DE102019217293A1

DE102019217293A1 - Anlage und Verfahren zum Herstellen von Baugruppen sowie Verwendung der Anlage

Info

Publication number: DE102019217293A1
Application number: DE102019217293.8A
Authority: DE
Inventors: Martin Schoepf; Benjamin Seitz
Original assignee: Robert Bosch GmbH
Current assignee: Robert Bosch GmbH
Priority date: 2019-11-08
Filing date: 2019-11-08
Publication date: 2021-05-12
Also published as: WO2021089228A1; CN114599502A; US20220402033A1

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Anlage (100; 100a) zum Herstellen von Baugruppen (1), mit einer in einer Fördereinrichtung (12) beweglich angeordneten Bauteilplattform (25; 25a), mit wenigstens einer Beschichtungseinheit (32) zum Auftragen einer Schicht (3; 3a, 3b), und mit wenigstens einer in Förderrichtung (12) der Bauteilplattform (25; 25a) der Beschichtungseinheit (32) nachfolgenden Bestrahlungseinheit (34) zum selektiven Bestrahlen der Schicht (3; 3a, 3b) zum generativen Aufbau der Schicht (3; 3a, 3b).

Description

Technisches Gebiet
Die Erfindung betrifft eine Anlage zum Herstellen von Baugruppen, insbesondere für großserientechnische Anwendungen. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Herstellen von Baugruppen sowie die Verwendung der Anlage und des Verfahrens.
Stand der Technik
Eine Anlage zum Herstellen von Baugruppen mit den Merkmalen des Oberbegriffs des Anspruchs 1 ist aus der DE 10 2016 226 150 A1 der Anmelderin bekannt. Die bekannte, als Rundläuferanlage konzipierte Anlage zeichnet sich dadurch aus, dass im Bereich eines Produktaufbaubehälters mehrere Beschichtungs- und Bestrahlungseinheiten angeordnet sind, die es ermöglichen, bei einer vollständigen Drehung des Aufbaubehälters um seine vertikal angeordnete Drehachse beispielhaft vier übereinander angeordnete Schichten an einem Bauteil zu erzeugen. Dadurch weist die bekannte Anlage eine relativ hohe Aufbaurate bzw. Effektivität auf. Die Anlage eignet sich insbesondere zur Herstellung von Prototypen bzw. Bauteilen, die ausschließlich aus den entsprechenden Schichten des Materials bestehen, wobei innerhalb des Produktaufbaubehälters keine weiteren Fertigungsschritte vorgesehen sind.
Offenbarung der Erfindung
Die erfindungsgemäße Anlage zum Herstellen von Baugruppen mit den Merkmalen des Anspruchs 1 weist insbesondere den Vorteil auf, dass sie im Rahmen großserientechnischer Anwendungen den Aufbau von Baugruppen ermöglicht, bei denen auf der Oberfläche von Basisbauteilen wenigstens eine Schicht in einem generativen Verfahren erzeugt wird, wobei das Basisbauteil zusammen mit der wenigstens einen Schicht die Baugruppe ausbildet. Mit anderen Worten gesagt bedeutet dies, dass es die erfindungsgemäße Anlage ermöglicht, die Bestandteile von relativ komplexen Baugruppen, die teilweise im generativen Herstellverfahren hergestellt werden, unmittelbar auf Basisbauteilen zu erzeugen, sodass nach der Fertigung der Baugruppen im Wesentlichen keine weiteren Herstell- bzw. Fertigungsschritte für die Herstellung der Baugruppen erforderlich sind. Der Teil der Anlage, mit der die wenigstens eine Schicht im generativen Verfahren erzeugt wird stellt somit lediglich einen Bestandteil bzw. einen integralen Teil einer umfangreichen Anlage dar, was insbesondere bei großserientechnischen Anwendungen eine besonders hohe Produktivität und somit relativ geringe Herstellkosten komplexer Baugruppen ermöglicht.
