DE10213577B3 - Verfahren zum simultanen Laserstrahllöten - Google Patents

Verfahren zum simultanen Laserstrahllöten Download PDF

Info

Publication number
DE10213577B3
DE10213577B3 DE10213577A DE10213577A DE10213577B3 DE 10213577 B3 DE10213577 B3 DE 10213577B3 DE 10213577 A DE10213577 A DE 10213577A DE 10213577 A DE10213577 A DE 10213577A DE 10213577 B3 DE10213577 B3 DE 10213577B3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
laser beam
solder
solder joints
components
soldering
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE10213577A
Other languages
English (en)
Inventor
Hubert De Steur
Marcel Heerman
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE10213577A priority Critical patent/DE10213577B3/de
Priority to US10/346,358 priority patent/US20030217996A1/en
Priority to PCT/DE2003/000719 priority patent/WO2003080282A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10213577B3 publication Critical patent/DE10213577B3/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/005Soldering by means of radiant energy
    • B23K1/0056Soldering by means of radiant energy soldering by means of beams, e.g. lasers, E.B.
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • B23K26/082Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • B23K26/082Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
    • B23K26/0821Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head using multifaceted mirrors, e.g. polygonal mirror
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3494Heating methods for reflowing of solder
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0556Disposition
    • H01L2224/05568Disposition the whole external layer protruding from the surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05573Single external layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • H01L2224/812Applying energy for connecting
    • H01L2224/8122Applying energy for connecting with energy being in the form of electromagnetic radiation
    • H01L2224/81224Applying energy for connecting with energy being in the form of electromagnetic radiation using a laser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • H01L2224/818Bonding techniques
    • H01L2224/81801Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01019Potassium [K]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/0102Calcium [Ca]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01032Germanium [Ge]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01057Lanthanum [La]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/0106Neodymium [Nd]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01068Erbium [Er]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01075Rhenium [Re]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01088Radium [Ra]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12042LASER
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/156Material
    • H01L2924/15786Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
    • H01L2924/15787Ceramics, e.g. crystalline carbides, nitrides or oxides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01Dielectrics
    • H05K2201/0104Properties and characteristics in general
    • H05K2201/0108Transparent
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/10Using electric, magnetic and electromagnetic fields; Using laser light
    • H05K2203/107Using laser light
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/341Surface mounted components
    • H05K3/3431Leadless components
    • H05K3/3436Leadless components having an array of bottom contacts, e.g. pad grid array or ball grid array components

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

Zum Herstellen von Lötverbindungen zwischen den Kontakten (K) von Bauelementen (BE) und den zugeordneten Anschlüssen eines Trägers (T1) wird ein ablenkbarer Laserstrahl (LS) rasch nacheinander und in mehreren Durchgängen (D1) auf alle Lötstellen eines Bauelements (BE) gerichtet, bis das Lot bei sämtlichen Lötstellen gleichzeitig aufgeschmolzen ist. Die Zufuhr der Energie erfolgt in einem Timesharing-Vorgang, wodurch ohne die Gefahr von thermischen Schädigungen eine höhere Energie zugeführt und die Bearbeitungszeit verkürzt werden kann.

