract

Um bei einer integrierten Schaltungsanordnung mit einer Schaltungseinrichtung (20), welche durch eine Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung (40) versorgt wird, möglichst einfach eine Messung der Stromaufnahme der Schaltungseinrichtung (20) mittels einer Strommesseinrichtung (40) durchführen zu können, ohne dass es zusätzlicher Messeinrichtungen bedarf, wird vorgeschlagen, die Schaltungsanordnung (20), die Strommesseinrichtung (50) sowie die Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung (40) in einem gemeinsamen Chip (30) integriert auszubilden und die Strommesseinrichtung (50) mit einer Hallsensoreinrichtung (60) auszubilden.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine integrierte Halbleiterschaltungsanordnung.
  • Bei der Entwicklung und Produktion von Halbleiteranordnungen, zum Beispiel von Speichereinrichtungen, Memorychips, Wafern, Halbleitermodulen, ist während des Entwicklungsvorgangs oder auch während verschiedener Zwischenstufen der Produktion ein Testen der Halbleitereinrichtungen notwendig, um die Funktionsweise der Halbleitereinrichtungen zu garantieren und um Qualitätssicherheit gewährleisten zu können. Dabei werden neben verschiedenen Funktionsparametern gegebenenfalls auch die elektrische Leistungsaufnahme oder dergleichen für die einzelnen Halbleitereinrichtungen individuell ermittelt.
  • Problematisch bei derartigen Funktionstests, die die Parameter der elektrischen Leistungsaufnahme bestimmen, sind der Einfluss des Testvorgangs auf das Testergebnis selbst sowie der zeitliche und apparative Aufwand solcher Tests.
  • Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung zu schaffen, mit welcher die elektrische Stromaufnahme betreffende Betriebsparameter individuell und gleichwohl besonders flexibel und verlässlich ohne großen Aufwand bestimmt werden können.
  • Die Aufgabe wird bei Halbleiterschaltungsanordnung erfindungsgemäß mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der erfindungsgemäßen Halbleiterschaltungsanordnungen sind Gegenstand der abhängigen Unteransprüche.
  • Die erfindungsgemäße integrierte Halbleiterschaltungsanordnung weist eine Schaltungseinrichtung, eine Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung zur Versorgung der Schaltungseinrichtung sowie eine Strommesseinrichtung zur Messung der Stromaufnahme der Schaltungseinrichtung über die Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung auf. Erfindungsgemäß sind die Schaltungseinrichtung, die Strommesseinrichtung sowie mindestens ein Teil der Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung in einem gemeinsamen Halbleitermaterialbereich oder Chip integriert ausgebildet. Erfindungsgemäß weist die jeweilige Strommesseinrichtung weiter jeweils mindestens eine Hallsensoreinrichtung auf.
  • Es ist somit eine erste grundlegende Idee der vorliegenden Erfindung, die Schaltungseinrichtung, die Strommesseinrichtung sowie mindestens einen Teil der Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung in einem gemeinsamen Halbleitersubstrat oder Chip integriert auszubilden, wodurch eine besonders kompakte Bauweise erzielt wird.
  • Es ist eine weitere grundlegende Idee der vorliegenden Erfindung, dabei die individuelle Strommesseinrichtung für die Halbleiterschaltungsanordnungen mit mindestens einer Hallsensoreinrichtung auszubilden. Dadurch kann die Aufnahme elektrischen Stroms durch die jeweilige individuelle Halbleitereinrichtung unter weitestgehender Vermeidung oder Verringerung einer direkten Beeinflussung der Messung ermittelt wer den. Es lässt sich somit über die Hallsensoreinrichtung ein unverfälschtes oder weniger stark verfälschtes Messergebnis im Hinblick auf den von der individuellen Halbleiterschaltungsanordnung aufgenommenen elektrischen Strom ermitteln.
  • Vorteilhafterweise ist die jeweilige Hallsensoreinrichtung zum Messen eines in der jeweiligen Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung fließenden elektrischen Stroms über ein durch diesen Strom erzeugbares Magnetfeld ausgebildet.
  • Grundsätzlich kann erfindungsgemäß die Hallsensoreinrichtung mit einem einzelnen Hallsensor ausgebildet sein, der dann für einen bestimmten Messbereich im Hinblick auf das auf ihn auftreffende Magnetfeld und somit im Hinblick auf den durch die jeweilige zugeordnete Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung fließenden elektrischen Strom ausgebildet ist.
