DE102018132904B4 - Piezoelektrisches Material und piezoelektrische Vorrichtung - Google Patents

Piezoelektrisches Material und piezoelektrische Vorrichtung Download PDF

Info

Publication number
DE102018132904B4
DE102018132904B4 DE102018132904.0A DE102018132904A DE102018132904B4 DE 102018132904 B4 DE102018132904 B4 DE 102018132904B4 DE 102018132904 A DE102018132904 A DE 102018132904A DE 102018132904 B4 DE102018132904 B4 DE 102018132904B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
piezoelectric
resonator
piezoelectric material
material according
waves
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE102018132904.0A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102018132904A1 (de
Inventor
Ivoyl KOUTSAROFF
Christopher Hayden Hontgas
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
RF360 Europe GmbH
Original Assignee
RF360 Europe GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by RF360 Europe GmbH filed Critical RF360 Europe GmbH
Priority to DE102018132904.0A priority Critical patent/DE102018132904B4/de
Priority to JP2021533600A priority patent/JP2022513810A/ja
Priority to US17/294,607 priority patent/US20210296566A1/en
Priority to PCT/EP2019/085690 priority patent/WO2020127294A1/en
Priority to CN201980083832.5A priority patent/CN113261124A/zh
Publication of DE102018132904A1 publication Critical patent/DE102018132904A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102018132904B4 publication Critical patent/DE102018132904B4/de
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80Constructional details
    • H10N30/85Piezoelectric or electrostrictive active materials
    • H10N30/853Ceramic compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/515Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
    • C04B35/58Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
    • C04B35/581Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on aluminium nitride
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02007Details of bulk acoustic wave devices
    • H03H9/02015Characteristics of piezoelectric layers, e.g. cutting angles
    • H03H9/02031Characteristics of piezoelectric layers, e.g. cutting angles consisting of ceramic
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02535Details of surface acoustic wave devices
    • H03H9/02543Characteristics of substrate, e.g. cutting angles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/38Non-oxide ceramic constituents or additives
    • C04B2235/3852Nitrides, e.g. oxynitrides, carbonitrides, oxycarbonitrides, lithium nitride, magnesium nitride
    • C04B2235/386Boron nitrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/38Non-oxide ceramic constituents or additives
    • C04B2235/3852Nitrides, e.g. oxynitrides, carbonitrides, oxycarbonitrides, lithium nitride, magnesium nitride
    • C04B2235/3865Aluminium nitrides

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

Piezoelektrisches Material, das Folgendes aufweist:Al1-x[(Caa, RUb, Z1c1,Z2c2)y]xN als seinen Hauptbestandteil,wobei gilt:0,055≤a≤1,33,0,055≤b≤1,33,0≤c1,0≤c2,0≤c=c1+c2≤1,33,y=1/(a+b+c),0,03≤x≤0,75,undZi und Z2 sind aus B und Y ausgewählt.

