DE102018103626A1 - Laufwerkdichtung, Versorgungsschnittstelle und Transportanordnung sowie Verfahren - Google Patents

Laufwerkdichtung, Versorgungsschnittstelle und Transportanordnung sowie Verfahren Download PDF

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Abstract

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Laufwerkdichtung (202d) aufweisen: einen Rotor (502) und einen Stator (504), deren Dichtflächen (902f, 904f) gegeneinandergepresst vakuumdicht aneinander liegen; mehrere in dem Rotor (502) angeordnete erste Durchgangsöffnungen (502o) und mehrere in dem Stator (504) angeordnete zweite Durchgangsöffnungen (504o, 514o), welche an den Dichtflächen (902f, 904f) aneinandergrenzen; eine den Dichtflächen (902f, 904f) gegenüberliegende zusätzliche Dichtfläche, welche zwischen zwei Durchgangsöffnungen der mehreren zweiten Durchgangsöffnungen angeordnet ist zum Gasseparieren dieser voneinander.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Laufwerkdichtung, eine Versorgungsschnittstelle und eine Transportanordnung sowie ein Verfahren.
  • Im Allgemeinen kann ein Substrat derart behandelt (prozessiert), z.B. beschichtet werden, dass die chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften des Substrats verändert werden können. Zum Beschichten eines Substrats können verschiedene Beschichtungsverfahren durchgeführt werden, wie beispielsweise eine Gasphasenabscheidung, z.B. eine chemische Gasphasenabscheidung (CVD) oder eine physikalische Gasphasenabscheidung (PVD).
  • Im Allgemeinen können flexible Substrate in Form eines Bands (z.B. Metallband, Folienband oder Glasband) in einer Durchlaufanlage prozessiert, z.B. in einer Folienbeschichtungsanlage beschichtet (und/oder anderweitig behandelt), werden. Dabei kann beispielsweise ein Bandsubstrat mittels einer Transportanordnung durch einen Prozessierbereich hindurch transportiert werden. Die Transportanordnung kann beispielsweise derart eingerichtet sein, dass das Bandsubstrat von Rolle-zu-Rolle (auch als R2R bezeichnet) prozessiert wird, wobei das Bandsubstrat von einem ersten Substrat-Wickel abgewickelt wird, durch den Beschichtungsbereich hindurch transportiert wird, und nach dem Beschichten auf einen zweiten Substrat-Wickel wieder aufgewickelt wird (auch als Umwickeln bezeichnet). Dabei kann die Beschichtungsanlage eine Vakuumkammer aufweisen, so dass das Bandsubstrat im Vakuum prozessiert werden kann. Der Substrat-Wickel kann beispielsweise in die Vakuumkammer eingeschleust oder aus dieser ausgeschleust werden, so dass die Vakuumkammer zyklisch belüftet werden muss zum Austauschen des Bandsubstrats.
  • Für einige Transportvorrichtungen kann es erforderlich sein, dass deren Transportrolle einen besonders hohen thermischen Kontakt zu dem Substrat bereitstellt, um dieses zu erwärmen und/oder zu kühlen. Der thermische Kontakt kann beispielsweise verbessert werden, indem zwischen das Substrat und die Transportrolle ein Gas eingebracht wird, welche die geringe Wärmeleitfähigkeit des Vakuums konvektiv überbrückt. Anschaulich füllt das Gas verbleibende Hohlräume zwischen dem Substrat und der Transportrolle auf, was die Wärmeübertragung zwischen diesen verbessert. In solchen Fällen kann es zusätzlich nötig sein, das eingeleitete Gas auch wieder aus dem Vakuumbereichen herauszubringen, beispielsweise wenn es erforderlich ist das Vakuum mit einer vorgegebenen Zusammensetzung oder bei einem vorgegebenen Druck aufrechtzuerhalten.
  • Wird eine Transportrolle mit einem Gas versorgt, muss das Gas von einer feststehenden Zuführung mittels einer Versorgungsschnittstelle in die drehende Transportrolle eingekoppelt werden. Dabei können besondere Anforderungen an die Versorgungsschnittstelle gestellt werden, beispielsweise dass diese besonders abriebfest, vakuumdicht und/oder verschleißfest ist. Herkömmlicherweise wird die Versorgungsschnittstelle an einer Stirnfläche der Transportrolle bereitgestellt, so dass das Gas direkt in die sich drehende Seitenwand der Transportrolle eingeleitet wird.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wurde erkannt, dass eine herkömmliche Versorgungsschnittstelle eine geringe Prozesssicherheit aufweist, d.h. ein hohes Risiko mit sich bringt, den Prozess zu kontaminieren oder unterbrechen zu müssen.
  • Anschaulich wurde erkannt, dass, wenn die Versorgungsschnittstelle an einer Seitenfläche der Transportrolle bereitgestellt ist, ein hoher Aufwand erforderlich ist, um die Versorgungsschnittstelle zuverlässig abzudichten. Beispielsweise kann die Versorgungsschnittstelle undicht werden und/oder einen hohen Verschleiß aufweisen, so dass der Prozess von dem austretenden Gas und/oder dem entstehenden Abrieb kontaminiert wird. Im Allgemeinen benötigt eine hohe Dichtheitszuverlässigkeit einen intensiven körperlichen Kontakt der Versorgungsschnittstelle an der Transportrolle, so dass ein hoher Verschleiß und/oder hoher Abrieb (z.B. Partikelerzeugung) in Kauf genommen werden muss, welche kurze Wartungsintervalle erfordern und aufgrund des damit verbundenen Prozessausfalls hohe Kosten verursachen. Andererseits birgt ein minimierter Abrieb ein hohes Risiko, dass die Versorgungsschnittstelle von selbst Leck schlägt und/oder der Kontakt undicht ist.
  • Ferner wurde erkannt, dass in dem Fall, dass die Versorgungsschnittstelle selbst Leck schlägt, das Gas ebenfalls ungehindert in den Vakuumbereich entweichen kann. Dadurch wird es üblicherweise erforderlich, die Versorgungsschnittstelle zu warten und/oder auszutauschen, was aufgrund des damit verbundenen Prozessausfalls hohe Kosten verursacht.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden eine Dichtanordnung, eine Laufwerkdichtung, eine Versorgungsschnittstelle, ein Versorgungsgehäuse und eine Transportanordnung sowie ein Verfahren bereitgestellt, welche eine höhere Prozesssicherheit bereitstellen.
  • Anschaulich erfolgt gemäß verschiedenen Ausführungsformen die Versorgung der Transportrolle durch deren Welle hindurch, was die Abdichtung vereinfacht und den Abrieb (z.B. aufgrund des geringeren Umfangs) minimiert.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Dichtanordnung, z.B. eine Laufwerkdichtung, aufweisen: einen Rotor und einen Stator, deren zwei Dichtflächen gegeneinandergepresst vakuumdicht aneinander liegen; mehrere in dem Rotor angeordnete erste Durchgangsöffnungen und mehrere in dem Stator angeordnete zweite Durchgangsöffnungen, welche an den zwei Dichtflächen aneinandergrenzen (z.B. zumindest teilweise miteinander fluchten und/oder aufgereiht in einem kreisring-förmigen Bereich liegen); eine den zwei Dichtflächen gegenüberliegende zusätzliche Dichtfläche, welche zwischen zwei Durchgangsöffnungen der mehreren zweiten Durchgangsöffnungen angeordnet ist zum Gasseparieren dieser voneinander.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.
  • Es zeigen
    • 1 eine Transportanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Perspektivansicht;
    • 2 eine Transportanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Querschnittsansicht, sowie
    • 3 diese in einer Querschnittsansicht;
    • 4 eine Transportanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Detailansicht;
    • 5 eine Transportanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht (mit Blickrichtung zur Stirnseite);
    • 6 eine Dichtanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht, sowie
    • 7 diese in einer perspektivischen Ansicht, sowie
    • 8 und 9 diese in einem schematischen Querschnitt;
    • 10 eine Transportanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Querschnittsansicht;
    • 11A und 11B jeweils eine Transportanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht; und
    • 12A und 12B jeweils eine Vakuumanordnung gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht.
  • In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben“, „unten“, „vorne“, „hinten“, „vorderes“, „hinteres“, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.
  • Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe „verbunden“, „angeschlossen“ sowie „gekoppelt“ verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung (z.B. ohmsch und/oder elektrisch leitfähig, z.B. einer elektrisch leitfähigen Verbindung), eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Begriff „gekoppelt“ oder „Kopplung“ im Sinne einer (z.B. mechanischen, hydrostatischen, thermischen und/oder elektrischen), z.B. direkten oder indirekten, Verbindung und/oder Wechselwirkung verstanden werden. Mehrere Elemente können beispielsweise entlang einer Wechselwirkungskette miteinander gekoppelt sein, welche z.B. die Wechselwirkung überträgt. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann „gekuppelt“ im Sinne einer mechanischen (z.B. körperlichen bzw. physischen) Kopplung verstanden werden, z.B. mittels eines direkten körperlichen Kontakts. Eine Kupplung kann eingerichtet sein, eine mechanische Wechselwirkung (z.B. Kraft, Drehmoment, etc.) zu übertragen.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Transportanordnung einen Rolle-zu-Rolle Transport (anschaulich ein Umwickeln) eines Bandsubstrats bereitstellen, z.B. mittels einer ersten Umwickelrolle von einem ersten Substrat-Wickel abwickeln und mittels einer zweiten Umwickelrolle auf einen zweiten Substrat-Wickel aufwickeln.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Substrat (z.B. das Bandsubstrat) zumindest eines von Folgendem aufweisen oder daraus gebildet sein: eine Keramik, ein Glas, einen Halbleiter (z.B. einen amorphen, polykristallinen oder einkristallinen Halbleiter, z.B. Silizium), ein Metall (z.B. Aluminium, Kupfer, Eisen, Stahl, Platin, Gold, etc.), ein Polymer (z.B. Kunststoff) und/oder eine Mischung verschiedener Materialien, wie z.B. ein Verbundwerkstoff (z.B. Kohlenstofffaser-verstärkter-Kohlenstoff, oder Kohlenstofffaser-verstärkter-Kunststoff). Beispielsweise kann das Substrat (z.B. das Bandsubstrat) eine Kunststofffolie, eine Halbleiterfolie, eine Metallfolie und/oder eine Glasfolie aufweisen oder daraus gebildet sein, und optional beschichtet sein oder werden. Alternativ oder zusätzlich kann das Substrat beispielsweise Fasern aufweisen, z.B. Glasfasern, Kohlenstofffasern, Metallfasern und/oder Kunststofffasern, z.B. in Form eines Gewebes, eines Netzes, eines Gewirks, Gestricks oder als Filz bzw. Flies.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substrat als Band (auch als Bandsubstrat bezeichnet) von Rolle-zu-Rolle transportiert werden (d.h. zwischen den Umwickelrollen umgewickelt werden). Das Bandsubstrat kann beispielsweise eine Breite (Ausdehnung quer zur Transportrichtung) in einem Bereich von ungefähr 30 cm bis ungefähr 500 cm aufweisen oder eine Breite (auch als Substratbreite bezeichnet) von mehr als ungefähr 500 cm. Ferner kann das Bandsubstrat flexibel sein. Anschaulich kann ein Bandsubstrat ein beliebiges Substrat sein, welches auf eine Rolle aufgewickelt werden kann und/oder beispielsweise von Rolle-zu-Rolle prozessiert werden kann. Das Bandsubstrat kann je nach Elastizität des verwendeten Materials eine Materialstärke (auch als Substratdicke bezeichnet) in einem Bereich von ungefähr einigen Mikrometern (z.B. von ungefähr 1 µm) bis ungefähr einigen Millimetern (z.B. bis ungefähr 10 mm) aufweisen, z.B. in einem Bereich von ungefähr 0,01 mm bis ungefähr 3 mm. Die Transportrollen der Transportanordnung können axial länger sein, als das Bandsubstrat breit ist.