Description

  • Verfahren zum simultanen Laserstrahllöten
  • Die Flipchip-Kontaktierung ist eine Halbleitermontagemethode, bei der die Kontakte auf dem Halbleiterbauelement direkt mit den zugeordneten Anschlüssen eines Trägers, wie z.B. einer Leiterplatte, verbunden werden. Um das zu ermöglichen, sind die Kontakte auf dem Halbleiterbauelement üblicherweise mit schmelzfähigen oder zumindest mit Lot benetzbaren Höckern versehen. Derartige Höcker können aber auch auf den Anschlüssen des Trägers gebildet werden, wobei das Halbleiterbauelement dann nur ebene, mit Lot benetzbare Kontakte benötigt. In beiden Fällen können nach dem Positionieren des Halbleiterbauelements auf dem Einbauplatz des Trägers sämtliche Lötverbindungen, beispielsweise bei einem Durchlauf durch einen Ofen, in einem Umschmelzprozess gleichzeitig hergestellt werden. Bei diesem Verbindungsprozess entsteht jedoch eine erhebliche thermomechanische Stressbelastung beider Verbindungspartner.
  • Neben der Flipchip-Kontaktierung wird für die Montage von Halbleiterbauelementen und beliebigen anderen Bauelementen auf einem Träger insbesondere auch die Oberflächen-Montage angesetzt, bei welcher die SMDs (Surface Mounted Devices) auf Leiterplatten oder Keramiksubstrate aufgelötet werden. Beim Verbinden der Kontakte der SMDs mit den zugeordneten Anschlüssen eines Trägers durch Löten ergeben sich dabei ähnliche Probleme wie bei der Flipchip-Kontaktierung.
  • Beim Single-Point-Laserstrahllöten wird das Lot an den Lötstellen der Bauelemente mit Hilfe eines Laserstrahls sequentiell aufgeschmolzen. Vorteilhaft ist dabei, dass die für den Lötvorgang erforderliche Energiemenge lokal begrenzt und exakt steuerbar eingebracht werden kann. Andererseits kann die sequentielle Bearbeitung der einzelnen Lötstellen nicht wirtschaftlich durchgeführt werden, da sie zu viel Zeit in An spruch nimmt. Dieser insbesondere bei der Montage von hochpoligen Bauelementen gravierende Nachteil kann durch das simultane Laserstrahllöten vermieden werden. Dabei werden durch eine geeignete Strahlformung alle Kontakte eines Bauelements gleichzeitig gelötet. Vorteile dieses Verfahrens gegenüber dem Single-Point-Laserlöten sind die Produktivitätssteigerung, die Ausnutzung der durch die Oberflächenspannung des Lotes bewirkten Selbstzentrierung und geringere Eigenspannungen der Lötverbindungen. Bei dem in der DE-Z productronic 4/5-1998, Seiten 24 bis 28 vorgestellten Konzept für das simultane Laserstrahllöten erfolgt die Strahlformung durch die Erzeugung einer Lichtlinie, die zum Löten quer über die Kontakte eines Bauelementes positioniert wird. Ein Linienfokus kann zum einen dadurch erzeugt werden, dass die Laserstrahlung mit einem Polygon- oder Scannerspiegel mit hoher Geschwindigkeit abgelenkt und so im zeitlichen Mittel eine Lichtlinie erzeugt wird. Zum anderen kann die Laserstrahlung auch durch Zylinderlinsen zu einem Linienfokus geformt werden. Bei der Montage von Bauelementen mit zwei bzw. vier Kontaktreihen müssen jedoch zwei bzw. vier Lichtlinien gleichzeitig erzeugt werden, was nur mit einem erheblichen Aufbau realisiert werden kann. Außerdem werden beim simultanen Laserstrahllöten mit Hilfe von Lichtlinien auch die Bereiche zwischen den Kontakten der Bauelemente bestrahlt und somit einer hohen thermischen Belastung ausgesetzt.
  • Bei einem aus der DE-A-44 46 289 bekannten Konzept für das simultane Laserstrahllöten ist zur Übertragung der Laserstrahlung eine Lichtleiteinrichtung mit mindestens einer Lichtleitfaser vorgesehen. Der Endquerschnitt dieser Lichtleiteinrichtung überdeckt dabei den gesamten Bereich der Lötstellen eines Bauelements. Die Lichtleiteinrichtung kann aber auch mehrere Lichtleitfasern umfassen, die derart angeordnet sind, dass nur die Lötstellen mit Laserstrahlung beaufschlagt werden. Die Lötstellen können sowohl durch das zu montierende Bauelement hindurch als auch durch den Träger hindurch mit Laserstrahlung beaufschlagt werden, wobei der letztere Fall aber auf die Verwendung von dünnen flexiblen Verdrahtungen als Träger beschränkt ist.