Description

  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein piezoelektrisches Material und auf piezoelektrische Vorrichtungen, die das piezoelektrische Material umfassen.
  • Piezoelektrische Materialien können - aufgrund ihres piezoelektrischen Effekts - genutzt werden, um mechanische Energie in elektrische Energie umzuwandeln und mechanische Energie als Reaktion auf eine angelegte elektrische Anregung umzuwandeln. Piezoelektrische Materialien können in einer breiten Vielfalt von Vorrichtungen verwendet werden. Zum Beispiel können elektroakustische HF-Vorrichtungen, die elektroakustische Resonatoren umfassen, Resonanzstrukturen umfassen, wobei Elektrodenstrukturen und ein piezoelektrisches Material kombiniert sind. Die Leistungsfähigkeit von piezoelektrischen Materialien wird durch Sätze von elastischen, dielektrischen und piezoelektrischen Parametern bestimmt. Elastische Parameter sind zum Beispiel der Elastizitätsmodul, C33 (eine Komponente des Steifigkeitstensors des Materials), Gitterdichte und dergleichen. Der elektromechanische Kopplungseffekt, K2, der ein anderer wichtiger Parameter ist, der die Effizienz einer Anregung akustischer Wellen bestimmt, bildet eine Brücke zwischen mechanischer und elektrischer Leistungsfähigkeit. Ein anderer Parameter ist die piezoelektrische Konstante, e33, eine Komponente des piezoelektrischen Tensors des Materials. Andere sind die longitudinale Steifigkeit, c33, und die dielektrische Permittivität, ∈33.
  • Zum Beispiel wird es für elektroakustische Anwendungen bevorzugt, dass das piezoelektrische Material einen hohen elektromechanischen Kopplungskoeffizienten, K2, aufweist. Ein bekanntes piezoelektrisches Material ist das Wurtzit-Typ-AlN (Aluminiumnitrid), das in elektroakustischen Resonatoren, z. B. in BAW-Resonatoren (BAW: Bulk Acoustic Wave - akustische Volumenwelle), verwendet werden kann. BAW-Resonatoren weisen eine untere Elektrode, eine obere Elektrode oberhalb der unteren Elektrode und das piezoelektrische Material, das zwischen der unteren Elektrode und der oberen Elektrode sandwichartig dazwischenliegt, auf. Es wird bevorzugt, dass das piezoelektrische Material von BAW-Resonatoren über eine Dünnfilmabscheidungstechnik bereitgestellt wird.
  • Ein weiteres bekanntes piezoelektrisches Material ist Sc-dotiertes AlN (Scandium-dotierts AlN). Sc-dotiertes AlN weist das Potential auf, einen höheren elektromechanischen Kopplungskoeffizienten K2 als reines Aluminiumnitrid bereitzustellen.
  • Jedoch existiert der Wunsch nach alterativen Materialien, die zur Verwendung in piezoelektrischen Vorrichtungen geeignet sind. Ferner wurde herausgefunden, dass eine Sc-Dotierung entsprechende mechanische Eigenschaften einer Vorrichtung aufgrund einer AlScN-Gitter-Erweichung verschlechtern kann, die sich in der gleichzeitigen Reduzierung des Longitudinalsteifigkeitskoeffizienten, C33, manifestiert, d. h. ohne, dass diese Leistungsfähigkeitsparameter einen Ausgleichseffekt aufweisen.
  • Was gewünscht ist, ist ein piezoelektrisches Material, das in einer breiten Vielfalt von piezoelektrischen Vorrichtungen verwendet werden kann, das verbesserte piezoelektrische Eigenschaften aufweist, insbesondere einen erhöhten elektromechanischen Kopplungskoeffizienten, K2,und das gute mechanische Eigenschaften aufweist, insbesondere einen hohen Longitudinalsteifigkeitskoeffizienten, C33.
  • Zu diesem Zweck sind ein piezoelektrisches Material gemäß dem unabhängigen Anspruch und eine piezoelektrische Vorrichtung bereitgestellt. Abhängige Ansprüche stellen bevorzugte Ausführungsformen bereit.
  • Im Folgenden sind Zusammensetzungen für piezoelektrische Materialien bereitgestellt. Das Toleranzniveau für die Mengen der Atome, bei denen die Zusammensetzungen als äquivalent betrachtet werden können, können ±1 Atom-% oder ± 2 Atom-% sein.
  • Das piezoelektrische Material umfasst als seinen Hauptbestandteil (-verbindung) eine Strukturformel Al1-x[(Caa, RUb, Z1c1, Z2c2)y] xN, wobei ein a-Stoffmengenanteil größer als oder gleich 0,055 und kleiner als oder gleich 1,33 ist. Ein b-Stoffmengenanteil ist größer als oder gleich 0,055 und kleiner als oder gleich 1,33.
  • c1 ist größer als oder gleich 0. c2 ist größer als oder gleich 0. Die Summe c = c1 + c2 ist größer als oder gleich 0 und kleiner als oder gleich 1,33. y ist der Kehrwert der Summe von a, b und c: y=1/(a+b+c). x ist größer als oder gleich 0,03 und kleiner als oder gleich 0,75. Z1 und Z2 sind aus B (Bor) und Y (Yttrium) ausgewählt.
  • Dementsprechend umfasst das piezoelektrische Material Al (Aluminium), Ca (Calcium), Ru (Ruthenium) und N (Stickstoff).
  • Fern kann das Material Y (Yttrium) umfassen. Ferner kann das Material B (Bor) umfassen. Ferner kann das Material Y und B umfassen.