  • Im Rahmen dieser Beschreibung kann der Begriff „metallisch“ verstanden werden als ein Metall aufweisen oder daraus gebildet. Im Rahmen dieser Beschreibung kann ein Metall (auch als metallischer Werkstoff bezeichnet) zumindest ein metallisches Element (d.h. ein oder mehrere metallische Elemente) aufweisen (oder daraus gebildet sein), z.B. zumindest ein Element aus der Folgenden Gruppe von Elementen: Kupfer (Cu), Eisen (Fe), Titan (Ti), Nickel (Ni), Silber (Ag), Chrom (Cr), Platin (Pt), Gold (Au), Magnesium (Mg), Aluminium (Al), Zirkonium (Zr), Tantal (Ta), Molybdän (Mo), Wolfram (W), Vanadium (V), Barium (Ba), Indium (In), Calcium (Ca), Hafnium (Hf), Samarium (Sm), Silber (Ag), und/oder Lithium (Li). Ferner kann ein Metall eine metallische Verbindung (z.B. eine intermetallische Verbindung oder eine Legierung) aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. eine Verbindung aus zumindest zwei metallischen Elementen (z.B. aus der Gruppe von Elementen), wie z.B. Bronze oder Messing, oder z.B. eine Verbindung aus zumindest einem metallischen Element (z.B. aus der Gruppe von Elementen) und mindestens einem nichtmetallischen Element (z.B. Kohlenstoff), wie z.B. Stahl.
  • Eine Transportrolle kann, je nach Anwendungszweck und Konfiguration, verschieden ausgestaltet sein oder werden. Beispielsweise kann eine Transportrolle als (z.B. aktive oder passive) Führung und/oder Umlenkung des Transportpfads, zum Temperieren (z.B. Kühlen) oder Antreiben des Substrattransports eingerichtet sein. Eine solche Transportrolle zum Temperieren (auch als Temperierrolle bezeichnet), z.B. eine Kühlrolle, kann beispielsweise antrieben sein und deren Drehung das Antreiben des Substrattransports bewirken. Die Temperierrolle kann beispielsweise eine Metalloberfläche aufweisen (z.B. eine Stahlwalze), geschliffen und/oder poliert sein. Damit kann eine mechanische Belastung des Bandsubstrats durch die Temperierrolle und/oder durch Schlupf minimiert sein oder werden.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine geregelte Gaszuführung und Gasabführung einer Temperierrolle (in dem Fall auch als Gastemperierwalze oder Gastemperierrolle bezeichnet), z.B. Kühlwalze (in dem Fall auch als Gaskühlwalze oder Gaskühlrolle bezeichnet), bereitgestellt mittels Gasaustauschöffnungen in der Temperierrolle. Eine solche Gastemperierrolle kann beispielsweise in einer Vakuumanlage zur Metallbandbeschichtung und/oder Folienbandbeschichtung eingesetzt werden. Diese kann die Gaszuführung bzw. Absaugung in Abhängigkeit des Umschlingungswinkels (Winkel entlang dessen Substrat und Transportrolle in Kontakt stehen) realisieren.
  • Mit der (z.B. geregelten) Gaszuführung und Gasabführung einer Gastemperierrolle wird ein ungewolltes Fluten der Vakuumanlage mit dem Gas verhindert. Die Einkopplung des Gases erfolgt gemäß verschiedenen Ausführungsformen nicht an den Stirnflächen der Gastemperierrolle, die sich im Prozessbereich befinden, und damit Abrieb (z.B. Partikel) in den Prozessbereich emittieren und im Fall des Leckschlagens den Prozessbereich kontaminieren, sondern mittels (z.B. an und/oder innerhalb) der Welle, mittels welcher die Gastemperierrolle gelagert ist, z.B. in oder an einer eigenen Atmosphäre.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Transportrolle (z.B. als Prozesswalze für Folienbeschichtungsanlagen) bereitgestellt, mittels welcher ein Gas (z.B. Argon) zwischen die Mantelfläche (auch als Hüllfläche oder Umfangsfläche bezeichnet) der Transportrolle (z.B. Prozesswalze) und das Substrat geleitet werden kann. Hierzu weist die Mantelfläche der Transportrolle radiale Austauschöffnungen auf. Eine (z.B. kollinear angeordnete) Reihe von Austauschöffnungen kann gemeinsam mittels eines Hohlraums (z.B. parallel zur Rotationsachse der Prozesswalze erstreckt), z.B. einer Bohrung, untereinander verbunden sein und/oder mit Gas versorgt werden. An der Stirnseite der Prozesswalze kann optional für jeden Hohlraum ein in der Prozesswalze verschraubtes Winkelstück angeordnet sein. Jedes Winkelstück kann beispielsweise mittels einer Gasleitung (z.B. eines Schlauchs und/oder Rohrs) mit einer Öffnung (z.B. Bohrung) des drehenden Teils einer Dichtanordnung (auch als Rotor bezeichnet), z.B. einer Laufwerkdichtung und/oder einer direkten (z.B. physischen) Verbindung (z.B. mit der Welle, wie sie nachfolgend beschrieben ist), verbunden sein oder werden, z.B. mittels der Welle.
  • Als Mantelfläche (auch Hüllfläche) kann die (z.B. umlaufende) Oberfläche, die durch Rotation einer Linie um eine Drehachse herum entsteht, verstanden werden.
  • Das statische Teil der Dichtanordnung (auch als Stator bezeichnet) kann dazu korrespondierende Öffnungen aufweisen (deren Anzahl sich vom Rotor unterscheidet), die in zwei Gruppen geteilt sind. Eine erste Gruppe kann mit einer Gasversorgung (z.B. Argon-Versorgung) verbunden sein oder werden. Eine zweite Gruppe kann mit einer Drucksenke (z.B. Pumpe, z.B. Turbomolekularpumpe) verbunden sein oder werden.
  • Die Anordnung der Öffnungen (z.B. Bohrungen) im Stator kann derart eingerichtet sein, das die erste Gruppe jene Austauschöffnungen versorgt, in deren Bereich ein Substrat an der Transportrolle (z.B. Prozesswalze) anliegt, während die zweite Gruppe mit den Austauschöffnungen verbunden ist, in deren Bereich kein Substrat an der Transportrolle (z.B. Prozesswalze) anliegt, in deren Bereich sich das Substrat von der Transportrolle ablöst und/oder in deren Bereich das Substrat an die Transportrolle angelegt wird. Beispielsweise kann die zweite Gruppe auch mit den Öffnungen verbunden sein, in deren Bereich das Substrat gerade noch oder gerade nicht mehr an der Transportrolle (z.B. Kühlwalze) anliegt. Anschaulich kann somit das Gas abgesaugt werden, bevor es in den Prozessraum strömt.
  • Das Regeln der Gaszuführung und/oder Gasabführung kann mittels einer mit Öffnungen (z.B. Bohrungen oder Ausfräsungen) versehenen Dichtanordnung (z.B. einer Laufwerksdichtung) erfolgen. Die Öffnungen können auf den geläppten Dichtflächen der Dichtanordnung angeordnet sein und sich senkrecht zu den Dichtflächen in die Dichtanordnung hinein erstrecken. Je nach Drehwinkel können eine Öffnung jeweils einem Belüftungsbereich (welchem Gas zugeführt wird) oder einem Evakuierungsbereich (welchem Gas entzogen wird) gegenüberstehen und somit die Transportrolle begasen oder entlüften.
  • Die Öffnungen können sich optional in ihrer räumlichen Verteilung (z.B. Anzahl und/oder Anordnung) in den beiden Dichtelementen (z.B. Laufwerksdichtringen) der Dichtanordnung unterscheiden.
  • Die räumliche Verteilung der Öffnungen (z.B. Bohrungsverteilung) desjenigen Laufwerksdichtungsringes, der mit der Gaskühlwalze mitdreht (oder allgemeiner: des Rotors), kann gleichmäßig ausgebildet sein, beispielsweise indem einander benachbarte Öffnungen voneinander einen Abstand von demselben Winkel und somit demselben Bogenmaß aufweisen (d.h. Winkel-äquidistant sind). Die räumliche Verteilung der Öffnungen des Laufwerksdichtungsringes (oder allgemeiner: des Stators), welcher statisch (d.h. ortsfest und/oder drehgesichert) eingerichtet ist (z.B. mittels einer Drehmomentstütze) kann unregelmäßig (z.B. unregelmäßiger als am Rotor) eingerichtet sein. Somit kann eine ständige (z.B. intervallfreie und/oder kontinuierliche) Begasung und Absaugung erreicht sein oder werden. Alternativ oder zusätzlich kann die räumliche Winkelverteilung der Öffnungen des Laufwerksdichtungsringes eine andere Teilung aufweisen als die des Rotors.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Fluid ein Gas oder eine Flüssigkeit aufweisen oder daraus gebildet sein und/oder (z.B. bei Raumtemperatur) gasförmig und/oder flüssig sein.
  • 1 veranschaulicht eine Transportanordnung 100 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Perspektivansicht.
  • Die Transportanordnung 100 kann aufweisen: eine Transportrolle 112 (z.B. eine Gaskühlrolle 112 bzw. Gaskühlwalze), welche eine (z.B. zylindrische) Mantelfläche 112m aufweist, und ein Versorgungsgehäuse 114. Das Versorgungsgehäuse 114 und die Transportrolle 112 können gemeinsam, z.B. aneinander montiert, oder auch einzeln, z.B. separat voneinander, bereitgestellt sein oder werden.
  • Die Transportrolle 112 kann beispielsweise zusätzlich eine Temperiervorrichtung aufweisen, wie später noch genauer beschreiben wird.
  • Das Versorgungsgehäuse 114 kann einen ersten Anschluss 114e (z.B. einen Evakuierungsanschluss) und einen zweiten Anschluss 124b (z.B. einem Belüftungsanschluss) aufweisen. In einem montierten Zustand und/oder im Betrieb kann der erste Anschluss 114e mit einer Pumpanordnung 116 fluidleitend (z.B. gasleitend) verbunden sein. Die Pumpanordnung 116 kann beispielsweise eine Pumpe, z.B. Vorpumpe (nicht dargestellt) und/oder eine Hochvakuumpumpe (nicht dargestellt), wie beispielsweise eine Turbomolekularpumpe, aufweisen. Optional kann die Pumpanordnung 116 eine Rohrleitung 116e aufweisen, welche die Pumpe (z.B. Vorpumpe und/oder Hochvakuumpumpe) mit dem ersten Anschluss 114e fluidleitend verbindet. Alternativ oder zusätzlich kann der zweite Anschluss 124b mit einer Gaszuführungsanordnung (nicht dargestellt) fluidleitend (z.B. gasleitend) verbunden sein. Die Gaszuführungsanordnung kann beispielsweise eine Gasquelle (nicht dargestellt, vgl. 12A und 12B), wie beispielsweise einen Gastank, eine Gasflasche oder Ähnliches aufweisen. Optional kann die Gaszuführungsanordnung eine Rohrleitung (nicht dargestellt) aufweisen, welche die Gasquelle mit dem zweiten Anschluss 124b fluidleitend verbindet und/oder zum Steuern (und/oder Regeln) eines Gasflusses in dieser eingerichtet ist (z.B. mittels eines Ventils), z.B. auf Grundlage eines Drucks in der Vakuumkammer und/oder einer Temperatur des Substrats.
