DE102018216628A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System für die Mikrolithographie - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System für die Mikrolithographie Download PDF

Info

Publication number
DE102018216628A1
DE102018216628A1 DE102018216628.5A DE102018216628A DE102018216628A1 DE 102018216628 A1 DE102018216628 A1 DE 102018216628A1 DE 102018216628 A DE102018216628 A DE 102018216628A DE 102018216628 A1 DE102018216628 A1 DE 102018216628A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
optical element
heating state
optical
partial beam
partial
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE102018216628.5A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Alexander Wolf
Toralf Gruner
Joachim Hartjes
Andy Zott
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE102018216628.5A priority Critical patent/DE102018216628A1/de
Priority to PCT/EP2019/072210 priority patent/WO2020064223A1/en
Priority to TW108130537A priority patent/TW202026608A/zh
Publication of DE102018216628A1 publication Critical patent/DE102018216628A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7085Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/181Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70883Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01KMEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01K17/00Measuring quantity of heat
    • G01K17/003Measuring quantity of heat for measuring the power of light beams, e.g. laser beams

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
DE102018216628.5A 2018-09-27 2018-09-27 Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System für die Mikrolithographie Ceased DE102018216628A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102018216628.5A DE102018216628A1 (de) 2018-09-27 2018-09-27 Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System für die Mikrolithographie
PCT/EP2019/072210 WO2020064223A1 (en) 2018-09-27 2019-08-20 Method and apparatus for determining the heating state of an optical element in a microlithographic optical system
TW108130537A TW202026608A (zh) 2018-09-27 2019-08-27 用於確定微影光學系統中光學元件的加熱狀態的方法和設備

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102018216628.5A DE102018216628A1 (de) 2018-09-27 2018-09-27 Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System für die Mikrolithographie

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102018216628A1 true DE102018216628A1 (de) 2020-04-02

Family

ID=67851093

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102018216628.5A Ceased DE102018216628A1 (de) 2018-09-27 2018-09-27 Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System für die Mikrolithographie

Country Status (3)

Country Link
DE (1) DE102018216628A1 (zh)
TW (1) TW202026608A (zh)
WO (1) WO2020064223A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018212400A1 (de) 2018-07-25 2020-01-30 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System für die Mikrolithographie

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010061950A1 (de) * 2010-11-25 2012-05-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren sowie Anordnung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines Spiegels in einem optischen System

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3605737A1 (de) 1986-02-22 1987-08-27 Battelle Institut E V Verfahren und vorrichtung zur beruehrungslosen temperaturmessung
DE102005004460A1 (de) 2005-02-01 2006-08-10 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren und Messmittel zur indirekten Bestimmung der örtlichen Bestrahlungsstärke in einem optischen System
DE102007030398A1 (de) * 2007-06-29 2009-01-02 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung der Temperatur und/oder einer temperaturabhängigen Kenngröße eines optischen Elements
DE102013214008A1 (de) * 2013-07-17 2015-01-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optikanordnung

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010061950A1 (de) * 2010-11-25 2012-05-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren sowie Anordnung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines Spiegels in einem optischen System

Also Published As

Publication number Publication date
TW202026608A (zh) 2020-07-16
WO2020064223A1 (en) 2020-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102011006468B4 (de) Vermessung eines abbildenden optischen Systems durch Überlagerung von Mustern
DE102006039895A1 (de) Verfahren zur Korrektur von durch Intensitätsverteilungen in optischen Systemen erzeugten Abbildungsveränderungen sowie entsprechendes optisches System
DE102018209175B4 (de) Computer-generiertes Hologramm (CGH), interferometrische Prüfanordnung, sowie Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements
WO2021259545A1 (de) Heizanordnung und verfahren zum heizen eines optischen elements
DE102017115262A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie
DE102020205752A1 (de) Verfahren zum Betreiben eines deformierbaren Spiegels, sowie optisches System mit einem deformierbaren Spiegel
WO2015150301A1 (de) Verfahren zum justieren eines spiegels einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
EP3827312B1 (de) Verfahren und vorrichtung zum bestimmen des erwärmungszustandes eines optischen elements in einem optischen system für die mikrolithographie
DE102015221773A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung eines durch wenigstens einen Lithographieschritt strukturierten Wafers
DE102018216628A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines optischen Elements in einem optischen System für die Mikrolithographie
WO2019228765A1 (de) Verfahren sowie vorrichtung zum bestimmen des erwärmungszustandes eines spiegels in einem optischen system
DE102009046098A1 (de) Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit einer reflektiven optischen Komponente und einer Messeinrichtung
WO2022156926A1 (de) Verfahren sowie vorrichtung zum bestimmen des erwärmungszustandes eines optischen elements in einem optischen system
DE102021206203A1 (de) Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements
DE102019112675B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung einer Maske für die Mikrolithographie
DE102021200790A1 (de) Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, sowie Spiegel und optisches System
DE102014218087A1 (de) Anordnung und Verfahren zur Überwachung des Kontaminationszustandes eines Spiegels einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102018218488A1 (de) Messanordnung zur interferometrischen Absolutmessung des Abstandes zwischen zwei Komponenten in einem optischen System für die Mikrolithographie
DE10335982A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Überprüfung der Abbildungseigenschaften von Fotomasken
DE102010041393A1 (de) Charakterisierung der thermischen Eigenschaften eines Rohlings
DE102021211963A1 (de) Verfahren sowie interferometrische Messanordnung zur Bestimmung der Oberflächenform eines Prüflings
DE102019208620A1 (de) Interferometer zur Abstandsvermessung in einem optischen System
DE102015211167A1 (de) Verfahren zum Betreiben einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Projektionsbelichtungsanlage
DE102020210884A1 (de) Messverfahren und Messanordnung zur Ermittlung der Position und/oder der Orientierung eines optischen Elements sowie Projektionsbelichtungsanlage
DE102021203123A1 (de) Computer-generiertes Hologramm (CGH) sowie interferometrische Messanordnung zur Bestimmung der Oberflächenform eines Prüflings

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R002 Refusal decision in examination/registration proceedings
R003 Refusal decision now final