  • Aus der WO 91/14529 wie auch aus der US 4 979 290 ist jeweils ein Verfahren zur Herstellung von Lötverbindungen zwischen den Kontakten von Bauelementen und den zugeordneten Anschlüssen eines Trägers bekannt, wobei an einer Mehrzahl von Lötpunkten zwischen Kontakten und Anschlüssen vorgesehenes Lot durch einen schnell bewegten Laserstrahl in einem Arbeitsgang gleichzeitig aufgeschmolzen wird.
  • Aus der DE 19850595 A1 ist es ferner bekannt, einen Laserstrahl auf die den Lötstellen abgewandte Seite eines gehäusefreien Halbleiterchips zu richten und so durch das Bauelement hindurch das Lot an den Lötstellen aufzuschmelzen.
  • Aus der DE 44 46 289 A1 ist es darüber hinaus auch bekannt, Lötstellen durch eine Platine hindurch mit einer Laserstrahlung zu beaufschlagen und so das Lot aufzuschmelzen.
  • Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, ein Verfahren zum simultanen Laserstrahllöten zu schaffen, das bei geringem Aufwand wirtschaftlich durchgeführt werden kann, bei einer nur geringen thermischen Belastung der Verbindungspartner und der Trägermaterialien qualitativ hochwertige Lötverbindungen gewährleistet und bei allen Arten von Trägern anwendbar ist.
  • Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass mit einem einzigen in zwei ebenen Richtungen ablenkbaren Laserstrahl das Lot bei sämtlichen Lötstellen eines Bauelements gleichzeitig aufgeschmolzen werden kann, wobei der schnell umlaufende Laserfleck nur auf die Lötstellen gerichtet wird. Da der Laserstrahl in mehreren Durchgängen bzw. Umläufen auf sämtliche Lötstellen eines Bauelements gerichtet wird, erfolgt die Zufuhr der Energie zu den einzelnen Lötstellen in einem Timesharing-Vorgang, wobei jeweils eine genau dosierbare Energiemenge in die einzelnen Lötstellen eingepumpt wird.
  • Diese Energie kann sich dann bis zum Eintreffen des nächsten Energiepulses beim nächsten Durchlauf bzw. Umlauf über den Anschluss eines Trägers und die davon wegführenden Leiterbahnen verteilen, ohne die Gefahr von Verbrennungen zu verursachen. Erfindungsgemäß wird dabei der Laserstrahl sprungweise von Lötstelle zu Lötstelle geführt, wobei die Bewegungsgeschwindigkeit des Laserstrahls im Bereich der Lötstellen deutlich niedriger ist als im Bereich zwischen den Lötstellen.
  • Durch die wiederholte, zeitlich begrenzte und genau dosierte Zufuhr der Energie zu den Lötstellen kann eine höhere Energie zugeführt und die Bearbeitungszeit verkürzt werden. Es wird somit eine schnelle Lötung ermöglicht, die einigermaßen synchron mit dem Bestückvorgang erfolgt. Das gleichzeitige Aufschmelzen des Lotes bei sämtlichen Lötstellen eines Bauelements bewirkt außerdem einen Beitrag zur Selbstzentrierung dieses Bauelements.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren kann bei allen Arten von Trägern, insbesondere auch bei Leadframes angesetzt werden. Neben der Flipchip-Kontaktierung kann das erfindungsgemäße Ver fahren auch für die Oberflächenmontage von SMDs eingesetzt werden, wobei hier insbesondere auch hochpolige SMD-Typen auf einen Träger montiert werden können. Da beim Lötvorgang nur eine sehr geringe thermische Belastung des Trägermaterials auftritt, können kostengünstige Materialien ausgewählt werden.
  • Der im Anspruch 1 verwendete Begriff "Durchgang" soll im Sinne der vorliegenden Erfindung nicht nur einen geschlossenen Umlauf bedeuten, bei welchem der Laserstrahl nacheinander auf benachbarte Lötstellen gerichtet wird. Unter dem Begriff "Durchgang" sollen auch andere Bewegungsabläufe, wie z.B. achterförmige Bahnen, verstanden werden, sofern der Laserstrahl bei den einzelnen Durchgängen gleich oft auf sämtliche Lötstellen eines Bauelements gerichtet wird.
  • Vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Verfahrens gehen aus den Unteransprüchen 2 bis 8 hervor.
  • Die Ausgestaltung nach Anspruch 2 ermöglicht eine noch raschere Montage der Bauelemente, da für die Durchgänge des Laserstrahls unter optimaler Ausnutzung der Zeit jeweils der kürzeste Weg verwendet wird.