  • Die Transportanordnung 100 kann ferner eine Welle 118 aufweisen, mittels welcher die Transportrolle 112 (z.B. drehbar) gelagert ist. Die Welle 118 kann sich in das Versorgungsgehäuse 114 hinein erstrecken und/oder in diesem drehbar abgestützt sein.
  • In einem montierten Zustand und/oder im Betrieb kann die Transportanordnung 100 optional einen Antrieb (nicht dargestellt) aufweisen, welcher mit der Welle 118 gekuppelt ist, beispielsweise auf der dem Versorgungsgehäuse 114 gegenüberliegenden Seite der Welle 118.
  • Die Mantelfläche 112m kann von mehreren ersten Öffnungen 112o (auch als Austauschöffnungen 112o bezeichnet) durchdrungen sein. Die Austauschöffnungen 112o können beispielsweise mehrere Gruppen von Öffnungen aufweisen, von denen alle Öffnungen einer Gruppe kollinear (z.B. in axialer Richtung erstreckt) angeordnet sind.
  • Die Transportanordnung 100 kann ferner eine Leitungsstruktur 120 aufweisen, welche den ersten Anschluss 114e und/oder den zweiten Anschluss 124b mit den Austauschöffnungen 112o fluidleitend verbindet, z.B. mittels der Welle 118, wie später noch genauer beschrieben wird.
  • Die Transportrolle 112 kann anschaulich mittels des Versorgungsgehäuses 114 mit einem Fluid (z.B. einem Gas) versorgt werden. Beispielsweise kann das Fluid (z.B. das Gas) mittels des Versorgungsgehäuses 114 der Transportrolle 112 zugeführt und/oder entzogen (d.h. abgeführt) werden. Das Versorgungsgehäuses 114 ermöglicht, dass der Bereich, in dem das Fluid zwischen dem statischen und rotierenden Bestandteilen übertragen wird, nach außen vakuumdicht abgedichtet ist. Das verringert die Gefahr, dass Gas in das Vakuum entweicht und erhöht somit die Prozesssicherheit.
  • 2 veranschaulicht eine Transportanordnung 200, z.B. Transportanordnung 100, gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen perspektivischen Querschnittsansicht und 3 diese in einer schematischen seitlichen Querschnittsansicht 300 (beide geschnitten entlang der Drehachse 111d der Transportanordnung 200; 300). Die Transportanordnung 200 kann eine Dichtanordnung 202 (z.B. eine Laufwerksdichtung 202d) aufweisen, welche später noch genauer beschrieben wird. Die Welle 118 kann beispielsweise zwei Wellensegmente aufweisen, zwischen welchen die Transportrolle 112 gekuppelt und/oder gehalten ist. Beispielsweise können die zwei Wellensegmente zusammengefügt sein oder werden. Alternativ kann die Welle 118 einstückig eingerichtet sein, d.h. die zwei Wellensegmente können Bestanteil eines einstückigen Körpers sein.
  • Optional kann die Transportanordnung 200 zumindest eine Temperiervorrichtung 1124 aufweisen, welche beispielsweise eine Wärmesenke und/oder Wärmequelle aufweisen kann, z.B. einen Wärmetauscher, eine (z.B. elektrische) Wärmestrahlungsquelle und/oder eine Kühlvorrichtung. Die Temperiervorrichtung 1124 und/oder zumindest eines ihrer Bestandteile kann beispielsweise innerhalb der Transportrolle 112 angeordnet sein. Alternativ oder zusätzlich kann die oder eine zusätzliche Temperiervorrichtung 1124 (und/oder ein anderes ihrer Bestandteile) außerhalb der Transportrolle 112 angeordnet sein.
  • Die (z.B. rotationssymmetrische) Mantelfläche 112m der Transportrolle 112 kann anschaulich als äußere Oberfläche des Rollenmantels 112h (z.B. in Form eines Hohlzylinders bereitgestellt) der Transportrolle 112 verstanden werden. Beispielsweise kann die Transportrolle 112 eine (z.B. zylindrische) Kammer aufweisen, deren Rollenmantel 112h einen Hohlzylinder aufweist, welcher mittels Stirnwänden 112s (stirnseitig und/oder vakuumdicht) abge- und/oder verschlossen ist.
  • Die Leitungsstruktur 120 kann einen oder mehrere Hohlräume 112v (auch als Verteiler 112v bezeichnet) in der Transportrolle 112 (z.B. dem Rollenmantel 112h) aufweisen, von denen jeder Verteiler 112v alle Öffnungen einer Gruppe von Austauschöffnungen 112o miteinander fluidleitend (gasleitend) verbindet. Die Hohlräume 112v können beispielsweise als Sacklochöffnung (z.B. Sacklochbohrung) oder als Durchgangsöffnung (z.B. Durchgangsbohrung) ausgebildet sein. Eine Durchgangsbohrung kann einfacher zu fertigen und/oder zu reinigen sein als eine Sacklochbohrung. Optional kann die Durchgangsöffnung einseitig verschossen sein oder werden, z.B. durch eine Plombe und/oder einen Stopfen.
  • Optional kann die Leitungsstruktur 120 mehrere Rohrleitungen 120r (z.B. Schläuche) aufweisen, welche zumindest abschnittsweise außerhalb der Transportrolle 112 verlaufen und/oder von denen jede Rohrleitungen zumindest einen Verteiler 112v mit der Welle gasleitend verbindet, z.B. bijektiv einander zugeordnet. Alternativ oder zusätzlich kann die Leitungsstruktur 120 mehrere Hohlräume 120b (auch als Axialleiter 120b bezeichnet) in der Welle 118 aufweisen, welche (beispielsweise mittels der Rohrleitungen 120r) mit den Verteilern 112v verbunden sind. Beispielsweise kann jeder Axialleiter 120b mit zumindest (z.B. genau) einem Verteiler 112v verbunden sein oder werden, z.B. bijektiv einander zugeordnet.
  • 4 veranschaulicht eine Transportanordnung 400, z.B. Transportanordnung 100 oder 200, gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Detailansicht (geschnitten entlang der Drehachse 111d der Transportanordnung 400). Das Versorgungsgehäuse 114 kann eine Aufnahmeöffnung 114o aufweisen, welche einen von den Gehäusewänden des Versorgungsgehäuses 114 gebildeten Hohlraum 114h nach außerhalb des Versorgungsgehäuses 114 verbindet.
  • Der Hohlraum 114h kann einen ersten Versorgungsbereich 414a (z.B. einen Evakuierungsbereich) und einen zweiten Versorgungsbereich 414b (z.B. einen Belüftungsbereich) aufweisen, welche beispielsweise an die Welle 118 angrenzen. Der erste Anschluss 114e kann mit dem ersten Versorgungsbereich 414a und der zweite Anschluss 124b (in der Ansicht nicht sichtbar) kann mit dem zweiten Versorgungsbereich 414b fluidleitend verbunden sein.
  • Das Versorgungsgehäuse 114 kann ferner einen Dichtbereich 114d aufweisen, in dem optional die Dichtanordnung 202 angeordnet ist. Die Dichtanordnung 202 kann beispielsweise an der Welle 118 montiert sein und den ersten Versorgungsbereich 414a von dem zweiten Versorgungsbereich 414b fluidseparieren (z.B. vakuumdicht voneinander separieren), z.B. gasseparieren.
  • Beispielsweise kann die Dichtanordnung 202 eine Laufwerkdichtung 202d aufweisen oder daraus gebildet sein. Die Dichtanordnung 202 kann optional eine Elastomerdichtung 402 (z.B. eine Ringdichtung, z.B. ein O-Ring) aufweisen, welche einen Spalt zwischen der Laufwerkdichtung 202d und der Gehäusewand des Versorgungsgehäuses 114 und/oder zwischen der Laufwerkdichtung 202d und der Welle 118 (nicht dargestellt) abdichtet.
  • Ferner kann das Versorgungsgehäuse 114 (z.B. in deren Aufnahmebereich 414c), z.B. dessen die Gehäusewand, einen ersten Absatz 404n (z.B. einen Falz) aufweisen, in welcher ein Lager 404 (z.B. eine Drehlager) aufgenommen ist, welches die Welle drehbar lagert (z.B. abstützt). Alternativ oder zusätzlich kann das Versorgungsgehäuse 114 (z.B. in deren Aufnahmebereich 414c), z.B. dessen Gehäusewand, eine zweite Nut 414n oder einen zweiten Absatz 414n (z.B. einen Falz) aufweisen, in welcher eine zusätzliche Elastomerdichtung 412 (z.B. Ringdichtung 412) aufgenommen ist, welche einen Spalt zwischen der Welle 118 und dem Hohlraum 114h abdichtet. Die zusätzliche Elastomerdichtung 412 kann zwischen dem Lager 404 und dem Hohlraum 114h angeordnet sein oder das Lager 404 kann zwischen der zusätzlichen Elastomerdichtung 412 und dem Hohlraum 114h angeordnet sein. Im Allgemeinen kann anstatt einer Elastomerdichtung jeder andere Vakuum-Dichtring verwendet werden, welcher z.B. vakuumdicht und/oder vakuumtauglich ist.
  • Ein oder jeder Falz kann beispielsweise als Stufenfalz eingerichtet sein (d.h. beispielsweise nur von zwei Flächen begrenzt werden).
  • Optional kann die Leitungsstruktur 120 mehrere Anschlüsse 120a in der Welle 118 aufweisen, in welche die mehreren Rohrleitungen 120r eingesteckt sind. Alternativ oder zusätzlich kann die Leitungsstruktur 120 mehrere Anschlüsse (nicht dargestellt) in der Transportrolle 112 aufweisen, in welche die mehreren Rohrleitungen 120r eingesteckt sind.
  • Die Dichtanordnung 202, z.B. die Laufwerksdichtung 202d, kann ein erstes Dichtelement 502 (z.B. einen Rotor 502, z.B. einen Rotor-Laufwerksdichtring) und ein zweites Dichtelement 504 (z.B. einen Stator, z.B. einen Stator-Laufwerksdichtring) aufweisen. Das erste Dichtelement 502 kann an die Welle 118 montiert sein und/oder zwischen dem zweiten Dichtelement 504 und der Welle 118 angeordnet sein. Das zweite Dichtelement 504 kann an die Gehäusewand montiert und/oder an dieser gehalten sein, z.B. mittels der Elastomerdichtung 402 und/oder mittels einer Drehmomentstütze.
  • 5 veranschaulicht eine Transportanordnung 500, z.B. Transportanordnung 100, 200 oder 400, gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Rückansicht (z.B. mit Blickrichtung entlang der Drehachse der Transportanordnung 500). Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Rohrleitungen 120r radial und/oder sternartig erstreckt sein und/oder an der Transportrolle 112 befestigt sein.
  • 6 veranschaulicht eine Dichtanordnung 202, z.B. die Dichtanordnung 202 in Transportanordnung 100, 200, 400 oder 500, gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Draufsicht (z.B. mit Blickrichtung entlang der Drehachse der Transportanordnung 600), 7 diese in einer perspektivischen Ansicht 700 und 8 diese in einem schematischen Querschnitt 800 (z.B. mit Blickrichtung quer zur Drehachse 111d der Transportanordnung und entlang einer ebenen Fläche, in der die Drehachse 111d liegt, geschnitten) sowie 9 in einem schematischen Querschnitt 900 (z.B. mit Blickrichtung quer zur Drehachse 111d der Transportanordnung und entlang einer Rotationsfläche der Drehachse 111d geschnitten).
  • Die Dichtanordnung 202 kann das erste Dichtelement 502 und das zweite Dichtelement 504 aufweisen, welche beispielsweise mit ihren Dichtflächen 904f, 902f (auch als Gleitdichtflächen bezeichnet) aneinander liegen und/oder gegeneinander gepresst sein können. An das zweite Dichtelement 504 kann optional die Elastomerdichtung 402 anliegen, z.B. an dessen dem ersten Dichtelement 502 gegenüberliegenden Dichtfläche 504f (auch als dritte Dichtfläche oder Separationsdichtfläche 504f bezeichnet).