  • Unter Umstaänden besitzen Hallsensoren aber einen vergleichsweise engen Messbereich. Deshalb ist es von besonderem Vorteil, wenn eine Mehrzahl von Hallsensoren vorgesehen ist, wobei eine Mehrzahl höchstens zum Teil sich überdeckender Messbereiche ausgebildet wird, so dass, insgesamt gesehen, der durch eine zugeordnete individuelle Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung fließende elektrische Strom besonders verlässlich über einen breiten Wertebereich hinweg detektiert werden kann.
  • Zur weiteren Verbesserung der Messbereichscharakteristika und zur Verbesserung der Empfindlichkeit der jeweiligen Hallsensoren ist für die Hallsensoreinrichtung oder für jeden Hall sensor eine Magnetfeldbündelungseinrichtung ausgebildet und vorgesehen, welche jeweils zur Bündelung des durch Stromfluss in der zugeordneten Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung entstehenden Magnetfeldes auf die Hallsensoreinrichtung bzw. auf den jeweiligen Hallsensor ausgebildet ist.
  • Dies kann zum Beispiel dadurch realisiert werden, dass als Magnetfeldbündelungseinrichtung jeweils ein weichmagnetisches Material vorgesehen wird. Dieses kann zum Beispiel aus Ferrit oder dergleichen bestehen.
  • Ferner ist es vorgesehen, dass die Magnetfeldbündelungseinrichtung den Querschnitt der jeweiligen zugeordneten und individuellen Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung an zumindest einer Stelle im Wesentlichen umschließt. Damit wird erreicht, dass ein Großteil der durch die Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung erzeugten Magnetfeldlinien und also der magnetische Fluss die durch das Umschließen durch die Magnetfeldbündelungseinrichtung gebildete Fläche durchmessen.
  • Weiterhin ist es zur Bündelung vorgesehen, dass die Magnetfeldbündelungseinrichtung einen Spalt aufweist und dass die Hallsensoreinrichtung oder der jeweilige zugeordnete Hallsensor im Bereich des Spalts angeordnet ist.
  • Hallsensoren können im direkten Magnetfeldmessbetrieb eingesetzt werden, bei welchem durch die aufgrund der wirkenden Lorenzkräfte erzeugte Hallspannung die Magnetfeldstärke oder magnetische Flussdichte bzw. der entsprechende Stromfluss direkt ermittelt werden. Es bietet sich aber eine indirekte Technik genau dann an, wenn eine höhere Genauigkeit erzielt werden soll. Diese indirekte Technik kann zum Beispiel im Rahmen eines so genannten Kompensationsverfahrens durchgeführt werden, wobei dann die Hallsensoreinrichtung jeweils als Kompensationsstromwandler oder als Closed-Loop-Hall-Transducer ausgebildet ist. Dabei wird durch eine zusätzliche Einrichtung in der Hallsensoreinrichtung ein Magnetfeld erzeugt, welches die Flussdichte des eigentlich zu messenden Feldes am Ort des Hallsensors möglichst genau kompensiert. Auf der Grundlage einer entsprechenden Eichung und Kalibrierung kann dann z.B. der Stromfluss, welcher zur Kompensation notwendig ist, als Maß für das eigentlich zu messende Magnetfeld und somit als Maß für den eigentlich zu messenden Strom in der zugeordneten individuellen Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung herangezogen werden.
  • Dazu ist es insbesondere vorgesehen, dass eine Magnetfeldkompensationseinrichtung ausgebildet ist, insbesondere im Bereich der Magnetfeldbündelungseinrichtung, und weiter vorzugsweise um das weichmagnetische Material herum.
  • Bei einer anderen bevorzugten Ausführungsform der integrierten Halbleiterschaltungsanordnung ist es vorgesehen, dass die Hallsensoreinrichtung in einem Halbleitermaterial, insbesondere in Silizium ausgebildet ist. Dadurch ergibt sich eine besonders ungestörte und direkte Beaufschlagung der Hallsensoreinrichtung mit einem extern angelegten Magnetfeld.
  • Ferner ist es bei einer anderen Alternative der vorliegenden Erfindung vorgesehen, dass eine Kompensationseinrichtung ausgebildet ist, welche zum Ausgleichen eines im Betrieb über die Hallsensoreinrichtung auftretenden Spannungsabfalls der Betriebsspannung VDD ausgebildet ist. Dadurch kann eine Messung während des normalen Betriebs der Halbleiterschaltungsanordnung stattfinden, ohne dass die Betriebsparameter durch den Messprozess maßgeblich beeinflusst werden.