  • Ca, Ru - und falls vorhanden Y und/oder B - bilden Dotierungsstoffe, die Al ersetzten können. Der Wert von y ist so gewählt, dass die Dotierungsstoffe als eine Gruppe betrachtet werden können, wobei jedes Atom der Dotierungsstoffgruppe Al in dem Wurtzit-Gitter von Al1-x[(Caa, RUb, Z1c1, Z2c2) y] xN fraktionell substituieren kann. Dann bezeichnet x das Gesamtdotierungs- oder Ersetzungsniveau von Al-Atomen.
  • Es wurde herausgefunden, dass ein solches piezoelektrisches Material gute piezoelektrische Eigenschaften aufweist, wie etwa einen guten elektromechanischen Kopplungskoeffizienten, K2. Ferner kann das piezoelektrische Material mit dem Hauptbestandteil wie oben beschrieben auch eine höhere Steifigkeit aufweisen, insbesondere einen höheren Steifigkeitsparameter C33 im Vergleich zu reinem AlN oder Sc-dotiertem AlN, bei vergleichbaren elektromechanischen Kopplungskoeffizienten K2.
  • Ferner wurde herausgefunden, dass das piezoelektrische Material wie oben beschrieben piezoelektrische Resonatoren mit einem erhöhten Gütefaktor, Q, im Vergleich zu elektroakustischen Resonatoren basierend auf reinem AlN oder Sc-dotiertem AlN ermöglicht. Folglich sind entsprechende HF-Filter oder andere piezoelektrische Komponenten mit einer verbesserten Leistungsfähigkeit möglich.
  • Es ist möglich, dass das piezoelektrische Material Al1-x[(Caa, Yb, Zc)y] xN als seinen Hauptbestandteil (-verbindung) aufweist. Z ist aus B und Y ausgewählt.
  • Dementsprechend bestehen die Dotierungsstoffe aus Ca, Ru und B oder Ca, Ru und Y.
  • Es ist möglich, dass das Material Al1-x[ (Caa, RUb, Z1c1, Z2c2) y] xN als seinen Hauptbestandteil (-verbindung) aufweist. Z1 und Z2 sind aus B und Y oder nur B oder nur Y ausgewählt. Es gilt: 0,165 ≤ a ≤ 0,66; 0,165 ≤ b ≤ 0,66; 0 ≤ c1; 0 ≤ c2; 0 ≤ c = c1+c2 ≤ 0,66; y=1/(a+b+c) und 0,09 ≤ x ≤ 0,372.
  • Es ist möglich, dass das Dotierungsniveau aus 0,03, 0,06, 0,09, 0,12, 0,15, 0,18, 0,21, 0,24, 0,27, 0,30, 0,33, 0,36, 0,39, 0,42, 0,45, 0,48, 0,51, 0,54, 0,57, 0, 60, 0, 63, 0, 66, 0,69, 0,72 und 0,75 ausgewählt ist.
  • Es ist möglich, dass der Hauptbestandteil (-verbindung) Al0.814Ca0.062Ru0.062B0.062N ist. Bei dieser Dotierungskombination bestehen die Dotierungsstoffe aus Ca, Ru und B.
  • Außerdem ist es möglich, dass der Hauptbestandteil (-verbindung) Al0.814Ca0.062Ru0.062B0.124N ist. Bei dieser Dotierungskombination bestehen die Dotierungsstoffe aus Ca, Ru und B.
  • Außerdem ist es möglich, dass der Hauptbestandteil (-verbindung) Al0.876Ca0.062Ru0.062B0.124Nist. Bei dieser Dotierungskombination bestehen die Dotierungsstoffe aus Ca, Ru und B.
  • Außerdem ist es möglich, dass der Hauptbestandteil (-verbindung) Al0.69Ca0.124Ru0.124B0.062N ist. Bei dieser Dotierungskombination bestehen die Dotierungsstoffe aus Ca, Ru und B.
  • Außerdem ist es möglich, dass der Hauptbestandteil (-verbindung) Al0.814Ca0.062Ru0.062Y0.062N ist. Bei dieser Dotierungskombination bestehen die Dotierungsstoffe aus Ca, Ru und Y.
  • Außerdem ist es möglich, dass der Hauptbestandteil (-verbindung) Al0.876Ca0.062Ru0.062N ist. Bei dieser Dotierungskombination bestehen die Dotierungsstoffe aus Ca und Ru. Die Dotierungsstoffe umfassen weder Y noch B.
  • Es ist möglich, dass die wenigstens 44,2 (Atom-%), 53,5 (Atom-%), 62,77 (Atom-%), 72,1 (Atom-%), 81,4 (Atom-%), 90,7 (Atom-%), 95,78 (Atom-%), 98,25(Atom-%) oder 99(Atom-%) Al sind, während die verbleibende Bilanz eine Kombination aus einem ternären oder quaternären dotierten piezoelektrischen AlN-Material ist, das Ca (Calcium), Ru (Ruthenium), B (Bor) und Y (Yttrium) enthält.
  • Die obigen Zusammensetzungen aus quaternären oder quinären Nitriden stellen gute elektromechanische Eigenschaften und gute mechanische Eigenschaften bereit, die in den folgenden Tabellen (Tabelle 1 und Tabelle 2) gezeigt sind. Die Ab-initio-Eigenschaften werden aus Dichtefunktionalstörungstheorieberechnungen abgeleitet. Vergleiche zwischen Berechnungen und Experimenten rechtfertigen, dass die bereitgestellten berechneten Werte als nahe den erwarteten Experimenten betrachtet werden können, da eine ausreichende Anzahl an Quasizufallsstrukturen (SQS)und statistischen Medianwerten für jedes Zusammensetzungsbeispiel erhalten wurde. Tabelle 1
    Nitridverbindungszusammensetzung C33 [GPa] Voigt-Elastizitätsmodul E [GPa] e33 [C/m2] Gitterdichte [g/cm3]
    Referenz: AIN 356,8 299,55 1,4638 3,203
    A) AI0,814Ca0,062Ru0,062B0,062N 270,4 225,6 2,419 3,441
    Referenz: Al0,6875Sc0,3125N 213,3 205,66 2,0455 3,289
    B) Al0,876Ca0,062Ru0,062B0,124N 274,7 233,7 2,207 3,527
    Referenz: Al0,8125Sc0,1875N 260,7 228,57 1,838 3,257
    D) Al0,69Ca0,124Ru0,124B0,062N 236,5 203,7 2,569 3,746
    E) AI0,814Ca0,062Ru0,062Y0,062N 232,0 197,95 2,4145 3,617
    F) AI0,876Ca0,062Ru0,062N 277,4 240,64 1,762 3,459