  • Das zweite Dichtelement 504 kann von mehreren Öffnungen 504o, 514o (auch als zweite Öffnungen oder zweite Durchgangsöffnungen bezeichnet) durchdrungen sein, welche anschaulich mehrere Fluidleitungen 504o, 514o (vereinfacht im Folgenden auch als Stator-Fluidleitungen 504o, 514o bezeichnet) bereitstellen.
  • Wie in 8 und 9 veranschaulicht ist, können die Stator-Fluidleitungen 504o, 514o von dessen Gleitdichtfläche 904f bzw. dem ersten Dichtelement 502 aus in das zweite Dichtelement 504 hinein erstreckt sein.
  • Von den mehreren Stator-Fluidleitungen 504o, 514o kann sich zumindest eine (d.h. genau eine oder mehr als eine) erste Öffnung 504o durch das zweite Dichtelement 504 (z.B. abschnittsweise in radialer Richtung, geknickt und/oder gekrümmt verlaufend) zu einem ersten Bereich 504b hindurch erstrecken (im Folgenden vereinfacht auch als radiale Stator-Fluidleitung 504o bezeichnet). Alternativ oder zusätzlich kann sich zumindest eine (d.h. genau eine oder mehr als eine) zweite Öffnung 514o durch das Dichtelement 504 (z.B. abschnittsweise oder vollständig in axialer Richtung erstreckt) zu einem zweiten Bereich 514b hindurch erstrecken (im Folgenden vereinfacht auch als axiale Stator-Fluidleitung 514o bezeichnet). Der zweite Bereich 514b kann beispielsweise auf einer der Dichtfläche 904f bzw. dem ersten Dichtelement gegenüberliegenden Seite des zweiten Dichtelements 504 angeordnet sein. Der erste Bereich 504b kann beispielsweise auf einer der Dichtfläche 904f bzw. dem ersten Dichtelement 502 zugewandten Seite des zweiten Dichtelements 504 und/oder zwischen diesen und dem zweite Bereich 514b angeordnet sein.
  • Die zumindest eine radiale Stator-Fluidleitung 504o und/oder der erste Bereich 504b können (z.B. im montierten Zustand und/oder im Betrieb) an den ersten Versorgungsbereich 414a angrenzen (z.B. in radialer Richtung). Alternativ oder zusätzlich können die zumindest eine axiale Stator-Fluidleitung 514o und/oder der zweite Bereich 514b (z.B. im montierten Zustand und/oder im Betrieb) an den zweiten Versorgungsbereich 414b angrenzen (z.B. in axialer Richtung).
  • Zwischen dem ersten Bereich 504b und dem zweiten Bereich 514b kann das zweite Dichtelement 504 eine Dichtfläche 504f aufweisen, an welcher beispielsweise die Elastomerdichtung 402 anliegt (hier geschnitten dargestellt). Beispielsweise kann die Dichtfläche 504f mittels einer Nut (oder allgemeiner einer Vertiefung oder Aussparung) in dem zweiten Dichtelement 504 bereitgestellt sein oder werden.
  • Beispielsweise kann der erste Bereich 504b mantelringsegmentförmig sein und/oder eine mantelring-segmentförmige Oberfläche aufweisen, an welche die zumindest eine radiale Stator-Fluidleitung 504o angrenzt und/oder geöffnet ist. Alternativ oder zusätzlich kann der zweite Bereich 514b kreisring-förmig (z.B. kreisring-segmentförmig) sein und/oder eine kreisring-förmige (z.B. kreisring-segmentförmige) Oberfläche aufweisen, an welche die zumindest eine axiale Stator-Fluidleitung 514o angrenzt und/oder geöffnet ist.
  • Die zumindest eine radiale Stator-Fluidleitung 504o kann beispielsweise mehrere radiale Stator-Fluidleitungen 504o (auch als erste Gruppe Stator-Fluidleitungen 504o bezeichnet) aufweisen, welche in einem Abstand von der Drehachse 111d (auch als Rotationsachse bezeichnet) angeordnet sind, zum Beispiel alle radialen Stator-Fluidleitungen 514o äquidistant von der Drehachse 111d. Alternativ oder zusätzlich können einander benachbarte radiale Stator-Fluidleitungen 514o voneinander äquidistant angeordnet sein oder werden, z.B. gemäß eines Winkels bezüglich der Drehachse 111d (d.h. Winkel-äquidistant).
  • Die zumindest eine axiale Stator-Fluidleitung 514o kann beispielsweise mehrere axiale Stator-Fluidleitungen 514o (auch als zweite Gruppe Stator-Fluidleitungen 514o bezeichnet) aufweisen, welche in einem Abstand von der Drehachse 111d (auch als Rotationsachse bezeichnet) angeordnet sind, zum Beispiel alle axialen Stator-Fluidleitungen 514o äquidistant von der Drehachse 111d. Alternativ oder zusätzlich können einander benachbarte axiale Stator-Fluidleitungen 514o voneinander äquidistant angeordnet sein oder werden, z.B. gemäß eines Winkels bezüglich der Drehachse 111d (d.h. Winkel-äquidistant).
  • Das erste Dichtelement 502 kann von mehreren Öffnungen 502o (auch als erste Öffnungen oder erste Durchgangsöffnungen bezeichnet) durchdrungen sein, welche anschaulich mehrere Fluidleitungen 502o (vereinfacht im Folgenden auch als Rotor-Fluidleitungen 502o bezeichnet) bereitstellen.
  • Wie in 8 und 9 veranschaulicht ist, können die Rotor-Fluidleitungen 502o von dem Kupplungsbereich 502k in das erste Dichtelement 502 hinein erstreckt sein. Von den mehreren Rotor-Fluidleitungen 502o kann sich zumindest eine (d.h. genau eine, mehr als eine oder jede) Öffnung 502o durch das erste Dichtelement 502 (z.B. abschnittsweise oder vollständig in axialer Richtung verlaufend) zu dessen Dichtfläche 902f hindurch erstrecken.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Dichtfläche 902f des ersten Dichtelements 502 (auch als erste Dichtfläche 902f bezeichnet) und/oder die Dichtfläche 904f des zweiten Dichtelements 504 (auch als zweite Dichtfläche 904f bezeichnet) kreisring-förmig und/oder Rotationsflächen bezüglich der Drehachse 111d sein.
  • Beispielsweise kann die erste Dichtfläche 902f eine andere Anzahl (z.B. mehr oder weniger) Fluidleitungen aufweisen als die zweite Dichtfläche 904f. Dies ermöglicht, dass der Austausch von Gas gleichmäßiger erfolgt, da bei jedem Umlaufwinkel zumindest zwei Fluidleitungen miteinander fluchten oder zumindest überlappen. Beispielsweise kann die Dichtanordnung 202 eine andere Anzahl (z.B. mehr oder weniger) Stator-Fluidleitung 514o aufweisen als Rotor-Fluidleitung 512o oder umgekehrt.
  • An das erste Dichtelement 502 kann optional die Welle 118 gekuppelt, z.B. montiert, sein, z.B. an dessen dem zweiten Dichtelement 504 gegenüberliegenden Kupplungsbereich 502k. Beispielsweise kann dann jeder Axialleiter 120b mit (z.B. genau) einer Rotor-Fluidleitung 512o der zumindest einen Rotor-Fluidleitung 512o verbunden sein, z.B. bijektiv einander zugeordnet.
  • 10 veranschaulicht eine Transportanordnung 1000, z.B. Transportanordnung 100, 200, 400, 500 oder 600, gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Querschnittsansicht (z.B. mit Blickrichtung quer zur Drehachse 111d der Transportanordnung 1000), z.B. in einem Verfahren gemäß verschiedenen Ausführungsformen.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Dichtanordnung 202, z.B. mit ihrem ersten Dichtelement 502 (z.B. dem Rotor), an die Welle 118 gekuppelt sein z.B. mittels einer Kupplungsstruktur 1002 (z.B. Löcher, Bohrungen, Gewinde und/oder andere Formschlussmittel aufweisend).
  • Das Betreiben der Transportanordnung 1000, z.B. Transportanordnung 100, 200, 400, 500 oder 600, kann in einem Verfahren gemäß verschiedenen Ausführungsformen aufweisen: Transportieren und/oder Umlenken eines Substrats mittels einer Transportrolle (nicht dargestellt), z.B. entlang eines Transportpfads und/oder durch einen Prozessierbereich; Einleiten 1003 von Gas zwischen das Substrat und die Transportrolle (z.B. deren Mantelfläche); Entziehen 1005 von Gas mittels der Transportrolle (z.B. aus einem Bereich neben dem Substrat); wobei das Einleiten 1003 und das Entziehen 1005 von Gas durch eine Lageranordnung (z.B. deren aneinander liegende und/oder aufeinander gleitende Dichtflächen), mittels dessen die Transportrolle drehbar gelagert ist, und gleichzeitig zu dem Transportieren und/oder Umlenken erfolgt. Die Lageranordnung 202, 118 kann zumindest die Dichtanordnung 202, wie hierin beschrieben ist, und/oder die Welle 118, wie hierin beschrieben ist, aufweisen.
  • Beispielsweise kann das Einleiten 1003 und/oder das Entziehen 1005 aufweisen: Bereitstellen ein Drucks in dem ersten Versorgungsbereich 414a von kleiner als in dem zweiten Versorgungsbereich 414b und/oder von kleiner als in dem Prozessierbereich, z.B. von kleiner als ungefähr 1 mbar, z.B. 10-2 mbar, z.B. 10-3 mbar (Millibar) . Alternativ oder zusätzlich kann das Einleiten 1003 und/oder das Entziehen 1005 aufweisen: Bereitstellen ein Drucks in dem zweiten Versorgungsbereich 414b von größer als in dem Prozessierbereich, z.B. z.B. von größer als ungefähr 1 mbar, z.B. in einem Bereich von ungefähr 1 mbar bis ungefähr 10 mbar.
  • Das Gas kann beispielsweise ein Inertgas und/oder Edelgas aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. Argon.
  • Beispielsweise kann das Substrat ein Bandsubstrat aufweisen oder daraus gebildet sein. Alternativ oder zusätzlich kann das Substrat eine Vielzahl Filamente aufweisen oder daraus gebildet sein.
  • Optional kann das Substrat prozessiert werden, z.B. in dem Prozessierbereich. Beispielsweise kann das Prozessieren (auch als Behandeln bezeichnet) des Substrats (z.B. eines Bandsubstrats) mindestens eines von Folgendem aufweisen: Reinigen des Substrats, Beschichten des Substrats mit einem Beschichtungsmaterial, Bestrahlen (z.B. mittels Licht, z.B. kohärentes Licht, UV-Licht aufweisend, mittels Teilchen, z.B. Elektronen und/oder Ionen aufweisend, usw.) des Substrats, Modifizieren der Oberfläche des Substrats, Erwärmen des Substrats, Ätzen des Substrats und Glimmen des Substrats. Beispielsweise kann die Vorderseite des Substrats prozessiert werden, z.B. verändert werden. Alternativ oder zusätzlich kann das Substrat mittels der Transportrolle temperiert werden, z.B. gekühlt und/oder geheizt werden. Beispielsweise kann das Temperieren des Substrats erfolgen, indem der Mantelfläche der Transportrolle thermische Energie zugeführt und/oder entzogen wird. Optional kann das Temperieren des Substrats gesteuert und/oder geregelt erfolgen.