Aufgrund der oben angeführten Erläuterungen schlägt es daher die Lehre der Erfindung vor, dass auf der Bauteilplattform mehrere Baugruppenträger angeordnet sind, wobei die Baugruppenträger dazu ausgebildet sind, wenigstens ein Basisbauteil der zu fertigenden Baugruppe aufzunehmen, auf dessen Oberfläche der generative Aufbau der wenigstens einen Schicht der Baugruppe erfolgt. Die Baugruppenträger ermöglichen somit eine positionsgenaue Anordnung der Basisbauteile der Baugruppen sowie die Möglichkeit, durch entsprechende Maßnahmen die Baugruppenträger zusätzlich zur Bauteilplattform beweglich anzuordnen.
Vorteilhafte Weiterbildungen der erfindungsgemäßen Anlage zum generativen Herstellen von Bauteilen sind in den Unteransprüchen aufgeführt.
Hinsichtlich der Anordnung der Baugruppenträger auf der Bauteileplattform gibt es unterschiedliche Möglichkeiten, die insbesondere mit Blick auf die Größe der Anlage bzw. deren Produktivität angepasst werden. Insbesondere kann es vorgesehen sein, dass die Baugruppenträger in Förderrichtung und/oder senkrecht zur Förderrichtung auf der Bauteilplattform angeordnet sind. Mit anderen Worten gesagt bedeutet dies, dass es auch möglich ist, zur Erzielung einer besonders hohen Produktivität mehrere Baugruppenträger senkrecht zur Förderrichtung auf der Bauteilplattform anzuordnen, sodass an den Baugruppenträgern gleichzeitig die gleichen Bearbeitungen erfolgen können.
Zur Erzielung einer besonders hohen Produktivität ist es darüber hinaus erforderlich, insbesondere das Zuführen und den Abtransport der Baugruppenträger zu automatisieren bzw. es zu ermöglichen, dass die Anlage kontinuierlich betrieben werden kann. Hierzu sieht es eine weitere Ausgestaltung der Erfindung vor, dass die Anlage als (lineare) Durchlaufanlage mit einer Bestückungseinrichtung und einer Entnahmeeinrichtung zum Anordnen bzw. Entfernen der Baugruppenträger auf bzw. von der Bauteilplattform ausgebildet ist. Dabei werden in einem Zuführbereich der Anlage die Baugruppenträger bereits mit den Basisbauteilen bestückt der Anlage zugeführt und in einem Ausschleusbereich die innerhalb der Anlage erzeugten Baugruppen zusammen mit den Baugruppenträgern entnommen.
Anstatt einer (linearen) Durchlaufanlage ist es alternativ auch denkbar, dass die Anlage als Rundläuferanlage mit der um eine Achse drehbaren Bauteilplattform mit einer Bestückungseinrichtung und einer Entnahmeeinrichtung zum Anordnen bzw. Entfernen der Baugruppenträger auf bzw. von der Bauteilplattform ausgebildet ist.
Um eine möglichst flexible bzw. universelle Bearbeitung der Baugruppen während der Förderung innerhalb der Anlage zu ermöglichen, kann es darüber hinaus vorgesehen sein, dass die Baugruppenträger auf der Bauteilplattform um wenigstens eine Achse der Baugruppenträger schwenkbar angeordnet sind. Dadurch ist es beispielsweise möglich, auch die Rückseite der Basisbauteile erforderlichen Bearbeitungsschritten zu unterziehen, ohne dass hierzu die Basisbauteile einen erneuten Durchlauf durch die Anlage ausführen müssen bzw. auf separaten Bearbeitungsstationen bearbeitet werden müssen.