  • Die Ausgestaltung nach Anspruch 3 ermöglicht eine weitere Reduzierung der Montagezeit durch die gleichzeitige Montage von zwei oder mehreren Bauelementen Gemäß Anspruch 4 kann der Laserstrahl durch die Bauelemente hindurch auf die Lötstellen gerichtet werden. Hierdurch ergibt sich eine besonders einfache Führung des Laserstrahls. Sofern die Wellenlänge der Laserstrahlung im Infrarotbereich liegt, tritt selbst bei Halbleiterbauelementen keine Schädigung auf.
  • Gemäß Anspruch 5 kann der Laserstrahl durch den Träger hindurch auf die Lötstellen gerichtet werden, sofern als Träger eine flexible Schaltung verwendet wird. Auch hier können das Basismaterial der flexiblen Schaltung und die Wellenlänge der Laserstrahlung so aufeinander abgestimmt werden, dass keine Schädigung des Basismaterials auftritt.
  • Die Verwendung eines Diodenlasers gemäß Anspruch 6 ist insbesondere für eine Beaufschlagung der Lötstellen durch die Bauelemente hindurch geeignet.
  • Die Verwendung eines Nd:YAG-Lasers gemäß Anspruch 7 ist für eine Beaufschlagung der Lötstellen durch die Bauelemente hindurch oder durch einen als flexible Schaltung ausgebildeten Träger hindurch geeignet.
  • Die Weiterbildung nach Anspruch 8 ermöglicht durch die Verwendung von Galvanometern für den Antrieb der Ablenkspiegel eine besonders rasche Ablenkung des Laserstrahls.
  • Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert.
  • Es zeigen
  • 1 eine Anordnung zum simultanen Laserstrahllöten,
  • 2 das Prinzip der Herstellung von Flipchip-Lötverbindungen durch simultanes Laserstrahllöten mit einer Führung des Laserstrahls durch das Bauelement hindurch,
  • 3 die Anordnung gemäß 2 nach der Fertigstellung der Flipchip-Lötverbindungen,
  • 4 das Prinzip der Herstellung von Flipchip-Lötverbindungen durch simultanes Laserstrahllöten mit einer Führung des Laserstrahls durch eine als Träger verwendete flexible Schaltung hindurch und
  • 5 das Prinzip der gleichzeitigen Montage von zwei Bauelementen durch simultanes Laserstrahllöten.
  • 1 zeigt in stark vereinfachter schematischer Darstellung eine Anordnung zur Montage eines Bauelementes BE auf einen Träger T1 durch simultanes Laserstrahllöten. Die dargestellte Anordnung umfasst einen Laser LA, welcher einen Laserstrahl LS erzeugt, in dessen Strahlengang aufeinanderfolgend ein erster drehbarer Ablenkspiegel ASX, ein zweiter drehbarer Ablenkspiegel ASY und ein Objektiv O angeordnet sind, welches den Laserstrahl LS auf die gestrichelt dargestellten Kontakte K an der Unterseite des Bauelements BE fokussiert. Die Lage des Bauelements BE und des Trägers T1 ist in Bezug auf ein ebenes kartesisches x-, y-Koordinatensystem festgelegt. Dementsprechend hat der erste Ablenkspiegel ASX die Aufgabe, den Laserstrahl LS in der x-Richtung abzulenken, während der zweite Ablenkspiegel ASY die Aufgabe hat, den Laserstrahl LS in der y-Richtung abzulenken. Die Drehung der Ablenkspiegel ASX und ASY zur Ablenkung des Laserstrahls LS in x-Richtung und in y-Richtung erfolgt über Galvanometer GX und GY, die in 1 jedoch nur durch entsprechende Doppelpfeile angedeutet sind. Die Steuerung der Ablenkspiegel RSX und ASY entsprechend der jeweils gewünschten Bewegungsbahn des Laserstrahls LS erfolgt durch ein Steuergerät SG. Im dargestellten Ausführungsbeispiel wird der Laserstrahl LS in einem vielfältigen Durchlauf entgegen dem Uhrzeigersinn über die Kontakte K des Bauelements BE geführt. Diese Bewegungsbahn mit dem wiederholten Umlauf bzw. Durchgang des Laserstrahls LS ist in 1 durch eine Linie D1 angedeutet. Der durch das Bauelement BE hindurchgeführte und auf einen Kontakt K gerichtete Laserstrahl LS soll an dieser Stelle eine Lötverbindung bewirken, zu deren näheren Erläuterung zusätzlich auf die 2 verwiesen wird. Der stark vereinfacht dargestellte Schnitt gemäß 2 zeigt, dass das Bauelement BE mittels Flipchip-Kontaktierung auf den als Leiterplatte ausgebildeten Träger T1 montiert werden soll, wobei die Kontakte K des Bauelements BE