  • Das Beschichtungsmaterial kann zumindest ein Material der folgenden Materialien aufweisen oder daraus gebildet sein: ein Metall; ein Übergangsmetall, ein Oxid (z.B. ein Metalloxid oder ein Übergangsmetalloxid); ein Dielektrikum; ein Polymer (z.B. ein Kohlenstoff-basiertes Polymer oder ein Silizium-basiertes Polymer); ein Oxinitrid; ein Nitrid; ein Karbid; eine Keramik; ein Halbmetall (z.B. Kohlenstoff); ein Perowskit; ein Glas oder glasartiges Material (z.B. ein sulfidisches Glas); einen Halbleiter; ein Halbleiteroxid; ein halborganisches Material, und/oder ein organisches Material. Das Beschichtungsmaterial zum Beschichten des Substrats kann mittels einer Beschichtungsmaterialquelle bereitgestellt sein oder werden, z.B. in einem gasförmigen Zustand.
  • 11A veranschaulicht eine Transportanordnung 1100, z.B. Transportanordnung 100, 200, 400, 500, 600 oder 1000 gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht (z.B. mit Blickrichtung entlang einer Drehachse 111d der Transportanordnung 1100) und 11B die Transportanordnung 1100 mit eingelegtem Substrat 102 in einer Umwickelkonfiguration 1100b.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportanordnung 1100 mehrere drehbar gelagerte Wickelhülsenkupplungen 112a, 112b, 112c aufweisen, z.B. mindestens drei Wickelhülsenkupplungen 112a, 112b, 112c. Jede Wickelhülsenkupplung 112a, 112b, 112c der mehreren Wickelhülsenkupplungen 112a, 112b, 112c kann zum Aufnehmen und Lagern (Ankuppeln) einer Wickelhülse eingerichtet sein. Jede Wickelhülsenkupplung der mehreren Wickelhülsenkupplungen 112a, 112b, 112c kann um eine Drehachse 101a drehbar gelagert sein.
  • Eine Wickelhülse (auch als Spule bezeichnet) kann als rohrförmiger Träger verstanden werden, mittels dessen ein flexibles Material in Form einer Wicklung gelagert oder umgewickelt, d.h. zu einem Wickel aufgewickelt oder von einem Wickel abgewickelt, werden kann. Das flexible Material kann beispielsweise ein Substrat 102 bilden oder zumindest Teil dessen sein, welches später prozessiert werden kann. Beispielsweise kann mittels einer Wickelhülse ein Substrat 102 umgewickelt, z.B. darauf aufgewickelt oder davon abgewickelt, werden (auch als Substrat-Wickelhülse bezeichnet). Das flexible Substrat 102 kann zwischen zwei Wickelhülsenkupplungen 112a, 112b der mehreren Wickelhülsenkupplungen 112a, 112b, 112c umgewickelt werden, z.B. von einer ersten Substrat-Wickelhülse auf eine zweite Substrat-Wickelhülse.
  • Alternativ oder zusätzlich kann ein flexibles Material eine optionale Zwischenschicht 104 bilden oder zumindest Teil dieser sein. Die Zwischenschicht kann zwischen einzelnen Lagen eines Wickels 102w des Substrats 102 (auch als Substrat-Wickel 102w bezeichnet) angeordnet sein oder werden. Mit anderen Worten können das Substrat 102 und die Zwischenschicht 104 ineinander gewickelt sein oder werden. Mittels der Zwischenschicht 104 kann ein körperlicher Kontakt einzelner Lagen des Substrat-Wickels 102w verhindert werden, was das Substrat 102 und/oder dessen Beschichtung schont.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann mittels einer zusätzlichen Wickelhülse die optionale Zwischenschicht 104 umgewickelt, z.B. darauf aufgewickelt oder davon abgewickelt, werden (auch als Zwischenschicht-Wickelhülse bezeichnet).
  • Ferner kann die Transportanordnung 1100 zumindest eine drehbar gelagerte Transportrolle 112 (z.B. eine Gaskühlrolle 112) aufweisen, wie sie hierin beschrieben ist. Die zumindest eine Transportrolle 112 kann um eine Drehachse 111d drehbar gelagert sein. Die Drehachsen 101a der Wickelhülsenkupplungen 112a, 112b, 112c können achsparallel zueinander sein, z.B. parallel zu der Drehachse 111d der Transportrolle 112.
  • Die Transportrolle 112 kann einen gekrümmten Transportpfad 111 definieren (verschiedene Möglichkeiten gestrichelt veranschaulicht), entlang dessen das Transportieren 111w, z.B. Umwickeln 111w, des Substrats erfolgen kann. Das Substrat 102 kann mittels der zumindest einen drehbar gelagerten Transportrolle 112 umgelenkt, geführt und/oder gezogen werden. Der Transportpfad 111 kann in einem Prozessierbereich 111b, z.B. Vakuumbereich 306b und/oder 308b, angeordnet sein (vgl. 12A und 12B).
  • Das Umlenken des Transportpfads 111 mittels jeder Transportrolle 112 der zumindest einen drehbar gelagerten Transportrolle 112 kann einen Winkel aufweisen (anschaulich die Differenz aus einlaufendem Transportpfad und auslaufendem Transportpfad). Der Winkel kann auch als Mindestumschlingung bezeichnet werden. Die Mindestumschlingung kann größer sein als ungefähr 10°, z.B. größer als ungefähr 20°, z.B. größer als ungefähr 30° und/oder kleiner sein als ein Winkel (auch als Mittelpunktswinkel bezeichnet), welcher das Kreisringsegment 504b des Stators 504 aufspannt, d.h. in dem alle Fluidleitungen der ersten Gruppe Stator-Fluidleitungen 504o angeordnet sind.
  • 12A und 12B veranschaulichen jeweils eine Vakuumanordnung 1200a, 1200b gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht (mit Blickrichtung entlang der Drehachse 111d), wobei die Vakuumanordnung 1200a, 1200b eine Transportanordnung 1200, z.B. Transportanordnung 100, 200, 400, 500, 600, 1000 oder 1100, aufweist.
  • Das Umwickeln und/oder Prozessieren (z.B. Beschichten) des Substrats 102 kann gemäß verschiedenen Ausführungsformen in einem Vakuum erfolgen, z.B. in einer Vakuumanordnung 1200a, 1200b.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Vakuumanordnung 1200a, 1200b ein Vakuumkammergehäuse 802 aufweisen, in welcher ein Vakuum erzeugt und/oder erhalten werden kann. Das Vakuumkammergehäuse 802 kann dazu beispielsweise luftdicht, staubdicht und/oder vakuumdicht eingerichtet sein oder werden. Das Vakuumkammergehäuse 802 kann eine oder mehrere Vakuumkammern aufweisen. Die oder jede Vakuumkammer kann einen oder mehrere Vakuumbereiche 306b, 308b, z.B. Prozessierbereiche 306b, 308b, bereitstellen. Die mehreren Vakuumkammern und/oder die mehreren Vakuumbereiche 306b, 308b des Vakuumkammergehäuses 802 können optional zumindest teilweise gassepariert voneinander sein.
  • Ferner kann das Vakuumkammergehäuse 802 mit einem Pumpensystem 804 (aufweisend zumindest eine Grobvakuumpumpe und optional zumindest eine Hochvakuumpumpe) gekoppelt sein. Das Pumpensystem 804 kann eingerichtet sein, dem Vakuumkammergehäuse 802 ein Gas (z.B. das Prozessgas) zu entziehen, so dass innerhalb des Vakuumkammergehäuses 802 ein Vakuum (d.h. ein Druck kleiner als 0,3 bar) und/oder ein Druck in einem Bereich von ungefähr 1 mbar bis ungefähr 10-3 mbar (mit anderen Worten Feinvakuum) und/oder ein Druck in einem Bereich von ungefähr 10-3 mbar bis ungefähr 10-7 mbar (mit anderen Worten Hochvakuum) oder ein Druck von kleiner als Hochvakuum, z.B. kleiner als ungefähr 10-7 mbar (mit anderen Worten Ultrahochvakuum) bereitgestellt sein oder werden kann.
  • Das Pumpensystem 804 kann beispielsweise die Pumpenanordnung 116 aufweisen oder daraus gebildet sein. Alternativ oder zusätzlich kann die Vakuumanordnung 1200a, 1200b eine Gaszuführungsanordnung 1716 aufweisen. Mittels der Gaszuführungsanordnung 1716 kann dem Vakuumkammergehäuse 802 ein Prozessgas zugeführt werden zum Bilden einer Prozessatmosphäre in dem Vakuumkammergehäuse 802. Das Prozessgas kann z.B. ein Inertgas aufweisen oder daraus gebildet sein. Alternativ oder zusätzlich kann das Prozessgas ein Reaktivgas aufweisen oder daraus gebildet sein, z.B. Sauerstoff, Stickstoff, Wasserstoff, Argon und/oder Kohlenstoff. Der Prozessdruck kann sich aus einem Gleichgewicht an Prozessgas bilden, welches mittels der Gaszuführungsanordnung 1716 zugeführt und mittels des Pumpensystems 804 entzogen wird.
  • Ferner kann das Vakuumkammergehäuse 802 derart eingerichtet sein, dass die Vakuumbedingungen (die Prozessbedingungen) innerhalb des Vakuumkammergehäuses 802 (z.B. Prozessdruck, Prozesstemperatur, chemische Prozessgaszusammensetzung, usw.) gestellt oder geregelt werden können (z.B. lokal), z.B. mittels einer Steuerung 508. Beispielsweise können mittels des Vakuumkammergehäuses 802 mehrere Vakuumbereiche 306b, 308b mit voneinander verschiedenen Vakuumbedingungen bereitgestellt sein oder werden. Beispielsweise kann die Steuerung 508 zum Steuern und/oder Regeln der Gaszuführungsanordnung 1716 und/oder des Pumpensystems 804 eingerichtet sein, so dass ein Prozessdruck und/oder eine Prozessgaszusammensetzung gesteuert und/oder geregelt werden kann. Beispielsweise kann die Steuerung 508 zum Steuern und/oder Regeln eines Normvolumenstroms an Prozessgas eingerichtet sein, welche mittels der Gaszuführungsanordnung 1716 zugeführt und/oder mittels des Pumpensystems 804 entzogen wird.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Steuerung 508 zum Steuern und/oder Regeln einer optionalen Substrat-Temperiervorrichtung 1124 (z.B. aufweisend eine Heizvorrichtung und/oder ein Kühlvorrichtung) eingerichtet sein, so dass eine Prozesstemperatur (z.B. des Substrat 102 und/oder des Prozessgases), beispielsweise während des Prozessierens (z.B. während des Beschichtens), gesteuert und/oder geregelt werden kann. Beispielsweise kann die Steuerung 508 eingerichtet sein zum Steuern und/oder Regeln einer thermischen Leistung, welche mittels der Substrat-Temperiervorrichtung 1124 zugeführt und/oder mittels dieser entzogen wird.
  • Optional kann die Vakuumanordnung 1200a, 1200b eine Versorgungsvorrichtung zum Versorgen der Temperiervorrichtung 1124 aufweisen, z.B. zum Versorgen mit einem temperierten Fluid oder mit elektrischer Energie. Beispielsweise kann die Versorgungsvorrichtung außerhalb der Prozessierkammer 802 angeordnet sein. Beispielsweise kann ein Heiz- oder ein Kühlmedium zu der Temperiervorrichtung 1124 (z.B. der Transportrolle 112) zu- und von dieser wieder abgeführt werden.