Wie bereits mehrfach erläutert, ermöglicht das erfindungsgemäße Anlagenkonzept nicht nur einen generativen Aufbau von Bauteilen auf Basisbauteilen zur Erzeugung von Baugruppen, sondern auch innerhalb der Anlage zusätzliche weitere Bearbeitungsschritte auszuführen, sodass nach dem Durchlauf der Baugruppenträger durch die Anlage die Baugruppen zumindest im Wesentlichen vollständig ausgebildet bzw. gefertigt sind. Um dies zu ermöglichen, sieht es eine weitere, besonders bevorzugte Ausgestaltung der Erfindung vor, dass zusätzlich zu der wenigstens einen Beschichtungseinheit und der wenigstens einen Bestrahlungseinheit entlang der Förderstrecke der Baugruppenträger wenigstens eine weitere Bearbeitungsstation angeordnet ist.
Eine derartige weitere Bearbeitungsstation kann beispielsweise als Auftragseinrichtung, Oberflächenbearbeitungseinrichtung, Reinigungseinrichtung, Bestückungseinrichtung oder dergleichen ausgebildet sein.
Zur Erzielung eines möglichst flexiblen Anlagenkonzeptes, das es ermöglicht, einen modulartigen Aufbau bzw. eine möglichst einfache Anpassung an unterschiedlichste Anwendungen mit relativ wenig konstruktivem Aufwand zu gestalten, ist es vorgesehen, dass zumindest die wenigstens eine Beschichtungseinheit und die wenigstens eine Bestrahlungseinheit als Teil eines gemeinsamen Moduls ausgebildet sind. Ein derartiges Modul kann beispielsweise an unterschiedlichen, standardisierten Aufnahmestellen innerhalb der Anlage bzw. des Anlagengehäuses eingebaut werden, um es beispielsweise zu ermöglichen, dass zwischen zwei Modulen, je nach Anwendungsfall, zusätzliche Bearbeitungsstationen angeordnet werden können.
Insbesondere sieht es die erfindungsgemäße Anlage vor, dass bei mehreren Beschichtungseinheiten diese in Förderrichtung der Baugruppenträger höhenversetzt zueinander angeordnet sind. Unter einer höhenversetzen Anordnung der Beschichtungseinheiten wird verstanden, dass eine einer ersten Beschichtungseinheit folgende zweite Beschichtungseinheit eine (weitere) Materialschicht auf eine zuvor aufgebrachte und selektiv bestrahlte Schicht aufbringt und daher um die entsprechende Schichtdicke der ersten Schicht erhöht angeordnet ist.
Weiterhin umfasst die Erfindung auch ein Verfahren zum generativen Herstellen von Baugruppen, insbesondere mittels einer soweit beschriebenen erfindungsgemäßen Anlage, wobei die Baugruppen wenigstens eine, vorzugsweise mehrere übereinander angeordnete, generativ hergestellte Schichten aufweisen. Das erfindungsgemäße Verfahren zeichnet sich dadurch aus, dass die wenigstens eine Schicht auf einem Basisbauteil als Bestandteil der auszubildenden Baugruppe erzeugt wird, und dass das Basisbauteil auf einem Baugruppenträger angeordnet wird, der mittels einer in einer Fördereinrichtung beweglichen Bauteilplattform der Anlage gefördert wird. Vorteilhaft ist ein Verfahren bei dem die Baugruppenträger in der Anlage kontinuierlich in Förderrichtung bewegt werden, da dies eine kurze Herstellungszeit ermöglicht. Besonders vorteilhaft ist ein Verfahren bei dem alternativ oder zusätzlich die gefertigte Baugruppe nach einem einmaligen Durchlauf durch die Anlage entnommen wird.
Zuletzt umfasst die Erfindung auch die Verwendung einer soweit beschriebenen erfindungsgemäßen Anlage bzw. des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung Baugruppen in Form von Schaltungsbaugruppen oder Kühlelementen.
Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele sowie anhand der Zeichnungen.
Figurenliste