und die zugeordneten Anschlüsse A des Trägers T1 mit Hilfe eines Lotes L verbunden werden. Es ist zu erkennen, dass das Lot L in Form von Lothöckern bzw. Lotkuppen auf die einzelnen Anschlüsse A des Trägers T1 aufgebracht ist. Jede der für eine Flipchip-Kontaktierung erforderlichen Lötstellen umfasst also einen Kontakt K, den zugeordneten Anschluss A und das in Form einer Kuppe auf den Anschluss A aufgebrachte Lot L. Die Kontakte K können dabei zusätzlich noch mit einer dünnen Lotschicht bedeckt sein. Ferner ist es auch möglich, die für den Lötvorgang benötigte Lotmenge in Form einer Lotpaste zwischen die Kontakte K und die zugeordneten Anschlüsse A einzubringen.
  • Der gemäß 2 durch das Bauelement BE hindurch auf eine Lötstelle gerichtete Laserstrahl LS bewirkt eine Erwärmung, die aber zunächst noch nicht zu einem Aufschmelzen des Lotes L führen soll. Da beim simultanen Laserstrahllöten das Lot L bei sämtlichen Lötstellen gleichzeitig aufgeschmolzen werden soll, wird der Laserstrahl LS rasch nacheinander und in mehreren Durchgängen D1 (vgl. 1) auf alle Lötstellen des Bauelements BE gerichtet, bis das Lot L bei sämtlichen Lötstellen gleichzeitig aufgeschmolzen ist. Nach dem Abschalten des Laserstrahls LS erkaltet dann das Lot L und nimmt bei den fertigen Lötverbindungen der Flipchip-Kontaktierung die aus 3 ersichtliche Form an. Es ist zu erkennen, dass das Lot L nun gegenüber der in 2 dargestellten Kuppenform eine mehr ballige Form angenommen hat.
  • Bei dem in 1 dargestellten Laser LA handelt es sich um einen Nd:YAG-Laser, der bei Wellenlängen von 1060 nm oder ca. 1300 nm betrieben wird. Bei diesen Wellenlängen werden auch als Halbleiterbauelemente ausgebildete Bauelemente BE beim Durchtritt des Laserstrahls LS nicht geschädigt. Der Einsatz eines robusten und preiswerten Diodenlasers mit einer Wellenlänge von ca. 800 nm ist ebenfalls sehr vorteilhaft.
  • Das Steuergerät SG, welches die Führung des Laserstrahls LS in einem vielfältigen Durchlauf D1 über sämtliche Lötstellen bewirkt führt den Laserstrahl LS sprungweise von Lötstelle zu Lötstelle, wobei der Laserstrahl LS bei dem vielfältigen Durchlauf D1 nicht anhält, zwischen den einzelnen Lötstellen aber mit sehr hoher Geschwindigkeit bewegt wird. Auch bei dieser Vorgehensweise wird eine thermische Schädigung des Materials zwischen den einzelnen Lötstellen vermieden.
  • Gemäß 4 kann bei der Flipchip-Kontaktierung von Bauelementen BE auf einen als flexible Schaltung ausgebildeten Träger T2 der Laserstrahl LS durch den Träger T2 hindurch auf die einzelnen Lötstellen gerichtet werden. Im Übrigen wird auch hier das simultane Laserstrahllöten wie bei dem anhand der 1 bis 3 beschriebenen Ausführungsbeispiel vorgenommen. Als Laser LA (vgl. 1) wird hier jedoch ein Nd:YAG-Laser bevorzugt.
  • 5 zeigt eine Draufsicht auf zwei Bauelemente BE, welche auf dem bereits anhand der 1 bis 3 geschilderten Träger T1 angeordnet sind. Die einzelnen Lötstellen der beiden Bauelemente BE sind in der gezeigten Draufsicht durch die gestrichelt dargestellten Kontakte K auf den Unterseiten der Bauelemente BE erkennbar.
  • Für die Flipchip-Kontaktierung der beiden Bauelemente BE wird wieder die in 1 dargestellte Anordnung verwendet. Der Laserstrahl LS (vgl. 1 und 2) wird hier jedoch in mehreren Durchgängen über die Lötstellen beider Bauelemente BE geführt, bis das Lot L (vgl. 2) bei sämtlichen Lötstellen dieser beiden Bauelemente BE gleichzeitig aufgeschmolzen ist. Die entsprechende Bewegungsbahn des Laserstrahls LS ist in 5 durch eine Linie D2 angedeutet.
  • Neben der in 5 dargestellten gleichzeitigen Kontaktierung von zwei Bauelementen können sogar noch mehr Bauelemente gleichzeitig kontaktiert werden. Voraussetzung ist jedoch, dass sich die Bauelemente im Arbeitsbereich der Ablenkspiegel ASX und ASY (vgl. 1) befinden, da nur dann das Lot sämtlicher Lötstellen gleichzeitig aufgeschmolzen werden kann. In Versuchen ist es bereits gelungen, drei hochpolige Bauelemente gleichzeitig auf eine Leiterplatte zu montieren.