    Tabelle 2
    Nitridverbindungszusammensetzung k2= e33 2/(C33ε33ε0) [%] Dielektrische Permittivität ε33 Piezoelkektrischer Koeffizient d33(pC/N) Versteifungslongitudinalgeschwindigkeit [m/s]
    Referenz: AIN 7,02 9,763 5,31 10864
    A) Al0,814Ca0,062Ru0,062B0,062N 17,95 13,613 12,44 9627,6
    Referenz: Al0,6875Sc0,3125N 17,97 12,33 18,71 8754,7
    B) Al0,876Ca0,062Ru0,062B0,124N 13,91 14,4 11,26 9419,3
    Referenz: Al0,8125Sc0,1875N 12,89 11,36 11,516 9504,4
    D) Al0,69Ca0,124Ru0,124B0,062N 18,94 16,64 17,50 8664,7
    E) Al0,814Ca0,062Ru0,062Y0,062N 17,89 15,865 17,99 8666,3
    F) Al0,876Ca0,062Ru0,062N 10,0 12,63 8,75 9379,0
  • Restbestandteile können andere Atome umfassen, die aufgrund notwendiger Herstellungsschritte und dergleichen unvermeidlich sein können.
  • Es ist möglich, dass eine piezoelektrische Vorrichtung ein Material wie oben beschrieben umfasst.
  • Eine solche Vorrichtung kann aus Folgendem ausgewählt werden:
    • - ein elektroakustischer Resonator, ein SAW-Resonator, ein SAW-Filter, ein fest montierter Resonator (SMR(Solidly Mounted Resonator)-Typ-Resonator), ein (SMR-) BAW-Filter, ein Geleitete-BAW(GBAW)-Resonator, ein GBAW-Filter, ein Film-Akustische-Volumenwelle(FBAR: Film Bulk Acoustic Wave)-Resonator, ein FBAR-Filter, oder
    • - ein Resonator, der mit Lamb-Wellen, akustischen Plattenwellen (APW: Acoustic Plate Waves), Rayleigh-SAW (R-SAW), Sezawa-Mode-Wellen, horizontalen Scher-SAWs (SH-SAWs), Love-Mode-Wellen, akustischen Pseudoberflächenwellen (PSAW: Pseudo-Surface Acoustiv Waves) oder leckenden SAWs (LSAW: Leaky SAWs) arbeitet oder
    • - eine akustische Vorrichtung, ein Multiplexer, ein Duplexer, ein Quadplexer, ein Hexaplexer basierend auf einem beliebigen der obigen Typen von Resonatoren, ein piezoelektrischer Generator, ein piezoelektrischer Sensor, ein Massensensor, ein mikrofluidischer Sensor, ein piezoelektrischer Wandler, ein Energie-Harvester, eine Ultraschallvorrichtung, ein Wandler, ein Sender, ein Piezo(MEMS)-Mikrofon, eine Vorrichtung, die einen direkten oder umgekehrten piezoelektrischen Effekt in einer Dünnfilm- oder Volumenkeramikform verwendet.
  • Ein SAW-Filter ist ein HF-Filter, das wenigstens einen SAW-Resonator aufweist. Ein SAW-Resonator weist ein piezoelektrisches Material und fingerartig verschränkte Elektrodenstrukturen, die nebeneinander auf dem piezoelektrischen Material angeordnete Elektrodenfinger aufweisen, auf. Jeder Elektrodenfinger ist elektrisch mit einer von zwei Sammelschienen verbunden. Wenn ein HF-Signal an die Sammelschienen angelegt wird, dann wandelt die Elektrodenstruktur - aufgrund des piezoelektrischen Effekts - zwischen HF-Signalen und akustischen Wellen. Die Wellenlänge der akustischen Welle wird im Wesentlichen durch den Abstand zwischen angrenzenden Elektrodenfingern der gleichen Polarität bestimmt. Eine Oberflächenwelle, die an der Oberfläche des piezoelektrischen Materials propagiert, wird erzeugt. Die Frequenz hängt von der Wellenlänge und der Wellengeschwindigkeit ab. Eine Nutzung solcher Resonatoren, z. B. als Reihenresonatoren oder Parallelresonatoren in einer Abzweigtypstruktur oder als Resonatoren in einer Kreuzgliedtypstruktur, ermöglicht es, ein Bandpassfilter oder ein Bandsperrfilter zu erschaffen, z. B. für Drahtloskommunikationsvorrichtungen.
  • In einem BAW-Resonator liegt das piezoelektrischen Material sandwichartig zwischen einer unteren Elektrode und einer oberen Elektrode dazwischen. Während die akustischen Wellen in einem SAW-Resonator in einer Richtung parallel zu der Oberfläche des piezoelektrischen Materials propagieren, propagieren die akustischen Wellen in einem BAW-Resonator in einer vertikalen Richtung. Um akustische Energie in der Resonatorstruktur einzugrenzen, muss die Resonatorstruktur akustisch von ihrer Umgebung entkoppelt werden. Entsprechend ist es möglich, dass der BAW-Resonator ein SMR-Typ-Resonator (SMR: Solidly Mounted Resonator - fest montierter Resonator) oder ein FBAR-Typ-Resonator (FBAR: Film Bulk Acoustic Wave Resonator - Akustische-Volumenwelle-Filmresonator) ist. In einem SMR-Typ-Resonator ist die Resonatorstruktur auf einem akustischen Spiegel montiert, der aus zwei oder mehr Schichten mit hoher und niedriger akustischer Impedanz besteht, so dass er als ein akustischer Bragg-Spiegel zum Eingrenzen der akustischen Energie fungiert. In einem FBAR-Typ-Resonator kann die untere Elektrode oberhalb eines Hohlraums angeordnet sein, um die Resonatorstruktur akustisch zu isolieren.
  • In einem GBAW-Filter sind die Elektrodenstrukturen jenen eines Resonators in einem SAW-Filter ähnlich. Jedoch propagieren die akustischen Wellen in einer Longitudinalrichtung an einer Grenzfläche zwischen dem piezoelektrischen Material und einer Deckschicht, so dass eine Wellenleitungsstruktur erhalten wird.