1 zeigt in perspektivischer Darstellung eine Abfolge von Bearbeitungsschritten zur Erzeugung einer Baugruppe, die einen mit einem Chip ausgestatten Schaltungsträger aufweist,
2 in perspektivischer Darstellung eine mit einer Vielzahl von Schaltungsträgers bestückte Trägereinheit,
3 einen schematischen Längsschnitt einer ersten Anlage zur Erzeugung von Bauteilen in Form einer Durchlaufanlage und
4 eine gegenüber 3 abgewandelte Anlage, die als Rundläuferanlage konzipiert ist, in einer schematischen Draufsicht.

Ausführungsformen der Erfindung
Gleiche Elemente bzw. Elemente mit gleicher Funktion sind in den Figuren mit den gleichen Bezugsziffern versehen.
In der 1 sind rein beispielhaft verschiedene, zeitlich aufeinanderfolgende Fertigungs- bzw. Bearbeitungsschritte zur Erzeugung einer Baugruppe 1 dargestellt. Das Baugruppe 1 besteht aus einem Basisbauteil 2 in Form einer Leiterplatte, eines Substrats o.ä., auf dem in einem generativen Herstellverfahren wenigstens eine Schicht 3a, 3b aufgebracht und selektiv bestrahlt wird, sodass die wenigstens eine Schicht 3a, 3b im generativen Herstellverfahren erzeugt wird. Weiterhin umfasst die Baugruppe 1 ein elektronisches Bauelement 5 in Form eines Chips, der beispielhaft auf der der wenigstens einen Schicht 3a, 3b abgewandten Seite des Basisbauteils 2 angeordnet ist.
Zur Erzeugung einer derartigen Baugruppe 1 wird in einem ersten Schritt 101 das entsprechende Basisbauteil 2 bereitgestellt. In einem zweiten Schritt 102 erfolgt beispielhaft das (vollflächige) Beschichten der Oberseite des Basisbauteils 2 mit einer Goldschicht. In einem dritten Schritt 103 erfolgt anschließend das Aufbringen einer Aluminiumschicht auf die zuvor aufgebrachte Goldschicht. In den Schritten 104 und 105 werden beispielhaft zwei Schichten 3a, 3b auf die Aluminiumschicht im generativen Herstellverfahren aufgebracht. Dabei ist in einem mittigen Bereich 6 des Basisbauteils 2 kein Material der Schicht 3a, 3b vorgesehen, sodass dort eine beispielhaft zylindrische Vertiefung 7 erzeugt wird. Anschließend erfolgt in den Schritten 106 bis 108 eine Rotation des Basisbauteils 2 mit den darauf aufgebrachten Schichten um eine Längsachse 8 des Basisbauteils 2 um 180°. Dadurch ist es möglich, die Rückseite des Basisbauteils 2 nachfolgend weiteren Bearbeitungsschritten zuzuführen. Dabei erfolgt zunächst in einem Schritt 109 das Anordnen bzw. Vorsehen einer Kontaktschicht 9 auf der Rückseite des Basisbauteils 2. Zuletzt erfolgt in einem Schritt 110 das Aufbringen bzw. Anordnen des Bauelements 5 bzw. des Chips auf der Rückseite des Basisbauteils 2, um die Baugruppe 1 zu vervollständigen.
Ergänzend wird erläutert, dass die oben angeführten Fertigungs- bzw. Bearbeitungsschritte zur Erzeugung von Baugruppen 1 rein beispielhaft aufgeführt sind und sowohl hinsichtlich der Anzahl, als auch der einzelnen Bearbeitungsschritte dem jeweiligen Anwendungsfall angepasst werden müssen. So kann es insbesondere auch möglich sein, dass die einzelnen Bearbeitungsschritte Stationen vorsehen, die in Form einer Auftragseinrichtung, einer Oberflächenbearbeitungseinrichtung, einer Reinigungseinrichtung, einer Bestückungseinrichtung o.ä. ausgebildet sind. Bei der Baugruppe1 handelt es sich insbesondere, jedoch nicht einschränkend, um eine Schaltungsbaugruppe oder ein Kühlelement.
In der 2 ist ein Baugruppenträger 10 dargestellt, auf dem in Bezug auf eine Förderrichtung 12 des Baugruppenträgers 10 innerhalb einer noch später beschriebenen Anlage 100, 100a in Förderrichtung 12 drei Basisbauteile 2 hintereinander, und in einer senkrecht zur Förderrichtung 12 angeordneten Querrichtung 14 ebenfalls drei Basisbauteile 2 angeordnet sind. Der Baugruppenträger 10 dient somit der gleichzeitigen Aufnahme bzw. Befestigung und Positionierung von insgesamt neun Basisbauteilen 2. Zur Befestigung der Basisbauteile 2, beispielweise im Bereich von im Einzelnen nicht dargestellten Aufnahmen des plattenförmigen, rechteckförmigen Baugruppenträgers 10 kann es vorgesehen sein, dass ein plattenförmiger Niederhalter 16 verwendet wird, der beispielhaft rechteckförmige Durchbrüche 18 für jedes Basisbauteil 2 aufweist, und der gegen die Oberseite des Baugruppenträgers 10 mittels nicht dargestellter Elemente gespannt wird, um die Basisbauteile 2 im Bereich des Baugruppenträgers 10 fixieren.