Claims (8)

  1. Verfahren zum Herstellen von Lötverbindungen zwischen den Kontakten (K) von Bauelementen (BE) und den zugeordneten Anschlüssen (A) eines Trägers (T1; T2), bei welchem auf die Kontakte (K) und/oder die Anschlüsse (A) aufgebrachtes Lot (L) und/oder zwischen die Kontakte (K) und die Anschlüsse (A) eingebrachtes Lot (L) mit Hilfe eines ablenkbaren Laserstrahls (LS) aufgeschmolzen wird, wobei der ablenkbare Laserstrahl (LS) rasch nacheinander und in mehreren Durchgängen (D1; D2) auf alle Lötstellen eines Bauelements (BE) gerichtet wird, bis das Lot (L) bei sämtlichen Lötstellen gleichzeitig aufgeschmolzen ist, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl (L5) sprungweise von Lötstelle zu Lötstelle geführt wird, wobei die Bewegungsgeschwindigkeit des Laserstrahls (LS) im Bereich der Lötstellen deutlich niedriger ist als im Bereich zwischen den Lötstellen.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl (LS) bei jedem Durchgang (D1) jeweils von einer Lötstelle zur in Bewegungsrichtung nächsten benachbarten Lötstelle geführt wird.
  3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl (LS) in mehreren Durchgängen (D2) über die Lötstellen von zwei oder mehreren Bauelementen (BE) zugeführt wird, bis das Lot (L) bei sämtlichen Lötstellen dieser Bauelemente (BE) gleichzeitig aufgeschmolzen ist.
  4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl (L5) durch die Bauelemente (BE) hindurch auf die Lötstellen gerichtet wird.
  5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl (LS) durch einen als flexible Schaltung ausgebildeten Träger (T2) hindurch auf die Lötstellen gerichtet wird.
  6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl (L5) mit Hilfe eines Diodenlasers erzeugt wird.
  7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl (LS) mit Hilfe eines Nd:YAG-Lasers erzeugt wird.
  8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl (LS) mit Hilfe von zwei, jeweils durch Galvanometer (GX, GY) angetriebenen Ablenkspiegel (ASX, ASY) abgelenkt wird.
DE10213577A 2002-03-26 2002-03-26 Verfahren zum simultanen Laserstrahllöten Expired - Fee Related DE10213577B3 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10213577A DE10213577B3 (de) 2002-03-26 2002-03-26 Verfahren zum simultanen Laserstrahllöten
US10/346,358 US20030217996A1 (en) 2002-03-26 2003-01-17 Method for simultaneous laser beam soldering
PCT/DE2003/000719 WO2003080282A1 (de) 2002-03-26 2003-03-03 Verfahren zum simultanen laserstrahllöten