  • Bandpassfilter können - möglicherweise mit zusätzlichen Impedanzanpassungsschaltkreisen - kombiniert werden, um einen Multiplexer herzustellen. Zum Beispiel sind in einem Duplexer ein Übertragungsfilter und ein Empfangsfilter so kombiniert, das zu sendende HF-Signale und zu empfangende HF-Signale einen gemeinsamen Antennenport teilen können, aber in separaten Signalpfaden, in einem Übertragungssignalpfad bzw. in einem Empfangssignalpfad, propagieren. Entsprechend umfasst ein Multiplexer eines höheren Grades, z. B. ein Quadplexer, zusätzliche Bandpassfilter und zusätzliche Signalpfade.
  • In einem Energie-Harvester kann das piezoelektrische Material genutzt werden, um mechanische Energie in elektrische Energie umzuwandeln, z. B. um eine Batterie oder einen Kondensator mit mechanischer Energie zu laden, die aus der Umgebung der jeweiligen Vorrichtung erhalten wird.
  • Dementsprechend ist ein verbessertes piezoelektrisches Material bereitgestellt, das verbesserte piezoelektrische Vorrichtungen, insbesondere Resonatorvorrichtungen mit einem verbesserten Gütefaktor, ermöglicht.
  • Die piezoelektrischen Vorrichtungen sind nicht auf die oben angegebenen Vorrichtungen beschränkt. Weitere Vorrichtungen sind ebenfalls möglich.
  • In den Figuren gilt:
    • 1 veranschaulicht die Anordnung einer Interdigitalstruktur eines SAW-Resonators;
    • 2 veranschaulicht die Anordnung eines SMR-Typ-BAW-Resonators;
    • 3 veranschaulicht die Kombination von elektroakustischen Resonatoren, um einen Duplexer herzustellen;
    • 4 zeigt Vergleiche zwischen berechneten Werten des elektromechanischen Kopplungskoeffizienten, K2, und gemessenen Werten von tatsächlichen SMR-BAW-Resonatoren mit piezoelektrischen Schichten, die mit unterschiedlichen Dotierungsniveaus von Sc in AlN gefertigt sind;
    • 5 zeigt einen Vergleich zwischen einem extrapolierten mechanischen Gütefaktor (Qm) für von einem SMR-BAW gemessene und aus Ab-initio-Berechnungen erhaltene Werte und sie zeigt, wie schnell sich Qm mit unterschiedlichen Dotierungsniveaus von Sc in AlN ändert;
    • 6 zeigt die Abhängigkeit eines Verhaltens von C33 vs Kopplungskoeffizient K2 für ein alternatives Al1-xScxN-Material (0,0625≤x≤0,31) mit einem höheren C33 für einen Bereich von Kopplungskoeffizienten K2;
    • 7 zeigt die Abhängigkeit eines Verhaltens von C33 vs Kopplungskoeffizient K2 für ein alternatives Al1-xScxN-Material (0,0625≤x≤0,31) mit einem mäßig höheren C33 für einen Bereich von Kopplungskoeffizienten K2;
    • 8 zeigt eine C33-K2-Abhängigkeit;
    • 9 zeigt die Abhängigkeit eines Verhaltens von C33 vs Kopplungskoeffizient K2 für ein alternatives Al1-xScxN-Material (0,0625≤x≤0,31) mit einem im Wesentlichen äquivalenten C33 für einen Bereich von Kopplungskoeffizienten K2.
  • 1 veranschaulicht eine grundlegende Anordnung von Elektrodenstrukturen auf einem piezoelektrischen Material PM, das als einkristallines piezoelektrisches Substrat oder durch ein piezoelektrisches Material bereitgestellt werden kann, das als eine dünne Schicht bereitgestellt ist. Die Elektrodenstruktur weist eine fingerartig verschränkte Struktur, IDS, auf, die Elektrodenfinger, EFI, umfasst, die nebeneinander angeordnet sind. Jeder der Elektrodenfinger, EFI, ist elektrisch mit einer von zwei Sammelschienen verbunden. Bei der in 3 gezeigten Anordnung propagieren die akustischen Wellen an der Oberfläche des piezoelektrischen Materials in einer Richtung orthogonal zu den Elektrodenfingern.
  • 2 veranschaulicht die grundlegende Konstruktion eines BAW-Resonators BAWR. Der BAW-Resonator BAWR weist das piezoelektrische Material, PM, auf, das sandwichartig zwischen einer unteren Elektrode, BE, und einer oberen Elektrode, TE, dazwischenliegt. 4 veranschaulicht auch einen SMR-Typ-Resonator, wobei die Resonatorstruktur, die zwei Elektroden und das piezoelektrische Material umfasst, auf einem akustischen Spiegel angeordnet ist. Der akustische Spiegel weist Spiegelschichten, ML, auf. Angrenzende Spiegelschichten, ML, weisen eine unterschiedliche akustische Impedanz auf. An einer Grenzfläche zwischen unterschiedlichen Spiegelschichten, ML, mit unterschiedlicher akustischer Impedanz wird ein Teil der akustischen Energie reflektiert, so dass die Kombination aus Spiegelschichten, ML, einen Bragg-Spiegel zum Eingrenzen der akustischen Energie erzeugt.
  • 3 veranschaulicht die Möglichkeit des Kombinierens eines Übertragungsfilters, TXF, und eines Empfangsfilters, RXF, um einen Duplexer zu erzeugen. Das Übertragungsfilter, TXF, und das Empfangsfilter, RXF, umfassen einen Signalpfad, in dem Reihenresonatoren, SR, elektrisch in Reihe verbunden sind. Parallelresonatoren, PR, sind elektrisch in Shunt-Pfaden zwischen dem Signalpfad und Masse verbunden. Ein Impedanzanpassungsschaltkreis kann zwischen dem Übertragungsfilter, TXF, und dem Empfangsfilter, RXF, angeordnet sein, um angepasste frequenzabhängige Impedanzen an dem gemeinsamen Port bereitzustellen, an dem eine Antenne, AN, verbunden werden kann.