  • In dem Vakuumkammergehäuse 802 (z.B. in einer erste Vakuumkammer) kann zumindest ein Vakuumbereich 306b, z.B. ein erster Vakuumbereich 306b, angeordnet sein. Ferner kann in dem Vakuumkammergehäuse 802 (z.B. in der ersten Vakuumkammer) eine erste Prozessierquelle 306, z.B. eine Beschichtungsmaterialquelle 306, angeordnet sein. Die Beschichtungsmaterialquelle 306 kann zum Emittieren eines gasförmigen Beschichtungsmaterials in den ersten Vakuumbereich 306b hinein eingerichtet sein. Mit dem Beschichtungsmaterial kann das Substrat 102 beschichtet sein oder werden. Mit anderen Worten kann das Beschichten des Substrats 102 in einem Vakuum erfolgen. Der erste Vakuumbereich 306b kann ein Beschichtungsbereich 306b sein.
  • In dem Vakuumkammergehäuse 802 (z.B. in einer zweiten Vakuumkammer oder in der ersten Vakuumkammer) kann zumindest ein zweiter Vakuumbereich 308b angeordnet sein. Ferner kann in dem Vakuumkammergehäuse 802 (z.B. in der zweiten Vakuumkammer) eine zweite Prozessierquelle 308, z.B. eine Belichtungsvorrichtung 308, angeordnet sein. Die zweite Prozessierquelle 308 kann zum Bearbeiten des Beschichtungsmaterials eingerichtet sein, mit dem das Substrats 102 beschichtet ist oder wird, z.B. mittels Licht. Beispielsweise kann die Prozessierquelle 308 zum Strukturieren oder chemischen Umwandeln des Beschichtungsmaterials eingerichtet sein, mit dem das Substrats 102 beschichtet ist oder wird. Der zweite Vakuumbereich 308b kann ein Bearbeitungsbereich 308b sein.
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Vakuumkammergehäuse 802 eine Kammeröffnung zum Freilegen des Inneren des Vakuumkammergehäuses 802 aufweisen. Die Kammeröffnung kann das Innere des Vakuumkammergehäuses 802 beispielsweise in Drehachsenrichtung 111d freilegen. Zum Verschließen der Kammeröffnung kann das Vakuumkammergehäuse 802 einen Kammerdeckel aufweisen.
  • Beispielsweise kann die zweite Prozessierquelle 308 mindestens eine Belichtungsvorrichtung aufweisen, beispielsweise eine Lichtquelle (z.B. ein Laser, eine Lampe, eine Blitzlampe oder eine Röntgenquelle), eine Wärmestrahlungsquelle oder eine Teilchenquelle (z.B. ein Elektronenquelle oder eine Protonenquelle oder eine Ionenquelle).
  • Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Steuerung 508 zum Steuern und/oder Regeln der ersten Prozessierquelle 306 und/oder der zweiten zweite Prozessierquelle 308 eingerichtet sein, z.B. indem diese eine Materialmenge und/oder thermische Energie (z.B. Strahlungsenergie) steuert und/oder regeln welche pro Zeit in Richtung 105 des Substrats 102 emittiert wird.
  • Ferner kann die Vakuumanordnung 1200a, 1200b eine oder mehr als eine Transportrolle 112 (z.B. Gaskühlrollen 112) und optional eine oder mehr als eine Führungsrolle 122 aufweisen, welche einen Transportpfad 111 definieren, entlang dessen das Substrat 102 (z.B. ein bandförmiges Substrat) zwischen der Abwickelwalze 112a, 112b und der Aufwickelwalze 112c, 112d durch den zumindest einen Vakuumbereich 306b, 308b hindurch transportiert wird, z.B. in eine Transportrichtung 111w (welche senkrecht zu der Drehachse 111d sein kann).
  • Die Vakuumanordnung 1200a kann zumindest zwei Transportrollen 112 (oder alternativ zwei Umlenkrollen 122) aufweisen, zwischen denen ein geradlinig verlaufender Abschnitt des Transportpfads 111 aufgespannt wird.
  • Die Vakuumanordnung 1200b kann genau eine Transportrolle 112 aufweisen, welche den Transportpfad umlenkt. Die Transportrolle 112 kann optional die Temperiervorrichtung 1124 aufweisen, z.B. als Prozessierrolle 112 eingerichtet sein, mittels der das Substrat 102 temperiert, z.B. erwärmt und/oder gekühlt, werden kann.
  • Ferner kann die Vakuumanordnung 1200a, 1200b ein Antriebssystem 518 aufweisen, welches zumindest mit einem Teil der Vielzahl von Rollen 112, 112a, 112b, 112c, 112d, 122 gekoppelt 518k ist, z.B. zumindest mit einem Teil der mehreren Gaskühlrollen 122 und mit jeder Wickelhülsenkupplung der mehreren Wickelhülsenkupplungen 112a, 112b, 112c, 112d. Das Antriebssystem 518 kann die mehreren Antriebe 506 aufweisen. Beispielsweise kann das Antriebssystem 518 mittels Wellen 118, 518k Ketten 518k, Riemen 518k oder Zahnrädern 518k mit dem Teil der Vielzahl von Rollen 112, 112a, 112b, 112c, 112d, 122 gekoppelt sein, welche angetrieben werden. Das Antriebssystem 518 und der Teil der Vielzahl von Rollen 112, 112a, 112b, 112c, 112d, 122 können Teil einer Positionierungsvorrichtung sein, welche zum Positionieren des Substrats 102 eingerichtet ist.
  • Die Steuerung 508 kann zum Steuern 518k und/oder Regeln 518k des Antriebssystems 518 eingerichtet sein, z.B. zum Steuern 518k und/oder Regeln 518k einer Transportcharakteristik, z.B. einer Transportgeschwindigkeit, einer mechanischen Zugspannung auf das Substrat 102, und/oder einer Position des Substrats 102. Das Steuern 518k und/oder Regeln 518k des Antriebssystems 518 kann während des Prozessierens des Substrats 102 erfolgen, z.B. während des Beschichtens und/oder Bestrahlens, z.B. auf Grundlage eines Prozessierfortschritts (z.B. eines Beschichtungsfortschritts und/oder eines Strukturierungsfortschritts) und/oder auf Grundlage einer Transportcharakteristik.
  • Im Folgenden werden verschiedene Beispiele beschrieben, die sich auf vorangehend Beschriebene und in den Figuren Dargestellte beziehen.
  • Beispiel 1 ist eine Dichtanordnung 202, aufweisend: ein erstes Dichtelement (z.B. Rotor 502 bzw. drehender Laufwerksdichtring), welches aufweist: eine (umlaufende, metallische und/oder keramische) erste Dichtfläche 902f, einen der ersten Dichtfläche 902f gegenüberliegenden Kupplungsbereich 502k zum Kuppeln mit einer Welle 118, mehrere erste Öffnungen 502o, welche sich von der ersten Dichtfläche 902f aus zu dem Kupplungsbereich 502k durch das erste Dichtelement hindurch erstrecken; ein zweites Dichtelement (z.B. Stator bzw. statischer Laufwerksdichtring), welches aufweist: eine (umlaufende, metallische und/oder keramische) zweite Dichtfläche 904f, mehrere zweite Öffnungen 504o, 514o, von denen sich zumindest eine erste Öffnung 504o von einem ersten Bereich des zweiten Dichtelements und sich zumindest eine zweite Öffnung 514o von einem zweiten Bereich des zweiten Dichtelements aus durch das zweite Dichtelement hindurch zu der zweiten Dichtfläche 904f erstrecken, eine (umlaufende, metallische und/oder keramische) dritte Dichtfläche 504f, welche zwischen dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich angeordnet ist zum Abdichten dieser gegeneinander; wobei die erste Dichtfläche 902f und zweite Dichtfläche 904f eingerichtet sind (z.B. formkongruent zueinander und/oder geläppt sind und/oder eine geringere Rauheit als die dritte Dichtfläche 504f aufweisen), gegeneinandergepresst vakuumdicht aneinander zu liegen und/oder voneinander abzugleiten.
  • Beispiel 2 ist eine Dichtanordnung 202 (z.B. eine Laufwerkdichtung 202d), aufweisend: ein erstes Dichtelement 502 (z.B. einen Rotor 502) und ein zweites Dichtelement 504 (z.B. einen Stator), welche gegeneinandergepresst vakuumdicht aneinander liegen, z.B. mit ihren Dichtflächen 902f, 904f (z.B. die kongruent zueinander und/oder geläppt ausgebildet sind und/oder eine geringere Rauheit als die dritte Dichtfläche 504f aufweisen); mehrere in dem ersten Dichtelement 502 angeordnete erste Durchgangsöffnungen 502o (d.h. mehrere das erste Dichtelement 502 durchdingende erste Öffnungen 502o) und mehrere in dem zweiten Dichtelement 504 angeordnete zweite Durchgangsöffnungen 504o, 514o (d.h. mehrere das zweite Dichtelement 504 durchdingende zweite Öffnungen 504o, 514o), welche an den zwei Dichtflächen 902f, 904f aneinandergrenzen; eine den zwei Dichtflächen 902f, 904f gegenüberliegende (umlaufende, metallische und/oder keramische) dritte Dichtfläche 504f, welche zwischen zwei Durchgangsöffnung der mehreren zweiten Durchgangsöffnung angeordnet ist zum Gasseparieren dieser voneinander.
  • Beispiel 3 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß Beispiel 2, wobei von den mehreren zweiten Durchgangsöffnung, sich zumindest eine erste Durchgangsöffnung von einem ersten Bereich (z.B. ersten Oberflächenbereich oder ersten Segment, z.B. ersten Kreisringsegment) des zweiten Dichtelements 504 und sich zumindest eine zweite Durchgangsöffnungen 504o, 514o von einem zweiten Bereich (z.B. zweiten Oberflächenbereich oder zweiten Segment, z.B. zweiten Kreisringsegment) des zweiten Dichtelements 504 aus durch das zweite Dichtelement 504 hindurch zu dessen Dichtfläche 904f erstrecken, wobei die dritte Dichtfläche 504f zwischen dem ersten Bereich und dem zweiten Bereich angeordnet ist zum Abdichten dieser gegeneinander.
  • Beispiel 4 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 3, wobei sich die zumindest eine erste Öffnung entlang eines nichtlinearen (z.B. gewinkelten und/oder gekrümmten) Pfades in das erste Dichtelement 502 hinein und/oder durch dieses hindurch erstreckt (z.B. wobei die zumindest eine erste Öffnung gewinkelt und/oder gekrümmt verläuft).
  • Beispiel 5 ist ein Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 4, ferner aufweisend: eine Rotationsachse, bezüglich welcher die erste Dichtfläche 902f (d.h. die Dichtfläche 902f des ersten Dichtelements 502) und die zweite Dichtfläche 904f (d.h. die Dichtfläche 904f des zweiten Dichtelements 504) zueinander korrespondierende Rotationsflächen sind.
  • Beispiel 6 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 5, wobei die Dichtflächen 902f, 904f des ersten und zweiten Dichtelements 504 eingerichtet sind, gegeneinandergepresst vakuumdicht aneinander zu liegen und/oder voneinander abzugleiten.
  • Beispiel 7a ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 6, wobei eine Nennweite zumindest einer (d.h. einer, mehr als einer oder jeder) Öffnung der mehreren ersten Öffnungen 502o verschieden ist von einem (z.B. größer ist als ein) Abstand einander benachbarter Öffnungen der mehreren zweiten Öffnungen 504o, 514o und/oder gleich einer Nennweite zumindest einer (d.h. einer, mehr als einer oder jeder) Öffnung der mehreren zweiten Öffnungen 504o, 514o ist.
  • Beispiel 7b ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 7a, wobei einander benachbarte Öffnungen der mehreren ersten Öffnungen 502o an der ersten Dichtfläche 902f einen ersten Winkelabstand bezüglich einer Drehachse der Dichtanordnung 202 voneinander aufweisen (z.B. deren Zentren einen ersten Winkel miteinander einschließen), und wobei einander benachbarte Öffnungen der mehreren zweiten Öffnungen 504o, 514o an der zweiten Dichtfläche 904f einen zweiten Winkelabstand bezüglich der Drehachse voneinander aufweisen (z.B. deren Zentren einen zweiten Winkel miteinander einschließen), und wobei der erste Winkelabstand (z.B. der erste Winkel) und der zweite Winkelabstand (z.B. der zweite Winkel) voneinander verschieden sind.
