DE102020123764A1 - Verfahren zum Erzeugen eines zeitlich konstanten Dampfflusses sowie Verfahren zum Einstellen eines Arbeitspunktes einer Vorrichtung zum Erzeugen eines Dampfes - Google Patents
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WO2012175128A1 (en) | 2011-06-22 | 2012-12-27 | Aixtron Se | Vapor deposition system and supply head |
DE102014102484A1 (de) | 2014-02-26 | 2015-08-27 | Aixtron Se | Verwendung eines QCM-Sensors zur Bestimmung der Dampfkonzentration beim OVPD-Verfahren beziehungsweise in einem OVPD-Beschichtungssystem |
DE102017106500A1 (de) | 2017-03-27 | 2018-09-27 | Aixtron Se | Pulverdosierer |
DE102017106968A1 (de) | 2017-03-31 | 2018-10-04 | Aixtron Se | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Konzentration eines Dampfes |
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DE102011051260A1 (de) | 2011-06-22 | 2012-12-27 | Aixtron Se | Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von OLEDs |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012175127A1 (en) | 2011-06-22 | 2012-12-27 | Sapa Ab | Friction stir welding tool with shoulders having different areas methods using such tool; product welded with such tool |
WO2012175126A1 (en) | 2011-06-22 | 2012-12-27 | Aixtron Se | Method and apparatus for vapor deposition |
WO2012175128A1 (en) | 2011-06-22 | 2012-12-27 | Aixtron Se | Vapor deposition system and supply head |
DE102014102484A1 (de) | 2014-02-26 | 2015-08-27 | Aixtron Se | Verwendung eines QCM-Sensors zur Bestimmung der Dampfkonzentration beim OVPD-Verfahren beziehungsweise in einem OVPD-Beschichtungssystem |
DE102017106500A1 (de) | 2017-03-27 | 2018-09-27 | Aixtron Se | Pulverdosierer |
DE102017106968A1 (de) | 2017-03-31 | 2018-10-04 | Aixtron Se | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Konzentration eines Dampfes |
DE102019110036A1 (de) | 2019-04-16 | 2020-10-22 | Apeva Se | Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen eines in einem Fluidstrom geförderten Pulvers |
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