In der 3 ist in schematischer Darstellung eine erste Anlage 100 zur Herstellung der Baugruppen 1 mit Hilfe der Baugruppenträger 10 stark vereinfacht dargestellt. Die Anlage 100 umfasst ein Maschinengehäuse 20, das mit Ausnahme zweier Schleusenbereiche 21 als geschlossenes Maschinengehäuse 20 ausgebildet ist, um einzelne Fertigungs- bzw. Bearbeitungsschritte innerhalb des Maschinengehäuses 20 unter einer Schutzgasatmosphäre (unter geringem Überdruck gegenüber der umgebenden Atmosphäre) durchführen zu können.
Die Anlage 100 ist als Durchlaufanlage mit einer schematisch angedeuteten Bestückungseinrichtung 22 und einem Entnahmeeinrichtung 24 konzipiert, die am Eingang bzw. Ausgang des Maschinengehäuses 20 bzw. beispielhaft nahe der Schleusenbereiche 21 angeordnet sind. Mittels der Bestückungseinrichtung 22 werden mit den Basisbauteilen 2 bestückte Baugruppenträger 10 auf einer Bauteilplattform 25 angeordnet. Die Bauteilplattform 25 ist beispielhaft als endlos umlaufendes Förderband 26 ausgebildet, wobei auf der Oberfläche des Trums des Förderbands 26 beispielhaft in gleichmäßigen Abständen zueinander angeordnete Aufnahmen 27, 28 vorgesehen sind, zwischen denen jeweils ein Baugruppenträger 10 angeordnet ist. Das Anordnen der Baugruppenträger 10 zwischen den Aufnahmen 27, 28 durch die Bestückungseinrichtung 22 erfolgt vorzugsweise vollautomatisch, beispielsweise durch nicht dargestellte Handlingsroboter o.ä.
Durch die Entnahmeeinrichtung 24 werden die innerhalb des Maschinengehäuses 20 gefertigten Baugruppen 1 von der Bauteilplattform 25 entnommen. Hierzu dienen ebenfalls nicht dargestellte, vorzugsweise vollautomatisch arbeitende Hilfsmittel, wie Montageroboter o.ä. Diese sind dazu ausgebildet, die mit den Baugruppen 1 bestückten Baugruppenträger 10 aus den Aufnahmen 27, 28 des Förderbands 26 zu entnehmen.
Innerhalb des Maschinengehäuses 20 sind eine Vielzahl von Bearbeitungsstationen 30.1 bis 30.n angeordnet. Die Bearbeitungsstationen 30.1 bis 30.n dienen der Durchführung von Bearbeitungs- bzw. Fertigungsschritten zur Erzeugung der Baugruppen 1, wie dies beispielhaft im Rahmen der Beschreibung der 1 erläutert wurde. Wenigstens eine der Bearbeitungsstationen 30.1 bis 30.n ist als Bearbeitungsstation 30.1 bis 30.n ausgebildet, die zum generativen Herstellen bzw. Aufbringen einer Schicht 3 auf dem Basisbauteil 2 dienen.
Die im Ausführungsbeispiel dem generativen Erzeugen der Schicht 3 dienende Bearbeitungsstation 30.2 umfasst dabei eine Beschichtungseinheit 32 und eine Bestrahlungseinheit 34, die gemeinsam ein Modul zur Ausbildung einer Aufbaueinheit 35 bilden. Mittels der Beschichtungseinheit 32 wird - wie aus dem Stand der Technik an sich bekannt - eine Schicht 3 eines Metallpulvers auf das Basisbauteil 2 aufgebracht. Mittels der Bestrahlungseinheit 34 wird die Schicht 3 selektiv bestrahlt bzw. über die Schmelztemperatur des Materials erwärmt, sodass nach dem anschließenden Erstarren die entsprechende (feste) Schicht 3 ausgebildet ist. Dieser Vorgang kann sich beliebig wiederholen, um die benötigte Anzahl von Schichten 3 übereinander zu erzeugen, wobei die in Förderrichtung 12 der Baugruppenträger 10 dann aufeinanderfolgenden Aufbaueinheiten 35 in einem Höhenversatz zueinander angeordnet sind, der der Schichtdicke der zuletzt aufgebrachten Schicht 3 entspricht. Weiterhin ist wenigstens eine der Bearbeitungsstationen 30.1 bis 30.n dazu ausgebildet, nach dem Erzeugen der Schichten 3 auf dem Basisbauteil 2 das nicht verfestigte, pulverförmige Material der wenigstens einen Schicht 3 zu entfernen. Diese Bearbeitungsstation 30.1 bis 30.n kann auch als Bestandteil der Aufbaueinheit 35 ausgebildet sein.
In der 4 ist eine gegenüber 3 modifizierte Anlage 100a dargestellt. Die Anlage 100a ist als Rundläuferanlage ausgebildet, die eine um eine vertikal angeordnete Achse 36 drehbar angeordnete, scheibenförmige Bauteilplattform 25a aufweist, auf der die Baugruppenträger 10 angeordnet sind. Die Bauteilplattform 25a wird im Uhrzeigersinn in Förderrichtung 12 gedreht.
Sowohl die Anlage 100 als auch die Anlage 100a bzw. die entsprechende Bauteileplattform 25, 25a werden vorzugsweise kontinuierlich angetrieben bzw. gedreht.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