  • 4 zeigt einen Vergleich zwischen gemessenen und berechneten Daten. Kurve (1) zeigt die (experimentell) gemessene Abhängigkeit des Kopplungsfaktors, K2, von dem Sc-Dotierungsniveau von Sc-dotiertem AlN (Al1-xScxN) für unterschiedliche Dotierungsniveaus, x. Kurve (2) zeigt die Ergebnisse von Berechnungen, die in einer Simulation zum Bestimmen eines theoretischen Modells von Sc-dotiertem AlN erfolgten. Es kann gesehen werden, dass die Experimente im Wesentlichen die berechneten Ab-initio-Ergebnisse bestätigen.
  • Gleichermaßen zeigt 5 einen Vergleich zwischen gemessenen und berechneten Daten. Kurve (3) zeigt die gemessene Abhängigkeit des mechanischen Gütefaktors, Qm, abgeleitet von der Impedanzantwort von physischen (experimentell gefertigten) Resonatoren bei dem SC-Dotierungsniveau von Sc-dotiertem AlN (Al1-xScxN). Kurve (4) zeigt die Ergebnisse von Berechnungen, die in der Simulation erfolgten. Wieder bestätigen die experimentell abgeleiteten Werte im Wesentlichen die berechneten Ergebnisse.
  • Dementsprechend sind die Berechnungen, auf denen die vorliegenden Zusammensetzungen basieren, zuverlässig.
  • 6 zeigt einen Vergleich zwischen mehreren Parametern von Sc-dotiertem AlN und Al0.814Ca0.062Ru0.062B0.062N (der Zusammensetzung A der Tabellen entsprechend). Das Sc-Dotierungsniveau für die unterschiedliche Sc-dotierte AlN-Zusammensetzung bestimmt C33 im Wesentlichen, wie durch Kurve (5) gezeigt ist. Kurve (6) zeigt eine Polynominterpolation von berechneten Datenpunkten, die eine C33-Abhängigkeit von K2 für unterschiedliche Quasizufallsstrukturen von Al0.814Ca0.062Ru0.062B0.062N angibt. Die unterschiedlichen Quasizufallsstrukturen von Al0.814Ca0.062Ru0.062B0.062N unterscheiden sich hinsichtlich einer genauen Position jedes Dotierungsstoffs, der die Al-Atome ersetzt. Die Berechnungen zeigen, dass in einer realen Zusammensetzung eine Mischung dieser Quasizufallsstrukturen bereitgestellt ist, so dass ein K2 von näherungsweise 0,18 und ein C33 von 270,4 GPa erhalten werden. Dementsprechend weist Al0.814Ca0.062Ru0.062B0.062N ein C33 auf, das näherungsweise 65,3 GPa größer als jenes von einem SC-dotierten AlN-Baseline-System mit sehr ähnlichen K2 (nahe bei 0,20) ist, während der Medianwert von Al0.814Ca0.062Ru0.062B0.062N ein C33 aufweist, das näherungsweise 42,3 GPa größer als jenes eines Sc-dotierten AlN-Baseline-Systems mit sehr ähnlichem K2 (nahe bei 0,15) ist.
  • 7 zeigt einen Vergleich zwischen mehreren Parametern von Sc-dotiertem AlN und Al0.876Ca0.062Ru0.062B0.062N)0.124N (der Zusammensetzung B) der Tabellen entsprechend). Das Sc-Dotierungsniveau für die unterschiedliche Sc-dotierte AlN-Zusammensetzung bestimmt C33 im Wesentlichen, wie durch Kurve (7) gezeigt ist. Kurve (8) zeigt eine Polynominterpolation von berechneten Datenpunkten, die eine C33-Abhängigkeit von K2 für unterschiedliche Quasizufallsstrukturen von Al0.876Ca0.062Ru0.062B0.124N angibt. Die unterschiedlichen Quasizufallsstrukturen von Al0.876Ca0.062Ru0.062B0.124N unterscheiden sich hinsichtlich einer genauen Position jedes Dotierungsstoffs, der die Al-Atome ersetzt. Die Berechnungen zeigen, dass in einer realen Zusammensetzung eine Mischung dieser Quasizufallsstrukturen bereitgestellt ist, so dass ein K2 von näherungsweise 0,139 und ein C33 von 274,2 GPa erhalten werden. Dementsprechend weist Al0.876Ca0.062Ru0.062B0.124Nein C33 auf, das näherungsweise 14 GPa mit sehr ähnlichem K2 (nahe bei 0,13) ist.
  • 8 zeigt berechnete Parameter für dotiertes AlN.
  • 9 zeigt einen Vergleich zwischen mehreren Parametern von Sc-dotiertem AlN und Al0.814Ca0.062Ru0.062B0.062N (der Zusammensetzung E) der Tabellen entsprechend). Das Sc-Dotierungsniveau für die unterschiedliche Sc-dotierte AlN-Zusammensetzung bestimmt C33 im Wesentlichen, wie durch Kurve (9) gezeigt ist. Kurve (10) zeigt eine Polynominterpolation von berechneten Datenpunkten, die eine C33-Abhängigkeit von K2 für unterschiedliche Quasizufallsstrukturen von Al0.814Ca0.062Ru0.062B0.062N angibt. Die unterschiedlichen Quasizufallsstrukturen von Al0.876Ca0.062Ru0.062B0.124N unterscheiden sich hinsichtlich einer genauen Position jedes Dotierungsstoffs, der die Al-Atome ersetzt. Die Berechnungen zeigen, dass in einer realen Zusammensetzung eine Mischung dieser Quasizufallsstrukturen bereitgestellt ist, so dass ein K2 von näherungsweise 0,179 und ein C33 von 232 GPa erhalten werden. Dementsprechend weist Al0.876Ca0.062Ru0.062B0.124Nein C33 auf, das näherungsweise 18,8 GPa mit sehr ähnlichem K2 (0,18) ist.