  • Bei einer besonders vorteilhaften Ausführungsform der erfindungsgemäßen integrierten Halbleiterschaltungsanordnung ist diese zur externen Messung der Hallspannung der Hallsensoreinrichtung und damit zur externen Messung des durch die Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung fließenden Stroms ausgebildet. Ferner ist dabei insbesondere vorgesehen, dass zwei Ausgabeanschlüsse zum Abgriff dieser Hallspannung ausgebildet sind. Nach Abgriff der Hallspannung oder der Hallspannungen über die Ausgabeanschlüsse können diese extern weiter verarbeitet und ausgewertet werden.
  • Alternativ oder zusätzlich ist es vorgesehen, dass die integrierte Halbleiterschaltungsanordnung zur internen Messung einer Hallspannung der Hallsensoreinrichtung und damit zur internen Messung des durch die Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung fließenden Stroms ausgebildet ist.
  • Dabei ist es besonders vorteilhaft, wenn zur internen Strommessung oder Hallspannungsmessung ein Vergleichsspannungsanschluss ausgebildet ist, welcher dem Empfang einer extern zuführbaren oder zugeführten Vergleichsspannung dient. Ferner ist dabei eine Vergleichseinrichtung ausgebildet, welcher die Vergleichsspannung des Vergleichsspannungsanschlusses sowie die Hallspannung der Hallsensoreinrichtung zuführbar sind und welche zum Vergleichen der Hallspannung mit der Vergleichs- Spannung ausgebildet ist. Über eine derartige Vergleichsoperation lässt sich somit feststellen, ob die intern sich aufbauende Hallspannung des Hallsensors mit der extern zugeführten Vergleichsspannung übereinstimmt, in welchem Fall dann Rückschlüsse gezogen werden können auf den tatsächlichen Wert des durch die Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung fließenden Stroms.
  • Bei einer anderen vorteilhaften Weiterbildung der erfindungsgemäß integrierten Halbleiterschaltungsanordnung ist es von Vorteil, dass ein Register vorgesehen ist, in welchem für den in der Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung fließenden elektrischen Strom repräsentative Daten oder Signale auslesbar speicherbar sind.
  • Dabei ist es insbesondere vorgesehen, dass mindestens ein Ein-/Ausgabeanschluss ausgebildet ist, welcher zum schreibenden und/oder lesenden Zugriff auf das Register ausgebildet und vorgesehen ist. Durch diese Maßnahme ergibt sich eine besonders direkte und einfache Kommunikation mit der integrierten Halbleiterschaltungsanordnung während eines ausgeführten Tests.
  • Diese und weitere Aspekte der vorliegenden Erfindung ergeben sich auch aufgrund der nachfolgend ausgeführten weiteren Erläuterungen:
    Testkosten spielen bei der Fertigung von Halbleiterschaltkreisen, z. B. von DRAMs, eine immer größere Rolle. Es sind daher neue Konzepte erforderlich, um die Parallelität beim Testen zu erhöhen bzw. die Anforderungen an den externen Tester zu reduzieren, um auf diese Weise die Kosten zu reduzieren. Ein Ansatz in diese Richtung ist der sog. Selbsttest (BIST = Build In Selftest), bei dem der Test durch geeignete Zusatzschaltungen auf dem zu testenden Chip selbst durchgeführt wird.
  • Die erfindungsgemäß vorgeschlagene Methode erlaubt es, den Versorgungsstrom ICC auf dem Chip selbst zu messen. Externe Messgeräte sind nicht erforderlich. Die vorgeschlagene Metho-Datenelement liefert so eine Lösung für das bisher bestehende Problem, dass zwar die logische Funktionalität durch einen BIST abgetestet werden kann, für die Strommessungen aber nach wie vor externes Messgerät erforderlich sit.
  • Strom wird bisher extern mit einer so genannten DC-Measurement-Unit gemessen. Dazu ist ein entsprechend ausgestatteter Tester erforderlich, der beim Paralleltest für jeden zu testenden Chip eine separate Messeinheit und eine individuelle Versorgungsspannungszuleitung benötigt. Es kann also nicht eine gemeinsame Spannungsversorgung für mehrere parallel getestete Chips genutzt werden, was auch den Verdrahtungsaufwand des Loadboards (PCB, das als Interface zwischen Tester und Baustein dient) erhöht.