DE 102016226150 A1 [0002]

Claims

Anlage (100; 100a) zum Herstellen von Baugruppen (1), mit einer in einer Fördereinrichtung (12) beweglich angeordneten Bauteilplattform (25; 25a), mit wenigstens einer Beschichtungseinheit (32) zum Auftragen einer Schicht (3; 3a, 3b), und mit wenigstens einer in Förderrichtung (12) der Bauteilplattform (25; 25a) der Beschichtungseinheit (32) nachfolgenden Bestrahlungseinheit (34) zum selektiven Bestrahlen der Schicht (3; 3a, 3b) zum generativen Aufbau der Schicht (3; 3a, 3b), dadurch gekennzeichnet, dass auf der Bauteilplattform (25; 25a) mehrere Baugruppenträger (10) angeordnet sind, wobei die Baugruppenträger (10) dazu ausgebildet sind, wenigstens ein Basisbauteil (2) der zu fertigenden Baugruppe (1) aufzunehmen, auf dessen Oberfläche der generative Aufbau der wenigstens einen Schicht (3; 3a, 3b) der Baugruppe (1) erfolgt.
Anlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Baugruppenträger (10) in Förderrichtung (12) hintereinander und/oder senkrecht zur Förderrichtung (12) auf der Bauteilplattform (25; 25a) angeordnet sind.
Anlage nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Anlage (100) als Durchlaufanlage mit einer Bestückungseinrichtung (22) und einer Entnahmeeinrichtung (24) zum Anordnen bzw. Entfernen der Baugruppenträger (10) auf bzw. von der Bauteilplattform (25) ausgebildet ist.
Anlage nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Anlage (100a) als Rundläuferanlage mit der um eine Achse (36) drehbaren Bauteilplattform (25a) mit einer Bestückungseinrichtung (22) und einer Entnahmeeinrichtung (24) zum Anordnen bzw. Entfernen der Baugruppenträger (10) auf bzw. von der Bauteilplattform (25a) ausgebildet ist.
Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Baugruppenträger (10) auf der Bauteilplattform (25; 25a) um wenigstens eine Achse (8) der Baugruppenträger (10) schwenkbar angeordnet sind.
Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass zusätzlich zu der wenigstens einen Beschichtungseinheit (32) und der wenigstens einen Bestrahlungseinheit (34) entlang der Förderstrecke der Baugruppenträger (10) wenigstens eine weitere Bearbeitungsstation (30.1 bis 30.n) angeordnet ist.
Anlage nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine weitere Bearbeitungsstation (30.1 bis 30.n) als Auftragseinrichtung, Oberflächenbearbeitungseinrichtung, Reinigungseinrichtung, Bestückungseinrichtung ausgebildet ist.
Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest die wenigstens eine Beschichtungseinheit (32) und die wenigstens eine Bestrahlungseinheit (34) eine modulartige Aufbaueinheit (35) ausbilden.
Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass bei mehreren Beschichtungseinheiten (32) diese in Förderrichtung (12) der Baugruppenträger (10) höhenversetzt zueinander angeordnet sind.
Verfahren zum Herstellen von Baugruppen (1) mittels einer Anlage (100; 100a), die insbesondere nach einem der Ansprüche1 bis 9 ausgebildet ist, wobei die Baugruppen (1) wenigstens eine, vorzugsweise mehrere übereinander angeordnete, generativ hergestellte Schichten (3; 3a, 3b) aufweisen, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Schicht (3; 3a, 3b) auf einem Basisbauteil (2) als Bestandteil der auszubildenden Baugruppe (1) erzeugt wird, und dass das Basisbauteil (2) auf einem Baugruppenträger (10) angeordnet wird, der mittels einer in einer Fördereinrichtung (12) beweglichen Bauteilplattform (25; 25a) der Anlage (100; 100a) gefördert wird.
Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Herstellen der Baugruppen (1) im Bereich der Anlage (100; 100a) zusätzlich neben dem generativen Erzeugen der wenigstens einen Schicht (3; 3a, 3b) auf dem Basisbauteil (2) wenigstens einen weiteren Bearbeitungsvorgang umfasst, der mittels wenigstens einer Bearbeitungsstation (30.1 bis 30.n) durchgeführt wird.
Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Baugruppenträger (10) in der Anlage (100; 100a) kontinuierlich in Förderrichtung (12) bewegt werden.
Verwendung einer Anlage (100; 100a) nach einem der Ansprüche 1 bis 9 und/oder des Verfahrens nach einem der Ansprüche 10 bis 12 zur Herstellung von Schaltungsbaugruppen oder Kühlelementen als Baugruppe (1).