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10213577A DE10213577B3 (de) 2002-03-26 2002-03-26 Verfahren zum simultanen Laserstrahllöten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10213577B3 true DE10213577B3 (de) 2004-02-19

Family

ID=28050880

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10213577A Expired - Fee Related DE10213577B3 (de) 2002-03-26 2002-03-26 Verfahren zum simultanen Laserstrahllöten

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20030217996A1 (de)
DE (1) DE10213577B3 (de)
WO (1) WO2003080282A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007025463A1 (de) 2007-09-09 2009-03-12 Atn Automatisierungstechnik Niemeier Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Synchronisation von Laser und Sensorik bei der Verwendung von Scannersystemen
DE102010004193A1 (de) * 2010-01-08 2011-07-14 Siemens Electronics Assembly Systems GmbH & Co. KG, 81379 Vorrichtung, Bestückautomat und Verfahren zum thermischen Verbinden von Bauelementen an ein Substrat

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL2001958C (en) * 2008-09-05 2010-03-15 Stichting Energie Method of monolithic photo-voltaic module assembly.
CN103477424B (zh) * 2011-02-02 2016-12-14 派克泰克封装技术有限公司 用于通过利用气态熔剂介质激光焊接对两个衬底的连接面进行电接触的方法和设备
KR20190019745A (ko) * 2017-08-18 2019-02-27 주식회사 루멘스 발광소자 및 그 제조방법
CN110125502A (zh) * 2019-06-21 2019-08-16 云智动(杭州)科技有限公司 一种激光振镜自动控温自动定位焊锡系统及方法
US11424214B1 (en) * 2019-10-10 2022-08-23 Meta Platforms Technologies, Llc Hybrid interconnect for laser bonding using nanoporous metal tips
US11749637B2 (en) * 2020-06-23 2023-09-05 Amkor Technology Singapore Holding Pte. Ltd. Hybrid bonding interconnection using laser and thermal compression

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4979290A (en) * 1986-12-29 1990-12-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for soldering electronic component
WO1991014529A1 (fr) * 1990-03-26 1991-10-03 Luc Bernard Lafond Procede et dispositif destines au chauffage d'une matiere de soudage
DE4446289A1 (de) * 1994-12-23 1996-06-27 Finn David Verfahren und Vorrichtung zur Mikroverbindung von Kontaktelementen
DE19850595A1 (de) * 1998-11-03 2000-07-27 Hahn Schickard Ges Verfahren zum Laserlöten und zur Temperaturüberwachung von Halbleiterchips sowie nach diesem Verfahren hergestellte Chipkarte