  • Es wird ein Verfahren vorgeschlagen, das den Verbrauchsstrom auf dem Chip messen kann. Es gelten Vorteile einer parallelen On-Chip-Messung gegenüber der immer noch verwendeten Methode der externen Messung mit einem Strommessgerät:
    • – Es kann ein Verbrauchsstrom auf dem Chip ohne externes Messgerät durchgeführt werden.
    • – Es kann während des Tests eine gemeinsame Spannungsquelle für mehrere parallel getestete Chips verwendet werden.
    • – Testzeiten können verkürzt werden, da der Strom auf allen Chips gleichzeitig gemessen werden kann.
  • Es wird hier eine weitere Messmethode, nämlich die On-Chip-Strommessung mittels einer Hall-Sonde vorgeschlagen. Weitere Vorteile sind dabei:
    • – eine einfachere Implementierung auf dem Chip,
    • – eine verbesserte Prozessunabhängigkeit der Strommessung und
    • – ein geringerer Einfluss der Schaltung auf die normale Chip-Funktionalität.
  • Eine Kernidee besteht in der Implementierung einer Hall-Sonde auf dem Chip zur Messung der Stromaufnahme (ICC-Messung).
  • 1 unten zeigt die Schaltung für die On-Chip-Strommessung mit Hilfe einer Hall-Sonde. Der gesamte Strom, der über ein oder mehrere Versorgungsspannungsanschlüsse (VDD-Pads) in die Chip-Schaltung fließt, wird über eine Hall-Struktur geleitet. Diese Struktur wird vorzugsweise im Silizium ausgeführt, da hier die Elektronendichte niedrig und somit das benötigte Magnetfeld klein und das Messsignal groß ist.
  • Einem möglichen Spannungsabfall über die Hallstruktur kann begegnet werden, indem das extern angelegte VDD entsprechend erhöht wird. Verfügt der Chip intern über ein geregeltes Spannungsnetz, so sollte der Messpunkt für den Spannungsreg ler vorteilhafterweise auf der Ausgangsseite der Hall-Sonde liegen, so dass mögliche Spannungsabfälle automatisch korrigiert werden.
  • Um den parasitären Widerstand der Hall-Sonde im Normalbetrieb zu vermeiden, kann es vorteilhaft sein, für die Messung ein spezielles VDD-Pad vorzusehen, das ausschließlich bei der Strom-Messung zum Anlegen der Versorgungsspannung genutzt wird. Während der Messung können dann alle anderen VDD-Anschlüsse extern hochohmig geschaltet werden, womit auch sichergestellt ist, dass der gesamte Strom über die Hall-Sonde fließt. In der Praxis bedeutet eine so durchgeführte Verringerung der VDD-Anschlüsse allerdings, dass der Strom nur für Betriebszustände gemessen werden kann, bei denen die Stromergiebigkeit dieses speziellen Testanschlusses nicht überschritten wird.
  • Die Ausgangspads P1 und P2 sind die Messanschlüsse der Hall-Struktur. Ein über den Wafer homogenes Magnetfeld wird extern angelegt. Damit kann an den Anschlüssen P1/P2 eine zum Strom durch die Sonde proportionale Hallspannung gemessen werden:
    Figure 00100001
    mit der Ladungsträgerkonzentration n, der Schichtdicke d, Magnetfeld B, Strom ICC, Hallspannung UH.
  • Diese Spannungsmessung kann auch chip-intern erfolgen. Dazu wird von außen eine Vergleichsspannung eingeprägt. Diese wird mit einem on-Chip-Differenzverstärker mit der Spannung am Messanschluss verglichen. Die extern eingeprägte Spannung wird nun über einen bestimmten Messbereich durchgesteppt. Chip-intern wird gespeichert, bei welcher extern angelegten Spannung der Differenzverstärker einen Übergang von 0 nach 1 detektiert. Das wird unten in 2 beschrieben. An einem Pin Vin wird die Vergleichsspannung eingeprägt. Die Spannungen der Messanschlüsse werden getrennt in den Differenzverstärkern mit der eingeprägten Spannung verglichen. Im vorliegenden Beispiel wird mit Hilfe eines internen, über einen seriellen Command-Pin SI beschreibbares, Register gespeichert, welche Referenzspannung aktuell außen an den Chip angelegt wird. Um die Strommessung parallel durchführen zu können, soll das Register so ausgeführt sein, dass die über SI eingegebenen Werte maskiert werden, sobald die interne Hallspannunq mit der externen Referenzspannung übereinstimmt. Dieser Wert kann dann zu einem beliebigen späteren Zeitpunkt über den seriellen Ausgang SO ausgelesen werden. Da das Register lediglich als Referenz dient, um nachträglich für jeden Chip individuell zu ermitteln, bei welcher Referenzspannung der Diff Amp die Übereinstimmung mit UH angezeigt hat, kann alternativ auch ein Counter verwendet werden, der bei jeder Referenzspannungsänderung Vin solange inkrementiert wird, bis die Gleichheitsbedingung erfüllt ist. Über die im Prüfprogramm festgelegten und daher bekannten Spannungsstufen von Vin kann dann UH bzw. ICC bestimmt werden.
  • Möglicherweise wird die Spannung VDD über mehr als ein Chip-Pad eingeprägt. Für diesen Fall muss zuerst ein Knoten geschaffen werden, über den der gesamte Strom ICC fließt. Das kann über ein zusätzliches Pad realisiert werden. Für die Messung werden die VDD-Pads von der Spannungsversorgung ge trennt. Nur über das Messpad 2 wird nun VDD eingeprägt. Für die Messung kann VDD auch etwas höher eingeprägt werden als im Betrieb, falls die Messschaltung einen signifikanten Spannungsverlust erzeugt.
  • Um eine hinreichende Messgenauigkeit zu gewährleisten, sollte zumindest für jedes Los (z. B. 25 Wafer, die gemeinsam prozessiert wurden) einmal die Messung anhand einer analogen Strommessung geeicht werden.
  • Ein Wafer, der viele Chips (DUTs = Device under Test) enthält, wird zur Messung einem homogenen Magnetfeld ausgesetzt.
  • Nachfolgend wird die vorliegende Erfindung weiter auf der Grundlage der beigefügten schematischen Zeichnungen näher erläutert, welche bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung repräsentieren.
  • 1, 2 zeigen zwei bevorzugte Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Halbleiterschaltungsanordnung.
  • Nachfolgend werden Elemente und Komponenten, welche ähnliche Funktionen und Strukturen besitzen, durch dieselben Bezugszeichen bezeichnet, ohne dass in jedem Fall ihres Auftretens eine detaillierte Beschreibung erfolgt oder wiederholt wird. Synonym werden die Begriffe Halbleiterschaltungsanordnung 10 und Halbleitereinrichtung 10 verwendet.
  • 1 zeigt in Form eines schematischen Blockdiagramms den grundsätzlichen Aufbau der erfindungsgemäßen Halbleiterschaltungsanordnung 10. Die zu testende Halbleiterschaltungsanord nung 10 ist dabei auf einer eigenen Testplatine angeordnet und über hier nicht dargestellte Bussysteme mit einer Anordnung zum Testen der Halbleiterschaltungsanordnung 10 steuerbar verbunden. Dabei findet die Ankopplung an eine gemeinsame Strom-/Spannungsversorgungseinheit in paralleler Art und Weise über eine Hauptversorgungsleitungen statt, welche zu einem Versorgungsanschluss PumpenverkippungDD führt. Zur Messung der Stromaufnahme der zu testenden Halbleiterschaltungsanordnungen 10 während des Betriebs oder während eines Tests ist in der Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung 40 eine Strommesseinrichtung 50 in Form einer Hallsensoreinrichtung 60 vorgesehen. Im Betrieb wird die Anordnung 10 in ein externes Magnetfeld B eingebracht. Die quer zur Stromflussrichtung im Hallsensor 60 entstehende Hallspannung kann dann über Anschlüsse P1 und P2 extern abgegriffen werden.
  • Während bei der Ausführungsform der 1 eine externe Messung des durch die Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung 40 fließenden Stroms erfolgt, und zwar durch externen Abgriff der Hallspannung an den Anschlüssen P1 und P2, zeigt 2 eine Ausführungsform, bei welcher eine chipinterne Strommessung erfolgt.
  • Der grundlegende Aufbau der Anordnung der 2 ist mit dem der 1 identisch mit folgenden Unterschieden: Es wird von extern über einen Vergleichsspannungsanschluss PVin eine Vergleichsspannung Vin an die integrierte Halbleiterschaltungsanordnung 10 angelegt. Ferner wird die Hallspannung nicht über Anschlüsse nach außen geführt, sondern zusammen mit der Vergleichsspannung einem in der integrierten Halblei terschaltungsanordnung vorgesehenen Vergleichsbaustein C oder einer Vergleichseinrichtung C zugeführt. Deren Vergleichsergebnis wird einem ebenfalls bei der erfindungsgemäß Halbleiterschaltungsanordnung vorgesehenen internen Register zugeführt und dort gespeichert, um dann später über einen seriellen Ausgangsanschluss SO ausgelesen zu werden. Insgesamt gesehen erfolgt die Kommunikation zusätzlich auch über einen seriellen Eingangsanschluss SI. Beim Testen, d. h. beim Messen des Stroms, welcher in der Strom/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung 40 fließt, kann also zum Beispiel über den Vergleichsspannungsanschluss PVin ein Bereich von Vergleichsspannungen in gerasterter Form angelegt werden. Über den seriellen Eingangsanschluss SI wird dann der jeweilige Wert in das interne Register R eingeschrieben. Es wird aber nur derjenige Spannungswert im internen Register R gespeichert, bei welchem die Vergleichseinrichtung C im Hinblick auf ihre Ausgangssignale einen Nulldurchgang zeigt, wodurch ermittelt wird, dass die dann gerade anliegende aktuelle Vergleichsspannung der im Hallsensor 60 erzeugten Hallspannung entspricht. Über ein Auslesen des jeweilig gespeicherten Spannungswerts im Register R über den seriellen Ausgangsanschluss SO kann dann auf den jeweiligen Stromfluss in der Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung 40 zurückgeschlossen werden.
  • 10
    integrierte Halbleiterschaltungsanordnung
    20
    Halbleitereinrichtung
    30
    Strom-/Spannungsversorgungseinheit
    40
    Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung,
    50
    Strommesseinrichtung
    60
    Hallsensoreinrichtung
    C
    Vergleichseinrichtung
    ICC
    Betriebsstrom
    P1
    Abgreif-/Hallspannungsanschluss
    P2
    Abgreif-/Hallspannungsanschluss
    PVin
    Vergleichspannungsanschluss
    PVDD
    Versorhungsspannungsanschluss
    PVSS
    Anschluss
    R
    Register
    SI
    serieller Eingangsanschluss
    SO
    serieller Ausgangsanschluss

Claims (16)

  1. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung, mit: – einer Schaltungseinrichtung (20), – einer Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung (40), – einer Strommesseinrichtung (50) zur Messung der Stromaufnahme der Schaltungseinrichtung (20) über die Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung (40), – wobei die Schaltungseinrichtung (20), die Strommesseinrichtung (50) sowie mindestens ein Teil der Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung (40) in einem gemeinsamen Halbleitermaterialbereich (30) oder Chip (30) integriert ausgebildet sind und – wobei die Strommesseinrichtung (50) jeweils mindestens eine Hallsensoreinrichtung (60) aufweist.
  2. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Hallsensoreinrichtung (60) zur Messung eines in der jeweiligen Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung (40) fließenden elektrischen Stroms über ein durch diesen Strom erzeugbares Magnetfeld ausgebildet ist.
  3. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hallsensoreinrichtung (60) einen Hallsensor für einen Messbereich oder eine Mehrzahl Hallsensoren für eine Mehrzahl höchstens zum Teil sich überdeckender Messbereiche aufweist.
  4. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass für die Hallsensoreinrichtung (60) oder für jeden Hallsensor eine Magnetfeldbündelungseinrichtung vorgesehen ist, welche zur Bündelung des durch Stromfluss in der zugeordneten Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung (40) entstehenden Magnetfeldes auf die Hallsensoreinrichtung (60) bzw. auf den jeweiligen Hallsensor ausgebildet ist.
  5. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnetfeldbündelungseinrichtung ein weichmagnetischen Material, zum Beispiel, aufweist.
  6. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnetfeldbündelungseinrichtung den Querschnitt der jeweiligen Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung (40) an zumindest einer Stelle im Wesentlichen umschließt.
  7. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, – dass die Magnetfeldbündelungseinrichtung einen Spalt aufweist und – dass die Hallsensoreinrichtung (60) bzw. der jeweilige Hallsensor im Bereich des Spalts angeordnet ist.
  8. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hallsensoreinrichtung (60) jeweils als Kompensationsstromwandler oder Closed-Loop-Hall-Transducer ausgebildet ist.
  9. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass eine Magnetfeldkompensationseinrichtung vorgesehen ist, insbesondere in Form einer Stromleitungseinrichtung im Bereich der Magnetfeldbündelungseinrichtung.
  10. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hallsensoreinrichtung (60) in einem Halbleitermaterial, insbesondere in Silizium ausgebildet ist.
  11. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine Kompensationseinrichtung vorgesehen ist, welche zum Ausgleichen eines im Betrieb über die Hallsensoreinrichtung (60) auftretenden Spannungsabfalls der Betriebsspannung VDD ausgebidet ist.
  12. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, – welche zur externen Messung einer Hallspannung der Hallsensoreinrichtung (60) und damit zur externen Messung des durch die Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung fließenden Stroms ausgebildet ist und – welche dazu insbesondere zwei Ausgabeanschlüsse (P1, P2) zum Abgriff der Hallspannung aufweist.
  13. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, welche zur internen Messung einer Hallspannung der Hallsensoreinrichtung (60) und damit zur internen Messung des durch die Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung fließenden Stroms ausgebildet ist.
  14. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach Anspruch 13, – welche zur internen Strommessung einer Hallspannungsmessung einen Vergleichsspannungsanschluss (PVin) aufweist zum Empfangen einer extern zuführbaren Vergleichsspannung (Vin) und – welche eine Vergleichseinrichtung (C) aufweist, welcher die Vergleichsspannung (Vin) des Vergleichsspannungsanschlusses (PVin) sowie die Hall-spannung der Hallsensoreinrichtung (60) zuführbar ist und welche zum Vergleichen der Hallspannung mit der Vergleichsspannung (Vin) ausgebildet ist.
  15. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein Register (R) vorgesehen ist, in welchem für den in der Strom-/Spannungsversorgungsleitungseinrichtung (40) fließenden elektrischen Strom repräsentative Daten oder Signale auslesbar speicherbar sind.
  16. Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Ein-/Ausgabeanschluss (SI, SO) vorgesehen ist, welcher zum schreibenden und/oder lesenden Zugriff auf das Register (R) ausgebildet und vorgesehen ist.
DE10245551A 2002-09-30 2002-09-30 Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung Ceased DE10245551A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10245551A DE10245551A1 (de) 2002-09-30 2002-09-30 Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung
US10/675,761 US6891431B2 (en) 2002-09-30 2003-09-30 Integrated semiconductor circuit configuration

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10245551A DE10245551A1 (de) 2002-09-30 2002-09-30 Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10245551A1 true DE10245551A1 (de) 2004-04-08

Family

ID=31984267

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10245551A Ceased DE10245551A1 (de) 2002-09-30 2002-09-30 Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6891431B2 (de)
DE (1) DE10245551A1 (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7116094B2 (en) * 2004-07-28 2006-10-03 International Business Machines Corporation Apparatus and method for transmission and remote sensing of signals from integrated circuit devices
US7436196B2 (en) * 2006-02-15 2008-10-14 Apple Inc. Method and apparatus for measuring die-level integrated circuit power variations
US7800389B2 (en) * 2007-07-13 2010-09-21 Allegro Microsystems, Inc. Integrated circuit having built-in self-test features
US20170184635A1 (en) * 2015-12-28 2017-06-29 Everspin Technologies, Inc. Sensing apparatus for sensing current through a conductor and methods therefor

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0418777A (ja) * 1990-05-11 1992-01-22 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体装置
DE19748550A1 (de) * 1997-04-19 1998-10-29 Lust Antriebstechnik Gmbh Verfahren zum Messen von elektrischen Strömen in n Leitern sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE19705767C2 (de) * 1997-02-14 1999-09-02 Vacuumschmelze Gmbh Stromsensor nach dem Kompensationsprinzip
DE19838536A1 (de) * 1998-08-25 2000-03-02 Lust Antriebstechnik Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Bildung eines oder mehrerer Magnetfeldgradienten durch einen geraden Leiter
DE19910801A1 (de) * 1999-03-11 2000-10-05 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung und Verfahren zur Strommessung
DE10100598A1 (de) * 2001-01-09 2002-07-18 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur Sensierung eines Magnetfeldes, Magnetfeldmesser und Strommesser
DE10100884A1 (de) * 2001-01-11 2002-07-25 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur Sensierung eines Magnetfeldes, Magnetfeldmesser und Strommesser

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4205241C2 (de) * 1992-02-21 1997-12-18 Itt Ind Gmbh Deutsche Potentialfreie Datenübertragungseinrichtung
EP0874244B1 (de) 1997-04-19 2002-01-30 LUST ANTRIEBSTECHNIK GmbH Verfahren zum Messen von elektrischen Strömen in n Leitern sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
US6518782B1 (en) * 2000-08-29 2003-02-11 Delta Design, Inc. Active power monitoring using externally located current sensors
DE10144268B4 (de) * 2001-09-08 2015-03-05 Robert Bosch Gmbh Vorrichtung zur Messung der Stärke einer Vektorkomponente eines Magnetfeldes
DE10228764B4 (de) * 2002-06-27 2006-07-13 Infineon Technologies Ag Anordnung zum Testen von Halbleitereinrichtungen

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0418777A (ja) * 1990-05-11 1992-01-22 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体装置
DE19705767C2 (de) * 1997-02-14 1999-09-02 Vacuumschmelze Gmbh Stromsensor nach dem Kompensationsprinzip
DE19748550A1 (de) * 1997-04-19 1998-10-29 Lust Antriebstechnik Gmbh Verfahren zum Messen von elektrischen Strömen in n Leitern sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE19838536A1 (de) * 1998-08-25 2000-03-02 Lust Antriebstechnik Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Bildung eines oder mehrerer Magnetfeldgradienten durch einen geraden Leiter
DE19910801A1 (de) * 1999-03-11 2000-10-05 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung und Verfahren zur Strommessung
DE10100598A1 (de) * 2001-01-09 2002-07-18 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur Sensierung eines Magnetfeldes, Magnetfeldmesser und Strommesser
DE10100884A1 (de) * 2001-01-11 2002-07-25 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur Sensierung eines Magnetfeldes, Magnetfeldmesser und Strommesser

Also Published As

Publication number Publication date
US6891431B2 (en) 2005-05-10
US20040066209A1 (en) 2004-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69733789T2 (de) Hochauflösendes Stromversorgungsprüfsystem
DE60122066T2 (de) Integrierte schaltung mit testinterface
DE102005047413B4 (de) Magnetoresistives Sensorelement und Verfaheren zum Durchführen eines On-Wafer-Funktionstests, sowie Verfahren zur Herstellung von Magnetfeldsensorelementen und Verfahren zur Herstellung von Magnetfeldsensorelementen mit On-Wafer-Funktionstest
DE19960244C1 (de) Anordnung zum Trimmen von Referenzspannungen in Halbleiterchips, insb. Halbleiterspeichern
DE10304880A1 (de) Systeme und Verfahren zum Ermöglichen eines Treiberstärketestens von integrierten Schaltungen
DE102008050018A1 (de) Integrierte Magnetsensorschaltung mit Testleiter
EP1970720B1 (de) Halbleiterbauelement und Verfahren zum Testen eines solchen
DE19915398A1 (de) Skew-Einstellverfahren in einem IC Testgerät und Pseudoeinrichtung zur Verwendung bei dem Verfahren
DE10010457A1 (de) Integrierter Speicher mit Speicherzellen mit magnetoresistivem Speichereffekt
DE19857689B4 (de) Strommeßschaltung für ein IC-Testgerät
DE112008000865T5 (de) Kalibrieren eines Testers bzw. einer Testeinrichtung unter Verwendung von ESD Schutzschaltungen
EP1114325A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur strommessung
DE69730116T2 (de) Verfahren zur inspektion einer integrierten schaltung
DE102005055836B4 (de) Leistungstestplatte
DE2504076A1 (de) Anordnung und verfahren zur kontaktpruefung von halbleiterschaltungen
DE10228764B4 (de) Anordnung zum Testen von Halbleitereinrichtungen
DE102007001023A1 (de) Spannungsüberwachungseinrichtung in einer Halbleiterspeichereinrichtung
DE10214148A1 (de) Halbleiteruntersuchungssytem zur Untersuchung einer integrierten Halbleiterschaltungsvorrichtung und Halbleiteruntersuchungsverfahren unter Verwendung des Halbleiteruntersuchungssystems
DE102007040399A1 (de) Vorrichtung zur galvanisch getrennten Messung der elektrischen Leistungsaufnahme eines Zweipols
DE102006004247A1 (de) Konzept zum Testen einer integrierten Schaltungsanordnung
DE10245551A1 (de) Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung
DE10322246A1 (de) Für Energieversorgung bestimmtes internes Spannungs-Steuergerät mit zwei Schaltkreisen zur Erzeugung von zwei Referenzspannungen für interne Energiezufuhr
DE60223730T2 (de) Vorrichtung zur Überwachung des Ruhestroms einer elektronischen Vorrichtung
DE4319710C1 (de) Testverfahren für einen auf einer Platine eingelöteten IC und Testvorrichtung zum Durchführen des Testverfahrens
DE102020215410A1 (de) Stromstärkemessung

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: QIMONDA AG, 81739 MUENCHEN, DE

8131 Rejection