DE102017202059A1 - Platinenuntersuchungsvorrichtung - Google Patents

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Nobuyuki Umemura
Akira Kato
Tsuyoshi Ohyama
Norihiko Sakaida
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CKD Corp
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Abstract

Aufgabe:
Es ist die Aufgabe, eine Platinenuntersuchungsvorrichtung zum Verbessern der Untersuchungsgenauigkeit einer doppelseitigen Untersuchung einer Platine und zum Erhöhen der Untersuchungsgeschwindigkeit bereitzustellen.
Lösung der Aufgabe:
Eine Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 umfasst eine Oberseitenuntersuchungseinheit 3 zum Untersuchen einer Oberseite einer Leiterplatine P1 und eine Unterseitenuntersuchungseinheit 4 zum Untersuchen einer Unterseite der Leiterplatine P1. Die Untersuchungseinheiten 3 und 4 umfassen eine Untersuchungsbeleuchtungsvorrichtung 3A bzw. 4A und dergleichen zum Bestrahlen der Leiterplatine P1 mit einem Streifenmuster und eine Untersuchungs-Kamera 3C bzw. 4C zum Aufnehmen eines Bildes der Leiterplatine P1. Die Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 ist ausgelegt, um abwechselnd einen Abbildungsprozess von mehreren Abbildungsprozessen eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 und einen Abbildungsprozess von mehreren Abbildungsprozessen eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 durchzuführen.

Description

  • Technisches Gebiet
  • Die vorliegende Offenbarung betrifft eine Platinenuntersuchungsvorrichtung zur Durchführung einer Untersuchung sowohl einer Vorderseite als auch einer eine Rückseite einer Leiterplatine oder dergleichen.
  • Stand der Technik
  • Eine Leiterplatine mit elektronischen Komponenten, die sowohl auf ihrer Vorderseite als auch auf ihrer Rückseite montiert sind, umfasst allgemein Elektrodenmuster, die sowohl auf einer Vorderseite als auch auf einer Rückseite eines Basissubstrats gebildet sind, das aus Glasepoxidharz gebildet ist, und Resistfilme, die vorgesehen sind, um diese Elektrodenmuster zu schützen.
  • In einer Produktionslinie zum Montieren elektronischer Komponenten auf einer solchen Leiterplatine, druckt ein Verfahren zuerst Lötpaste an vorbestimmten Positionen sowohl auf der Vorderseite als auch auf der Rückseite der Leiterplatine (Lötpastendruckprozess). Das Verfahren bringt anschließend eine Klebemittel an den vorbestimmten Positionen sowohl auf der Vorderseite als auch auf der Rückseite der Leiterplatine auf (Klebemittelaufbringprozess). Das Verfahren montiert anschließend elektronische Komponente sowohl auf der Vorderseite als auch auf der Rückseite der Leiterplatine (Montageprozess). Die elektronischen Komponenten werden dabei vorübergehend durch die Viskosität der Lötpaste oder durch das Klebemittel fixiert. Das Verfahren führt dann die Leiterplatine in einen Reflow-Ofen zum Löten (Reflow-Prozess).
  • Zum Beispiel kann eine Platinenuntersuchungsvorrichtung zum Untersuchen des Druckzustands der Lötpaste vor dem Montieren von Komponenten (Lötpastendruck-Untersuchungsvorrichtung) oder eine Platinenuntersuchungsvorrichtung zum Untersuchen einer Leiterplatine nach der Montage von Komponenten (Montageuntersuchungsvorrichtung) in dieser Produktionslinie vorgesehen sein.
  • Eine Untersuchungsvorrichtung zum gleichzeitigen Untersuchen sowohl der Vorderseite als auch der Rückseite der Leiterplatine ist als diese Platinenuntersuchungsvorrichtung bekannt.
  • In der Platinenuntersuchungsvorrichtung zum gleichzeitigen Untersuchen von sowohl der Vorderseite als auch der Rückseite besteht jedoch die Möglichkeit, dass ein Teil eines in Richtung einer Seite der Leiterplatine ausgesendeten Lichts durch ein sich durch die Leiterplatine oder durch das Glasepoxidharz des Basissubstrats erstreckendes Loch transmittiert und auf der weiteren Seite der Leiterplatine austritt. Dadurch ist es wahrscheinlich, dass das von einer Seite austretende Licht die Untersuchungsgenauigkeit bei der Untersuchung der weiteren Seite der Leiterplatine beeinflusst und verringert.
  • Um ein solches Problem zu reduzieren, platziert eine jüngst vorgeschlagene Untersuchungsvorrichtung Beleuchtungseinheiten an versetzte Positionen auf der Vorderseite und auf der Rückseite der Leiterplatine oder untersucht sowohl die Vorderseite als auch Rückseite der Leiterplatine, die mit dem Licht der gleichen Farbe bestrahlt werden (wie es zum Beispiel in der Patentliteratur 1 beschrieben ist).
  • Literaturliste
  • Patentliteratur
    • PTL 1: JP 2006-184022A
  • Kurzdarstellung
  • Technisches Problem
  • Selbst in der Konfiguration der oben beschriebenen Patentliteratur 1 bewirkt die gleichzeitige Lichtaussendung auf sowohl die Vorderseite als auch die Rückseite der Leiterplatine wahrscheinlich ein geringes Austreten von Licht zur gegenüberliegenden Seite. Somit bestehen nach wie Bedenken bezüglich der Untersuchungsgenauigkeit.
  • Zum Beispiel ist es wahrscheinlich, dass in einer Konfiguration, die eine dreidimensionale Messung (Untersuchung) auf der Grundlage einer Differenz zwischen Helligkeitswerten mehrerer Bilddaten, die mit Lichtmustern unterschiedlicher Phasen gewonnen werden, durchführt, zum Beispiel eine dreidimensionale Messung mit Hilfe des Phasenverschiebungsverfahrens, selbst ein geringfügiges Austreten selbst des Lichts der gleichen Farbe von der weiteren Seite der Leiterplatine die Untersuchungsgenauigkeit bei der Untersuchung einer Vorderseite der Leiterplatine deutlich beeinflusst.
  • Eine Konfiguration, die zum Beispiel nach Beenden einer Untersuchung der Vorderseite der Leiterplatine eine Untersuchung der Rückseite der Leiterplatine durchführt, verlängert wahrscheinlich die Untersuchungszeit.
  • Zum Beispiel ist es, falls eine Notwendigkeit besteht, ein Bild eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs mehrmals aufzunehmen, wie im Falle der dreidimensionalen Messung mit Hilfe des Phasenverschiebungsverfahrens, wahrscheinlich, dass eine solche Notwendigkeit eine deutliche Verlängerung der Untersuchungszeit zur Folge hat.
  • Unter Berücksichtigung der oben beschriebenen Umstände ist es die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Platinenuntersuchungsvorrichtung zum Verbessern der Untersuchungsgenauigkeit einer doppelseitigen Untersuchung einer Platine und zum Erhöhen der Untersuchungsgeschwindigkeit bereitzustellen.
  • Lösung des Problems
  • Nachfolgend ist jeder von verschiedenen Aspekten zum Lösen der oben genannten Probleme beschrieben. Funktionen und vorteilhafte Effekte, die für jeden der Aspekte charakteristisch sind, sind, wo erforderlich, auch beschrieben.
  • Aspekt 1: Es wird eine Platinenuntersuchungsvorrichtung zum Untersuchen von sowohl einer Vorderseite als auch einer Rückseite einer Platine bereitgestellt. Die Platinenuntersuchungsvorrichtung umfasst wenigstens ein Vorderseiten-Bestrahlungsgerät zum Bestrahlen eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf einer Vorderseite der Platine mit vorbestimmtem Licht; eine Vorderseiten-Abbildungseinheit zum Aufnehmen eines Bildes des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine, der mit dem vorbestimmten Licht bestrahlt wird; wenigstens ein Rückseiten-Bestrahlungsgerät zum Bestrahlen eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf einer Rückseite der Platine mit vorbestimmtem Licht; eine Rückseiten-Abbildungseinheit zum Aufnehmen eines Bildes des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine, der mit dem vorbestimmten Licht bestrahlt wurde; und eine Untersuchungseinheit zum Untersuchen des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine auf der Grundlage mehrerer Bilddaten, die durch einen durch das Vorderseiten-Bestrahlungsgerät und die Vorderseiten-Abbildungseinheit durchgeführten Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine gewonnen werden, und zum Untersuchen des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine auf der Grundlage mehrerer Bilddaten, die durch einen durch das Rückseiten-Bestrahlungsgerät und die Rückseiten-Abbildungseinheit durchgeführten Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine gewonnen werden, wobei ein bestimmter Prozess durchgeführt wird, um im Wechsel einen Abbildungsprozess von mehreren Abbildungsprozessen des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Vorderseiten-Abbildungseinheit und einen Abbildungsprozess von mehreren Abbildungsprozessen des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Rückseiten-Abbildungseinheit durchzuführen, wobei der bestimmte Prozess ausgelegt ist, um eine Aussendung von Licht von dem Vorderseiten-Bestrahlungsgerät zu starten und eine Aussendung von Licht von dem Rückseiten-Bestrahlungsgerät zu stoppen, um so einen Abbildungsprozess von den mehreren Abbildungsprozesse des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Vorderseiten-Abbildungseinheit durchzuführen, und um anschließend eine Aussendung von Licht von dem Vorderseiten-Bestrahlungsgerät zu stoppen und eine Aussendung von Licht von dem Rückseiten-Bestrahlungsgerät zu starten, um so einen Abbildungsprozess von den mehreren Abbildungsprozesse des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Rückseiten-Abbildungseinheit durchzuführen, und wobei der bestimmte Prozess ausgelegt ist, um eine Aussendung von Licht von dem Rückseiten-Bestrahlungsgerät zu starten und eine Aussendung von Licht von dem Vorderseiten-Bestrahlungsgerät zu stoppen, um so einen Abbildungsprozess von den mehreren Abbildungsprozesse des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Rückseiten-Abbildungseinheit durchzuführen, und um anschließend eine Aussendung von Licht von dem Rückseiten-Bestrahlungsgerät zu stoppen und eine Aussendung von Licht von dem Vorderseiten-Bestrahlungsgerät zu starten, um so einen Abbildungsprozess von den mehreren Abbildungsprozesse des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Vorderseiten-Abbildungseinheit durchzuführen.
  • Die Konfiguration des oben beschriebenen Aspekts 1 stoppt die Aussendung von Licht auf der Rückseite (oder auf der Vorderseite) während einer Abbildungszeitspanne der Vorderseite (oder der Rückseite) der Platine. Diese Konfiguration ermöglicht die Gewinnung von Bilddaten hoher Genauigkeit, ohne zu bewirken, dass Licht zur Vorderseite (oder zur Rückseite) austritt. Als Folge davon verbessert diese Konfiguration die Untersuchungsgenauigkeit einer doppelseitigen Untersuchung der Platine.
  • Zusätzlich ist dieser Aspekt ausgelegt, um einen Abbildungsprozess der Vorderseite (oder der Rückseite) der Platine durchzuführen und anschließend einen Abbildungsprozess der Rückseite (oder der Vorderseite) der Platine durchzuführen. Demzufolge ermöglicht die abwechselnde Wiederholung des Abbildungsprozesses der Vorderseite der Platine und des Abbildungsprozesses der Rückseite der Platine die gleichzeitige Ausführung des Bildermittlungsprozesses (mehrere Abbildungsprozesse) des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine und des Bildermittlungsprozesses (mehrere Abbildungsprozesse) eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine.
  • Diese Konfiguration erhöht die Untersuchungsgenauigkeit der doppelseitigen Untersuchung der Platine, im Vergleich mit einer Konfiguration, die zum Beispiel den Bildermittlungsprozess (mehrere Abbildungsprozesse) des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine nach Beenden des Bildermittlungsprozesses (mehrere Abbildungsprozesse) des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine durchführt.
  • Dadurch verbessert diese Konfiguration die Untersuchungsgenauigkeit der doppelseitigen Untersuchung der Platine und erhöht die Untersuchungsgeschwindigkeit.
  • Aspekt 2: In der in dem obigen Aspekte 1 beschriebenen Platinenuntersuchungsvorrichtung kann der bestimmte Prozess bewirken, dass die Rückseiten-Abbildungseinheit den Abbildungsprozess während einer Zeitspanne, in der die Vorderseiten-Abbildungseinheit den Abbildungsprozess nicht durchführen darf (zum Beispiel eine Zeitspanne, in der ein Abbilden funktional nicht möglich ist, wie etwa eine Datenübertragungszeitspanne durch die Vorderseiten-Abbildungseinheit), oder während einer Zeitspanne, in der die Vorderseiten-Abbildungseinheit den Abbildungsprozess nicht durchführt (zum Beispiel eine durch eine andere Ursache relativ bestimmte Zeitspanne wie etwa eine Übertragung eines Gitters durch das Vorderseiten-Bestrahlungsgerät oder eine Umschaltezeitspanne), durchführt. Der bestimmte Prozess kann auch bewirken, dass die Vorderseiten-Abbildungseinheit den Abbildungsprozess während einer Zeitspanne, in der die Rückseiten-Abbildungseinheit den Abbildungsprozess nicht durchführen darf (zum Beispiel eine Zeitspanne, in der ein Abbilden funktional nicht möglich ist, wie etwa eine Datenübertragungszeitspanne durch die Rückseiten-Abbildungseinheit), oder während einer Zeitspanne, in der die Rückseiten-Abbildungseinheit den Abbildungsprozess nicht durchführt (zum Beispiel eine durch eine andere Ursache relativ bestimmte Zeitspanne, wie etwa eine Übertragung eines Gitters durch die Rückseiten-Bestrahlungsgerät, oder eine Umschaltezeitspanne), durchführt.
  • Die oben beschriebenen Konfiguration des Aspekts 2 verwendet zum Beispiel die Zeitspanne, in der Abbildungsprozesse nicht durch eine der Abbildungseinheiten (zum Beispiel die Vorderseiten-Abbildungseinheit) durchgeführt werden darf, um die Abbildungsprozesse durch die weitere Abbildungseinheit (zum Beispiel, die Rückseiten-Abbildungseinheit) durchzuführen.
  • Zum Beispiel kann nach Beenden des Abbildungsprozesses durch eine der Abbildungseinheiten (zum Beispiel die Vorderseiten-Abbildungseinheit) der Abbildungsprozess durch die weitere Abbildungseinheit (zum Beispiel die Rückseiten-Abbildungseinheit) während einer Datenübertragung durch die eine Abbildungseinheit durchgeführt werden.
  • Diese Konfiguration ermöglicht die Durchführung des Bildermittlungsprozesses (mehrere Abbildungsprozesse) des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der anderen Seite (zum Beispiel der Rückseite) der Platine während einer minimalen Zeitspanne, die für den Bildermittlungsprozess (mehrere Abbildungsprozesse) durch eine der Abbildungseinheiten (zum Beispiel die Vorderseiten-Abbildungseinheit) des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf einer Seite (zum Beispiel die Vorderseite) der Platine notwendig ist. Dadurch erhöht diese Konfiguration die Untersuchungsgenauigkeit der doppelseitigen Untersuchung der Platine.
  • Aspekt 3: In der in dem obigen Aspekt 1 oder dem obigen Aspekt 2 beschriebenen Platinenuntersuchungsvorrichtung können das Vorderseiten-Bestrahlungsgerät und die Vorderseiten-Abbildungseinheit unabhängig von dem Rückseiten-Bestrahlungsgerät und der Rückseiten-Abbildungseinheit betrieben und gesteuert werden, und die Rückseiten-Bestrahlungsgerät und die Rückseiten-Abbildungseinheit können unabhängig von dem Vorderseiten-Bestrahlungsgerät und der Vorderseiten-Abbildungseinheit betrieben und gesteuert werden. Der Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine und der Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine können unabhängig voneinander durchgeführt werden. Der bestimmte Prozess kann durchgeführt werden, wenn sich der Bildermittlungsprozess (die Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses) des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine wenigstens den Bildermittlungsprozess (die Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses) des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine überlappt.
  • Die Konfiguration des obigen Aspekts 3 ermöglicht eine voneinander unabhängige Durchführung einer Untersuchung der Vorderseite der Platine und einer Untersuchung der Rückseite der Platine, wodurch die Effizienz der Untersuchung verbessert ist.
  • Jedoch kann sich in dieser Konfiguration die Untersuchungszeitspanne der Vorderseite der Platine mit der Untersuchungszeitspanne der Rückseite der Platine überlappen (d. h. die Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses der Vorderseite der Platine kann sich mit der Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses der Rückseite der Platine überlappen). In diesem Fall kann ein wie oben unter "Technisches Problem" beschriebenes Problem auftreten. Demzufolge sind die Funktionen und die vorteilhaften Effekte des obigen Aspekts 1 oder dergleichen in dieser Konfiguration vorteilhafter.
  • In der Konfiguration dieses Aspekts, in dem das Vorderseiten-Bestrahlungsgerät und die Vorderseiten-Abbildungseinheit unabhängig von dem Rückseiten-Bestrahlungsgerät und der Rückseiten-Abbildungseinheit betrieben und gesteuert werden und das Rückseiten-Bestrahlungsgerät und die Rückseiten-Abbildungseinheit unabhängig von dem Vorderseiten-Bestrahlungsgerät und der Vorderseiten-Abbildungseinheit betrieben und gesteuert werden, ist es wahrscheinlich, dass eine konsistente Durchführung des in dem obigen Aspekt 1 durchgeführten bestimmten Prozesses die Effizienz der Untersuchung verringert, um zum Beispiel eine Standby-Zeit in dem Verlauf der Einstellung der Untersuchungsbereiche auf der Vorderseite bzw. der Rückseite der Platine zu liefern.
  • Die Konfiguration dieses Aspekts führt andererseits den oben beschriebenen bestimmten Prozess nur aus, wenn sich der Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine wenigstens teilweise mit dem Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine überlappt. Diese Konfiguration verringert somit eine Verringerung der Effizienz der Untersuchung.
  • Aspekt 4: In der oben in einem der Aspekte 1 bis 3 beschriebenen Platinenuntersuchungsvorrichtung kann wenigstens entweder das Vorderseiten-Bestrahlungsgerät oder das Rückseiten-Bestrahlungsgerät so ausgelegt sein, dass es ein Lichtmuster mit einer streifenförmigen Lichtstärkeverteilung als das vorbestimmte Licht aussendet. Die Untersuchungseinheit kann so ausgelegt sein, dass sie eine dreidimensionale Messung mit Hilfe eines Phasenverschiebungsverfahrens auf der Grundlage mehrerer Bilddaten mit Lichtmustern unterschiedlicher Phasen durchführt.
  • Wenn mit Hilfe des Phasenverschiebungsverfahrens eine dreidimensionale Messung sowohl der Vorderseite als auch der Rückseite der Platine durchgeführt wird, wobei zum Beispiel ein mögliches Austreten von Licht von der gegenüberliegenden Seite wie oben in "Technisches Problem" beschrieben berücksichtigt wird, nimmt eine herkömmliche Konfiguration alle von mehreren (zum Beispiel vier) Bilddaten eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs mit Lichtmustern, deren Phasen verschieden sind, auf, während ein Gitter des Vorderseiten-Bestrahlungsgeräts sukzessive verschoben (oder umgeschaltet) wird, und nimmt anschließend mehrere (zum Beispiel vier) Bilddaten eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs mit Lichtmustern, deren Phasen verschieden sind, auf, während ein Gitter des der Rückseiten-Bestrahlungsgeräts sukzessive verschoben (oder umgeschaltet) wird.
  • Die Konfiguration des obigen Aspekts 4 ermöglicht hingegen eine Durchfüh rung mehrerer Abbildungsprozesse der anderen Seite (zum Beispiel der Rückseite) der Platine zum Zwecke einer dreidimensionalen Messung mit Hilfe des Phasenverschiebungsverfahrens zwischen mehreren Abbildungsprozessen einer Seite (zum Beispiel der Vorderseite) der Platine, die zum Zwecke einer dreidimensionalen Messung mit Hilfe des Phasenverschiebungsverfahrens durchgeführt werden.
  • Diese Konfiguration ermöglicht somit die Gewinn von allen (zum Beispiel vier) Bilddaten, die für die dreidimensionale Messung mit Hilfe des Phasenverschiebungsverfahrens des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der anderen Seite (zum Beispiel der Rückseite) der Platine notwendig sind, während sie alle Bilddaten (zum Beispiel vier) gewinnt, die für die dreidimensionale Messung mit Hilfe des Phasenverschiebungsverfahrens des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf einer Seite (zum Beispiel die Vorderseite) der Platine notwendig sind. Dadurch erhöht diese Konfiguration die Untersuchungsgenauigkeit der doppelseitigen Untersuchung der Platine.
  • Aspekt 5: In der in einem der Aspekte 1 bis 4 beschriebenen Platinenuntersuchungsvorrichtung kann die Platine entweder eine Leiterplatine, auf der Lötpaste aufgedruckt ist, oder ein Wafersubstrat, auf dem ein Lötbump gebildet ist, sein.
  • Die Konfiguration des obigen Aspekts 5 dient dazu, eine Untersuchung einer auf der Leiterplatine aufgedruckten Lötpaste oder eine Untersuchung einer auf einem Wafersubstrat gebildeten Lötbumps durchzuführen. Daher können die Funktionen und die vorteilhaften Effekte von jedem der obigen Aspekte bei einer Untersuchung von Lötpaste oder bei einer Untersuchung von Lötbumps bereitgestellt werden. Dies ermöglicht die Qualitätsbestimmung eines Lötpastendrucks oder einer Lötbumpbildung mit hoher Genauigkeit. Dadurch verbessert diese Konfiguration die Untersuchungsgenauigkeit und erhöht die Untersuchungsgeschwindigkeit bei der Untersuchung eines Lötpastendrucks oder bei der Untersuchung von Lötbumps.
  • Kurze Beschreibung von Zeichnungen
  • 1 ist ein schematisches Konfigurationsdiagramm, das schematisch eine Platinenuntersuchungsvorrichtung zeigt;
  • 2 ist eine teilweise vergrößerte Schnittansicht, die eine Leiterplatine zeigt;
  • 3 ist ein Blockdiagramm, das die elektrische Konfiguration der Platinenuntersuchungsvorrichtung zeigt;
  • 4 ist ein Ablaufdiagramm, das Verarbeitungsoperationen einer Einheit zur Untersuchung einer Oberseite und einer Einheit zur Untersuchung einer Unterseite in einem bestimmten Prozess zeigt;
  • 5 ist ein schematisches Konfigurationsdiagramm, das schematisch eine Platinenuntersuchungsvorrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform zeigt;
  • 6 ist eine teilweise vergrößerte Schnittansicht, die eine Beleuchtungsvorrichtung zur zweidimensionalen Untersuchung gemäß einer weiteren Ausführungsform zeigt;
  • 7 ist ein schematisches Konfigurationsdiagramm, das schematisch ein Beispiel einer Schutzabdeckung für eine Unterseitenuntersuchungskamera und deren Untersuchungsmechanismus;
  • 8 ist ein schematisches Konfigurationsdiagramm, das schematisch ein weiteres Beispiel der Schutzabdeckung für die Unterseitenuntersuchungskamera und deren Untersuchungsmechanismus zeigt;
  • 9 ist ein schematisches Konfigurationsdiagramm, das schematisch ein weiteres Beispiel der Schutzabdeckung für die Unterseitenuntersuchungskamera und deren Untersuchungsmechanismus zeigt; und
  • 10 ist ein schematisches Konfigurationsdiagramm, das schematisch ein weiteres Beispiel der Schutzabdeckung für die Unterseitenuntersuchungskamera und deren Untersuchungsmechanismus zeigt.
  • Beschreibung von Ausführungsformen
  • Nachfolgend ist eine Ausführungsform mit Bezug auf die Zeichnungen beschrieben. Zuerst ist eine Konfiguration einer Leiterplatine als ein Untersuchungsobjekt ausführlich beschrieben. Gemäß dieser Ausführungsform ist das Untersu chungsobjekt eine Doppelschichtplatine (zweiseitige Platine) mit elektronischen Komponenten, die sowohl auf ihrer Vorderseite als auch ihrer Rückseite montiert sind.
  • Wie es in 2 gezeigt ist, umfasst eine Leiterplatine P1 Elektrodenmuster P3, die aus einer Kupferfolie gebildet und sowohl auf der Vorderseite als auch auf der Rückseite eines Basissubstrats P2, das flach und zum Beispiel aus einem Glasepoxidharz gebildet ist, angeordnet sind. Zusätzlich ist Lötpaste P4, die ein Messobjekt ist, auf bestimmten Bereichen (zum Beispiel Lötaugen und Kontaktstellen) des Elektrodenmusters P3 aufgedruckt und gebildet ist. Ein Bereich, in dem die Lötpaste P4 gedruckt ist, ist als "Lötpastendruckbereich" bezeichnet. Ein verbleibender Teil, der nicht der Lötpastendruckbereich ist, wird allgemein "Hintergrundbereich" genannt. Dieser Hintergrundbereich umfasst eine Bereich, in dem das Elektrodenmuster P3 freiliegt (gezeigt durch ein Bezugszeichen Pa), einen Bereich, in dem das Basissubstrat P2 freiliegt (gezeigt durch ein Bezugszeichen Pb), einen Bereich, in dem das Basissubstrat P2 mit einem Resistfilm P5 (gezeigt durch ein Bezugszeichen Pc) beschichtet ist, und einen Bereich, in dem das Elektrodenmuster P3 mit dem Resistfilm P5 (gezeigt durch Bezugszeichen Pd) beschichtet ist. Sowohl die Vorderseite als auch die Rückseite der Leiterplatine P1 sind mit dem Resistfilm P5 beschichtet, um zu verhindern, dass die Lötpaste P4 außer an einem bestimmten Verdrahtungsbereich auch an einem verbleibenden Teil haftet.
  • Nachfolgend ist die Konfiguration einer Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 zum Untersuchen der Leiterplatine P1 ausführlich beschrieben. Die Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 gemäß dieser Ausführungsform wird als eine Lötpastendruck-Untersuchungsvorrichtung zum Untersuchen des Druckzustands der Lötpaste P4 vor dem Montieren von elektronischen Komponenten verwendet. 1 ist ein schematisches Konfigurationsdiagramm, das schematisch die Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 zeigt.
  • Wie es in 1 gezeigt ist, umfasst die Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 einen Transportmechanismus 2, der ausgelegt ist, um zum Beispiel die Leiterplati ne P1 zu transportieren und zu positionieren, eine Oberseitenuntersuchungseinheit 3 zum Untersuchen der Oberseite (oberen Oberfläche) der Leiterplatine P1, eine Unterseitenuntersuchungseinheit 4 zum Untersuchen einer Unterseite (unteren Oberfläche) der Leiterplatine P1 und eine Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 (gezeigt in 3) zum Durchführen verschiedener Steuerungen bzw. Regelungen, Bildverarbeitungen und arithmetischen Verarbeitungen in der Platinenuntersuchungsvorrichtung 1, zum Beispiel einer Antriebssteuerung des Transportmechanismus 2 und beider Untersuchungseinheiten 3 und 4. Gemäß dieser Ausführungsform dient die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 als die Untersuchungseinheit.
  • Der Transportmechanismus 2 umfasst ein Paar von Transportschienen 2a, die in einer Transportrichtung der Leiterplatine P1 angeordnet sind, Endlostransportbänder 2b, die relativ zu den jeweiligen Transportschienen 2a drehbar angeordnet sind, Antriebsmittel (nicht gezeigt) wie etwa Motoren zum Antrieb der jeweiligen Transportbänder 2b, und ein Einspannmechanismus (nicht gezeigt) zum Festlegen der Leiterplatine P1 an einer vorbestimmten Position. Der Transportmechanismus 2 wird durch die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 angetrieben und gesteuert.
  • Die obige Konfiguration bewirkt, dass die Leiterplatine P1, die in der Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 gehalten und transportiert wird, auf den Transportbändern 2b angeordnet wird, während jeweilige Seitenränder in einer Breitenrichtung der Leiterplatine P1, die senkrecht zu der Transportrichtung ist, in die jeweiligen Transportschienen 2a eingeführt werden. Die Transportbänder 2b werden anschließend gestartet, um die Leiterplatine P1 zu einer vorbestimmten Untersuchungsposition zu transportieren. Wenn die Leiterplatine P1 die Untersuchungsposition erreicht, werden die Transportbänder 2b gestoppt, und der Einspannmechanismus wird betätigt. Die Transportbänder 2b werden durch die Betätigung dieses Einspannmechanismus nach oben gedrückt, so dass die jeweiligen Seitenränder der Leiterplatine P1 zwischen den Transportbänder 2b und oberen Abschnitten der Transportschienen 2a angeordnet werden. Dies bewirkt, dass die Leiterplatine P1 an der Untersuchungsposition positioniert und befestigt sind. Nach Beenden der Untersuchung wird die Befestigung durch den Einspannmechanismus gelöst, und die Transportbänder 2b setzen sich in Bewegung. Dies bewirkt, dass die Leiterplatine P1 aus der Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 transportiert wird. Die Konfiguration des Transportmechanismus 2 ist natürlich nicht auf die Konfiguration dieser oben beschriebenen Ausführungsform begrenzt, sondern es kann jede andere Konfiguration für den Transportmechanismus 2 verwendet werden.
  • Die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 ist über den Transportschienen 2a (d. h. dem Transportweg der Leiterplatine P1) angeordnet. Die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 ist unter den Transportschienen 2a (d. h. dem Transportweg der Leiterplatine P1) angeordnet.
  • Die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 umfasst eine erste Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A und eine zweite Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B, die als das Vorderseiten-Bestrahlungsgerät vorgesehen und ausgelegt sind, um einen vorbestimmten Untersuchungsbereich auf der Oberseite der Leiterplatine P1 mit einem vorbestimmten Streifenmuster zur dreidimensionalen Messung, das schräg nach unten ausgesendet wird (Lichtmuster mit einer streifenförmigen Lichtstärkeverteilung) zu bestrahlen, eine Oberseitenuntersuchungskamera 3C, die als die Vorderseiten-Abbildungseinheit zum Aufnehmen eines Bildes des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 von unmittelbar über dem vorbestimmten Untersuchungsbereich angeordnet ist, einen X-Achsen-Bewegungsmechanismus 3D (gezeigt in 3), der eine Bewegung in einer X-Achsenrichtung ermöglicht, und einen Y-Achsen-Bewegungsmechanismus 3E (gezeigt in 3), der eine Bewegung in einer Y-Achsenrichtung ermöglicht. Die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 wird durch die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 angetrieben und gesteuert. Der "Untersuchungsbereich" bezeichnet hier einen Bereich von mehreren Bereichen, die im Voraus auf der Oberseite (Vorderseite) der Leiterplatine P1 auf der Grundlage der Größe eines Sichtfelds (Abbildungsbereichs) der als eine Einheit spezifizierten Oberseitenuntersuchungskamera 3C eingestellt werden.
  • Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 treibt an und steuert den X-Achsen-Bewegungsmechanismus 3D und den Y-Achsen-Bewegungsmechanismus 3E, um so die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 zu einer Position über einem beliebigen Untersuchungsbereich auf der Oberseite der Leiterplatine P1, die an der Untersuchungsposition positioniert und festgelegt ist, zu bewegen. Die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 wird nacheinander zu jedem von mehreren Untersuchungsbereichen bewegt, die sich auf der Oberseite der Leiterplatine P1 befinden, und führt eine Untersuchung jedes Untersuchungsbereichs durch. Diese Konfiguration führt somit eine Untersuchung der gesamten Oberseite der Leiterplatine P1 durch.
  • Die erste Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A umfasst eine Lichtquelle 3Aa zum Aussenden eines vorbestimmten Lichts und eine Gitterplatte 3Ab zum Umwandeln des von der Lichtquelle 3Aa ausgesendeten Lichts in ein Streifenmuster. Die erste Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A wird durch die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 angetrieben und gesteuert. Das von der Lichtquelle 3Aa ausgesendete Licht wird in eine Kondensorlinse (nicht gezeigt) eingekoppelt, um in paralleles Licht umgewandelt zu werden, und wird anschließend über die Gitterplatte 3Ab zu einer Projektionslinse (nicht gezeigt) geleitet, um als ein Streifenmuster auf die Leiterplatine P1 projiziert zu werden.
  • Die Gitterplatte 3Ab ist so aufgebaut, dass lineare, durchscheinende Abschnitte, durch die Licht hindurchtreten kann, und lineare Lichtabschirmungsabschnitte, die Licht blockieren, in einer vorbestimmten Richtung senkrecht zu der optischen Achse der Lichtquelle 3Aa abwechselnd angeordnet sind. Diese Konfiguration ermöglicht eine Projektion eines Streifenmusters mit einer Lichtstärkeverteilung in Form einer Rechteckwelle oder einer trapezförmigen Welle auf die Leiterplatine P1. Gemäß dieser Ausführungsform ist die Richtung von Streifen des projizierten Streifenmuster parallel zu der X-Achsenrichtung und senkrecht zu der Y-Achsenrichtung.
  • Das Streifenmuster muss nicht exakt die Form einer Rechteckwelle haben, da das Licht, das durch die Gitterplatte 3Ab hindurchtritt, allgemein nicht exakt paralleles Licht ist und es wahrscheinlich ist, dass aufgrund von Beugungseffekten oder dergleichen an der Grenze zwischen dem Lichtdurchscheinungsabschnitt und Lichtabschirmungsabschnitt ein Halbtonbereich an einer Grenze zwischen einem "hellen Bereich" und einem "dunklen Bereich" des Streifenmusters existiert.
  • Ein steiler Helligkeitsabfall des Halbtonbereichs an der Grenze zwischen dem "hellen Bereich" und dem "dunklen Bereich" liefert ein Streifenmuster mit einer rechteckwellenförmigen Lichtstärkeverteilung. Hingegen liefert ein sanfter Helligkeitsabfall des Halbtonbereichs ein Streifenmuster mit einer trapezförmigen Lichtstärkeverteilung. Dies kann jedoch von der Konfiguration der Gitterplatte 3Ab abhängen, zum Beispiel von den Intervallen der Anordnung der Lichtdurchscheinungsabschnitte und der Lichtabschirmungsabschnitte.
  • Zusätzlich umfasst die erste Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ein Antriebsmittel (nicht gezeigt) wie etwa einen Motor zum Bewegen der Gitterplatte 3Ab. Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 treibt an und steuert dieses Antriebsmittel, um so die Gitterplatte 3Ab mit konstanter Geschwindigkeit in der vorbestimmten Richtung senkrecht zu der optischen Achse der Lichtquelle 3Aa kontinuierlich zu bewegen. Dies ermöglicht eine Projektion des Streifenmusters auf die Leiterplatine P1 derart, dass dieses in der Y-Achsenrichtung bewegt wird.
  • Die zweite Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B umfasst eine Lichtquelle 3Ba zum Aussenden eines vorbestimmten Lichts und eine Gitterplatte 3Bb zum Umwandeln des von der Lichtquelle 3Ba ausgesendeten Lichts in ein Streifenmuster. Die zweite Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B wird angetrieben und gesteuert durch die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6. Die Konfiguration der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B (zum Beispiel, die Konfiguration der Lichtquelle 3Ba und der Gitterplatte 3Bb) ist gleich der der oben beschriebenen Konfiguration der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, so dass auf eine ausführliche Beschreibung davon an dieser Stelle verzichtet ist.
  • Die Oberseitenuntersuchungskamera 3C umfasst zum Beispiel eine Linse und ein Abbildungselement. Gemäß dieser Ausführungsform wird ein CCD-Sensor als das Abbildungselement verwendet.
  • Die Oberseitenuntersuchungskamera 3C wird angetrieben und gesteuert durch die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6. Insbesondere führt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 als Antwort auf ein Signal von einem Kodierer (nicht gezeigt), der in dem Antriebsmittel der Gitterplatte 3Ab oder 3Bb angeordnet ist, unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C einen Abbildungsprozess synchron mit dem Bewegungsprozess der Gitterplatte 3Ab oder 3Bb durch.
  • Durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C gewonnene Bilddaten werden in der Oberseitenuntersuchungskamera 3C in ein digitales Signal umgewandelt, als digitales Signal zu der Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 übertragen und in einer weiter unten beschriebenen Bilddaten-Speichereinheit 24 gespeichert. Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 führt zum Beispiel eine Bildverarbeitung und eine weiter unten beschriebene arithmetische Verarbeitung auf der Grundlage der Bilddaten durch.
  • Ebenso wie die oben beschriebene Oberseitenuntersuchungseinheit 3 umfasst die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 eine erste Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A und eine zweite Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B, die als das Rückseiten-Bestrahlungsgerät zum Bestrahlen eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 mit einem vorbestimmten Streifenmuster zur dreidimensionalen Messung schräg nach oben (Lichtmuster mit einer streifenförmigen Lichtstärkeverteilung) ausgelegt sind, eine Unterseitenuntersuchungskamera 4C, die als die Rückseiten-Abbildungseinheit vorgesehen ist, die zum Aufnehmen eines Bildes des vor bestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 von unmittelbar unter dem vorbestimmten Untersuchungsbereich ausgelegt ist, einen X-Achsen-Bewegungsmechanismus 4D (gezeigt in 3), der eine Bewegung in der X-Achsenrichtung ermöglicht, und einen Y-Achsen-Bewegungsmechanismus 4E (gezeigt in 3), der eine Bewegung in der Y-Achsenrichtung ermöglicht. Die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 wird angetrieben und gesteuert durch die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6. Der "Untersuchungsbereich" bezeichnet hier einen Bereich von mehreren Bereichen, die im Voraus auf der Unterseite (untere Oberfläche) der Leiterplatine P1 auf der Grundlage der Größe eines Sichtfelds (Abbildungsbereichs) der als eine Einheit spezifizierten Unterseitenuntersuchungskamera 4C festgelegt ist.
  • Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 treibt an und steuert den X-Achsen-Bewegungsmechanismus 4D und den Y-Achsen-Bewegungsmechanismus 4E, um so die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 zu einer Position unter einem beliebigen Untersuchungsbereich auf der Unterseite der Leiterplatine P1 zu bewegen, der sich an der Untersuchungsposition befindet und dort festgelegt ist. Die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 wird nacheinander zu jedem von mehreren auf der Unterseite der Leiterplatine P1 eingestellten Untersuchungsbereichen bewegt und führt eine Untersuchung jedes Untersuchungsbereichs durch. Diese Konfiguration führt somit eine Untersuchung der gesamten Unterseite der Leiterplatine P1 durch.
  • Die erste Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A umfasst eine Lichtquelle 4Aa zum Aussenden eines vorbestimmten Lichts und eine Gitterplatte 4Ab zum Umwandeln des von der Lichtquelle 4Aa ausgesendeten Lichts in ein Streifenmuster. Die erste Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A wird angetrieben und gesteuert durch die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6. Die Konfiguration der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A (zum Beispiel die Konfiguration der Lichtquelle 4Aa und der Gitterplatte 4Ab) entspricht der oben beschriebenen Konfiguration der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, so dass auf eine ausführliche Beschreibung von ihr an dieser Stelle verzichtet ist.
  • Die zweite Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B umfasst eine Lichtquelle 4Ba zum Aussenden eines vorbestimmten Lichts und eine Gitterplatte 4Bb zum Umwandeln des von der Lichtquelle 4Ba ausgesendeten Lichts in ein Streifenmuster. Die zweite Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B wird angetrieben und gesteuert durch die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6. Die Konfiguration der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B (zum Beispiel die Konfiguration der Lichtquelle 4Ba und der Gitterplatte 4Bb) entspricht der Konfiguration der oben beschriebenen ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, so dass auf eine ausführliche Beschreibung von ihr an dieser Stelle verzichtet ist.
  • Die Unterseitenuntersuchungskamera 4C umfasst zum Beispiel eine Linse und ein Abbildungselement. Gemäß dieser Ausführungsform wird ein CCD-Sensor als das Abbildungselement verwendet. Die Konfiguration der Unterseitenuntersuchungskamera 4C entspricht der Konfiguration der oben beschriebenen Oberseitenuntersuchungskamera 3C, so dass auf eine ausführliche Beschreibung von ihr an dieser Stelle verzichtet ist.
  • Nachfolgend ist die elektrische Konfiguration der Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 mit Bezug auf 3 beschrieben. Wie es in 3 gezeigt ist, umfasst die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 eine CPU und Eingabe/Ausgabe-Schnittstelle 21 zum Steuern bzw. Regeln der gesamten Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 (nachfolgend als "CPU und dergleichen 21" bezeichnet), eine Eingabeeinheit 22, die zum Beispiel durch eine Tastatur, eine Maus und ein Bildschirm-Tastfeld gebildet ist und als "Eingabemittel" dient, eine Anzeigeeinheit 23, die einen Anzeigebildschirm wie etwa eine Kathodenstrahlröhre oder einen Flüssigkristallbildschirm umfasst und als "Anzeigemittel" dient, eine Bilddaten-Speichereinheit 24 zum Speichern von durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C und die Unterseitenuntersuchungskamera 4C aufgenommenen Bilddaten und dergleichen, eine Operationsergebnis-Speichereinheit 25 zum Speichern der Ergebnisse verschiedener arithmetischer Operationen und eine Einstelldaten- Speichereinheit 26 zum vorherigen Speichern von verschiedenen Informationen wie etwa Gerberdaten. Die jeweiligen Einheiten 22 bis 26 sind elektrisch mit der CPU und dergleichen 21 verbunden.
  • Im Folgenden ist eine durch die Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 durchgeführte Untersuchungsroutine bezüglich jedes Untersuchungsbereichs auf der Oberseite und auf der Unterseite der Leiterplatine P1 beschrieben. Diese Untersuchungsroutine wird durch die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 (durch die CPU und dergleichen 21) durchgeführt.
  • Gemäß dieser Ausführungsform wird ein Bildermittlungsprozess zur Untersuchung jedes der Untersuchungsbereiche auf der Oberseite der Leiterplatine P1 durchgeführt. Der Bildermittlungsprozess ändert die Phase eines Streifenmusters, das von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendet wird, und führt vier Abbildungsprozesse dieser Streifenmuster unterschiedlicher Phasen durch. Der Bildermittlungsprozess ändert anschließend die Phase eines Streifenmusters, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wird, und führt vier Abbildungsprozesse dieses Streifenmusters unterschiedlicher Phasen durch. Der Bildermittlungsprozess gewinnt somit insgesamt acht unterschiedliche Bilddaten (wie es in dem oberen Teil von 4 gezeigt ist).
  • Entsprechend wird ein Bildermittlungsprozess zur Untersuchung jedes der Untersuchungsbereiche auf der Unterseite der Leiterplatine P1 durchgeführt. Der Bildermittlungsprozess ändert die Phase eines Streifenmusters, das von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A ausgesendet wird, und führt vier Abbildungsprozesse dieses Streifenmusters unterschiedlicher Phasen durch. Der Bildermittlungsprozess ändert anschließend die Phase eines Streifenmusters, das von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B ausgesendet wird und führt vier Abbildungsprozesse dieses Streifenmusters unterschiedlicher Phasen durch. Der Bildermittlungsprozess gewinnt somit insgesamt acht unterschiedliche Bilddaten (wie es in dem unteren Teil von 4 gezeigt ist).
  • 4 ist ein Ablaufdiagramm, das die Verarbeitungsoperationen der Oberseitenuntersuchungseinheit 3 und die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 in einem bestimmten Prozess zeigt, der ausgeführt wird, wenn sich die Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 wenigstens teilweise mit der Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 überlappt, wie es weiter unten beschrieben ist.
  • Nachfolgend ist als Beispiel für die Untersuchung alle Untersuchungsbereiche die Untersuchungsroutine für die Oberseite der Leiterplatine P1 beschrieben.
  • Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 treibt an und steuert zuerst den X-Achsen-Bewegungsmechanismus 3D und den Y-Achsen-Bewegungsmechanismus 3E, um so die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 zu bewegen und das Sichtfeld (den Abbildungsbereich) der Oberseitenuntersuchungskamera 3C auf einen vorbestimmten Untersuchungsbereich auf der Oberseite der Leiterplatine P1 einzustellen.
  • Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 treibt an und steuert anschließend die erste Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, um die Position der Gitterplatte 3Ab auf eine Voreinstellungsposition (eine Position, bei der die Phase des auf eine vorbestimmte Stelle projizierten Streifenmusters gleich "0 Grad" ist) einzustellen. Gleichzeitig treibt an und steuert die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die zweite Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B, um die Position der Gitterplatte 3Bb auf eine Voreinstellungsposition (eine Position, bei der die Phase des auf die vorbestimmte Stelle projizierten Streifenmusters "0 Grad" beträgt) einzustellen.
  • Nach Beenden einer solchen Einstellung treibt an und steuert die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die erste Oberseitenuntersuchungs- Beleuchtungsvorrichtung 3A und die Oberseitenuntersuchungskamera 3C, um einen ersten Abbildungsprozess (Belichtungsprozess) mit einem Streifenmuster, das von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendet wird, zu starten.
  • Insbesondere triggert die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Aa der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A so, dass eine Aussendung eines Streifenmusters gestartet wird, und startet ferner den Bewegungsprozess der Gitterplatte 3Ab. Dies bewirkt, dass das auf den Untersuchungsbereich projizierte Streifenmuster kontinuierlich mit konstanter Geschwindigkeit in der Y-Achsenrichtung verschoben wird.
  • Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 startet dann einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C gleichzeitig mit dem Starten der Aussendung des Streifenmusters (und dem Starten der Bewegung der Gitterplatte 3Ab).
  • Nach dem Start dieses ersten Abbildungsprozesses wird die Belichtung fortgesetzt, während die Phase des auf die vorbestimmte Stelle projizierten Streifenmusters von 0 Grad auf 45 Grad geändert wird.
  • Wenn der erste Abbildungsprozess beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung von Licht von der Lichtquelle 3Aa und liest die durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C aufgenommenen Bilddaten aus. Die Bilddaten werden dann von der Oberseitenuntersuchungskamera 3C zu der Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 übertragen. Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 speichert die ausgelesenen Bilddaten in der Bilddaten-Speichereinheit 24.
  • Der Bewegungsprozess der Gitterplatte 3Ab wird hingegen selbst nach Beenden des ersten Abbildungsprozesses nicht beendet, sondern ohne Unterbrechung fortgesetzt, bis ein vierter Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendet wird, beendet ist.
  • Bilddaten mit einer sinuswellenförmigen Lichtstärkeverteilung werden durch kontinuierliches Verschieben des Streifenmusters, das auf die Leiterplatine P1 projiziert wird und die rechteckwellenförmige oder trapezwellenförmige Lichtstärkeverteilung hat, und kontinuierliches Abbilden (Belichten) des Streifenmusters (wie es in der JP 2015-231661A beschrieben ist) gewonnen.
  • Nach Verstreichen einer vorbestimmten Zeitspanne seit Beenden des ersten Abbildungsprozesses, zu dem Zeitpunkt, zu dem die Phase des Streifenmusters, das auf die vorbestimmte Stelle projiziert werden soll, 90 Grad wird, triggert die Steuereinheit 6 erneut die Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Aa der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, um so die Aussendung des Streifenmusters zu starten, und startet ferner einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C. Dies startet einen zweiten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendet wird.
  • Nach dem Start dieses zweiten Abbildungsprozesses wird die Belichtung fortgesetzt, während die Phase des auf die vorbestimmte Stelle projizierten Streifenmusters von 90 Grad auf 135 Grad geändert wird.
  • Wenn der zweite Abbildungsprozess beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung von Licht von der Lichtquelle 3Aa, liest die durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C aufgenommen Bilddaten aus und speichert die ausgelesenen Bilddaten in der Bilddaten-Speichereinheit 24.
  • Nach Verstreichen einer vorbestimmten Zeitspanne seit Beenden des zweiten Abbildungsprozesses, zu dem Zeitpunkt, zu dem die Phase des Streifenmusters, das auf die vorbestimmte Stelle projiziert werden soll, 180 Grad wird, triggert die Steuereinheit 6 erneut die Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Aa der ersten Obersei tenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, um so eine Aussendung des Streifenmusters zu starten, und startet ferner einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C. Dies startet einen dritten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendet wird.
  • Nach dem Start dieses dritten Abbildungsprozesses wird die Belichtung fortgesetzt, während die Phase des auf die vorbestimmte Stelle projizierten Streifenmusters von 180 Grad auf 225 Grad geändert wird.
  • Wenn der dritte Abbildungsprozess beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung von Licht von der Lichtquelle 3Aa, liest die durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C aufgenommenen Bilddaten aus und speichert die ausgelesenen Bilddaten in der Bilddaten-Speichereinheit 24.
  • Nach Verstreichen einer vorbestimmten Zeitspanne seit Beenden des dritten Abbildungsprozesses, zu dem Zeitpunkt, zu dem die Phase des Streifenmusters, das auf die vorbestimmte Stelle projiziert werden soll, 270 Grad wird, triggert die Steuereinheit 6 erneut eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Aa der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, um so eine Aussendung des Streifenmusters zu starten, und startet ferner einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C. Dies startet einen vierten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendet wird.
  • Nach dem Start dieses vierten Abbildungsprozesses wird die Belichtung fortgesetzt, während die Phase des auf die vorbestimmte Stelle projizierten Streifenmusters von 270 Grad auf 315 Grad geändert wird.
  • Wenn der vierte Abbildungsprozess beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung von Licht von der Lichtquelle 3Aa, liest die durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C aufgenommenen Bilddaten aus und speichert die ausgelesenen Bilddaten in der Bilddaten-Speichereinheit 24. Zusätzlich beendet die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 den Bewegungsprozess der Gitterplatte 3Ab.
  • Nach Verstreichen einer vorbestimmten Zeitspanne seit Beenden des vierten Abbildungsprozesses (zum Beispiel nach Beenden einer Datenübertragungszeitspanne), treibt an und steuert die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die zweite Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B und die Oberseitenuntersuchungskamera 3C, um einen fünften Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs (d. h. einen ersten Abbildungsprozess mit einem Streifenmuster, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wird) zu starten.
  • Insbesondere triggert die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Ba der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B, um eine Aussendung eines Streifenmusters zu starten, und startet ferner den Bewegungsprozess der Gitterplatte 3Bb. Dies bewirkt, dass das Streifenmuster, das auf den Untersuchungsbereich projiziert wird, kontinuierlich mit konstanter Geschwindigkeit in der Y-Achsenrichtung verschoben wird.
  • Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 startet dann einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C, gleichzeitig mit dem Starten der Aussendung des Streifenmusters (und dem Starten der Bewegung der Gitterplatte 3Bb).
  • Nach dem Start dieser fünften Abbildungsprozess wird die Belichtung fortgesetzt, während die Phase des auf die vorbestimmte Stelle projizierten Streifenmusters von 0 Grad auf 45 Grad geändert wird.
  • Wenn der fünfte Abbildungsprozess beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung von Licht von der Lichtquelle 3Ba und liest die durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C aufgenommenen Bilddaten aus.
  • Die Bilddaten werden dann von der Oberseitenuntersuchungskamera 3C zu der Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 übertragen. Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 speichert die ausgelesenen Bilddaten in der Bilddaten-Speichereinheit 24.
  • Der Bewegungsprozess der Gitterplatte 3Bb wird hingegen selbst nach Beenden des fünften Abbildungsprozesses (d. h. des ersten Abbildungsprozesses mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wird) nicht beendet, sondern ohne Unterbrechung fortgesetzt, bis ein achter Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs (d. h. ein vierter Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wird) beendet ist.
  • Nach Verstreichen einer vorbestimmten Zeitspanne seit Beenden des fünften Abbildungsprozesses, zu dem Zeitpunkt, zu dem die Phase des Streifenmusters, das auf die vorbestimmte Stelle projiziert werden soll, 90 Grad wird, triggert die Steuereinheit 6 erneut die Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Ba der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B, um so eine Aussendung des Streifenmusters zu starten, und startet ferner einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C. Dadurch wird ein sechster Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs (d. h. ein zweiter Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wird) gestartet.
  • Nach dem Start dieses sechsten Abbildungsprozesses wird die Belichtung fortgesetzt, während die Phase des auf die vorbestimmte Stelle projizierten Streifenmusters von 90 Grad auf 135 Grad geändert wird.
  • Wenn der sechste Abbildungsprozess beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung von Licht von der Lichtquelle 3Ba, liest die durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C aufgenommenen Bilddaten aus und speichert die ausgelesenen Bilddaten in der Bilddaten-Speichereinheit 24.
  • Nach Verstreichen einer vorbestimmten Zeitspanne seit Beenden des sechsten Abbildungsprozesses, zu dem Zeitpunkt, zu dem die Phase des Streifenmusters, das auf die vorbestimmte Stelle projiziert werden soll, gleich 180 Grad wird, triggert die Steuereinheit 6 erneut die Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Ba der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B, um so eine Aussendung des Streifenmusters zu starten, und startet ferner einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C. Dadurch wird ein siebter Abbildungsprozess des vorbestimmten Abbildungsbereichs (d. h. ein dritter Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wird) gestartet.
  • Nach dem Start dieses siebten Abbildungsprozesses wird die Belichtung fortgesetzt, während die Phase des auf die vorbestimmte Stelle projizierten Streifenmusters von 180 Grad auf 225 Grad geändert wird.
  • Wenn der siebte Abbildungsprozess beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung von Licht von der Lichtquelle 3Ba, liest die durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C aufgenommenen Bilddaten aus und speichert die ausgelesenen Bilddaten in der Bilddaten-Speichereinheit 24.
  • Nach Verstreichen einer vorbestimmten Zeitspanne seit Beenden des siebten Abbildungsprozesses, zu dem Zeitpunkt, zu dem die Phase des Streifenmusters, das auf die vorbestimmte Stelle projiziert werden soll, 270 Grad wird, triggert die Steuereinheit 6 erneut die Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Ba der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B, um so eine Aussendung des Streifenmusters zu starten, und startet ferner einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C. Dadurch wird ein achter Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs (d. h. ein vierter Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wird) gestartet.
  • Nach dem Start dieses achten Abbildungsprozesses wird die Belichtung fortgesetzt, während die Phase des auf die vorbestimmte Stelle projizierten Streifenmusters von 270 Grad auf 315 Grad geändert wird.
  • Wenn der achte Abbildungsprozess beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung von Licht von der Lichtquelle 3Ba, liest die durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C gewonnenen Bilddaten aus und speichert die ausgelesenen Bilddaten in der Bilddaten-Speichereinheit 24. Zusätzlich beendet die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 den Bewegungsprozess der Gitterplatte 3Bb und beendet dann den Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs.
  • Die Durchführung des oben beschriebenen Bildermittlungsprozesses (acht Abbildungsprozesse) führt zur Gewinnung von insgesamt acht unterschiedlichen Bilddaten mit vier unterschiedlichen, mit dem Streifenmuster, das von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendet wurde, aufgenommenen Bilddaten und vier unterschiedlichen, mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wurde, aufgenommenen Bilddaten.
  • Wie es oben beschrieben ist, sind gemäß dieser Ausführungsform die vier unterschiedlichen, mit den jeweiligen Streifenmustern gewonnenen Bilddaten äquivalent zu den vier unterschiedlichen, durch sukzessives Verschieben der Phase eines Streifenmusters mit sinuswellenförmiger Lichtstärkeverteilung um jeweils 90 Grad aufgenommenen Bilddaten.
  • Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 führt anschließend eine dreidimensionale Messung (Höhenmessung) mit Hilfe eines bekannten Phasenverschiebungsverfahren auf der Grundlage der vier unterschiedlichen, mit den jeweiligen Streifenmustern gewonnenen Bilddaten (Helligkeitswerte jeweiliger Pixel) durch und speichert das Ergebnis dieser Messung in der Operationsergebnis- Speichereinheit 25. Gemäß dieser Ausführungsform wird die dreidimensionale Messung mit der Aussendung des Streifenmusters von zwei unterschiedlichen Richtungen durchgeführt. Dies verhindert schattige Bereiche, auf die kein Streifenmuster fällt.
  • Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 führt anschließend einen Qualitätbestimmungsprozess der Lötpaste P4 auf der Grundlage des Ergebnisses der dreidimensionale Messung (Höhendaten bei jeder Koordinate). Insbesondere erfasst die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 einen Druckbereich der Lötpaste P4, der höher als eine Referenzebene ist, auf der Grundlage des wie oben beschrieben gewonnenen Ergebnisses der Messung des vorbestimmten Untersuchungsbereichs und integriert die Höhen an den jeweiligen Stellen in diesem Druckbereich, um so die Druckmenge der Lötpaste P4 zu berechnen.
  • Die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 vergleicht dann die wie oben beschrieben gewonnenen Daten der Lötpaste P4, zum Beispiel die Stelle, der Bereich und die Höhe oder die Menge der Lötpaste P4, mit Referenzdaten (zum Beispiel Gerberdaten), die im Voraus in der Einstelldaten-Speichereinheit 26 gespeichert wurden, und bestimmt, ob der Druckzustand der Lötpaste P4 in dem vorbestimmten Untersuchungsbereich gut ist oder nicht, auf der Grundlage davon, ob das Ergebnis des Vergleichs innerhalb eines erlaubten Bereichs liegt.
  • Nach Beenden des oben beschriebenen achten Abbildungsprozesses bewegt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 zu einem nächsten Untersuchungsbereich, während sie den oben beschriebenen Qualitätbestimmungsprozess durchführt. Ein Wiederholen der oben beschriebenen Bearbeitungen bei allen Untersuchungsbereichen auf der Oberseite der Leiterplatine P1 hat eine Untersuchung der gesamten Oberseite der Leiterplatine P1 zum Ergebnis. Der Ablauf der Untersuchung auf der Unterseite der Leiterplatine P1 entspricht dem Ablauf der Untersuchung auf der Oberseite, so dass hier auf eine ausführliche Beschreibung verzichtet ist.
  • Nachfolgend ist ein bestimmter Prozess (Verarbeitungsoperationen der Oberseitenuntersuchungseinheit 3 und der Unterseitenuntersuchungseinheit 4) beschrieben, der mit der obigen Konfiguration durchgeführt wird, wenn sich die Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 wenigstens teilweise mit der Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 überlappt.
  • Es wird auf der Grundlage zum Beispiel der Gerberdaten der Leiterplatine P1 bestimmt, ob sich die Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 wenigstens teilweise mit der Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 überlappt, bevor zum Beispiel eine Untersuchung zu dem Zeitpunkt gestartet wird, zu dem die Leiterplatine P1 in die Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 transportiert wird.
  • Gemäß der Ausführungsform führt der oben beschriebenen bestimmte Prozess abwechselnd einen Abbildungsprozess der Oberseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C und einen Abbildungsprozess der Unterseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C durch. Dieser bestimmte Prozess ist weiter unten ausführlich mit Bezug auf 4 beschrieben.
  • Wie es in 4 gezeigt ist, startet die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 eine Aussendung eines Streifenmusters von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A in dem Zustand, in dem eine Aussendung eines Streifenmusters von der Unterseitenuntersuchungseinheit 4 (von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A und der zweite Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B) gestoppt ist, und startet einen ersten Abbildungsprozess eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C (d. h. einen ersten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Oberseite (entsprechend der Phase von 0 Grad bis 45 Grad) stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, startet eine Aussendung eines Streifenmusters von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A und startet einen ersten Abbildungsprozess eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C (d. h. einen ersten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Unterseite (entsprechend der Phase von 0 Grad bis 45 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem eine vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 3Ab auf der Oberseite (entsprechend der Phase von 45 Grad bis 90 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Aa, um so das Streifenmuster von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A auszusenden, und startet einen zweiten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C (d. h. einen zweiten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Oberseite (entsprechend der Phase von 90 Grad bis 135 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem die vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 4Ab auf der Unterseite (entsprechend der Phase von 45 Grad bis 90 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 4Aa, um das Streifenmuster von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A auszusenden, und startet einen zweiten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C (d. h. einen zweiten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das ist der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Unterseite (entsprechend der Phase von 90 Grad bis 135 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem die vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 3Ab auf der Oberseite (entsprechend der Phase von 135 Grad bis 180 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Aa, um das Streifenmuster von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A auszusenden, und startet einen dritten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C (d. h. einen dritten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Oberseite (entsprechend der Phase von 180 Grad bis 225 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem die vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 4Ab auf der Unterseite (entsprechend der Phase von 135 Grad bis 180 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 4Aa, um so das Streifenmuster von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A auszusenden, und startet einen dritten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C (d. h. einen dritten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Unterseite (entsprechend der Phase von 180 Grad bis 225 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem die vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 3Ab auf der Oberseite (entsprechend der Phase von 225 Grad bis 270 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Aa, um so das Streifenmuster von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A auszusenden, und startet einen vierten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C (d. h. einen vierten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Oberseite (entsprechend der Phase von 270 Grad bis 315 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem die vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 4Ab auf der Unterseite (entsprechend der Phase von 225 Grad bis 270 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 4Aa, um so das Streifenmuster von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A auszusenden, und startet einen vierten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C (d. h. einen vierten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Unterseite (entsprechend der Phase von 270 Grad bis 315 Grad) stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Ba, um ein Streifenmuster von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B auszusenden, und startet einen fünften Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C (d. h. einen ersten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Oberseite (entsprechend der Phase von 0 Grad bis 45 Grad) stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 4Ba, um so ein Streifenmuster von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B auszusenden, und startet einen fünften Abbildungsprozess unter des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C (d. h. einen ersten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Unterseite (entsprechend der Phase von 0 Grad bis 45 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem eine vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 3Bb auf der Oberseite (entsprechend der Phase von 45 Grad bis 90 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Ba, um so das Streifenmuster von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B auszusenden, und startet einen sechsten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C (d. h. einen zweiten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Oberseite (entsprechend der Phase von 90 Grad bis 135 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem eine vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 4Bb auf der Unterseite (entsprechend der Phase von 45 Grad bis 90 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 4Ba, um so das Streifenmuster von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B auszusenden, und startet einen sechsten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C (d. h. einen zweiten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Unterseite (entsprechend der Phase von 90 Grad bis 135 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem die vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 3Bb auf der Oberseite (entsprechend der Phase von 135 Grad bis 180 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Ba, um so das Streifenmuster von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B auszusenden, und startet einen siebten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C (d. h. einen dritten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Oberseite (entsprechend der Phase von 180 Grad bis 225 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem die vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 4Bb auf der Unterseite (entsprechend der Phase von 135 Grad bis 180 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 4Ba, um so das Streifenmuster von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B auszusenden, und startet einen siebten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C (i.e., a dritte Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Unterseite (entsprechend der Phase von 180 Grad bis 225 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem die vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 3Bb auf der Oberseite (entsprechend der Phase von 225 Grad bis 270 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 3Ba, um so das Streifenmuster von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B auszusenden, und startet einen achten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C (d. h. einen vierten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendet wird).
  • Gleichzeitig mit der Beendigung dieses Abbildungsprozesses der Oberseite (entsprechend der Phase von 270 Grad bis 315 Grad) zu dem Zeitpunkt, zu dem die vorbestimmte Bewegungszeitspanne der Gitterplatte 4Bb auf der Unterseite (ent sprechend der Phase von 225 Grad bis 270 Grad) beendet ist, stoppt die Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung 6 die Aussendung des Streifenmusters von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B, triggert eine Lichtaussendung von der Lichtquelle 4Ba, um so das Streifenmuster von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B auszusenden, und führt einen achten Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C durch (d. h. einen vierten Abbildungsprozess mit dem Streifenmuster, das von der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B (entsprechend der Phase von 270 Grad bis 315 Grad) ausgesendet wird).
  • Wenn der achte Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C beendet ist, wird die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 zu einem nächsten Untersuchungsbereich bewegt. Wenn der achte Abbildungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C beendet ist, wird die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 zu einem nächsten Untersuchungsbereich bewegt.
  • Wie es oben ausführlich beschriebenen ist, stoppt die Konfiguration dieser Ausführungsform eine Aussendung des Streifenmusters auf die Unterseite (oder auf die Oberseite) während einer Abbildungszeitspanne der Oberseite (oder der Unterseite) der Leiterplatine P1 in dem bestimmten Prozess, der ausgeführt wird, wenn sich die Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereich auf der Oberseite der Leiterplatine P1 wenigstens teilweise mit der Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 überlappt. Diese Konfiguration ermöglicht eine Gewinnung von Bilddaten mit hoher Genauigkeit, ohne dass dabei Licht zur Oberseite (oder zur Unterseite) austritt. Dadurch wird die Untersuchungsgenauigkeit der doppelseitigen Untersuchung der Leiterplatine P1 verbessert.
  • Zusätzlich ist der oben beschriebene Prozess ausgelegt, um einen Abbildungsprozess der Oberseite (oder der Unterseite) der Leiterplatine P1 durchzuführen und anschließend einen Abbildungsprozess der Unterseite (oder der Oberseite) der Leiterplatine P1 durchzuführen. Demzufolge ermöglicht eine abwechselnde Wiederholung des Abbildungsprozesses der Oberseite der Leiterplatine P1 und des Abbildungsprozesses der Unterseite der Leiterplatine P1 eine gleichzeitige Durchführung des Bildermittlungsprozesses (mehrere Abbildungsprozesse) eines vorbestimmten Untersuchungsbereich auf der Oberseite der Leiterplatine P1 und des Bildermittlungsprozesses (mehrere Abbildungsprozesse) eines vorbestimmten Untersuchungsbereich auf der Unterseite der Leiterplatine P1.
  • Gemäß dieser Ausführungsform kann, wie es in 4 gezeigt ist, ein Bildermittlungsprozess sowohl der Oberseite als auch der Unterseite der Leiterplatine P1 durch Addieren von nur einer Zeitspanne Δt, die für nur einen Abbildungsprozess der Unterseite der Leiterplatine P1 erforderlich ist, zu einer Zeitspanne, die für den Bildermittlungsprozess (mehrere Abbildungsprozesse) eines vorbestimmten Untersuchungsbereich auf der Oberseite der Leiterplatine P1 erforderlich ist, abgeschlossen werden.
  • Demzufolge erhöht diese Konfiguration die Untersuchungsgenauigkeit für eine doppelseitige Untersuchung der Leiterplatine P1 im Vergleich mit zum Beispiel einer Konfiguration, die den Bildermittlungsprozess (mehrere Abbildungsprozesse) eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Unterseite der Leiterplatine P1 erst nach Beenden des Bildermittlungsprozesses (mehrere Abbildungsprozesse) eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 durchführt.
  • Dadurch ist die Untersuchungsgenauigkeit der doppelseitigen Untersuchung der Leiterplatine P1 verbessert und die Geschwindigkeit der Untersuchung erhöht.
  • Die vorliegende Offenbarung ist nicht auf die Beschreibung der obigen Aus führungsform begrenzt, sondern kann zum Beispiel durch die weiter unten beschriebenen Aspekte implementiert sein. Die nachfolgende Beschreibung ist jedoch ebenfalls nur exemplarisch, und die vorliegende Offenbarung kann natürlich durch jede weitere Anwendung und Modifikation implementiert sein.
    • (a) Gemäß der obigen Ausführungsform ist die Platinenuntersuchungsvorrichtung als die Lötpastendruck-Untersuchungsvorrichtung zum Untersuchen des Druckzustands der auf die Leiterplatine P1 gedruckten Lötpaste P4 implementiert. Die Platinenuntersuchungsvorrichtung ist jedoch nicht auf diese Konfiguration begrenzt, sondern kann zum Untersuchen eines anderen Objekts, zum Beispiel eines auf eine Platine gedruckten Lötbumps oder einer auf ein Platine montierten elektronischen Komponente ausgelegt sein. Die Platinenuntersuchungsvorrichtung ist auch nicht auf eine Verwendung zur Untersuchung vor einem Reflow beschränkt, sondern kann auch zur Untersuchung nach dem Reflow verwendet werden.
    • (b) Die obige Ausführungsform ist ausgelegt, um vier unterschiedliche Bilddaten mit einem Streifenmuster unterschiedlicher Phasen, die jeweils zur dreidimensionalen Messung mit Hilfe eines Phasenverschiebungsverfahrens um 90 Grad verschoben sind, zu gewinnen. Die Anzahl der Phasenverschiebungen und der Betrag jeder Phasenverschiebung sind jedoch nicht auf diejenigen dieser Ausführungsform begrenzt. Jede andere zulässige Anzahl von Phasenverschiebungen und jeder andere zulässige Betrag der einzelnen Phasenverschiebungen kann zur dreidimensionalen Messung mit Hilfe des Phasenverschiebungsverfahrens verwendet werden.
  • Zum Beispiel kann eine modifizierte Konfiguration drei unterschiedliche Bilddaten mit unterschiedlichen Phasen, die zur dreidimensionalen Messung jeweils um 120 Grad (oder jeweils um 90 Grad) verschoben sind, gewinnen. Eine weitere modifizierte Konfiguration kann zwei unterschiedliche Bilddaten mit unterschiedlichen Phasen, die zur dreidimensionalen Messung jeweils um 180 Grad (oder jeweils um 90 Grad) verschoben sind, gewinnen.
    • (c) Die obige Ausführungsform ist ausgelegt, um das Streifenmuster, das auf die Leiterplatine P1 projiziert wird und eine rechteckwellenförmige oder trapezwellenförmige Lichtstärkeverteilung besitzt, kontinuierlich zu verschieben und ein Abbilden (Belichten) des Streifenmusters fortzusetzen, um so Bilddaten mit einer sinuswellenförmigen Lichtstärkeverteilung zu erhalten.
  • Die Abbildungszeitspanne, in der eine Abbildung fortgesetzt werden soll, ist nicht auf die Zeitspanne der obigen Ausführungsform (entsprechend der Bewegung um die Phase von 45 Grad) begrenzt, sondern es kann eine andere Konfiguration für diese Abbildungszeitspanne verwendet werden.
  • Die Konfiguration, die das Abbilden (Belichten) fortsetzt, ist nicht notwendig. Wie im Stand der Technik kann eine modifizierte Konfiguration sukzessive die Position eines Gitters ändern und bei gestopptem Gitter ein Streifenmuster aussenden, um so mehrere Bilddaten mit unterschiedlichen Phasen zu gewinnen.
  • Gemäß der obigen Ausführungsform wird die Gitterplatte als das Mittel zum Umwandeln eines von einer Lichtquelle ausgesendeten Lichts in ein Streifenmuster verwendet. Dies stellt jedoch keine Einschränkung dar, und jedes andere geeignete Mittel, zum Beispiel ein Flüssigkristall-Panel zum Steuern des Transmissions- oder Reflexionsgrads jedem Streifen kann verwendet werden. Die Verwendung eines solchen Flüssigkristall-Panels oder dergleichen ermöglicht die Aussendung eines Streifenmusters mit einer ideal sinusförmigen Lichtstärkeverteilung, ohne eine Gitterplatte kontinuierlich bewegen zu müssen.
    • (d) Die obige Ausführungsform ist ausgelegt, um eine dreidimensionale Messung mit Hilfe des Phasenverschiebungsverfahrens durchzuführen. Das Phasenverschiebungsverfahren ist jedoch nicht notwendig, sondern es kann auch ein anderes Verfahren zur dreidimensionalen Messung verwendet werden, zum Beispiel ein Raumcodeverfahren. Es ist jedoch vorteilhafter, ein Messverfahren mit hoher Messgenauigkeit, zum Beispiel das Phasenverschiebungsverfahren, zur Messung eines kleinen Objekts Messobjekt wie etwa die Lötpaste P4, zu verwenden.
    • (e) Die Konfiguration des Bestrahlungsgeräts, zum Beispiel die Art des von jeder Beleuchtungsvorrichtung ausgesendeten Lichts, ist nicht auf die Konfiguration der obigen Ausführungsform begrenzt. Vielmehr kann auch eine andere Konfiguration verwendet werden.
  • Zum Beispiel ist die obige Ausführungsform ausgelegt, um ein Streifenmuster auszusenden und eine dreidimensionale Messung zur Untersuchung der Leiterplatine P1 durchzuführen. Eine modifizierte Konfiguration kann statt oder zusätzlich zu der der Konfiguration der Ausführungsform eine zweidimensionale Messung durchführen.
  • Zum Beispiel kann, wie es in 5 gezeigt ist, die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 so ausgelegt sein, dass sie zusätzlich zu der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B und der Oberseitenuntersuchungskamera 3C eine Beleuchtungsvorrichtung 71 zur zweidimensionalen Untersuchung umfasst. Die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 kann so ausgelegt sein, dass sie zusätzlich zu der ersten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A, der zweiten Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B und der Unterseitenuntersuchungskamera 4C eine Beleuchtungsvorrichtung 71 zur zweidimensionalen Messung umfasst.
  • Wie es in den 5 und 6 gezeigt ist, umfasst die Beleuchtungsvorrichtung 71 ein erstes Ringlicht 72, das der Leiterplatine P1 am nächsten liegt, ein zweites Ringlicht 73, das der Leiterplatine P1 am zweitnächsten liegt und neben dem ersten Ringlicht 72 angeordnet ist, und ein drittes Ringlicht 74, das an einer von der Leiterplatine P1 am weitesten entfernten Position angeordnet ist.
  • Jedes der Ringlichter 72 bis 74 ist so ausgelegt, dass es zwischen einer Aussendung von drei monochromatischen Lichtern, das heißt ein rotes Licht, ein grünes Licht und ein blaues Licht umschalten kann. Das erste Ringlicht 72 ist so ausgelegt, dass es die Leiterplatine P1 mit Licht in einem großen Einfallswinkel (zum Beispiel 74 Grad) bestrahlt. Das zweite Ringlicht 73 ist so ausgelegt, dass es die Leiterplatine P1 mit Licht in einem mittleren Einfallswinkel (zum Beispiel 20 Grad) bestrahlt. Das dritte Ringlicht 74 ist so ausgelegt, dass es die Leiterplatine P1 mit Licht in einem kleinen Einfallswinkel (zum Beispiel 0 Grad) bestrahlt.
  • Eine modifizierte Konfiguration, die zum Beispiel zur Untersuchung (Bildermittlungsprozess) eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Oberseite der Leiterplatine P1 verwendet wird, kann, zusätzlich zu wenigstens einem von mehreren Abbildungsprozessen mit einem von der ersten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A ausgesendeten Streifenmuster und mehreren Abbildungsprozessen mit einem von der zweiten Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B ausgesendeten Streifenmuster (das gleiche gilt für eine Untersuchung auf der Unterseite der Leiterplatine P1), wenigstens einen Abbildungsprozess von einem Abbildungsprozess mit dem von allen Ringlichtern 72 bis 74 ausgesendeten roten Licht, einen Abbildungsprozess mit dem von allen Ringlichtern 72 bis 74 ausgesendeten blauen Licht, einen Abbildungsprozess mit dem von allen Ringlichtern 72 bis 74 ausgesendeten grünen Licht, einen Abbildungsprozess mit dem von dem ersten Ringlicht 72 in einem großen Einfallswinkel ausgesendeten monochromatischen Licht (zum Beispiel blauem Licht), einen Abbildungsprozess von dem zweiten Ringlicht 73 in einem mittleren Einfallswinkel ausgesendeten monochromatischen Licht (zum Beispiel grünem Licht) und einen Abbildungsprozess mit dem von dem dritten Ringlicht 74 in einem kleinen Einfallswinkel ausgesendeten monochromatischen Licht (zum Beispiel rotem Licht) durchführen.
  • Die obige Konfiguration kann modifiziert sein, um, zusätzlich zu der dreidimensionalen Messung, eine von verschiedenen zweidimensionalen Messungen, zum Beispiel eine Extraktion von einem von verschiedenen Bereichen wie etwa einem Lötpastendruckbereich, Elektrodenbereich oder einem Siebdruckbereich, eine Erfassung von Fremdkörpern, eine Messung des Bereichs der Lötpaste P4, eine Erfassung einer räumlichen Fehlausrichtung oder eine Brückenerfassung durchzuführen.
  • Ein bestimmter Prozess entsprechend dem der obigen Ausführungsform wird auch in dieser Konfiguration ausgeführt, wenn sich die Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereich auf der Oberseite der Leiterplatine P1 wenigstens teilweise mit der Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereich auf der Unterseite der Leiterplatine P1 überlappt. Dieser bestimmte Prozess führt abwechselnd einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C der Oberseite der Leiterplatine P1 und einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C der Unterseite der Leiterplatine P1 durch.
  • Ein Beispiel dieser modifizierten Konfiguration kann nacheinander einen Abbildungsprozess der Oberseite der Leiterplatine P1 mit dem von allen Ringlichtern 72 bis 74 ausgesendeten roten Licht, einen Abbildungsprozess der Unterseite der Leiterplatine P1 mit dem von allen Ringlichtern 72 bis 74 ausgesendeten roten Licht, einen Abbildungsprozess der Oberseite der Leiterplatine P1 mit dem von dem ersten Ringlicht 72 mit einem großen Einfallswinkel ausgesendeten monochromatischen Licht (zum Beispiel blauem Licht) und einen Abbildungsprozess der Unterseite der Leiterplatine P1 mit dem von dem ersten Ringlicht 72 mit einem großen Einfallswinkel ausgesendeten monochromatischen Licht (zum Beispiel blauem Licht) durchführen.
  • Eine weitere modifizierte Konfiguration muss nicht die dreidimensionale Messung durchführen, sondern nur eine zweidimensionale Messung ohne die erste Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3A, die zweite Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 3B, die erste Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4A und die zweite Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung 4B.
    • (f) Die obige Ausführungsform ist ausgelegt, um die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 und die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 unabhängig zu betreiben und zu steuern, und ist ausgelegt, um den bestimmten Prozess nur durchzuführen, wenn sich die Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereich auf der Oberseite der Leiterplatine P1 wenigstens teilweise mit der Verarbeitungszeitspanne des Bildermittlungsprozesses eines vorbestimmten Untersuchungsbereich auf der Unterseite der Leiterplatine P1 überlappt. Diese Konfiguration ist jedoch nicht notwendig, sondern es kann eine andere Konfiguration verwendet werden.
  • Zum Beispiel kann eine modifizierte Konfiguration kann die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 und die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 synchron zueinander betreiben und ansteuern und in Übereinstimmung damit den oben beschriebenen bestimmten Prozess ausführen
  • Eine weitere modifizierte Konfiguration kann die Leiterplatine P1 kontinuierlich transportieren, während die Oberseitenuntersuchungseinheit 3 und die Unterseitenuntersuchungseinheit 4 festgelegt sind, und kann eine Untersuchung sowohl der Oberseite als auch der Unterseite der Leiterplatine P1 durchführen, wobei in Übereinstimmung damit der oben beschriebene bestimmten Prozess durchgeführt wird.
    • (g) Die Verarbeitungsoperationen der Oberseitenuntersuchungseinheit 3 und der Unterseitenuntersuchungseinheit 4 in dem bestimmten Prozess sind nicht auf die Verarbeitungsoperationen in der obigen Ausführungsform (d. h. dem in 4 gezeigten Beispiel) begrenzt. Jede weitere Konfiguration kann verwendet werden, solange die Konfiguration eine Aussendung von Licht auf der Unterseite (oder auf der Oberseite) wenigstens während eine Abbildungszeitspanne der Oberseite (oder der Unterseite) der Leiterplatine P1 stoppt und dadurch ein Austreten von Licht zur Oberseite (oder zur Unterseite) verhindert.
  • Zum Beispiel ist gemäß der obigen Ausführungsform die Datenübertragungs-(Auslese-) zeitspanne jeder Untersuchungs-Kamera 3C oder 4C kürzer eingestellt als die Verarbeitungszeitspanne eines Abbildungsprozesses unter Verwendung jeder Untersuchungs-Kamera 3C oder 4C. Eine modifizierte Konfiguration kann die Da tenübertragungszeitspanne länger als die Verarbeitungszeitspanne eines Abbildungsprozesses einstellen.
  • Zum Beispiel kann diese modifizierte Konfiguration eine Datenübertragung durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C nach Beenden eines Abbildungsprozesses unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C starten und zeitgleich einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C starten. Nach Beenden dieses Abbildungsprozesses unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C kann die modifizierte Konfiguration auf das Beenden einer Datenübertragungszeitspanne durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C (d. h. eine Zeitspanne, in der die Durchführung eines Abbildungsprozesses nicht zulässig ist) warten und einen nächsten Abbildungsprozess unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C starten. Eine weitere modifizierte Konfiguration kann eine Datenübertragung durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C nach Beenden eines Abbildungsprozesses unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C starten und nach Verstreichen einer vorbestimmten Zeitspanne (zum Beispiel 1 ms) einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C starten.
  • In jeder dieser modifizierten Konfigurationen werden natürlich die Operations- und Steuer- bzw. Regelungsprozesse der jeweiligen Gitterplatten wie etwa der Gitterplatte 3Ab gemäß Abbildungsprozessen unter Verwendung der jeweiligen Untersuchungs-Kameras 3C und 4C durchgeführt. Mit anderen Worten, die Gitterplatte sollte gestoppt werden, um bereit zu stehen, wenn es eine Verzögerung gibt.
    • (g) Gemäß der obigen Ausführungsform wird ein CCD-Sensor als das Abbildungselement jeder der Untersuchungs-Kameras 3C und 4C verwendet. Dieses Abbildungselement ist jedoch nicht notwendig, sondern es kann ein anderes Abbildungselement wie etwa ein CMOS-Sensor verwendet werden.
  • Eine Konfiguration unter Verwendung eines herkömmlichen CCD-Sensors oder dergleichen darf während einer Datenübertragung keinen nächsten Abbil dungs-(Belichtungs-) prozess durchführen. Daher müssen der Abbildungsprozess und der Datenübertragungsprozess im Wechsel durchgeführt werden, wenn mehrere Abbildungsprozesse erforderlich sind.
  • Eine Konfiguration unter Verwendung eines CMOS-Sensors oder eines CCD-Sensors mit der Funktion, dass eine Belichtung während einer Datenübertragung zulässig ist, erlaubt hingegen die teilweise überlappende Durchführung des Abbildungsprozesses und des Datenübertragungsprozesses.
  • Wenn die Datenübertragungszeitspanne länger als die Verarbeitungszeitspanne eines Abbildungsprozesses eingestellt ist, wie es zum Beispiel oben beschriebenen ist, kann die letztgenannte Konfiguration eine Datenübertragung durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C nach Beenden eines Abbildungsprozesses unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C starten und zeitgleich einen Abbildungsprozess unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C starten. Ohne auf das Beenden einer Datenübertragungszeitspanne durch die Oberseitenuntersuchungskamera 3C warten zu müssen, kann diese Konfiguration einen nächsten Abbildungsprozess unter Verwendung der Oberseitenuntersuchungskamera 3C starten, und zwar zeitgleich mit einer Beendigung des Abbildungsprozesses unter Verwendung der Unterseitenuntersuchungskamera 4C.
    • (h) Obwohl es in der obigen Ausführungsform nicht besonders hervorgehoben ist, kann zum Beispiel die Unterseitenuntersuchungskamera 4C, die unter dem Transportweg der Leiterplatine P1 angeordnet ist, eine Schutzabdeckung 50 umfassen, wie es in 7 gezeigt ist.
  • Es besteht die Möglichkeit, dass Fremdkörper wie etwa Lotreste, die von der Leiterplatine P1 herabfallen, an der Unterseitenuntersuchungskamera 4C, die sich unter dem Transportweg der Leiterplatine P1 befindet, haften. Die Schutzabdeckung 50 verhindert das Haften von Fremdkörpern an der Unterseitenuntersuchungskamera 4C.
  • Die Schutzabdeckung 50 ist aus einem durchsichtigen Element gebildet, und die Unterseitenuntersuchungskamera 4C kann ein Bild der Unterseite der Leiterplatine P1 durch die Schutzabdeckung 50 aufnehmen.
  • Eine Ablagerung von Schmutz und ein Anhaften von Fremdkörpern auf der Schutzabdeckung 50 beeinträchtigt jedoch wahrscheinlich die Untersuchung. Es ist demzufolge vorteilhaft, dass die Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 einen Abdeckungsuntersuchungsmechanismus zur Durchführung einer Untersuchung umfasst, um zu bestimmen, ob Fremdkörper oder dergleichen auf der Schutzabdeckung 50 haften. Nachfolgend ist ein konkretes Beispiel des Abdeckungsuntersuchungsmechanismus beschrieben.
  • Wie es in 7 gezeigt ist, sind die Unterseitenuntersuchungskamera 4C und die Schutzabdeckung 50 durch einen Halter 51 zu einer Einheit verbunden. Die Unterseitenuntersuchungskamera 4C und die Schutzabdeckung 50 werden während einer Zeitspanne, nachdem eine Leiterplatine P1, deren Untersuchung gerade abgeschlossen ist, aus der Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 transportiert ist, und bevor eine Leiterplatine P1 in die Platinenuntersuchungsvorrichtung 1 transportiert ist, durch ein nicht dargestelltes Antriebsmittel zusammen mit dem Halter 51 zu einer Position bewegt, die von der Position (Abdeckungsuntersuchungsposition) unter dem Transportweg der Leiterplatine P1 abweicht.
  • Eine Transmissions-Beleuchtungsvorrichtung 53 ist an der Abdeckungsuntersuchungsposition über der Schutzabdeckung 50 angeordnet. Nachdem die Kamera 4C auf die Schutzabdeckung 50 fokussiert ist, dient die Kamera 4C dazu, ein Bild des transmittierten Lichts, das von der Transmissions-Beleuchtungsvorrichtung 53 ausgesendet und durch die Schutzabdeckung 50 transmittiert, zur Untersuchung auf Fremdkörper aufzunehmen.
  • Wie in dem in 8 gezeigten Beispiel kann eine Transmissions-Beleuchtungsvorrichtung 55, die unter der Schutzabdeckung 50 angeordnet ist, an der Abdeckungsuntersuchungsposition angeordnet sein, und eine Kamera 56, die ausschließlich zur Untersuchung der Abdeckung verwendet wird, kann an einer Position über der Schutzabdeckung 50 angeordnet sein. Die Kamera 56 dient der Aufnahme eines Bildes des transmittierten Lichts, das von der Transmissions-Beleuchtungsvorrichtung 55 ausgesendet und durch die Schutzabdeckung 50 transmittiert wird, zum Zwecke der Untersuchung auf Fremdkörper.
  • Eine Reflexions-Beleuchtungsvorrichtung kann statt der Transmissions-Beleuchtungsvorrichtung, zur Untersuchung auf Fremdkörper verwendet werden. Zum Beispiel kann, wie es in 9 gezeigt ist, eine Tafel 60 an der Abdeckungsuntersuchungsposition über der Schutzabdeckung 50 angeordnet sein, und eine Reflexions-Beleuchtungsvorrichtung 61 kann so angeordnet dass, dass sie die Schutzabdeckung 50 mit Licht bestrahlt, das schräg nach oben ausgesendet wird. Nachdem die Kamera 4C auf die Schutzabdeckung 50 fokussiert ist, dient die Kamera 4C dazu, ein Bild des reflektierten Lichts aufzunehmen, das von der Reflexions-Beleuchtungsvorrichtung 61 ausgesendet und von der Schutzabdeckung 50 reflektiert wird, zum Zwecke der Untersuchung auf Fremdkörper.
  • Wie in einem in 10 gezeigten Beispiel können eine unter der Schutzabdeckung 50 angeordnete Tafel 62, eine über der Schutzabdeckung 50 angeordnete Kamera 63, die ausschließlich zur Untersuchung der Abdeckung verwendet werden, und eine Reflexions-Beleuchtungsvorrichtung 64 zum Beleuchten der Schutzabdeckung 50 mit Licht, das schräg nach unten ausgesendet wird, an der Abdeckungsuntersuchungsposition angeordnet sein. Die Kamera 63 dient der Aufnahme eines Bildes des reflektierten Lichts, das von der Reflexions-Beleuchtungsvorrichtung 64 ausgesendet und von der Schutzabdeckung 50 reflektiert wird, zum Zwecke der Untersuchung auf Fremdkörper.
  • Ein Mechanismus zum Entfernen der Fremdkörper von der Schutzabdeckung 50 kann zusätzlich zu einer der oben beschriebenen Abdeckungsuntersuchungsmechanismen vorgesehen sein. Wenn irgendein Fremdkörper oder dergleichen auf die Schutzabdeckung 50 durch einen der verschiedenen, oben beschriebenen Abde ckungsuntersuchungsmechanismen erfasst wird, kann ein vorbestimmter Fremdkörper-Entfernungsmechanismus aktiviert werden, um die Fremdkörper zu entfernen.
  • Beispiele der Fremdkörper-Entfernungsmechanismus umfassen einen Mechanismus zum Einblasen von Luft und dadurch Wegblasen von Fremdkörpern von der Schutzabdeckung 50, einen Mechanismus zum Wegwischen von Fremdkörpern durch eine Bürste oder dergleichen, einen Mechanismus zum Aufbringen von dünnen Schichten auf die Schutzabdeckung 50 und anschließendes Abschälen der verschmutzten Schicht (Abziehfunktion), und einen Mechanismus zum Anordnen einer Schichtrolle auf die Schutzabdeckung 50 und anschließendes Hochrollen des verschmutzten Teils der Schichtrolle (Abrollfunktion).
  • Statt der Schutzabdeckung 50 zum Schutz von nur der Unterseitenuntersuchungskamera 4C kann eine Schutzabdeckung zum Schützen der gesamten Unterseitenuntersuchungseinheit 4 vorgesehen sein. Es ist jedoch wahrscheinlich, dass die Schutzabdeckung zum Schutz der gesamten Unterseitenuntersuchungseinheit 4 einen Seitenuntersuchungsbereich bei der Untersuchung auf Fremdkörper liefert und die Untersuchungszeit verlängert. Diese modifizierte Konfiguration vergrößert zudem die Schutzabdeckung, wodurch wahrscheinlich die Vorrichtung insgesamt größer und schwerer wird. Vor diesem Hintergrund ist es vorteilhaft, die Schutzabdeckung 50 zum Schutz von nur der Unterseitenuntersuchungskamera 4C zu verwenden.
  • Bezugszeichenliste
    • 1 Platinenuntersuchungsvorrichtung, 2 Transportmechanismus, 3 Einheit zur Untersuchung einer Oberseite, 3A erste Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung, 3B zweite Oberseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung, 3C Oberseitenuntersuchungskamera, 4 Einheit zur Untersuchung einer Unterseite, 4A erste Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung, 4B zweite Unterseitenuntersuchungs-Beleuchtungsvorrichtung, 4C Unterseitenuntersuchungskamera, 6 Steuerungs- bzw. Regelungsvorrichtung, P1 Leiterplatine, P4 Lötpaste
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • JP 2015-231661 A [0082]

Claims (5)

  1. Platinenuntersuchungsvorrichtung zum Untersuchen von sowohl einer Vorderseite als auch einer Rückseite einer Platine, wobei die Platinenuntersuchungsvorrichtung umfasst: wenigstens ein Vorderseiten-Bestrahlungsgerät zum Bestrahlen eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf einer Vorderseite der Platine mit vorbestimmtem Licht; eine Vorderseiten-Abbildungseinheit zum Aufnehmen eines Bildes des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine, der mit dem vorbestimmten Licht bestrahlt wird; wenigstens ein Rückseiten-Bestrahlungsgerät zum Bestrahlen eines vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf einer Rückseite der Platine mit vorbestimmtem Licht; eine Rückseiten-Abbildungseinheit zum Aufnehmen eines Bildes des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine, der mit dem vorbestimmten Licht bestrahlt wurde; und eine Untersuchungseinheit zum Untersuchen des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine auf der Grundlage mehrerer Bilddaten, die durch einen durch das Vorderseiten-Bestrahlungsgerät und die Vorderseiten-Abbildungseinheit durchgeführten Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine gewonnen werden, und zum Untersuchen des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine auf der Grundlage mehrerer Bilddaten, die durch einen durch das Rückseiten-Bestrahlungsgerät und die Rückseiten-Abbildungseinheit durchgeführten Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine gewonnen werden, wobei ein bestimmter Prozess durchgeführt wird, um im Wechsel einen Abbildungsprozess von mehreren Abbildungsprozessen des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Vorderseiten-Abbildungseinheit und einen Abbildungsprozess von mehreren Abbildungsprozessen des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Rückseiten-Abbildungseinheit durchzuführen, wobei der bestimmte Prozess ausgelegt ist, um eine Aussendung von Licht von dem Vorderseiten-Bestrahlungsgerät zu starten und eine Aussendung von Licht von dem Rückseiten-Bestrahlungsgerät zu stoppen, um so einen Abbildungsprozess von den mehreren Abbildungsprozesse des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Vorderseiten-Abbildungseinheit durchzuführen, und um anschließend eine Aussendung von Licht von dem Vorderseiten-Bestrahlungsgerät zu stoppen und eine Aussendung von Licht von dem Rückseiten-Bestrahlungsgerät zu starten, um so einen Abbildungsprozess von den mehreren Abbildungsprozesse des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Rückseiten-Abbildungseinheit durchzuführen, und wobei der bestimmte Prozess ausgelegt ist, um eine Aussendung von Licht von dem Rückseiten-Bestrahlungsgerät zu starten und eine Aussendung von Licht von dem Vorderseiten-Bestrahlungsgerät zu stoppen, um so einen Abbildungsprozess von den mehreren Abbildungsprozesse des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Rückseiten-Abbildungseinheit durchzuführen, und um anschließend eine Aussendung von Licht von dem Rückseiten-Bestrahlungsgerät zu stoppen und eine Aussendung von Licht von dem Vorderseiten-Bestrahlungsgerät zu starten, um so einen Abbildungsprozess von den mehreren Abbildungsprozesse des vorbestimmten Untersuchungsbereichs durch die Vorderseiten-Abbildungseinheit durchzuführen.
  2. Platinenuntersuchungsvorrichtung nach Anspruch 1, wobei der bestimmte Prozess bewirkt, dass die Rückseiten-Abbildungseinheit den Abbildungsprozesse während einer Zeitspanne durchführt, in der der Abbildungsprozess durch die Vorderseiten-Abbildungseinheit nicht durchgeführt werden darf, oder während einer Zeitspanne, in der die Vorderseiten-Abbildungseinheit den Abbildungsprozess nicht durchführt, und der bestimmte Prozess bewirkt, dass die Vorderseiten-Abbildungseinheit den Abbildungsprozesse während einer Zeitspanne durchführt, in der der Abbildungsprozesse durch die Rückseiten-Abbildungseinheit nicht durchgeführt werden darf, oder während einer Zeitspanne, in der die Rückseiten-Abbildungseinheit den Abbildungsprozess durchführt.
  3. Platinenuntersuchungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, wobei das Vorderseiten-Bestrahlungsgerät und die Vorderseiten-Abbildungseinheit unabhängig von dem Rückseiten-Bestrahlungsgerät und der Rückseiten-Abbildungseinheit betrieben und gesteuert werden und das Rückseiten-Bestrahlungsgerät und die Rückseiten-Abbildungseinheit unabhängig von dem Vorderseiten-Bestrahlungsgerät und der Vorderseiten-Abbildungseinheit betrieben und gesteuert werden, und der Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine und der Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine unabhängig voneinander durchgeführt werden können, wobei der bestimmte Prozess durchgeführt wird, wenn sich der Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Vorderseite der Platine wenigstens teilweise mit dem Bildermittlungsprozess des vorbestimmten Untersuchungsbereichs auf der Rückseite der Platine überlappt.
  4. Platinenuntersuchungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei wenigstens entweder das Vorderseiten-Bestrahlungsgerät oder das Rückseiten-Bestrahlungsgerät ausgelegt ist, um ein Lichtmuster mit einer streifenförmigen Lichtstärkeverteilung als das vorbestimmte Licht auszusenden, und die Untersuchungseinheit ausgelegt ist, um eine dreidimensionale Messung mit Hilfe eines Phasenverschiebungsverfahrens auf der Grundlage mehrerer, mit dem Lichtmuster unterschiedlicher Phasen aufgenommener Bilddaten durchzuführen.
  5. Platinenuntersuchungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Platine entweder eine Leiterplatine ist, auf der Lötpaste aufgedruckt ist, oder ein Wafersubstrat ist, auf dem ein Lötbump gebildet ist.
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