  • Beispiel 7c ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 7b, wobei zumindest eine (d.h. genau eine, mehr als eine oder jede) Öffnung der mehreren ersten Öffnungen 502o und/oder der mehreren zweiten Öffnungen 504o, 514o einen zylindrischen Querschnitt aufweisen.
  • Beispiel 8 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 7c, wobei das erste Dichtelement 502 und/oder das zweite Dichtelement 504 einen (z.B. metallischen) Dichtring aufweisen oder daraus gebildet sind, welcher deren Dichtfläche 902f, 902f aufweist.
  • Beispiel 9 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 8, wobei das erste Dichtelement 502 und/oder das zweite Dichtelement 504 einen (z.B. metallischen) Laufwerksdichtring aufweisen oder daraus gebildet sind.
  • Beispiel 10 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 9, wobei in einem Kreisringsegment-Bereich, in welchem die erste Dichtfläche 902f und die zweite Dichtfläche 904f aneinandergrenzen, eine erste Anzahl Öffnungen der mehreren ersten Öffnungen 502o und eine zweite Anzahl Öffnungen der mehreren zweiten Öffnungen 504o, 514o angeordnet sind, wobei die erste Anzahl und die zweite Anzahl verschieden voneinander sind.
  • Beispiel 11 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 10, wobei die mehreren ersten Öffnungen 502o und die mehreren zweiten Öffnungen 504o, 514o derart zueinander eingerichtet sein, dass zumindest eine (z.B. die zumindest eine erste und/oder die zumindest eine zweite) Öffnung der mehreren ersten Öffnungen 502o zumindest (d.h. mindestens) zwei Öffnungen der mehreren zweiten Öffnungen 504o, 514o überlappt, z.B. wenn eine zusätzliche Öffnung der mehreren ersten Öffnungen502o und eine zusätzliche Öffnung der mehreren zweiten Öffnungen 504o, 514o miteinander fluchten und/oder einander vollständig überlappen.
  • Beispiel 12 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 10, wobei die zumindest eine erste Öffnung einen radial erstreckten ersten Abschnitt und einen im Wesentlichen axial erstreckten zweiten Abschnitt aufweist, und/oder wobei der zweite Abschnitt zwischen dem ersten Abschnitt und der Dichtfläche 902f angeordnet ist.
  • Beispiel 13 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 12, wobei die zumindest eine zweite Öffnung (z.B. vollständig) axial erstreckt ist.
  • Beispiel 14 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 13, ferner aufweisend eine Kupplungsstruktur (z.B. zumindest Formschlussmittel aufweisend) zum Kuppeln mit der Welle 118.
  • Beispiel 15 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 14, wobei die mehreren ersten Öffnungen 502o mehrere voneinander separierte erste Fluidleitungen (z.B. Gasleitungen) bilden.
  • Beispiel 16 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 15, wobei die mehreren zweiten Öffnungen 504o, 514o mehrere voneinander separierte zweite Fluidleitungen (z.B. Gasleitungen) bilden.
  • Beispiel 17 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 16, wobei die dritte Dichtfläche 504f eine Aussparung (z.B. Nut, Falz, Absatz und/oder Vertiefung) zum Aufnehmen einer Dichtung (z.B. eines Dichtringes) aufweist.
  • Beispiel 18 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 17, wobei der erste Bereich an eine radiale und/oder seitliche Außenfläche (z.B. einer Mantelfläche) bzw. radialen Seite des zweiten Dichtelements 504 angrenzt; und/oder wobei sich die zumindest eine erste Öffnung von der radialen und/oder seitlichen Außenfläche bzw. radialen Seite des zweiten Dichtelements 504 in dieses hinein erstreckt.
  • Beispiel 19 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 18, wobei der zweite Bereich an eine axiale Außenfläche (z.B. Stirnfläche) bzw. axialen Seite des zweiten Dichtelements 504 angrenzt; und/oder wobei sich die zumindest eine zweite Öffnung von der axialen Außenfläche bzw. axialen Seite des zweiten Dichtelements 504 in dieses hinein erstreckt.
  • Beispiel 20 ist eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 19, eine Beschichtung, welche jeweils die erste Dichtfläche 902f und/oder die zweite Dichtfläche 904f bereitstellt, wobei die Beschichtung eine größere mechanische Härte (z.B. gemäß einer Rockwellskala) aufweist als ein Material des jeweiligen Dichtelements 502, 504, welches an die Beschichtung angrenzt.
  • Beispiel 21 ist ein Versorgungsgehäuse 114, aufweisend: eine Aufnahmeöffnung 114o zum Aufnehmen und Lagern einer Welle 118; einen Hohlraum 114h, wobei sich der Hohlraum 114h von der Aufnahmeöffnung 114o in das Versorgungsgehäuse 114 hinein erstreckt; wobei der Hohlraum 114h einen ersten Versorgungsbereich 414a und einen zweiten Versorgungsbereich 414b aufweist; einen ersten Anschluss 114e (z.B. Evakuierungsanschluss) zum Austauschen eines Fluids (z.B. Evakuieren) mit dem ersten Versorgungsbereich 414a; einen zweiten Anschluss 124b (z.B. Belüftungsanschluss) zum Austauschen eines Fluids (z.B. Belüften) mit dem zweiten Versorgungsbereich 414b; und optional einen Dichtbereich zum Aufnehmen einer Dichtanordnung 202, welche den ersten Versorgungsbereich 414a von dem zweiten Versorgungsbereich 414b separiert.
  • Beispiel 22 ist ein Versorgungsgehäuse 114 gemäß Beispiel 21, wobei der Dichtbereich eine (umlaufende) Dichtfläche und/oder (umlaufende) Nut aufweist.
  • Beispiel 23 ist ein Versorgungsgehäuse 114 gemäß Beispiel 21 oder 22, ferner aufweisend: einen Aufnahmebereich, in welchem die Aufnahmeöffnung 114o gebildet ist, wobei der Aufnahmebereich eine erste Aussparung (z.B. Nut, Falz, Vertiefung und/oder Absatz) zum Aufnehmen einer Dichtung und/oder eine zweite Aussparung (z.B. Nut, Vertiefung, Falz und/oder Absatz) zum Aufnehmen eines Drehlagers (z.B. für die Welle 118) aufweist.
  • Beispiel 24 ist ein Versorgungsgehäuse 114 gemäß einem der Beispiele 21 bis 23, wobei der erste Versorgungsbereich 414a zwischen dem zweiten Versorgungsbereich 414b und dem Aufnahmebereich angeordnet ist.
  • Beispiel 25 ist ein Versorgungsgehäuse 114 gemäß einem der Beispiele 21 bis 24, wobei der Dichtbereich zwischen dem ersten Versorgungsbereich 414a und dem zweiten Versorgungsbereich 414b angeordnet ist und/oder diese voneinander räumlich separiert.
  • Beispiel 26 ist ein Versorgungsgehäuse 114 gemäß einem der Beispiele 21 bis 25, wobei der erste Anschluss 114e einen kleineren Strömungswiderstand bereitstellt und/oder größere Nennweite (z.B. größer als ungefähr 15 mm, ungefähr 30 mm oder ungefähr 60 mm) aufweist als der zweite Anschluss 124b. Die Nennweite kann beispielsweise den entsprechenden Leitungsquerschnitt definieren.
  • Beispiel 27 ist ein Versorgungsgehäuse 114 gemäß einem der Beispiele 21 bis 26, wobei der erste Anschluss 114e einen Vakuum-Anschlussflansch aufweist und/oder als Pumpanschluss bzw. Rohranschluss für ein Vakuumrohr ausgebildet ist.
  • Beispiel 28 ist ein Versorgungsgehäuse 114 gemäß einem der Beispiele 21 bis 27, ferner aufweisend: eine Pumpe und/oder ein Vakuumrohr, das an dem ersten Anschluss 114e angeschlossen ist.
  • Beispiel 29 ist ein Versorgungsgehäuse 114 gemäß einem der Beispiele 21 bis 28, wobei der erste Anschluss 114e an einer radialen Seite des Versorgungsgehäuses 114 angeordnet ist und/oder wobei der zweite Anschluss 124b an einer axialen Seite des Versorgungsgehäuses 114 angeordnet ist.
  • Beispiel 30a ist eine Versorgungsschnittstelle für eine Transportrolle 112, aufweisend: ein Versorgungsgehäuse 114 gemäß einem der Beispiele 21 bis 30, und eine Dichtanordnung 202 gemäß einem der Beispiele 1 bis 20, welche in dem Dichtbereich des Versorgungsgehäuses 114 angeordnet ist.
  • Beispiel 30b ist eine Versorgungsschnittstelle für eine Transportrolle 112, aufweisend: ein Versorgungsgehäuse 114 gemäß einem der Beispiele 21 bis 30a, und eine zwischen dem ersten Versorgungsbereich 414a und dem zweiten Versorgungsbereich 414b, z.B. in dem Dichtbereich angeordnete Dichtanordnung 202, wobei die Dichtanordnung 202 aufweist: einen Stator 504 und einen Rotor 502, wobei der 502 Rotor einen Kupplungsbereich 502k zum Ankuppeln einer in der Aufnahmeöffnung 114o aufgenommenen Welle 118 aufweist; mehrere in dem Rotor 502 angeordnete erste Durchgangsöffnungen 502o und mehrere in dem Stator 504 angeordnete zweite Durchgangsöffnungen 504o, 514o (welche z.B. einander zumindest teilweise überlappen), von denen eine erste Durchgangsöffnung 504o den Kupplungsbereich 502k mittels der ersten Durchgangsöffnungen 502o mit dem ersten Versorgungsbereich 414a und zumindest eine zweite Durchgangsöffnung 514o den Kupplungsbereich 502k mittels der ersten Durchgangsöffnungen 502o mit dem zweiten Versorgungsbereich 414b fluidleitend verbindet
  • Beispiel 31 ist eine Versorgungsschnittstelle gemäß Beispiel 30a oder 30b, ferner aufweisend: die Welle 118, wobei die Welle 118 aufweist: einen zusätzlichen Kupplungsbereich 502k, welcher an die Dichtanordnung 202 (deren Rotor 502) angrenzt; mehrere zusätzliche erste Öffnungen 120b (z.B. Durchgangsöffnungen), welche mit den mehreren zweiten Öffnungen fluchten und/oder gasleitend verbunden sind; und optional eine Leitungsstruktur 120 (z.B. Fluidleitungsstruktur), welche die mehreren zusätzlichen ersten Öffnungen 120b mit einem Bereich außerhalb des Hohlraums 114h fluidleitend verbindet.
  • Beispiel 32 ist eine Transportanordnung 100, 200, 400, 500, 600, 1000, 1100, 1200 aufweisend die Versorgungsschnittstelle gemäß Beispiel 31, und ferner aufweisend: eine mittels der Welle 118 drehbar gelagerte Transportrolle 112 zum Transportieren und/oder Umlenken eines Substrats, wobei die Transportrolle 112 eine Mantelfläche aufweist, welche mehrere zusätzliche zweite Öffnungen zum Austauschen eines Fluids durch die Mantelfläche hindurch aufweist; wobei die Leitungsstruktur 120 die mehreren zusätzlichen ersten Öffnungen mit den mehreren zusätzlichen zweiten Öffnungen fluidleitend verbindet.