Claims (10)

  1. Piezoelektrisches Material, das Folgendes aufweist: Al1-x[(Caa, RUb, Z1c1,Z2c2)y]xN als seinen Hauptbestandteil, wobei gilt: 0,055 a 1,33,
    Figure DE102018132904B4_0008
    0,055 b 1,33,
    Figure DE102018132904B4_0009
    0 c 1,
    Figure DE102018132904B4_0010
    0 c 2,
    Figure DE102018132904B4_0011
    0 c = c 1 + c 2 1,33,
    Figure DE102018132904B4_0012
    y = 1 / ( a + b + c ) ,
    Figure DE102018132904B4_0013
    0,03 x 0,75,
    Figure DE102018132904B4_0014
    und Zi und Z2 sind aus B und Y ausgewählt.
  2. Piezoelektrisches Material nach dem vorhergehenden Anspruch, wobei der Hauptbestandteil Al1-x[(Caa, Rub, Z1c1, Z2c2)y]xN ist und Z1 und Z2 aus B und Y oder nur B oder nur Y ausgewählt sind, wobei gilt 0,165 a 0,66,
    Figure DE102018132904B4_0015
    0,165 b 0,66,
    Figure DE102018132904B4_0016
    o c 1,
    Figure DE102018132904B4_0017
    0 c 2,
    Figure DE102018132904B4_0018
    0 c = c 1 + c 2 0,66,
    Figure DE102018132904B4_0019
    y = 1 / ( a + b + c )
    Figure DE102018132904B4_0020
    und 0,09 x 0,372.
    Figure DE102018132904B4_0021
  3. Piezoelektrisches Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei x aus 0,03, 0,06, 0,09, 0,12, 0,15, 0,18, 0,21, 0,24, 0,27, 0,30, 0,33, 0,36, 0,39, 0,42, 0,45, 0,48, 0,51, 0,54, 0,57, 0,60, 0,63, 0,66, 0,69, 0,72 und 0,75 ausgewählt ist.
  4. Piezoelektrisches Material nach Anspruch 1, wobei der Hauptbestandteil Al0.814Ca0.062Ru0.062B0.062N ist.
  5. Piezoelektrisches Material nach Anspruch 1, wobei der Hauptbestandteil Al0.814Ca0.062Ru0.062B0.062N ist.
  6. Piezoelektrisches Material nach Anspruch 1, wobei der Hauptbestandteil Al0.814Ca0.062Ru0.062Y0.062Nist.
  7. Piezoelektrisches Material nach Anspruch 1, wobei der Hauptbestandteil Al0.814Ca0.062Ru0.062Nist.
  8. Piezoelektrisches Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei 44,2 (Atom-%), 53,5 (Atom-%), 62,77(Atom-%), 72,1 (Atom-%), 81,4(Atom-%), 90,7(Atom-%), 95,78 (Atom-%), 98,25(Atom-%) oder 99(Atom-%) Al sind, während die verbleibende Bilanz eine Kombination aus einem ternären oder quaternären dotierten piezoelektrischen AlN-Material ist, das Ca (Calcium), Ru (Ruthenium), B (Bor) und Y (Yttrium) enthält.
  9. Piezoelektrische Vorrichtung, die ein piezoelektrisches Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche aufweist.
  10. Piezoelektrische Vorrichtung nach dem vorhergehenden Anspruch, wobei die Vorrichtung aus Folgendem ausgewählt ist: - ein elektroakustischer Resonator, ein SAW-Resonator, ein SAW-Filter, ein fest montierter Resonator (SMR(Solidly Mounted Resonator)-Typ-Resonator), ein (SMR-) BAW-Filter, ein Geleitete-BAW(GBAW)-Resonator, ein GBAW-Filter, ein Film-Akustische-Volumenwelle(FBAR: Film Bulk Acoustic Wave)-Resonator, ein FBAR-Filter, oder - ein Resonator, der mit Lamb-Wellen, akustischen Plattenwellen (APW: Acoustic Plate Waves), Rayleigh-SAW (R-SAW), Sezawa-Mode-Wellen, horizontalen Scher-SAWs (SH-SAWs), Love-Mode-Wellen, akustischen Pseudoberflächenwellen (PSAW: Pseudo-Surface Acoustiv Waves) oder leckenden SAWs (LSAW: Leaky SAWs) arbeitet oder - eine akustische Vorrichtung, ein Multiplexer, ein Duplexer, ein Quadplexer, ein Hexaplexer basierend auf einem beliebigen der obigen Typen von Resonatoren, ein piezoelektrischer Generator, ein piezoelektrischer Sensor, ein Massensensor, ein mikrofluidischer Sensor, ein piezoelektrischer Wandler, ein Energie-Harvester, eine Ultraschallvorrichtung, ein Wandler, ein Sender, ein Piezo(MEMS)-Mikrofon, eine Vorrichtung, die einen direkten oder umgekehrten piezoelektrischen Effekt in einer Dünnfilm- oder Volumenkeramikform verwendet.
DE102018132904.0A 2018-12-19 2018-12-19 Piezoelektrisches Material und piezoelektrische Vorrichtung Expired - Fee Related DE102018132904B4 (de)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102018132904.0A DE102018132904B4 (de) 2018-12-19 2018-12-19 Piezoelektrisches Material und piezoelektrische Vorrichtung
JP2021533600A JP2022513810A (ja) 2018-12-19 2019-12-17 圧電材料および圧電デバイス
US17/294,607 US20210296566A1 (en) 2018-12-19 2019-12-17 Piezoelectric material and piezoelectroc device
PCT/EP2019/085690 WO2020127294A1 (en) 2018-12-19 2019-12-17 Piezoelectric material and piezoelectric device
CN201980083832.5A CN113261124A (zh) 2018-12-19 2019-12-17 压电材料与压电器件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102018132904.0A DE102018132904B4 (de) 2018-12-19 2018-12-19 Piezoelektrisches Material und piezoelektrische Vorrichtung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102018132904A1 DE102018132904A1 (de) 2020-06-25
DE102018132904B4 true DE102018132904B4 (de) 2020-10-29

Family

ID=69104390

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102018132904.0A Expired - Fee Related DE102018132904B4 (de) 2018-12-19 2018-12-19 Piezoelektrisches Material und piezoelektrische Vorrichtung

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20210296566A1 (de)
JP (1) JP2022513810A (de)
CN (1) CN113261124A (de)
DE (1) DE102018132904B4 (de)
WO (1) WO2020127294A1 (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114664385B (zh) * 2022-03-18 2023-05-05 电子科技大学 改善saw器件压电薄膜压电系数的设计方法及压电薄膜

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69423333T2 (de) * 1994-01-24 2000-11-30 Rohm & Haas Keramische Grünkörper und Verfahren zu ihrer Herstellung

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4473529B2 (ja) * 2002-07-12 2010-06-02 日本碍子株式会社 圧電/電歪膜型素子、及びその製造方法
US7758979B2 (en) * 2007-05-31 2010-07-20 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Piezoelectric thin film, piezoelectric material, and fabrication method of piezoelectric thin film and piezoelectric material, and piezoelectric resonator, actuator element, and physical sensor using piezoelectric thin film
EP2264222A4 (de) * 2008-03-10 2014-06-04 Toto Ltd Verfahren zur herstellung einer verbundstruktur, hergestellte teilchen und system zur herstellung einer verbundstruktur
KR101571116B1 (ko) * 2008-11-13 2015-11-24 삼성전자주식회사 유기 물질, 상기 유기 물질을 포함한 필름, 상기 필름을 구비한 전기 소자
JP5504533B2 (ja) * 2009-11-26 2014-05-28 株式会社ユーテック 圧電体及び圧電素子
JP2013102072A (ja) * 2011-11-09 2013-05-23 Japan Science & Technology Agency 型押し構造体の製造方法、薄膜トランジスター、薄膜キャパシター、アクチュエーター、圧電式インクジェットヘッド及び光学デバイス
JP5918522B2 (ja) * 2011-12-12 2016-05-18 太陽誘電株式会社 フィルタおよびデュプレクサ
WO2014087799A1 (ja) * 2012-12-05 2014-06-12 株式会社村田製作所 圧電部材、弾性波装置及び圧電部材の製造方法
JP6132022B2 (ja) * 2013-08-21 2017-05-24 株式会社村田製作所 圧電共振子及びその製造方法
JP6149208B2 (ja) * 2015-07-31 2017-06-21 株式会社ユーテック ポーリング処理方法、磁場ポーリング装置及び圧電体膜
DE102017110233A1 (de) * 2017-05-11 2018-11-15 RF360 Europe GmbH SAW-Vorrichtung mit unterdrücktem Parasitärsignal

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69423333T2 (de) * 1994-01-24 2000-11-30 Rohm & Haas Keramische Grünkörper und Verfahren zu ihrer Herstellung

Also Published As

Publication number Publication date
CN113261124A (zh) 2021-08-13
WO2020127294A1 (en) 2020-06-25
DE102018132904A1 (de) 2020-06-25
JP2022513810A (ja) 2022-02-09
US20210296566A1 (en) 2021-09-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102009030483B4 (de) Duplexgerät
DE102013221775B4 (de) Ein Bulk Akustik Wave Resonator, welcher eine dotierte piezoelektrische Schicht mit verbesserten piezoelektrischen Charakteristiken hat
DE10251876B4 (de) BAW-Resonator mit akustischem Reflektor und Filterschaltung
DE112017005984T5 (de) Akustische Wellenvorrichtungen
DE102012219838A1 (de) Planarisierte Elektrode für verbesserte Performanz in Bulk-akustischen Resonatoren
DE102009022478A1 (de) Volumenakustikwellenvorrichtung und ein Verfahren zu ihrer Herstellung
DE102017108483B4 (de) Akustisches Oberflächenwellen (SAW) Verbund-Gerät mit absorbierender Schicht zur Unterdrückung von störenden Antworten
DE102007000099A1 (de) Piezoelektrische Dünnschichtvorrichtung
DE112016001756T5 (de) Lithium-tantalat-einkristallsubstrat, gebondetes substrat, herstellungsverfahren des gebondeten substrats, und akustische oberflächenwellenvorrichtung, die das gebondete substrat verwendet
DE102006003850B4 (de) Elektroakustisches Bauelement
DE102005045372B4 (de) Bauelement mit mindestens einem mit akustischen Wellen arbeitenden Filter
DE102018109833A1 (de) SAW-Resonator, HF-Filter, Multiplexer und Verfahren zur Herstellung eines SAW-Resonators
EP3183811A1 (de) Mikroakustisches bauelement mit verbesserter temperaturkompensation
DE102016112993B4 (de) Notchfilter sowie dieses umfassende Extraktoranordnung
DE102018109346B4 (de) Elektroakustischer Resonator, HF-Filter mit vergrößerter benutzbarer Bandbreite und Verfahren zur Herstellung eines elektroakustischen Resonators
WO2007141049A2 (de) Oszillatorkreis mit akustischen eintor-oberflächenwellenresonatoren
DE102018132904B4 (de) Piezoelektrisches Material und piezoelektrische Vorrichtung
DE69927760T2 (de) Akustischer Oberflächenwellenresonator und akustisches Transversal-Oberflächenwellenfilter
DE102012111121A1 (de) Elektroakustisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung
DE102019104423B4 (de) BAW-Resonator mit einer verbesserten Kristallqualität, HF-Filter, Muliplexer und Herstellungsverfahren
DE69832041T2 (de) Akustische oberflächenwellenvorrichtung
DE102018133377A1 (de) Piezoelektrisches Material und piezoelektrische Vorrichtung
DE102018104947B3 (de) BAW-Resonator mit einem erhöhten Qualitätsfaktor
DE102020115436A1 (de) Elektrodenbegrenzter nicht-hängender akustischer Resonator
EP1419576B1 (de) Filteranordnung mit volumenwellen-resonator

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R082 Change of representative

Representative=s name: BARDEHLE PAGENBERG PARTNERSCHAFT MBB PATENTANW, DE

R016 Response to examination communication
R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee