DE102017130868A1 - Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung und Verfahren zum Steuern der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung - Google Patents

Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung und Verfahren zum Steuern der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung Download PDF

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Abstract

Eine Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung beinhaltet: eine Bestrahlungseinheit, die eine Probe mit einem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt; einen Bilderzeugungsabschnitt, der ein Ladungsteilchen detektiert, das von der Probe aufgrund der Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl erzeugt wird, und basierend auf einem Signal, das erhalten wird, indem das Ladungspartikel detektiert wird, ein Bild bildet; eine Eingabeempfangseinheit, die eine Beobachtungsbedingung empfängt; einen Ableitungsabschnitt, der basierend auf der empfangenen Beobachtungsbedingung und ersten Beobachtungsparametern, die in einer Speichereinheit gespeichert sind, zweite Beobachtungsparameter ableitet, die für die Beobachtungsbedingung geeignet sind; und eine Steuereinheit, welche die Bestrahlungseinheit basierend auf den zweiten Beobachtungsparametern steuert.

Description

  • HINTERGRUND
  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Offenbarung betrifft eine Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung und ein Verfahren zum Steuern der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung.
  • Stand der Technik
  • Es wurde eine Technologie erforscht und entwickelt, bei der eine Oberfläche oder ein Querschnitt eines Gegenstands mit einem Ladungsteilchenstrahl (einem Strahl aus einem geladenen Teilchen) bestrahlt wird, um ein Schnittbild des Querschnitts oder ein Oberflächenbild der Oberfläche des Gegenstands zu erhalten.
  • In diesem Zusammenhang ist eine Patentveröffentlichung JP-A-H10(1998)-106474 bekannt. Dieses Dokument offenbart eine Verarbeitungsvorrichtung mit einem fokussierten Ionenstrahl, die Folgendes beinhaltet: eine Ionenquelle, die einen Ionenstrahl erzeugt; ein Linsensystem, das den Ionenstrahl fokussiert; eine elektrisch variable Mehrfachapertur, die einen Strom des Ionenstrahls begrenzt; einen Objekttisch, auf dem eine mit dem Ionenstrahl zu bearbeitende Probe befestigt ist; ein Detektor, der ein Sekundärteilchen detektiert, das erzeugt wird, wenn die Probe mit dem Ionenstrahl bestrahlt wird; eine Steuereinheit für ein ionenoptisches System, welche die elektrisch variable Mehrfachapertur steuert; und ein Computersystem, das die Bearbeitung der Probe basierend auf dem sekundären Teilchen steuert. Diese Verarbeitungsvorrichtung mit einem fokussierten Ionenstrahl führt eine Vielzahl von Arten von Bearbeitungen durch, indem eine Linseneinstellung, ein Astigmatismuskorrekturwert, die optischen Bedingungen des Ionenstrahls wie z.B. ein Aperturdurchmesser und ein Bildablenkungsausmaß sowie eine Vielzahl von Bearbeitungsinhalten in einem Computer in Entsprechung mit einer Strommenge des Ionenstrahls gespeichert werden, wobei sie die optischen Bedingungen gemäß den Bearbeitungsinhalten auswählt und festlegt.
  • Bei der Bearbeitungsvorrichtung des Stands der Technik ist es jedoch bei jedem Wechsel einer zu bearbeitenden Probe notwendig, verschiedene Bedingungen im Zusammenhang mit der Bearbeitung und Beobachtung der Probe, wie z.B. die optischen Bedingungen, anzupassen. Folglich tritt bei der Bearbeitungsvorrichtung der Fall ein, dass es schwierig ist, die Arbeitseffizienz bei der Bearbeitung einer Vielzahl von Proben zu verbessern.
  • KURZDARSTELLUNG
  • Die vorliegende Offenbarung wurde in Anbetracht der vorstehend beschriebenen Umstände entwickelt, wobei es eine der Aufgaben der vorliegenden Offenbarung ist, eine Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung, die imstande ist, die Effizienz der probenbasierten Arbeit zu verbessern, die durchgeführt wird, indem eine Probe mit einem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird, und ein Steuerungsverfahren zu schaffen.
  • Gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung wird eine Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung geschaffen, die Folgendes beinhaltet: eine Bestrahlungseinheit, die eine Probe mit einem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt; einen Bilderzeugungsabschnitt, der basierend auf einem Signal, das erhalten wird, indem ein Ladungsteilchen detektiert wird, das von der Probe aufgrund der Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl erzeugt wird, ein Bild bildet; eine Eingabeempfangseinheit, die eine Beobachtungsbedingung empfängt; einen Ableitungsabschnitt, der basierend auf der Beobachtungsbedingung, die durch die Eingabeempfangseinheit empfangen wurde, und ersten Beobachtungsparametern, die in einer Speichereinheit gespeichert sind, zweite Beobachtungsparameter ableitet, die für die Beobachtungsbedingung geeignet sind; und eine Steuereinheit, welche die Bestrahlungseinheit basierend auf den zweiten Beobachtungsparametern steuert.
  • Gemäß einer anderen beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung wird ein Verfahren zum Steuern einer Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung geschaffen, die Folgendes beinhaltet: eine Bestrahlungseinheit, die eine Probe mit einem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt, und einen Bilderzeugungsabschnitt, der basierend auf einem Signal, das erhalten wird, indem ein Ladungsteilchen detektiert wird, das von der Probe aufgrund der Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl erzeugt wird, ein Bild bildet, wobei das Verfahren Folgendes beinhaltet: Empfangen einer Beobachtungsbedingung; Ableiten eines für die Beobachtungsbedingung geeigneten zweiten Beobachtungsparameters basierend auf der empfangenen Beobachtungsbedingung und einem in einer Speichereinheit gespeicherten ersten Beobachtungsparameter durch einen Ableitungsabschnitt; und Steuern der Bestrahlungseinheit durch eine Steuereinheit basierend auf dem abgeleiteten zweiten Beobachtungsparameter.
  • Figurenliste
  • Die beiliegenden Zeichnungen zeigen Folgendes:
    • 1 ist eine Ansicht, die ein Beispiel eines Aufbaus einer Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Offenbarung zeigt;
    • 2 ist ein Diagramm, das ein Beispiel eines Hardware-Aufbaus einer Steuereinrichtung zeigt;
    • 3 ist ein Diagramm, das ein Beispiel eines funktionellen Aufbaus der Steuereinrichtung zeigt;
    • 4 ist ein Fließdiagramm, das ein Beispiel des Ablaufs eines Parameterableitungsprozesses zeigt, der durch die Steuereinrichtung ausgeführt wird;
    • 5 ist eine Tabelle, die ein Beispiel für Beobachtungsbedingungen zeigt, die in einem Ableitungsabschnitt seitens eines Benutzers über einen Bedienungsbildschirm durch eine Eingabeempfangseinheit empfangen wurden; und
    • 6 ist eine Tabelle, die beispielhaft einen oder mehrere erste Beobachtungsparameter, die in einer Datenbank gespeichert sind, die vorab in einer Speichereinheit gespeichert wurde, und zweite Beobachtungsparameter zeigt, die jeweils den ersten Beobachtungsparametern zugeordnet sind.
  • GENAUE BESCHREIBUNG
  • Im Folgenden soll eine Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben werden.
  • Die durch eine Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 gemäß der Ausführungsform durchgeführte Bearbeitung wird überblicksmäßig beschrieben.
  • Die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 ist zum Beispiel ein Ladungsteilchenmikroskop, das die Oberflächenstruktur einer Probe betrachtet, indem die Probe mit einem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird. Die Struktur beinhaltet eine chemische Zusammensetzung der Oberfläche, eine Kristallstruktur der Oberfläche und dergleichen. Die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 kann ein anderes System sein, das die Probe mit einem Ladungsteilchenstrahl eines Ladungsteilchen-Bearbeitungssystems und dergleichen bestrahlt und das die Probe durch Ätzen mit einem Ladungsteilchenstrahl bearbeitet. Darüber hinaus kann die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 ein multifunktionales Peripheriegerät sein, das imstande ist, eine Probe durch einen oder beiden aus einem fokussierten Ionenstrahl und einem Elektronen-Ionenstrahl als Ladungsteilchenstrahl zu bearbeiten. Die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 empfängt eine Kombination (einen Satz oder eine Parametergruppe) aus einem oder mehreren aus einer Vielzahl von Parametern, die in der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 von einem Benutzer als Beobachtungsbedingungen eingestellt werden können. Im Folgenden wird der Einfachheit der Beschreibung halber jeder von einem oder mehreren Parametern, die in den Beobachtungsbedingungen enthalten sind, als Eingabeparameter bezeichnet. Ein Eingabeparameter ist ein Parameter, der durch einen Benutzer in Abhängigkeit von einer Probe bestimmt wird, deren Oberflächenstruktur durch die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 beobachtet wird. Basierend auf den empfangenen Beobachtungsbedingungen verändert die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 einen Zustand der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 zu einem von den Beobachtungsbedingungen abhängigen Zustand.
  • Insbesondere wird in der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 vorab eine Datenbank D gespeichert. Die Datenbank D ist eine Datenbank, in der eine oder mehrere Beobachtungsbedingungen jeweils als erste Beobachtungsparameter gespeichert sind. D.h. jeder der ersten Beobachtungsparameter entspricht einer Kombination des vorstehend erwähnten einen oder der mehreren Eingabeparameter. Die eine Beobachtungsbedingung oder die mehreren Beobachtungsbedingungen beinhalten zum Beispiel die Beobachtungsbedingungen, die in der Vergangenheit in der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 empfangen wurden, die Beobachtungsbedingungen, die in der Vergangenheit in einer anderen Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 empfangen wurden, die Beobachtungsbedingungen, die durch einen Benutzer aufgezeichnet wurden und dergleichen. Darüber hinaus ist ein zweiter Beobachtungsparameter jedem von einem oder mehreren ersten Beobachtungsparametern zugeordnet, die in der Datenbank D gespeichert sind. Die zweiten Beobachtungsparameter beinhalten Kombinationen von Parametern mit Ausnahme der Eingabeparameter unter einer Vielzahl von Parametern, die in der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 eingestellt werden können. Im Folgenden wird der Einfachheit der Beschreibung halber jeder von dem einen oder den mehreren Parametern, die in den zweiten Beobachtungsparametern enthalten sind, als Ableitungsparameter bezeichnet. Die zweiten Beobachtungsparameter können Kombinationen von einem Teil von Parametern mit Ausnahme der Eingabeparameter unter einer Vielzahl von Parametern beinhalten, die in der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 eingestellt werden können. Die Ableitungsparameter sind zum Beispiel Kombinationen aus einem Teil oder allen aus einem oder mehreren Strahlbestrahlungsparametern, welche die Strahlbestrahlungsbedingungen repräsentieren, die mit der Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl durch die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 in Zusammenhang stehen, und einem oder mehreren Detektionsparametern, welche die Detektionsbedingungen repräsentieren, die mit der Detektion von Ladungsteilchen in Zusammenhang stehen, die von einer Probe erzeugt wurden, die durch die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 mit einem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wurde.
  • Die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 bestimmt unter dem einen oder den mehreren ersten Beobachtungsparametern, die vorab in der Datenbank D gespeichert wurden, erste Beobachtungsparameter, die den empfangenen Beobachtungsbedingungen am nächsten sind. Anschließend leitet die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 aus der Datenbank D zweite Beobachtungsparameter ab (bestimmt zweite Beobachtungsparameter), die den bestimmten ersten Beobachtungsparametern zugeordnet sind, als zweite Beobachtungsparameter, die für die Beobachtungsbedingungen geeignet sind. Die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 stellt die empfangenen Beobachtungsbedingungen und die bestimmten zweiten Beobachtungsparameter in der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 ein. Auf diese Weise verändert die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 einen Zustand der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 zu einem von den Beobachtungsbedingungen abhängigen Zustand. D.h. die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 empfängt einen Teil (eine Kombination der vorstehend erwähnten Eingabeparameter) von Parametern, die in der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 eingestellt werden können, als Beobachtungsbedingungen, wodurch wenigstens ein Teil (eine Kombination der vorstehend erwähnten Ableitungsparameter) von Parametern mit Ausnahme der Beobachtungsbedingungen unter den Parametern abgeleitet wird. Auf diese Weise ist es bei der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 möglich, den Aufwand und die Zeit zu reduzieren, die zur Parametereinstellung erforderlich sind, die durch einen Benutzer immer dann durchgeführt wird, wenn eine Probe gewechselt wird. Die Parameter sind Parameter, die in der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 eingestellt werden können. D.h. die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 kann die Effizienz der probenbasierten Arbeit verbessern, die durchgeführt wird, indem die Probe mit einem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird.
  • Die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 verändert den Zustand der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 zu dem von den Beobachtungsbedingungen abhängigen Zustand, bestrahlt die Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl und detektiert anschließend Ladungsteilchen, die von der Probe durch die Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl erzeugt wurden. Die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 bildet basierend auf einem Signal, das durch die Detektion der Ladungsteilchen erhalten wird, ein Bild. Das Bild ist ein zweidimensionales Bild, das die Oberfläche der Probe in dem Beispiel zeigt.
  • Die Probe ist zum Beispiel eine leitende Probe. Alternativ dazu kann die Probe eine isolierende Probe oder eine halbleitende Probe (eine Halbleiterprobe) sein. Darüber hinaus kann es sich bei dem Gegenstand um einen anderen Gegenstand anstelle der Probe handeln, wobei es sich zum Beispiel um Zellen handeln kann, die ein Lebewesen und einen lebenden Körper aus Knochen und dergleichen bilden können. Es folgt eine genaue Beschreibung eines Parameterableitungsprozesses zum Ableiten der für die Beobachtungsbedingungen geeigneten, durch die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 empfangenen zweiten Beobachtungsparameter basierend auf den Beobachtungsbedingungen und den ersten Beobachtungsparametern, die vorab in der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 gespeichert wurden.
  • Im Folgenden wird ein Aufbau der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 beschrieben. 1 ist ein Diagramm, das ein Beispiel des Aufbaus der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 gemäß einer Ausführungsform zeigt.
  • Die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 beinhaltet eine Bestrahlungseinheit 10, eine Steuereinrichtung 30 und eine Anzeigeeinrichtung 35. In der beispielsgemäßen Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 ist jede von der Bestrahlungseinheit 10, der Steuereinrichtung 30 und der Anzeigeeinrichtung 35 als separates Element ausgeführt; alternativ dazu kann jedoch ein Teil oder können alle von der Bestrahlungseinheit 10, der Steuereinrichtung 30 und der Anzeigeeinrichtung 35 einstückig miteinander ausgeführt sein.
  • Die Bestrahlungseinheit 10 beinhaltet zum Beispiel einen Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl (FIB) 11, einen Elektronenstrahl-(EB)-Zylinder 12 und eine Probenkammer 13.
  • Der Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 strahlt einen fokussierten Ionenstrahl B1 aus, der erhalten wird, indem ein vorbestimmter Typ von Ionen fokussiert wird. Der fokussierte Ionenstrahl B1 ist ein Beispiel für einen Ladungsteilchenstrahl. Der Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 beinhaltet zum Beispiel eine Ionenquelle, eine Ionenbeschleunigungseinheit und eine Ionenbestrahlungseinheit. Die Ionenquelle erzeugt Ionen. Die Ionenbeschleunigungseinheit legt in einer Ionenbeschleunigungsrichtung ein elektrisches Feld an die durch die Ionenquelle erzeugten Ionen an, wodurch die Ionen beschleunigt werden. Die Ionenbeschleunigungsrichtung ist eine Richtung entlang einer Mittelachse des Zylinders für einen fokussierten Ionenstrahl 11 und ist eine Richtung, die auf eine Emissionsöffnung gerichtet ist, zu welcher der fokussierte Ionenstrahl B1 des Zylinders für einen fokussierten Ionenstrahl 11 von der Ionenquelle des Zylinders für einen fokussierten Ionenstrahl 11 emittiert wird. Die Ionenbestrahlungseinheit beinhaltet elektrostatische Linsen und legt durch die elektrostatischen Linsen ein elektrisches Feld an die durch die Ionenbeschleunigungseinheit beschleunigten Ionen an, wodurch die Ionen fokussiert werden. Anschließend strahlt die Ionenbestrahlungseinheit die fokussierten Ionen von der Emissionsöffnung in einem vorbestimmten Bestrahlungsbereich als fokussierten Ionenstrahl B1 aus. Der Bestrahlungsbereich wird später beschrieben. Die elektrostatische Linse kann vom Beschleunigungstyp oder vom Verzögerungstyp sein. Darüber hinaus beinhaltet die Ionenbestrahlungseinheit Magnetfeldlinsen und kann derart aufgebaut sein, dass sie durch die Magnetfeldlinsen ein Magnetfeld an die durch die Ionenbeschleunigungseinheit beschleunigten Ionen anlegt, wodurch die Ionen fokussiert werden.
  • Der Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 ist in die Probenkammer 13 eingesetzt. Die Probenkammer 13 beinhaltet einen Objekttisch 14, der als Probentisch dient, auf dem eine Probe platziert wird, und eine Objekttischantriebseinheit, welche die Position und die Stellung des Objekttisches 14 auf Aufforderung seitens der Steuereinrichtung 30 verändert. Wenn die Position und die Stellung des Objekttisches 14 mit einer Bezugsposition und einer Bezugsstellung zusammenfallen, bei denen es sich um eine vorab bestimmte Position und Stellung handelt, wird der Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 an einer Position angebracht, an welcher die Mittelachse des Zylinders für einen fokussierten Ionenstrahl 11 rechtwinklig zu einer Oberseite des Objekttisches 14 ist. Darüber hinaus wird der Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 an einer Position angebracht, an welcher der fokussierte Ionenstrahl B1 zu einer vorbestimmten Bestrahlungszone ausgestrahlt werden kann. Die Bestrahlungszone ist eine Zone, die auf einer Ebene entlang der Oberseite des Objekttisches 14 festgelegt wird, wenn die Position und die Stellung des Objekttisches 14 mit der Bezugsposition und der Bezugsstellung zusammenfallen. Im Folgenden wird beispielhaft ein Fall beschrieben, in dem die Bestrahlungszone eine Zone ist, die in dem obigen Fall an einer Innenseite der Oberseite des Objekttisches 14 eingestellt wird. Alternativ dazu kann die Bestrahlungszone eine Zone beinhalten, die in einem Bereich eingestellt ist, der die Oberseite des Objekttisches 14 in dem obigen Fall teilweise oder zur Gänze einschließt. Darüber hinaus ist die Bestrahlungszone stets feststehend und wird nicht zusammen mit der Oberseite des Objekttisches 14 bewegt, selbst wenn die Objekttischantriebseinheit die Position und die Stellung des Objekttisches 14 verändert. D.h. die Objekttischantriebseinheit kann die Position und die Stellung des Objekttisches 14 verändern, was es ermöglicht, die auf der Oberseite des Objekttisches 14 platzierte Probe relativ zur Bestrahlungszone zu verschieben oder zu neigen. Eine in 1 dargestellte Probe S ist ein Beispiel für die Probe.
  • Der Elektronenstrahlzylinder 12 strahlt einen Elektronenstrahl B2 aus, der erhalten wird, indem Elektronen fokussiert werden. Der Elektronenstrahl B2 ist ein Beispiel für den Ladungsteilchenstrahl. Der Elektronenstrahlzylinder 12 beinhaltet zum Beispiel eine Elektronenquelle (zum Beispiel eine Elektronenkanone), eine Elektronenbeschleunigungseinheit und eine Elektronenbestrahlungseinheit. Die Elektronenquelle erzeugt Elektronen. Die Elektronenbeschleunigungseinheit legt in einer Elektronenbeschleunigungsrichtung ein elektrisches Feld an die durch die Elektronenquelle erzeugten Elektronen an, wodurch die Elektronen beschleunigt werden. Die Elektronenbeschleunigungsrichtung ist eine Richtung entlang einer Mittelachse des Elektronenstrahlzylinders 12 und ist eine Richtung, die auf eine Emissionsöffnung gerichtet ist, zu welcher der Elektronenstrahl B2 des Elektronenstrahlzylinders 12 von der Elektronenquelle des Elektronenstrahlzylinders 12 emittiert wird. Die Elektronenbestrahlungseinheit beinhaltet elektrostatische Linsen und legt durch die elektrostatischen Linsen ein elektrisches Feld an die durch die Elektronenbeschleunigungseinheit beschleunigten Elektronen an, wodurch die Elektronen fokussiert werden. Anschließend strahlt die Elektronenbestrahlungseinheit die fokussierten Elektronen als Elektronenstrahl B2 von der Emissionsöffnung aus. Die elektrostatische Linse kann vom Beschleunigungstyp oder vom Verzögerungstyp sein. Darüber hinaus beinhaltet die Elektronenbestrahlungseinheit Magnetfeldlinsen und kann derart aufgebaut sein, dass sie durch die Magnetfeldlinsen ein Magnetfeld an die durch die Elektronenbeschleunigungseinheit beschleunigten Elektronen anlegt, wodurch die Elektronen fokussiert werden. Die Magnetfeldlinse kann in diesem Fall eine Linse mit Semi-in-Lens-Modus sein, bei dem ein Magnetfeld der Linse derart aus dem Elektronenstrahlzylinder 12 entweicht, dass eine Probe in dem Magnetfeld angeordnet ist, oder sie kann eine Linse vom Out-Lens-Modus sein, bei dem das Magnetfeld der Linse nicht aus dem Elektronenstrahlzylinder 12 entweicht.
  • Der Elektronenstrahlzylinder 12 ist zusammen mit dem Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 in der Probenkammer 13 untergebracht. Wenn die Position und die Stellung des Objekttisches 14 mit der Bezugsposition und der Bezugsstellung zusammenfallen, die als Bezüge dienen, wird der Elektronenstrahlzylinder 12 an einer Position angebracht, an der die Mittelachse des Elektronenstrahlzylinders 12 in Bezug auf die Oberseite des Objekttisches 14 um einen vorbestimmten Winkel geneigt ist. Darüber hinaus wird der Elektronenstrahlzylinder 12 an einer Position angebracht, an welcher der Elektronenstrahl B2 zu der vorstehend erwähnten Bestrahlungszone ausgestrahlt werden kann.
  • Darüber hinaus beinhaltet die Bestrahlungseinheit 10 einen Sekundärelektronen-Detektor 16, einen EDS-Detektor 17 und einen EBSD-Detektor 18. Zudem kann die Bestrahlungseinheit 10 derart aufgebaut sein, dass sie andere Detektoren wie z.B. einen Reflexionselektronendetektor und einen Transmissionselektronendetektor anstelle eines Teils oder von allen aus den vorstehend genannten Elementen beinhaltet, oder dass sie andere Detektoren wie z.B. den Reflexionselektronendetektor und den Transmissionselektronendetektor zusätzlich zu dem Teil oder allen beinhaltet. Der Reflexionselektronendetektor ist ein Detektor, der wenigstens einen Teil der Elektronen des Elektronenstrahls B2 und der durch die Probe reflektierten Elektronen detektiert. Der Transmissionselektronendetektor ist ein Detektor, der wenigstens einen Teil der Elektronen des Elektronenstrahls B2 und der durch die Probe durchgelassenen Elektronen detektiert.
  • Der Sekundärelektronen-Detektor 16 detektiert die Energie der Elektronen, die von der Probe erzeugt werden, wenn die Probe mit dem fokussierten Ionenstrahl B1 bestrahlt wird. Die Elektronen beinhalten durch den fokussierten Ionenstrahl B1 zerstreute Rückstoßelektronen unter den in der Probe enthaltenen Elektronen und dergleichen. Darüber hinaus detektiert der Sekundärelektronen-Detektor 16 die Energie der Elektronen, die von der Probe erzeugt werden, wenn die Probe mit dem Elektronenstrahl B2 bestrahlt wird. Die Elektronen beinhalten durch den Elektronenstrahl B2 zerstreute Rückstoßelektronen unter den in der Probe enthaltenen Elektronen, durch die Probe reflektierte Reflexionselektronen unter den in dem Elektronenstrahl B2 enthaltenen Elektronen und dergleichen. Der Sekundärelektronen-Detektor 16 gibt ein Signal aus, das Informationen beinhaltet, welche der Steuereinrichtung 30 die Energie der detektierten Elektronen anzeigen.
  • Der EDS-Detektor 17 detektiert die Energie eines Röntgenstrahls, der von der Probe erzeugt wird, wenn die Probe mit dem Elektronenstrahl B2 bestrahlt wird. Der Röntgenstrahl, der von der Probe erzeugt wird, beinhaltet einen charakteristischen Röntgenstrahl, der einzigartig für jede die Probe bildende Substanz ist. Die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 kann die die Probe bildende Substanz durch den charakteristischen Röntgenstrahl bestimmen. Der EDS-Detektor 17 gibt ein Signal aus, das Informationen enthält, welche der Steuereinrichtung 30 die Energie des detektierten Röntgenstrahls anzeigen.
  • Der EBSD-Detektor 18 detektiert eine Intensitätsverteilung (ein Beugungsmuster) der Elektronen, die durch eine an einem Querschnitt einer Probe auftretende Rückstreubeugung des Elektronenstrahls erzeugt wird, d.h. ein EBSD-Muster, wenn die Probe ein kristallines Material ist und der Querschnitt der Probe mit dem Elektronenstrahl B2 bestrahlt wird. Das in dem Querschnitt erzeugte EBSD-Muster stellt eine Kristallstruktur (d.h. ein Kristallsystem, eine Kristallausrichtung und dergleichen) des Querschnitts dar. Die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 kann durch das EBSD-Muster eine chemische Zusammensetzung des Querschnitt bestimmen. Der EBSD-Detektor 18 gibt ein Signal aus, das Informationen enthält, die der Steuereinrichtung 30 das detektierte EBSD-Muster anzeigen.
  • Darüber hinaus ist die Bestrahlungseinheit 10 durch ein Kabel kommunizierend mit der Steuereinrichtung 30 verbunden. Auf diese Weise führt jedes von dem Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11, dem Elektronenstrahlzylinder 12, dem Objekttisch 14, dem Sekundärelektronen-Detektor 16, dem EDS-Detektor 17 und dem EBSD-Detektor 18, die in der Bestrahlungseinheit 10 vorgesehen sind, basierend auf einem seitens der Steuereinrichtung 30 erfassten Steuersignal einen Vorgang aus. Die drahtgebundene Kommunikation über das Kabel erfolgt zum Beispiel durch Standards wie z.B. Ethernet (eingetragene Marke) und USB (Universal Serial Bus). Darüber hinaus kann die Bestrahlungseinheit 10 derart aufgebaut sein, dass sie mit der Steuereinrichtung 30 durch eine drahtlose Kommunikation verbunden ist, die durch einen Kommunikationsstandard wie z.B. Wi-Fi (eingetragene Marke) erfolgt.
  • Zudem kann die Bestrahlungseinheit 10 derart aufgebaut sein, dass sie keinen von dem Sekundärelektronen-Detektor 16, dem EDS-Detektor 17 und dem EBSD-Detektor 18 beinhaltet. Darüber hinaus kann die Bestrahlungseinheit 10 derart aufgebaut sein, dass sie einen anderen Detektor anstelle eines beliebigen aus dem Sekundärelektronen-Detektor 16, dem EDS-Detektor 17 und dem EBSD-Detektor 18 beinhaltet. Darüber hinaus kann die Bestrahlungseinheit 10 derart aufgebaut sein, dass sie zwei oder mehr Detektoren anstelle von allen aus dem Sekundärelektronen-Detektor 16, dem EDS-Detektor 17 und dem EBSD-Detektor 18 beinhaltet.
  • Die Steuereinrichtung 30 ist zum Beispiel eine Informationsverarbeitungsvorrichtung wie z.B. ein Desktop-PC (Personal Computer), ein Notebook-PC und eine Workstation. Alternativ dazu kann die Steuereinrichtung 30 andere Informationsverarbeitungsvorrichtungen wie z.B. einen Tablet-PC, ein multifunktionales Mobiltelefon (ein Smartphone) und einen PDA (persönlicher digitaler Assistent) beinhalten.
  • Die Steuereinrichtung 30 steuert die Bestrahlungseinheit 10. Beispielsweise ermöglicht es die Steuereinrichtung 30 der Bestrahlungseinheit 10, die Oberfläche der Probe mit einem Ladungsteilchenstrahl zu bestrahlen. Darüber hinaus ermöglicht es die Steuereinrichtung 30 der Bestrahlungseinheit 10, Ladungsteilchen zu detektieren, die von der Oberfläche der Probe durch die Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl mittels der Bestrahlungseinheit 10 erzeugt wurden. Die Steuereinrichtung 30 erfasst ein Signal, das durch die Detektion der Ladungsteilchen erhalten wird, von der Bestrahlungseinheit 10 und bildet (erzeugt) basierend auf dem erfassten Signal ein Bild, das die Oberfläche darstellt. Die Steuereinrichtung 30 ermöglicht es der Anzeigeeinrichtung 35, das gebildete Bild anzuzeigen.
  • Darüber hinaus steuert die Steuereinrichtung 30 die Bestrahlungseinheit 10 derart, dass diese eine probenbasierte Arbeit durchführt, die durchgeführt wird, indem die Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird. Die probenbasierte Arbeit beinhaltet zum Beispiel Arbeiten zum Ätzen der Oberfläche der Probe sowie Arbeiten zum Erzeugen des Bilds, das die Oberfläche der Probe darstellt, wobei es der Anzeigeeinrichtung 35 ermöglicht wird, das erzeugte Bild anzuzeigen, wie dies vorstehend beschrieben wurde. Alternativ dazu kann die probenbasierte Arbeit eine andere Arbeit beinhalten, die durchgeführt wird, indem die Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird.
  • Darüber hinaus empfängt die Steuereinrichtung 30 die vorstehend erwähnten Beobachtungsbedingungen. Basierend auf den empfangenen Beobachtungsbedingungen und einem oder mehreren ersten Beobachtungsparametern, die in der Datenbank D gespeichert sind, die vorab gespeichert wurde, leitet die Steuereinrichtung 30 zweite Beobachtungsparameter ab, die für die Beobachtungsbedingungen geeignet sind. D.h. die Steuereinrichtung 30 führt den vorstehend erwähnten Parameterableitungsprozess aus. Die Datenbank D kann derart aufgebaut sein, dass sie durch die Steuereinrichtung 30 ausgehend von einem Server erfasst wird, der mit der Steuereinrichtung 30 über ein Netz verbunden ist, anstatt vorab in der Steuereinrichtung 30 gespeichert zu werden. In diesem Fall erfasst die Steuereinrichtung 30 die Datenbank D vorab ausgehend von dem Server und speichert die Datenbank D. Die Steuereinrichtung 30 steuert die Bestrahlungseinheit 10 basierend auf den empfangenen Beobachtungsbedingungen und den abgeleiteten zweiten Beobachtungsparametern.
  • Zudem kann die Steuereinrichtung 30 einen anderen Prozess ausführen, wie z.B. einen Prozess, bei dem es der Bestrahlungseinheit 10 ermöglicht wird, einen Abscheidungsfilm auf der Probe zu bilden, um die Oberfläche der Probe zu schützen; im Folgenden wird jedoch auf eine Beschreibung von durch die Steuereinrichtung 30 auszuführenden Prozessen mit Ausnahme der Prozesse, die zur Beschreibung des Parameterableitungsprozesses notwendig sind, verzichtet.
  • Die Anzeigeeinrichtung 35 ist zum Beispiel eine Anzeige, die mit einem Flüssigkristallanzeigefeld oder einem organischen EL-(Elektrolumineszenz)-Anzeigefeld als vorstehend erwähnte Anzeigeeinheit versehen ist. Die Anzeigeeinrichtung 35 zeigt auf der Anzeigeeinheit verschiedene Bilder an, die seitens der Steuereinrichtung 30 erfasst wurden. Zudem kann die Anzeigeeinrichtung 35 derart aufgebaut sein, dass sie ein Berührungsfeld beinhaltet. In diesem Fall kann die Anzeigeeinrichtung 35 eine Anzeige vom Tablet-Typ mit einem Berührungsfeld oder eine Anzeige vom stationären Typ mit einem Berührungsfeld beinhalten. Darüber hinaus kann die Anzeigeeinrichtung 35 in diesem Fall die Steuereinrichtung 30 basierend auf einem Bedienungsvorgang betreiben, der seitens eines Benutzers empfangen wurde.
  • Im Folgenden wird ein Hardware-Aufbau der Steuereinrichtung 30 unter Bezugnahme auf 2 beschrieben. 2 ist ein Diagramm, das ein Beispiel des Hardware-Aufbaus der Steuereinrichtung 30 zeigt.
  • Die Steuereinrichtung 30 beinhaltet zum Beispiel eine CPU (zentrale Verarbeitungseinheit) 31, eine Speichereinheit 32, eine Eingabeempfangseinheit 33 und eine Kommunikationseinheit 34. Diese Elemente sind über eine Sammelleitung (als Sammelleitung in 2 dargestellt) kommunizierend miteinander verbunden. Die Steuereinrichtung 30 kommuniziert über die Kommunikationseinheit 34 mit der Bestrahlungseinheit 10 und der Anzeigeeinrichtung 35.
  • Die CPU 31 führt verschiedene Programme aus, die in der Speichereinheit 32 gespeichert sind. Die Speichereinheit 32 beinhaltet zum Beispiel ein HDD (Festplattenlaufwerk), ein SDD (Solid-State-Laufwerk), einen EEPROM (elektrisch löschbaren programmierbaren Nur-Lese-Speicher), einen ROM (Nur-Lese-Speicher), einen RAM (Arbeitsspeicher) und dergleichen. Die Speichereinheit 32 kann eine Speichereinrichtung vom externen befestigbaren Typ beinhalten, die durch einen digitalen Eingangs-/Ausgangsport und dergleichen, wie z.B. einen USB-Anschluss, angeschlossen ist, anstatt in die Steuereinrichtung 30 eingebettet zu sein. Die Speichereinheit 32 speichert verschiedene Arten von Informationen, Bildern, verschiedene Programme, die Datenbank D und dergleichen, die durch die Steuereinrichtung 30 verarbeitet werden.
  • Die Eingabeempfangseinheit 33 ist zum Beispiel eine Eingabeeinrichtung wie z.B. eine Tastatur, eine Maus und ein Touchpad. Die Eingabeempfangseinheit 33 kann eine andere Eingabeeinrichtung wie z.B. ein Berührungsfeld beinhalten, das einstückig mit der Anzeigeeinheit ausgeführt ist, die in der Anzeigeeinrichtung 35 vorgesehen ist, wenn die Steuereinrichtung 30 einstückig mit der Anzeigeeinrichtung 35 ausgeführt ist.
  • Die Kommunikationseinheit 34 beinhaltet zum Beispiel einen digital Eingangs-/Ausgangsport wie z.B. einen USB-Anschluss, einen Ethernet-Anschluss (eingetragene Marke) und dergleichen.
  • Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf 3 ein funktioneller Aufbau der Steuereinrichtung 30 beschrieben. 3 ist ein Diagramm, das ein Beispiel des funktionellen Aufbaus der Steuereinrichtung 30 zeigt.
  • Die Steuereinrichtung 30 beinhaltet die Speichereinheit 32, die Eingabeempfangseinheit 33 und eine Steuereinheit 36.
  • Die Steuereinheit 36 steuert die gesamte Steuereinrichtung 30. Die Steuereinheit 36 beinhaltet einen Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361, einen Bilderzeugungsabschnitt 362, einen Ableitungsabschnitt 363 und einen Anzeigesteuerungsabschnitt 367. Diese in der Steuereinheit 36 vorgesehenen funktionellen Abschnitte werden zum Beispiel implementiert, wenn die CPU 31 die verschiedenen Programme ausführt, die in der Speichereinheit 32 gespeichert sind. Darüber hinaus kann es sich bei einem Teil oder allen aus den funktionellen Abschnitten um funktionelle Hardware-Abschnitte wie z.B. eine LSI-Schaltung (Schaltung mit hohem Integrationsgrad) und eine ASIC (anwendungsspezifische integrierte Schaltung) handeln.
  • Der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 steuert die gesamte Bestrahlungseinheit 10. Der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 stellt in der Bestrahlungseinheit 10 die Beobachtungsbedingungen, die von einem Benutzer durch die Eingabeempfangseinheit 33 eingegeben wurden, und zweite Beobachtungsparameter, die durch den Ableitungsabschnitt 363 abgeleitet wurden, ein. Basierend auf den eingestellten Beobachtungsbedingungen und zweiten Beobachtungsparametern ermöglicht es der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361, dass ein Ladungsteilchenstrahl auf einen oder beide von dem Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 und dem Elektronenstrahlzylinder 12 gestrahlt wird. Darüber hinaus erfasst der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 vom Sekundärelektronen-Detektor 16 ein Signal, das erhalten wird, indem die Elektronenenergie mit dem Sekundärelektronen-Detektor 16 detektiert wird. Darüber hinaus erfasst der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 vom EDS-Detektor 17 ein Signal, das erhalten wird, indem die Röntgenstrahlenergie mit dem EDS-Detektor 17 detektiert wird. Darüber hinaus erfasst der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 vom EBSD-Detektor 18 ein Signal, das erhalten wird, indem das EBSD-Muster mit dem EBSD-Detektor 18 detektiert wird.
  • Der Bilderzeugungsabschnitt 362 bildet ein SIM-Bild, ein SEM-Bild und dergleichen basierend auf dem Signal, das durch den Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 seitens des Sekundärelektronen-Detektors 16 erfasst wird. Darüber hinaus bildet der Bilderzeugungsabschnitt 362 eine EDS-Abbildung basierend auf dem Signal, das durch den Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 seitens des EDS-Detektors 17 erfasst wird. Darüber hinaus bildet der Bilderzeugungsabschnitt 362 eine EBSD-Abbildung basierend auf dem Signal, das durch den Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 seitens des EBSD-Detektors 18 erfasst wird.
  • Basierend auf den Beobachtungsbedingungen, die seitens eines Benutzers durch die Eingabeempfangseinheit 33 empfangen wurden, und der Datenbank D, die vorab in der Speichereinheit 32 gespeichert wurde, leitet der Ableitungsabschnitt 363 die zweiten Beobachtungsparameter ab, die für die Beobachtungsbedingungen geeignet sind.
  • Der Anzeigesteuerungsabschnitt 367 erzeugt verschiedene Schirmanzeigen, die auf der Anzeigeeinheit angezeigt werden sollen, die in der Anzeigeeinrichtung 35 vorgesehen ist. Der Anzeigesteuerungsabschnitt 367 gibt die erzeugten Schirmanzeigen an die Anzeigeeinrichtung 35 aus und ermöglicht es der Anzeigeeinheit, die Schirmanzeigen anzuzeigen. Darüber hinaus ermöglicht es der Anzeigesteuerungsabschnitt 367 der Anzeigeeinheit zum Beispiel, Bilder wie z.B. das SIM-Bild, das SEM-Bild, die EDS-Abbildung und die EBSD-Abbildung anzuzeigen, die durch den Bilderzeugungsabschnitt 362 gebildet wurden.
  • Im Folgenden wird der durch die Steuereinrichtung 30 durchgeführte Parameterableitungsprozess unter Bezugnahme auf 4 beschrieben. 4 ist ein Fließdiagramm, das ein Beispiel des Ablaufs des Parameterableitungsprozesses zeigt, der durch die Steuereinrichtung 30 ausgeführt wird.
  • Die Steuereinrichtung 30 wiederholt die Prozesse der Schritte S120 bis S170 für jede von einer oder mehreren Proben, die vorab bestimmt wurden (Schritt S110).
  • Die Steuereinrichtung 30 wartet, bis die Probe, die in Schritt S110 durch einen Benutzer ausgewählt wurde, durch den Benutzer auf einer Oberseite des Objekttisches 14 platziert wurde (Schritt S120). Insbesondere wartet die Steuereinrichtung 30, bis ein Bedienungsvorgang, der seitens des Benutzers empfangen wurde und den Parameterableitungsprozess gestartet hat, über einen Bedienungsbildschirm empfangen wird, der durch den Anzeigesteuerungsabschnitt 367 vorab auf der Anzeigeeinheit der Anzeigeeinrichtung 35 angezeigt wurde. Der Bedienungsbildschirm ist eine Schirmanzeige, die verwendet wird, wenn der Benutzer die Steuereinrichtung 30 bedient. Wenn dieser Bedienungsvorgang empfangen wurde, stellt die Steuereinrichtung 30 fest, dass die Probe durch den Benutzer auf der Oberseite platziert wurde, und startet den Prozess von Schritt S130.
  • Nachdem der Prozess von Schritt S120 durchgeführt wurde, empfängt der Ableitungsabschnitt 363 die Beobachtungsbedingungen seitens des Benutzers über den Bedienungsbildschirm durch die Eingabeempfangseinheit 33 (Schritt S130). Insbesondere empfängt der Ableitungsabschnitt 363 in dem Beispiel Kombinationen aus einer Beschleunigungsspannung, einem Strahlstrom, einem Linsenmodus, einem Typ eines Halters, einem Material einer Probe und der Position des Objekttisches 14 unter einer Vielzahl von Parametern, die in der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 eingestellt werden können, als Beobachtungsbedingungen. Die Beobachtungsbedingungen können Kombinationen anderer Parameter anstelle der Kombinationen der obigen Parameter beinhalten.
  • In dem Beispiel ist die Beschleunigungsspannung eine Spannung zur Beschleunigung eines vorbestimmten Typs von Ionen in Richtung auf den Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 oder eine Spannung zur Beschleunigung von Elektronen in Richtung auf den Elektronenstrahlzylinder 12.
  • In dem Beispiel ist der Strahlstrom ein Strahlstrom des fokussierten Ionenstrahls B1, der durch den Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 ausgestrahlt werden soll, oder ein Strahlstrom des Elektronenstrahls B2, der durch den Elektronenstrahlzylinder 12 ausgestrahlt werden soll.
  • In dem Beispiel ist der Linsenmodus ein Wert, der einen Betriebsmodus einer Objektivlinse der elektrostatischen Linsen repräsentiert, die in dem Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 vorgesehen sind, oder ein Wert, der einen Betriebsmodus einer Objektivlinse der elektrostatischen Linsen (oder der Magnetfeldlinsen) repräsentiert, die in dem Elektronenstrahlzylinder 12 vorgesehen sind. Jede der in dem Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 und dem Elektronenstrahlzylinder 12 vorgesehenen Objektivlinsen weist eine Vielzahl von Betriebsmodi auf. Was die Vielzahl von Betriebsmodi betrifft, so werden bei Betriebsmodi, die durch einen Benutzer als einander ähnlich bestimmt wurden, Werte, die sich nahe beieinander befinden (Werte mit einer geringen Differenz) als Werte, welche die Betriebsmodi repräsentieren, einander zugeordnet.
  • In dem Beispiel ist der Haltertyp ein Wert, der den Typ eines Halters repräsentiert, der die Probe hält, wenn die Probe auf der Oberseite des Objekttisches 14 platziert ist. Beim Platzieren der Probe auf der Oberseite des Objekttisches 14 ermöglicht es der Benutzer der Probe, an einem Halter eines Typs gehalten zu werden, der durch den Benutzer ausgewählt wird, und befestigt den Halter an der Oberseite, wodurch die Probe an der Oberseite platziert wird. Was die Vielzahl von Typen betrifft, so werden bei Typen, die durch den Benutzer als einander ähnlich bestimmt wurden, Werte, die sich nahe beieinander befinden (Werte mit einer geringen Differenz) als Werte, welche die Typen repräsentieren, einander zugeordnet.
  • In dem Beispiel ist die Position des Objekttisches 14 eine durch ein dreidimensionales Koordinatensystems 1C repräsentierte Position des Objekttisches 14, die einer vorbestimmten Position der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 zugeordnet ist.
  • Darüber hinaus ist jedes von der Beschleunigungsspannung, dem Strahlstrom, dem Linsenmodus, dem Haltertyp, dem Material der Probe und der Position des Objekttisches 14 einer Priorität zugeordnet, die eine Reihenfolge des Vergleichs angibt, wenn die Beobachtungsbedingungen und die ersten Beobachtungsparameter, die in der Datenbank D gespeichert sind, miteinander verglichen werden. Die Priorität sinkt in folgender Reihenfolge: Beschleunigungsspannung, Strahlstroms, Linsenmodus, Haltertyp, Material der Probe und Position des Objekttisches 14. D.h. die höchste Priorität ist der Beschleunigungsspannung zugeordnet, und die niedrigste Priorität ist der Position des Objekttisches 14 zugeordnet.
  • 5 ist eine Tabelle, die ein Beispiel für Beobachtungsbedingungen zeigt, die in dem Ableitungsabschnitt 363 seitens des Benutzers über den Bedienungsbildschirm durch die Eingabeempfangseinheit 33 empfangen wurden. Wie in 5 dargestellt, empfängt der Ableitungsabschnitt 363 Kombinationen aus der Beschleunigungsspannung, dem Strahlstrom, dem Linsenmodus, dem Haltertyp, dem Material der Probe und der Position des Objekttisches 14 unter der Vielzahl von Parametern, die in der Bestrahlungseinheit 10 als Beobachtungsbedingungen eingestellt werden können.
  • Nachdem der Prozess von Schritt S130 durchgeführt wurde, liest der Ableitungsabschnitt 363 die vorab in der Speichereinheit 32 gespeicherte Datenbank D aus der Speichereinheit 32 aus (Schritt S140). Im Folgenden wird der Prozess von Schritt S140 beschrieben.
  • Die vorab in der Speichereinheit 32 gespeicherte Datenbank D speichert eine Vielzahl von ersten Beobachtungsparametern und zweiten Beobachtungsparametern, die jeweils den ersten Beobachtungsparametern zugeordnet sind, wie dies in 6 dargestellt ist. 6 ist eine Tabelle, die beispielhaft einen oder mehrere erste Beobachtungsparameter, die in der Datenbank gespeichert sind, die vorab in der Speichereinheit gespeichert wurde, und die zweiten Beobachtungsparameter zeigt, die jeweils den ersten Beobachtungsparametern zugeordnet sind.
  • Die ersten Beobachtungsparameter sind Kombinationen von Parametern, die vom gleichen Typ sind wie die in dem Bilderzeugungsabschnitt 362 seitens des Benutzers empfangenen Eingabeparameter unter der Vielzahl von Parametern, die in der Datenbank D gespeichert sind, die vorab in der Speichereinheit 32 gespeichert wurde. D.h. in dem Beispiel beinhalten die ersten Beobachtungsparameter jeweils die Beschleunigungsspannung, den Strahlstrom, den Linsenmodus, den Haltertyp, das Material der Probe und die Position des Objekttisches 14. Darüber hinaus werden die Beschleunigungsspannung, der Strahlstrom, der Linsenmodus, der Haltertyp, das Material der Probe und die Position des Objekttisches 14, die in den ersten Beobachtungsparametern enthalten sind, jeweils der vorstehend erwähnten Priorität zugeordnet. Die Priorität sinkt in folgender Reihenfolge: Beschleunigungsspannung, Strahlstroms, Linsenmodus, Haltertyp, Material der Probe und Position des Objekttisches 14. D.h. die höchste Priorität ist der Beschleunigungsspannung zugeordnet, und die niedrigste Priorität ist der Position des Objekttisches 14 zugeordnet.
  • In dem Beispiel sind die zweiten Beobachtungsparameter Kombinationen von jedem aus einem Ausrichter, einer Strahlverschiebung, einem OL-Wert und einem Stigma-Wert, die in dem Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 oder dem Elektronenstrahlzylinder 12 eingestellt werden, und jedem von einem Kontrastwert und einem Helligkeitswert, die in einem Teil oder in allen aus dem Sekundärelektronen-Detektor 16, dem EDS-Detektor 17 und dem EBSD-Detektor 18 eingestellt werden. Jedes aus dem Ausrichter, der Strahlverschiebung, dem OL-Wert und dem Stigma-Wert, die in dem Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 oder dem Elektronenstrahlzylinder 12 eingestellt werden, ist ein Beispiel für die vorstehend erwähnten Strahlbestrahlungsparameter. Darüber hinaus ist jeder aus dem Kontrastwert und dem Helligkeitswert, die in einem Teil oder allen aus dem Sekundärelektronen-Detektor 16, dem EDS-Detektor 17 und dem EBSD-Detektor 18 eingestellt werden, ein Beispiel für die vorstehend erwähnten Detektionsbedingungen.
  • Nachdem der Prozess von Schritt S140 durchgeführt wurde, leitet der Ableitungsabschnitt 363 die für die Beobachtungsbedingungen geeigneten zweiten Beobachtungsparameter basierend auf den seitens des Benutzers in Schritt S130 empfangenen Beobachtungsbedingungen und den in der Datenbank D gespeicherten ersten Beobachtungsparametern ab, die in Schritt S140 aus der Speichereinheit 32 ausgelesen wurden (Schritt S150). Im Folgenden wird der Prozess von Schritt S150 beschrieben.
  • Der Ableitungsabschnitt 363 vergleicht die Beobachtungsbedingungen, die in Schritt S130 seitens des Benutzers empfangen wurden, mit einem oder mehreren ersten Beobachtungsparametern, die in der Datenbank D gespeichert sind, die in Schritt S140 aus der Speichereinheit 32 ausgelesen wird. Insbesondere vergleicht der Ableitungsabschnitt 363 die in den Beobachtungsbedingungen enthaltenen Eingabeparameter mit den in den ersten Beobachtungsparametern enthaltenen Eingabeparametern in der Reihenfolge der Priorität, die jedem Eingabeparameter zugeordnet wurde.
  • Beispielsweise berechnet der Ableitungsabschnitt 363 jeweils die Differenzen zwischen den Eingabeparametern mit der höchsten Priorität unter den in den empfangenen Beobachtungsbedingungen enthaltenen Eingabeparametern und den Eingabeparametern mit der höchsten Priorität unter den in den ersten Beobachtungsparametern enthaltenen Eingabeparametern. Anschließend bestimmt der Ableitungsabschnitt 363 erste Beobachtungsparameter, die einen Eingabeparameter mit der kleinsten berechneten Differenz beinhalten. Danach berechnet der Ableitungsabschnitt 363 jeweils die Differenzen zwischen Eingabeparametern mit einer zweithöchsten Priorität unter den in den empfangenen Beobachtungsbedingungen enthaltenen Eingabeparametern und Eingabeparametern mit einer zweithöchsten Priorität unter den Eingabeparametern, die in dem bestimmten einen oder den mehreren ersten Beobachtungsparametern enthalten sind. Anschließend bestimmt der Ableitungsabschnitt 363 erste Beobachtungsparameter, die einen Eingabeparameter mit der kleinsten berechneten Differenz beinhalten. Der Ableitungsabschnitt 363 wiederholt diesen Prozess, bis der Prozess abgeschlossen ist, der Parameter mit der niedrigsten Priorität der Parameter verwendet, welche die Beobachtungsbedingungen repräsentieren. Der Ableitungsabschnitt 363 bestimmt schließlich die restlichen ersten Beobachtungsparameter als erste Beobachtungsparameter, die den Beobachtungsbedingungen am nächsten sind. Anschließend leitet der Ableitungsabschnitt 363 zweite Beobachtungsparameter, die den bestimmten ersten Beobachtungsparametern zugeordnet sind, als zweite Beobachtungsparameter ab, die den Beobachtungsbedingungen wahrscheinlich entsprechen, d.h. als zweite Beobachtungsparameter, die für die Beobachtungsbedingungen geeignet sind. Wenn schließlich eine Vielzahl von ersten Beobachtungsparametern bleibt, kann der Ableitungsabschnitt 363 derart aufgebaut sein, dass er erste Beobachtungsparameter, die zufällig aus der Vielzahl von ersten Beobachtungsparametern ausgewählt wurden, als erste Beobachtungsparameter auswählt, die den Beobachtungsbedingungen am nächsten sind, um erste Beobachtungsparameter, die vorbestimmte Bedingungen erfüllen, unter der Vielzahl von ersten Beobachtungsparametern als erste Beobachtungsparameter auszuwählen, die den Beobachtungsbedingungen am nächsten sind, oder um erste Beobachtungsparameter, die durch andere Verfahren aus der Vielzahl von ersten Beobachtungsparametern ausgewählt wurden, als erste Beobachtungsparameter auszuwählen, die den Beobachtungsbedingungen am nächsten sind.
  • Zudem kann der Ableitungsabschnitt 363 derart aufgebaut sein, dass er zweite Beobachtungsparameter durch andere Verfahren aus der Datenbank D ableitet, wobei er z.B. so aufgebaut sein kann, dass er die zweiten Beobachtungsparameter, die wahrscheinlich den Beobachtungsbedingungen entsprechen, basierend auf einem maschinellen Lernalgorithmus, der es der Datenbank D ermöglicht zu lernen, und den empfangenen Beobachtungsbedingungen aus der Datenbank D ableitet.
  • Nachdem der Prozess von Schritt S150 durchgeführt wurde, stellt der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 in der Bestrahlungseinheit 10 die in Schritt S150 abgeleiteten zweiten Beobachtungsparameter und die in Schritt S130 empfangenen Beobachtungsbedingungen ein (Schritt S160). Insbesondere stellt der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 jedes von der Beschleunigungsspannung und dem Strahlstrom, die in den Beobachtungsbedingungen enthalten sind, in einem oder beiden, wie durch den Benutzer ausgewählt, von dem Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 und dem Elektronenstrahlzylinder 12 ein. Darüber hinaus stellt der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 den in den Beobachtungsbedingungen enthaltenen Linsenmodus in der Objektivlinse ein, die einem oder beidem, wie durch den Benutzer ausgewählt, von dem Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 und dem Elektronenstrahlzylinder 12 vorgesehen ist. Darüber hinaus speichert der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 das in den Beobachtungsbedingungen enthaltene Material der Probe in der Speichereinheit 32. Darüber hinaus steuert der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 basierend auf der in den Beobachtungsbedingungen enthaltenen Position des Objekttisches 14 die Objekttischantriebseinheit, die in dem Objekttisch 14 vorgesehen ist, und ermöglicht, dass die Position des Objekttisches 14 mit einer entsprechenden Position zusammenfällt. Darüber hinaus stellt der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 jedes vom Ausrichter, der Strahlverschiebung, dem OL-Wert und dem Stigma-Wert, die in den zweiten Beobachtungsparametern enthalten sind, in einem oder beidem, wie durch den Benutzer ausgewählt, vom Zylinder für einen fokussierten Ionenstrahl 11 und dem Elektronenstrahlzylinder 12 ein. Darüber hinaus stellt der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 jeden vom Kontrastwert und vom Helligkeitswert, die in den zweiten Beobachtungsparametern enthalten sind, in einem oder beidem, wie durch den Benutzer ausgewählt, vom Sekundärelektronen-Detektor 16, vom EDS-Detektor 17 und vom EBSD-Detektor 18 ein.
  • Danach empfängt der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 jeden Eingabeparameter, der in der Bestrahlungseinheit 10 in Schritt S160 eingestellt wurde, und einen Bedienungsvorgang zur Feineinstellung jedes Ableitungsparameters seitens des Benutzers über den Bedienungsbildschirm durch die Eingabeempfangseinheit 33 (Schritt S165). Insbesondere wartet der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361, bis der Bedienungsvorgang empfangen wurde. Wenn ein Bedienungsvorgang zur Beendigung der Feineinstellung seitens des Benutzers über den Bedienungsbildschirm durch die Eingabeempfangseinheit 33 empfangen wird, führt der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 den Prozess von Schritt S170 durch.
  • Nachdem der Prozess von Schritt S165 durchgeführt wurde, steuert der Abschnitt zur Steuerung der Bestrahlungseinheit 361 die Bestrahlungseinheit 10 und bestrahlt die auf der Oberseite des Objekttisches 14 platzierte Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl, wodurch in Abhängigkeit von der Probe die vorbestimmte Arbeit durchgeführt wird (Schritt S170). Anschließend schreitet der Benutzer zum Schritt S130 fort und wählt eine nächste Probe aus.
  • Wie dies vorstehend beschrieben wurde, bestrahlt die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 gemäß der vorstehend erwähnten Ausführungsform eine Probe durch eine Bestrahlungseinheit (in dem Beispiel die Bestrahlungseinheit 10) mit einem Ladungsteilchenstrahl (in dem Beispiel mit dem fokussierten Ionenstrahl B1, dem Elektronenstrahl B2 und dergleichen), detektiert die Ladungsteilchen, die von der Probe durch die Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl erzeugt werden und bildet ein Bild basierend auf einem Signal, das durch die Detektion der Ladungsteilchen erhalten wird. Darüber hinaus empfängt die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 Beobachtungsbedingungen, leitet basierend auf den empfangenen Beobachtungsbedingungen und ersten Beobachtungsparametern, die in einer Speichereinheit (in dem Beispiel in der Speichereinheit 32 oder einem Server in einem Netz) gespeichert sind, zweite Beobachtungsparameter ab, die für die Beobachtungsbedingungen geeignet sind, und steuert die Bestrahlungseinheit basierend auf den zweiten Beobachtungsparametern. Auf diese Weise kann die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 die Effizienz der probenbasierten Arbeit verbessern, die durchgeführt wird, indem die Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird.
  • Darüber hinaus empfängt die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 als Beobachtungsbedingungen Kombinationen aus einem Teil oder allen aus einer Beschleunigungsspannung zur Beschleunigung des Ladungsteilchenstrahls, einem Strahlstrom des Ladungsteilchenstrahls, einem Linsenmodus, bei dem es sich um einen Betriebsmodus einer Objektivlinse zum Fokussieren des Ladungsteilchenstrahls handelt, einem Typ eines Halters zum Halten der Probe, einem Material der Probe und einer Objekttisch-Position, bei der es sich um eine Position eines Objekttisches zum Platzieren der Probe handelt. Darüber hinaus speichert die Speichereinheit der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 die Kombinationen als erste Beobachtungsparameter. Auf diese Weise kann die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 basierend auf den Kombinationen aus der Beschleunigungsspannung, dem Strahlstrom, dem Linsenmodus, dem Haltertyp, dem Material der Probe und der Position des Objekttisches die Effizienz der probenbasierten Arbeit verbessern, die durchgeführt wird, indem die Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird.
  • Darüber hinaus speichert die Speichereinheit der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 als zweite Beobachtungsparameter Kombinationen aus einem Teil oder allen aus einem oder mehreren Strahlbestrahlungsparametern, welche die Strahlbestrahlungsbedingungen repräsentieren, die mit der Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl durch die Bestrahlungseinheit in Zusammenhang stehen, und einem oder mehreren Detektionsparametern, welche die Detektionsbedingungen repräsentieren, die mit der Detektion der Ladungsteilchen in Zusammenhang stehen, die von der Probe aufgrund der Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl erzeugt werden. Auf diese Weise kann die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 basierend auf den Kombinationen aus einem Teil oder allen aus den Strahlbestrahlungsparametern und den Detektionsparametern die Effizienz der probenbasierten Arbeit verbessern, die durchgeführt wird, indem die Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird.
  • Darüber hinaus sind bei der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 die Strahlbestrahlungsparameter Kombinationen aus einem Teil oder allen aus einem Ausrichter, einer Strahlverschiebung, einem OL-Wert und einem Stigma-Wert, die in der Bestrahlungseinheit eingestellt werden, wenn es der Bestrahlungseinheit ermöglicht wird, den Ladungsteilchenstrahl auszustrahlen, und die Detektionsbedingungen sind Kombinationen aus einem oder beidem aus einem Kontrastwert und einem Helligkeitswert. Auf diese Weise kann die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 einen Teil oder alle aus dem Ausrichter, der Strahlverschiebung, dem OL-Wert und dem Stigma-Wert, dem Kontrastwert und dem Helligkeitswert basierend auf den empfangenen Beobachtungsbedingungen ableiten.
  • Darüber hinaus speichert die Speichereinheit der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 eine Datenbank (in dem Beispiel die Datenbank D), in der die ersten Beobachtungsparameter und die zweiten Beobachtungsparameter einander zugeordnet sind. Darüber hinaus leitet die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 basierend auf den empfangenen Beobachtungsbedingungen und den ersten Beobachtungsparametern diejenigen zweiten Beobachtungsparameter unter den in der Datenbank enthaltenen zweiten Beobachtungsparametern, die wahrscheinlich den Beobachtungsbedingungen entsprechen, als zweite Beobachtungsparameter ab, die für die Beobachtungsbedingung geeignet sind. Auf diese Weise kann es die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 einem Benutzer ermöglichen, die Arbeit zur Bestimmung der zweiten Beobachtungsparameter, die für die empfangenen Beobachtungsbedingungen geeignet sind, wegzulassen.
  • Darüber hinaus bestimmt die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 unter den in der Datenbank enthaltenen ersten Beobachtungsparametern erste Beobachtungsparameter, die den empfangenen Beobachtungsbedingungen am nächsten sind, und leitet zweite Beobachtungsparameter, die den bestimmten ersten Beobachtungsparametern zugeordnet sind, als zweite Beobachtungsparameter ab, die den Beobachtungsbedingungen wahrscheinlich entsprechen. Auf diese Weise kann es die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 basierend auf denjenigen ersten Beobachtungsparametern unter den in der Datenbank enthaltenen ersten Beobachtungsparametern, die den empfangenen Beobachtungsbedingungen am nächsten sind, einem Benutzer ermöglichen, die Arbeit zur Bestimmung der zweiten Beobachtungsparameter, die für die empfangenen Beobachtungsbedingungen geeignet sind, wegzulassen.
  • Darüber hinaus wird in der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 jedem der Parameter, die in den ersten Beobachtungsparametern enthalten sind, die in der Datenbank enthalten sind, eine Priorität zugeordnet. Darüber hinaus bestimmt die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 basierend auf der Priorität und den empfangenen Beobachtungsbedingungen diejenigen ersten Beobachtungsparameter unter den in der Datenbank enthaltenen ersten Beobachtungsparametern, die den Beobachtungsbedingungen am nächsten sind. Auf diese Weise kann es die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 basierend auf der Priorität einem Benutzer ermöglichen, die Arbeit zur Bestimmung der zweiten Beobachtungsparameter, die für die empfangenen Beobachtungsbedingungen geeignet sind, wegzulassen.
  • Darüber hinaus leitet die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 basierend auf einem maschinellen Lernalgorithmus, der es der Datenbank ermöglicht zu lernen, und den empfangenen Beobachtungsbedingungen die zweiten Beobachtungsparameter, die den Beobachtungsbedingungen wahrscheinlich entsprechen, aus der Datenbank ab. Auf diese Weise kann es die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 basierend auf dem maschinellen Lernalgorithmus einem Benutzer ermöglichen, die Arbeit zur Bestimmung der zweiten Beobachtungsparameter, die für die empfangenen Beobachtungsbedingungen geeignet sind, wegzulassen.
  • Darüber hinaus liest die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 die Datenbank aus einer in ihr vorgesehenen Speichereinheit (in dem Beispiel der Speichereinheit 32) aus. Auf diese Weise kann die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 basierend auf der Datenbank, die vorab in der Speichereinheit gespeichert wurde, die Effizienz der probenbasierten Arbeit verbessern, die durchgeführt wird, indem die Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird.
  • Darüber hinaus erfasst die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 die Datenbank von einer Speichereinheit (in dem Beispiel von einem Server in einem Netz) über das Netz. Auf diese Weise kann die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 basierend auf der von der Speichereinheit erfassten Datenbank die Effizienz der probenbasierten Arbeit verbessern, die durchgeführt wird, indem die Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird.
  • Darüber hinaus ist bei der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 die in der Speichereinheit gespeicherte Datenbank eine Datenbank, in der die ersten Beobachtungsparameter und die zweiten Beobachtungsparameter einander zugeordnet wurden, als die Bestrahlungseinheit die Probe in der Vergangenheit mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt hat. Auf diese Weise kann die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 basierend auf der Datenbank, in der die ersten Beobachtungsparameter und die zweiten Beobachtungsparameter einander zugeordnet wurden, als die Bestrahlungseinheit die Probe in der Vergangenheit mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt hat, die Effizienz der probenbasierten Arbeit verbessern, die durchgeführt wird, indem die Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird.
  • In der vorstehenden Beschreibung wurde die Ausführungsform gemäß der vorliegenden Offenbarung unter Bezugnahme auf die Zeichnungen im Einzelnen beschrieben. Die Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung 1 kann Konfigurationen aufweisen, die nicht auf die vorstehend beschriebene Ausführungsform beschränkt sind, wobei Abänderungen, Austauschvorgänge, Weglassungen und dergleichen vorgenommen werden können, ohne vom Geist der vorliegenden Offenbarung abzuweichen.
  • Darüber hinaus kann ein Programm zur Ausführung der Funktionen eines beliebigen Elements in der vorstehend beschriebenen Einrichtung (zum Beispiel der Steuereinrichtung 30) auf einem computerlesbaren Aufzeichnungsmedium aufgezeichnet sein, wobei das Programm durch ein Computersystem gelesen und ausgeführt werden kann. Zudem wird hier angenommen, dass das „Computersystem“ Hardware wie z.B. ein BS (Betriebssystem) und eine Peripherieeinrichtung umfasst. Darüber hinaus bezeichnet das „computerlesbare Aufzeichnungsmedium“ ein tragbares Medium wie z.B. eine Diskette, eine magnetooptische Platte, eine ROM und eine CD-(Compact-Disk)-ROM sowie eine Speichereinrichtung wie z.B. eine in das Computersystem eingebettete Festplatte. Darüber hinaus wird angenommen, dass das „computerlesbare Aufzeichnungsmedium“ ein Medium zum Halten eines Programms während eines konstanten Zeitraums wie z.B. einen flüchtigen Speicher (RAM) in dem Computersystem beinhaltet, das im Fall der Übertragung des Programms über ein Netz wie z.B. das Internet oder eine Kommunikationsleitung wie z.B. eine Telefoninfrastruktur als Server oder Client dient.
  • Darüber hinaus kann das vorstehend erwähnte Programm von einem Computersystem, in dem das Program in einer Speichereinrichtung und dergleichen gespeichert ist, über ein Übertragungsmedium oder eine Übertragungswelle des Übertragungsmediums an andere Computersysteme übertragen werden. In diesem Fall wird mit „Übertragungsmedium“ zum Übertragen des Programms ein Medium bezeichnet, das eine Informationsübertragungsfunktion aufweist, wie z.B. ein Netz (ein Kommunikationsnetz) des Internet und dergleichen, und eine Kommunikationsleitung einer Telefonleitung und dergleichen.
  • Darüber hinaus kann es sich bei dem vorstehend erwähnten Programm um ein Program zur Ausführung von einigen der vorstehend erwähnten Funktionen handeln. Ferner kann es sich bei dem vorstehend erwähnten Programm auch um ein Programm handeln, das imstande ist, die vorstehend erwähnten Funktionen durch eine Kombination mit einem Programm auszuführen, das vorab in dem Computersystem aufgezeichnet wurde, d.h. durch eine Vergleichsdatei (ein Vergleichsprogramm).
  • Gemäß der vorliegenden Offenbarung wird Folgendes geschaffen: eine Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung, die imstande ist, die Effizienz der probenbasierten Arbeit zu verbessern, die durchgeführt wird, indem eine Probe mit einem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt wird, und ein Verfahren zum Steuern der Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • JP 106474 A [0003]

Claims (12)

  1. Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung, umfassend: eine Bestrahlungseinheit, die eine Probe mit einem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt; einen Bilderzeugungsabschnitt, der ein Ladungsteilchen detektiert, das von der Probe aufgrund der Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl erzeugt wird, und basierend auf einem Signal, das erhalten wird, indem das Ladungsteilchen detektiert wird, ein Bild bildet; eine Eingabeempfangseinheit, die eine Beobachtungsbedingung empfängt; einen Ableitungsabschnitt, der basierend auf der empfangenen Beobachtungsbedingung und ersten Beobachtungsparametern, die in einer Speichereinheit gespeichert sind, zweite Beobachtungsparameter ableitet, die für die Beobachtungsbedingung geeignet sind; und eine Steuereinheit, welche die Bestrahlungseinheit basierend auf den zweiten Beobachtungsparametern steuert.
  2. Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Eingabeempfangseinheit als Beobachtungsbedingung eine Kombination aus einem Teil oder allen aus einer Beschleunigungsspannung zur Beschleunigung des Ladungsteilchenstrahls, einem Strahlstrom des Ladungsteilchenstrahls, einem Linsenmodus, bei dem es sich um einen Betriebsmodus einer Objektivlinse zum Fokussieren des Ladungsteilchenstrahls handelt, einem Typ eines Halters zum Halten der Probe, einem Material der Probe und einer Objekttisch-Position, bei der es sich um eine Position eines Objekttisches zum Platzieren der Probe handelt, empfängt und wobei die Speichereinheit die Kombination als erste Beobachtungsparameter speichert.
  3. Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Speichereinheit als zweite Beobachtungsparameter Folgendes speichert: eine Kombination aus einem Teil oder allen aus einem oder mehreren Strahlbestrahlungsparametern, die eine Strahlbestrahlungsbedingung repräsentieren, die mit der Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl durch die Bestrahlungseinheit in Zusammenhang steht, und einem oder mehreren Detektionsparametern, die eine Detektionsbedingung repräsentieren, die mit der Detektion des Ladungsteilchens in Zusammenhang steht.
  4. Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung nach Anspruch 3, wobei der Strahlbestrahlungsparameter eine Kombination aus einem Teil oder allen aus einem Ausrichter, einer Strahlverschiebung, einem OL-Wert und einem Stigma-Wert beinhaltet, die in der Bestrahlungseinheit eingestellt werden, wenn es der Bestrahlungseinheit ermöglicht wird, die Probe mit dem Ladungsteilchenstrahl zu bestrahlen, und wobei die Detektionsbedingung eine Kombination aus einem oder beidem aus einem Kontrastwert und einem Helligkeitswert ist.
  5. Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Speichereinheit eine Datenbank speichert, in der die ersten Beobachtungsparameter und die zweiten Beobachtungsparameter einander zugeordnet sind, und wobei der Ableitungsabschnitt basierend auf der empfangenen Beobachtungsbedingung und den ersten Beobachtungsparametern diejenigen zweiten Beobachtungsparameter unter den in der Datenbank enthaltenen zweiten Beobachtungsparametern, die wahrscheinlich der Beobachtungsbedingung entsprechen, als zweite Beobachtungsparameter ableitet, die für die Beobachtungsbedingung geeignet sind.
  6. Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung nach Anspruch 5, wobei der Ableitungsabschnitt diejenigen ersten Beobachtungsparameter unter den in der Datenbank enthaltenen ersten Beobachtungsparametern bestimmt, die den empfangenen Beobachtungsbedingungen am nächsten sind, und die zweiten Beobachtungsparameter, die den bestimmten ersten Beobachtungsparametern zugeordnet sind, als zweite Beobachtungsparameter ableitet, die der Beobachtungsbedingung wahrscheinlich entsprechen.
  7. Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung nach Anspruch 6, wobei jedem der Parameter, die in den ersten Beobachtungsparametern enthalten sind, die in der Datenbank enthalten sind, eine Priorität zugeordnet wird, und wobei der Ableitungsabschnitt basierend auf der Priorität und den empfangenen Beobachtungsbedingungen diejenigen ersten Beobachtungsparameter unter den in der Datenbank enthaltenen ersten Beobachtungsparametern bestimmt, die den Beobachtungsbedingungen am nächsten sind.
  8. Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung nach Anspruch 5, wobei der Ableitungsabschnitt basierend auf einem maschinellen Lernalgorithmus, der es der Datenbank ermöglicht zu lernen, und der empfangenen Beobachtungsbedingung diejenigen zweiten Beobachtungsparameter aus der Datenbank ableitet, die wahrscheinlich der Beobachtungsbedingung entsprechen.
  9. Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 8, ferner umfassend: eine Datenbank-Speichereinheit, welche die Datenbank speichert, wobei der Ableitungsabschnitt die Datenbank aus der Datenbank-Speichereinheit ausliest.
  10. Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 9, wobei der Ableitungsabschnitt die Datenbank von der Datenbank-Speichereinheit über ein Netzwerk erfasst.
  11. Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 10, wobei die Datenbank eine Datenbank beinhaltet, in der die ersten Beobachtungsparameter und die zweiten Beobachtungsparameter einander zugeordnet wurden, als die Bestrahlungseinheit die Probe in der Vergangenheit mit dem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt hat.
  12. Verfahren zum Steuern einer Ladungsteilchenstrahl-Vorrichtung, beinhaltend eine Bestrahlungseinheit, die eine Probe mit einem Ladungsteilchenstrahl bestrahlt, und einen Bilderzeugungsabschnitt, der basierend auf einem Signal, das erhalten wird, indem ein Ladungsteilchen detektiert wird, das von der Probe aufgrund der Bestrahlung mit dem Ladungsteilchenstrahl erzeugt wird, ein Bild bildet, wobei das Verfahren Folgendes umfasst: Empfangen einer Beobachtungsbedingung; Ableiten eines für die Beobachtungsbedingung geeigneten zweiten Beobachtungsparameters basierend auf der empfangenen Beobachtungsbedingung und einem in einer Speichereinheit gespeicherten ersten Beobachtungsparameter durch einen Ableitungsabschnitt; und Steuern der Bestrahlungseinheit durch eine Steuereinheit basierend auf dem abgeleiteten zweiten Beobachtungsparameter.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021044553A1 (ja) * 2019-09-04 2021-03-11 株式会社日立ハイテク 荷電粒子線装置
DE102020211900A1 (de) * 2019-09-25 2021-03-25 Hitachi High-Tech Science Corporation Ladungsträgerstrahlvorrichtung
JP7472512B2 (ja) * 2020-01-31 2024-04-23 株式会社島津製作所 分析装置および分析装置の制御方法
KR20220119122A (ko) * 2020-02-05 2022-08-26 주식회사 히타치하이테크 계측 시스템 및 하전 입자선 장치의 파라미터 설정 방법
CN115298794A (zh) * 2020-03-31 2022-11-04 株式会社日立高新技术 带电粒子束装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH106474A (ja) 1996-06-21 1998-01-13 Kokusai Electric Co Ltd クリームハンダ印刷法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3544438B2 (ja) 1996-09-30 2004-07-21 セイコーインスツルメンツ株式会社 イオンビームによる加工装置
JP2003346695A (ja) * 2002-05-29 2003-12-05 Hitachi High-Technologies Corp 電子線式パターン検査装置及び、電子線を用いた検査方法
JP4039933B2 (ja) * 2002-11-08 2008-01-30 株式会社キーエンス 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡の操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体
US8766183B2 (en) * 2008-09-26 2014-07-01 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle beam device
US9760018B2 (en) * 2013-08-13 2017-09-12 Asml Netherlands B.V. Method and inspection apparatus and computer program product for assessing a quality of reconstruction of a value of a parameter of interest of a structure

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH106474A (ja) 1996-06-21 1998-01-13 Kokusai Electric Co Ltd クリームハンダ印刷法

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JP2018106832A (ja) 2018-07-05

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