  • Beispiel 33 ist eine Transportanordnung 100, 200, 400, 500, 600, 1000, 1100, 1200, aufweisend: eine Transportrolle 112 zum Transportieren und/oder Umlenken eines Substrats, eine Welle 118 zum drehbaren Lagern der Transportrolle 112, wobei die Welle 118 an einem der Transportrolle 112 gegenüberliegendem Ende mehrere erste Öffnungen aufweist zum Austauschen eines Fluids durch die Welle 118 hindurch; wobei die Transportrolle 112 eine Mantelfläche aufweist, welche mehrere zweite Öffnungen zum Austauschen eines Fluids durch die Mantelfläche hindurch aufweist; und eine Leitungsstruktur, welche die mehreren ersten Öffnungen mit den mehreren zweiten Öffnungen fluidleitend verbindet.
  • Beispiel 34 ist eine Transportanordnung 100, 200, 400, 500, 600, 1000, 1100, 1200 gemäß Beispiel 32 oder 33, ferner aufweisend: eine Temperiervorrichtung, welche eingerichtet ist, der Mantelfläche thermische Energie (z.B. gesteuert und/oder geregelt) zuzuführen und/oder zu entziehen.
  • Beispiel 35 ist eine Transportanordnung 100, 200, 400, 500, 600, 1000, 1100, 1200 gemäß einem der Beispiele 32 bis 34, ferner aufweisend: einen Antrieb, welcher eingerichtet ist auf die Welle 118 ein Drehmoment zu übertragen.
  • Beispiel 36 ist ein Verfahren aufweisend: Transportieren (z.B. Umlenken) eines Substrats mittels einer Transportrolle 112 durch einen Prozessierbereich (z.B. einen Vakuumbereich) hindurch; Einleiten von Gas zwischen das Substrat und die Transportrolle 112; Entziehen von Gas aus dem Prozessierbereich mittels der Transportrolle 112 (z.B. durch deren Öffnungen hindurch); wobei das Einleiten und das Entziehen von Gas durch eine Lageranordnung 202, 118, mittels deren die Transportrolle 112 drehbar gelagert ist (und optional gleichzeitig zu dem Transportieren), und/oder durch die Transportrolle 112 (z.B. deren Mantelfläche) hindurch erfolgt.
  • Beispiel 37 ist ein Verfahren gemäß Beispiel 36, wobei das Einleiten und das Entziehen von Gas durch eine Welle 118, mittels welcher die Transportrolle 112 drehbar gelagert ist, erfolgt.
  • Beispiel 38 ist ein Verfahren gemäß Beispiel 36 oder 37, ferner aufweisend: Abwickeln und/oder Aufwickeln des Substrats mittels eines Substrat-Wickels.
  • Beispiel 39 ist ein Verfahren gemäß einem der Beispiele 36 bis 38, ferner aufweisend: Prozessieren des Substrats.
  • Beispiel 39 ist ein Verfahren gemäß einem der Beispiele 36 bis 38, wobei das Transportieren mittels Drehens der Transportrolle 112 erfolgt, und wobei mittels Drehens der Transportrolle 112 an der Lageranordnung 202, 118 das Einleiten und das Entziehen von Gas durch eine der Fluidleitungen hindurch vertauscht wird.
  • Beispiel 40 ist das Verwenden einer Welle zum drehbaren Lagern einer Transportrolle (z.B. in einem Vakuumbereich) und sowohl zum (z.B. gleichzeitig zum Drehen der Transportrolle) Einleiten von Gas in die Transportrolle als auch zum Entziehen von Gas aus der Transportrolle (z.B. mittels der Transportrolle in den bzw. aus dem Vakuumbereich) durch die Welle hindurch.
  • Beispiel 41 ist das Verwenden einer Dichtanordnung (z.B. einer Laufwerksdichtung) zum Abdichten einer drehbar gelagerten Welle (z.B. in einem Vakuumbereich) und sowohl zum (z.B. gleichzeitig zum Drehen der Welle) zum Einleiten von Gas in die Welle als auch zum Entziehen von Gas aus der Welle (z.B. mittels der Welle in den bzw. aus dem Vakuumbereich) durch die Laufwerksdichtung hindurch.

Claims (19)

  1. Laufwerkdichtung (202d), aufweisend: • einen Rotor (502) und einen Stator (504), deren Dichtflächen (902f, 904f) gegeneinandergepresst vakuumdicht aneinander liegen; • mehrere in dem Rotor (502) angeordnete erste Durchgangsöffnungen (502o) und mehrere in dem Stator (504) angeordnete zweite Durchgangsöffnungen (504o, 514o), welche an den Dichtflächen (902f, 904f) aneinandergrenzen; • eine den Dichtflächen (902f, 904f) gegenüberliegende zusätzliche Dichtfläche, welche zwischen zwei Durchgangsöffnungen der mehreren zweiten Durchgangsöffnungen (504o, 514o) angeordnet ist zum Gasseparieren dieser voneinander.
  2. Laufwerkdichtung (202d) gemäß Anspruch 1, wobei sich zumindest eine Durchgangsöffnung der zwei Durchgangsöffnungen entlang eines nichtlinearen Pfades durch den Stator (504) hindurch erstreckt.
  3. Laufwerkdichtung (202d) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 2, wobei eine Nennweite zumindest einer Durchgangsöffnung der mehreren ersten Durchgangsöffnungen (502o) größer ist als ein Abstand einander benachbarter Durchgangsöffnungen der mehreren zweiten Durchgangsöffnungen (504o, 514o).
  4. Laufwerkdichtung (202d) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei zumindest eine Durchgangsöffnung der mehreren ersten Durchgangsöffnungen (502o) zumindest zwei Durchgangsöffnungen der mehreren zweiten Durchgangsöffnungen (504o, 514o) überlappt.
  5. Laufwerkdichtung (202d) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, ferner aufweisend: eine Kupplungsstruktur (1002) zum Kuppeln mit einer Welle (118).
  6. Laufwerkdichtung (202d) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die zusätzliche Dichtfläche (504f) eine Nut oder einen Absatz zum Aufnehmen einer Elastomerdichtung aufweist.
  7. Laufwerkdichtung (202d) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei von den zwei Durchgangsöffnung sich eine erste Durchgangsöffnung (504o) von einem ersten Oberflächenbereich des Stators (504) und sich eine zweite Durchgangsöffnungen (514o) von einem zweiten Oberflächenbereich des Stators (504) aus durch den Stator (504) hindurch zu dessen Dichtfläche (904f) erstrecken, und wobei die zusätzliche Dichtfläche (504f) zwischen dem ersten Oberflächenbereich und dem zweiten Oberflächenbereich angeordnet ist.
  8. Versorgungsschnittstelle, aufweisend: ein Gehäuse (114), aufweisend: • eine Aufnahmeöffnung (114o); • einen Hohlraum (114h), wobei sich der Hohlraum (114h) von der Aufnahmeöffnung (114o) in das Gehäuse (114) hinein erstreckt; • wobei der Hohlraum (114h) einen ersten Versorgungsbereich (414a) und einen zweiten Versorgungsbereich (414b) aufweist; • einen ersten Anschluss (114e) zum Austauschen eines Fluids mit dem ersten Versorgungsbereich (414a) und einen zweiten Anschluss (124b) zum Austauschen eines Fluids mit dem zweiten Versorgungsbereich (414b); und eine zwischen dem ersten Versorgungsbereich (414a) und dem zweiten Versorgungsbereich (414b) angeordnete Dichtanordnung (202), wobei die Dichtanordnung (202) aufweist: • einen Stator (504) und einen Rotor (502), wobei der Rotor (502) einen Kupplungsbereich (502k) zum Ankuppeln einer in der Aufnahmeöffnung (114o) aufgenommenen Welle (118) aufweist; • mehrere in dem Rotor (502) angeordnete erste Durchgangsöffnungen (502o); • mehrere in dem Stator (504) angeordnete zweite Durchgangsöffnungen (504o, 514o), von denen eine erste Durchgangsöffnung (504o) den Kupplungsbereich (502k) mittels der ersten Durchgangsöffnungen (502o) mit dem ersten Versorgungsbereich (414a) und zumindest eine zweite Durchgangsöffnung (514o) den Kupplungsbereich (502k) mittels der ersten Durchgangsöffnungen (502o) mit dem zweiten Versorgungsbereich (414b) fluidleitend verbindet.
  9. Versorgungsschnittstelle gemäß Anspruch 8, ferner aufweisend: eine Nut oder einen Absatz, welche zwischen dem ersten Versorgungsbereich (414a) und dem zweiten Versorgungsbereich (414b) angeordnet ist, zum Aufnehmen einer Elastomerdichtung.
  10. Versorgungsschnittstelle gemäß Anspruch 8 oder 9, ferner aufweisend: einen Aufnahmebereich, in welchem die Aufnahmeöffnung (114o) gebildet ist, wobei der Aufnahmebereich eine erste Nut oder einen ersten Absatz zum Aufnehmen einer Dichtung und/oder eine zweite Nut oder einen zweiten Absatz zum Aufnehmen eines Drehlagers aufweist.
  11. Versorgungsschnittstelle gemäß einem der Ansprüche 8 bis 10, wobei der erste Anschluss (114e) einen kleineren Strömungswiderstand bereitstellt und/oder eine größere Nennweite aufweist als der zweite Anschluss (124b).
  12. Versorgungsschnittstelle gemäß einem der Ansprüche 8 bis 11, wobei der erste Anschluss (114e) einen Vakuum-Anschlussflansch aufweist.
  13. Transportanordnung (100, 200, 400, 500, 600, 1000, 1100, 1200), aufweisend: • eine Transportrolle (112) zum Transportieren und/oder Umlenken eines Substrats, • eine Welle (118) zum drehbaren Lagern der Transportrolle (112), wobei die Welle (118) an einem der Transportrolle (112) gegenüberliegendem Ende mehrere erste Öffnungen aufweist zum Austauschen eines Fluids durch die Welle (118) hindurch; • wobei die Transportrolle (112) eine Mantelfläche aufweist, welche mehrere zweite Öffnungen zum Austauschen eines Fluids durch die Mantelfläche hindurch aufweist; und • eine Leitungsstruktur (120), welche die mehreren ersten Öffnungen mit den mehreren zweiten Öffnungen fluidleitend verbindet.
  14. Verfahren, aufweisend: • Transportieren eines Substrats (102) mittels einer Transportrolle (112) durch einen Prozessierbereich; • Einleiten (1003) von Gas zwischen das Substrat und die Transportrolle (112); • Entziehen (1005) von Gas aus dem Prozessierbereich mittels der Transportrolle (112); • wobei das Einleiten und das Entziehen von Gas durch eine Lageranordnung (202, 118), mittels welcher die Transportrolle (112) drehbar gelagert ist, hindurch erfolgt.
  15. Verfahren gemäß Anspruch 14, wobei das Einleiten (1003) und das Entziehen (1005) von Gas durch eine Welle (118), mittels welcher die Transportrolle (112) drehbar gelagert ist, erfolgt.
  16. Verfahren gemäß Anspruch 14 oder 15, ferner aufweisend: Abwickeln und/oder Aufwickeln des Substrats (102) mittels eines Substrat-Wickels.
  17. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 14 bis 16, ferner aufweisend: Prozessieren des Substrats (102).
  18. Verwenden einer Laufwerksdichtung (202d) zum Abdichten einer drehbar gelagerten Welle (118) und sowohl zum Einleiten von Gas in die Welle (118) als auch Entziehen von Gas aus der Welle (118) durch die Laufwerksdichtung (202d) hindurch.
  19. Verwenden einer Welle (118) zum drehbaren Lagern einer Transportrolle (112) und sowohl zum Einleiten von Gas in die Transportrolle (112) als auch Entziehen von Gas aus der Transportrolle durch die Welle (118) hindurch.
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