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4806728A (en) * 1988-02-01 1989-02-21 Raytheon Company Laser process apparatus
FR2653367A1 (fr) * 1989-10-24 1991-04-26 Quantel Sa Procede et appareil de brasage au laser.
EP0964608A3 (de) * 1998-06-12 2001-09-05 Ford Motor Company Verfahren zum Laserlöten
US6278078B1 (en) * 1999-06-02 2001-08-21 Lockheed Martin Corporation Laser soldering method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4979290A (en) * 1986-12-29 1990-12-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Method for soldering electronic component
WO1991014529A1 (fr) * 1990-03-26 1991-10-03 Luc Bernard Lafond Procede et dispositif destines au chauffage d'une matiere de soudage
DE4446289A1 (de) * 1994-12-23 1996-06-27 Finn David Verfahren und Vorrichtung zur Mikroverbindung von Kontaktelementen
DE19850595A1 (de) * 1998-11-03 2000-07-27 Hahn Schickard Ges Verfahren zum Laserlöten und zur Temperaturüberwachung von Halbleiterchips sowie nach diesem Verfahren hergestellte Chipkarte

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
FRÖHLICH,T. [u.a.]: Simultanes Laserstrahllöten. In: productronic, 1998, Vol. 4/5, S. 24-28 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007025463A1 (de) 2007-09-09 2009-03-12 Atn Automatisierungstechnik Niemeier Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Synchronisation von Laser und Sensorik bei der Verwendung von Scannersystemen
DE102010004193A1 (de) * 2010-01-08 2011-07-14 Siemens Electronics Assembly Systems GmbH & Co. KG, 81379 Vorrichtung, Bestückautomat und Verfahren zum thermischen Verbinden von Bauelementen an ein Substrat
DE102010004193B4 (de) * 2010-01-08 2012-11-15 Asm Assembly Systems Gmbh & Co. Kg Bestückungsautomat und Lötverfahren zum thermischen Verbinden von Bauelementen an ein Substrat

Also Published As

Publication number Publication date
US20030217996A1 (en) 2003-11-27
WO2003080282A1 (de) 2003-10-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1032482B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur thermischen verbindung von anschlussflächen zweier substrate
DE3423172C2 (de) Verfahren zum Herstellen einer Solarbatterie
DE3042085C2 (de) Halbleiteranordnung
DE60205159T2 (de) Lötverfahren zur Verbindung von Kunststoff-Flexleiterplatten mit einem Diodelaser
EP0430861A1 (de) Laserlötsystem für SMD-Elemente
DE19808345A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bilden eines Durchgangsloches in einer Keramikgrünschicht
EP3153270B1 (de) Lötmodul mit mindestens zwei löttiegeln
DE4312642B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Kontaktieren
DE3539933C2 (de)
DE10213577B3 (de) Verfahren zum simultanen Laserstrahllöten
DE4446289C2 (de) Verfahren zur Mikroverbindung von Kontaktelementen
DE4235549A1 (de) Lichtquelleneinheit und herstellungsverfahren dafuer, einstellungsverfahren und einstellungsgeraet
DE102010004193B4 (de) Bestückungsautomat und Lötverfahren zum thermischen Verbinden von Bauelementen an ein Substrat
DE2640613C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Kontaktieren von Schaltungsbausteinen in eine Schichtschaltung
DE4494299C1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Kontaktierung eines Kontaktelements
DE2735231A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von loetverbindungen mittels energiestrahlung
DE102014203525A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Bearbeitung eines Werkstückes
DE10163834A1 (de) Kontaktierungseinrichtung
EP1948386B1 (de) Verfahren zur herstellung einer kontaktanordnung zwischen einem mikroelektronischen bauelement und einem trägersubstrat sowie eine mit dem verfahren hergestellte bauteileinheit
DE102006039623B3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Verbinden von wenigstens zwei Elementen
DE3831394A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum kontaktieren eines elektrischen leitungsdrahtes mit kontaktstellen auf einer leiterplatte
DE19955792A1 (de) Array-Laserdiode und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE10255088B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Lötverbindungen
DE19739481C2 (de) Vorrichtung und Verfahren zum gleichzeitigen Aufbringen und Umschmelzen einer Mehrzahl von Lotkugeln auf ein Substrat
EP1111974B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Lötverbindung

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of the examined application without publication of unexamined application
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee