DE102016121375A1 - Device and method for holding a mask in a flat position - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten zumindest eines Substrates durch Einspeisen eines Ausgangsstoffs in einen Prozessraum (2), mit einem Substrathalter (5) zur Aufnahme des zumindest einen Substrates (6) und einer Maske (7), die von einem Maskentransportsystem (8) vor dem Beschichten an die Oberfläche des Substrates (6) bringbar und nach dem Beschichten von der Oberfläche des Substrates (6) entfernbar ist, wobei die Maske (7) zumindest teilweise magnetisch oder magnetisch aktivierbar ist. Um zu vermeiden, dass sich beim Substrat- oder Maskenwechsel Partikel von der Maske lösen, sind magnetisch wirkende Masken-Stabilisierungsmittel (19, 20, 21, 22, 23) vorgesehen, um die Maske (7) nach ihrer Entfernung von der Oberfläche des Substrates (6) in einer vorgegebenen Flächenerstreckungslage, insbesondere einer Planlage zu stabilisieren, wobei die Magnete (19) an einem Schirmelement (17) angeordnet sind, welches zwischen die Maske (7) und einem Gaseinlassorgan (9) bringbar ist.The invention relates to a device for coating at least one substrate by feeding a starting material into a process space (2), comprising a substrate holder (5) for receiving the at least one substrate (6) and a mask (7) which is supported by a mask transport system (8). can be brought to the surface of the substrate (6) before coating and can be removed from the surface of the substrate (6) after coating, wherein the mask (7) is at least partially magnetically or magnetically activatable. In order to prevent particles from detaching from the mask during the substrate or mask change, magnetically active mask stabilization means (19, 20, 21, 22, 23) are provided for removing the mask (7) after it has been removed from the surface of the substrate (6) in a predetermined surface extension position, in particular to stabilize a flat, wherein the magnets (19) on a shield element (17) are arranged, which between the mask (7) and a gas inlet member (9) can be brought.

Description

Gebiet der TechnikField of engineering

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Beschichten zumindest eines Substrates durch Einspeisen eines Ausgangsstoffs in einen Prozessraum, mit einem Substrathalter zur Aufnahme des zumindest einen Substrates und einer Maske, die von einem Maskentransportsystem vor dem Beschichten in eine brührende Anlage an die Oberfläche des Substrates bringbar und nach dem Beschichten von der Oberfläche des Substrates entfernbar ist, wobei die Maske zumindest teilweise magnetisch oder magnetisch aktivierbar ist.The invention relates to a method and a device for coating at least one substrate by feeding a starting material into a process space, comprising a substrate holder for receiving the at least one substrate and a mask, which is moved from a mask transport system into a contacting contact with the surface of the substrate can be brought and removed after the coating of the surface of the substrate, wherein the mask is at least partially magnetically or magnetically activated.

Stand der TechnikState of the art

Eine Vorrichtung zum Beschichten von insbesondere Substraten aus Glas mit einem organischen Ausgangsstoff wird in der DE 10 2010 000 447 A1 beschrieben. Zwischen einem Gaseinlassorgan, aus dem in die Gasform gebrachte organische Ausgangsstoffe mittels eines Trägergases in einen Prozessraum gebracht werden und einem gekühlten Substrathalter, auf dem das Substrat aufliegt, kann ein Schirmelement gebracht werden. Mit dem Schirmelement kann das Substrat und/oder eine Maske in den Prozessraum gebracht werden. Die Maske wird auf das sich in Planlage auf dem Substrathalter aufliegende Substrat aufgelegt. Die Maske besitzt von Stegen eingerahmte Fenster, sodass eine Deposition des Ausgangsstoffs nur in den von den Fenstern freigelassenen Bereichen auf der Oberfläche des Substrates stattfinden kann. Die Abscheidung erfolgt im Wesentlichen aufgrund einer Kondensation der gasförmigen Ausgangsstoffe auf der Oberfläche des Substrates zu einem Festkörper. Auf dem die fensterumrahmenden Stegen findet ebenfalls eine Beschichtung statt. Beim Lösen der Maske von dem Substrat wird die Maske lediglich an ihrem Rand von einem Maskentransportmittel gefasst, und in einer Vertikalrichtung verlagert. Aufgrund der auf die Maske einwirkenden Schwerkraft beult sich der zwischen den Rändern liegende Flächenabschnitt der Maske nach unten hin durch. Diese Verformung der Maske hat zur Folge, dass die auf den Stegen der Maske abgeschiedene Beschichtung abblättert. Es bilden sich Partikel, die durch die Schwerkraft nach unten fallen oder die aufgrund einer Gasströmung innerhalb des Prozessraumes an Stellen transportiert werden, wo sie stören.A device for coating in particular substrates made of glass with an organic starting material is described in US Pat DE 10 2010 000 447 A1 described. A shield element can be brought between a gas inlet element, from which organic starting materials brought into the gaseous form are brought into a process space by means of a carrier gas, and a cooled substrate holder on which the substrate rests. With the screen element, the substrate and / or a mask can be brought into the process space. The mask is placed on the substrate lying flat on the substrate holder. The mask has framed windows so that deposition of the starting material can take place only in the areas left free by the windows on the surface of the substrate. The deposition is essentially due to a condensation of the gaseous starting materials on the surface of the substrate to a solid. On the window framing bars also takes place a coating. Upon release of the mask from the substrate, the mask is merely caught at its edge by a mask transporting means, and displaced in a vertical direction. Due to the force of gravity acting on the mask, the surface portion of the mask lying between the edges bulges downward. This deformation of the mask has the consequence that the deposited on the webs of the mask coating peels off. Particles form which fall down by gravity or which are transported to places where they interfere due to gas flow within the process space.

Aus der US 2016/0248049 A1 ist es bekannt, Magnete zu verwenden, um eine Maske zu fixieren.From the US 2016/0248049 A1 It is known to use magnets to fix a mask.

Darüber hinaus werden in der Literatur geregelte Magnetfelder beschrieben, mit denen ein magnetischer oder magnetisch aktivierbarer Gegenstand in einer Schwebe gehalten wird, bspw. in IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Vol. 3, NO. 3. August 1990 „Applications of Magnetic Levitation-Based Micro-Automation in Semiconductor Manufacturing” .In addition, in the literature regulated magnetic fields are described with which a magnetic or magnetically activatable object is held in suspension, for example in IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Vol. 3, NO. August 3, 1990 "Applications of Magnetic Levitation-Based Micro-Automation in Semiconductor Manufacturing" ,

Zusammenfassung der ErfindungSummary of the invention

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine gattungsgemäße Vorrichtung bzw. ein gattungsgemäßes Verfahren gebrauchsvorteilhaft zu verbessern, insbesondere Maßnahmen anzugeben, mit denen verhindert wird, dass sich nach dem Lösen der Maske vom Substrat Partikel von der Maske ablösen.The object of the invention is to advantageously improve a generic device or a generic method, in particular to provide measures which prevent particles from detaching from the mask after the mask has been detached from the substrate.

Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Erfindung. Die Unteransprüche stellen nicht nur vorteilhafte Weiterbildungen dar, sondern auch eigenständige Lösungen der Aufgabe.The object is achieved by the invention specified in the claims. The dependent claims represent not only advantageous developments, but also independent solutions to the problem.

Eine Vorrichtung zum Abscheiden einer Schicht mittels eines durch ein oder mehrere Gasaustrittsöffnungen eines Gaseinlassorganes in eine zwischen den Gasaustrittsöffnungen und einem den Gasaustrittsöffnungen gegenüberliegenden Substrathalter angeordneten Prozesskammer eingespeistes Prozessgas auf einem an einer zu den Gasaustrittsöffnungen weisenden Anlagefläche des Substrates anliegenden Substrat besitzt Mittel zum Positionieren einer Maske auf dem Substrat oder zum Entfernen der Maske vom Substrat, wobei die Maske auf der zu den Gasaustrittsöffnungen gerichteten planen Breitseite des Substrates beim Abscheiden der Schicht aufliegt. Die Maske besitzt magnetische Zonen oder magnetisch aktivierbare Zonen. Die Maske kann mit einem äußeren Magnetfeld derart wechselwirken, dass sie von einem das Magnetfeld erzeugenden Magneten angezogen oder - falls die Maske selbst magnetisch istabgestoßen werden kann. Wesentlich ist eine Masken-Stabilisierungseinrichtung, die Masken-Stabilisierungsmittel aufweist, um die Maske nach ihrer Entfernung von der Oberfläche des Substrates in einer vorgegebenen Flächenerstreckungslage zu stabilisieren. Die vorgegebene Flächenerstreckungslage entspricht dabei der Flächenerstreckungslage, die die Maske einnimmt, wenn sie auf dem Substrat aufliegt. Handelt es sich bei dem Substrat um einen flachen, planen Gegenstand, bspw. um eine Glasplatte, so ist die Flächenerstreckungslage eine Planlage. Es ist vorgesehen, dass mittels einer von einer Regeleinrichtung geregelten von Magneten erzeugten Magnetkraft die vom Substrat entfernte Maske in der vorgegebenen Flächenerstreckungslage gehalten wird. Dabei wirken die Magnetkräfte mit den magnetischen oder magnetisierbaren Zonen der Maske zusammen. Die Erfindung betrifft darüber hinaus ein Verfahren, bei dem die vom Substrat entfernte Maske mittels einer mit magnetischen oder magnetisierbaren Zonen der Maske zusammenwirkenden geregelten Magnetkraft die vom Substrat entfernte Maske in einer Planlage gehalten wird. Die Magnetisierungseinrichtung kann Elektromagnete oder Permanentmagnete aufweisen. Zur Regelung können Magnetfeldstärkesensoren und/oder Abstandssensoren vorgesehen sein. Es ist insbesondere vorgesehen, zur Regelung der Magnetkraft Hall-Sensoren, Abstandssensoren, kapazitiv- oder induktiv wirkende Näherungsschalter zu verwenden. Die Masken-Stabilisierungsmittel können zwischen die Gasaustrittsöffnungen eines Gaseinlassorganes und dem Substrathalter gebracht werden. Es ist insbesondere vorgesehen, die Masken-Stabilisierungsmittel einer Schirmplatte eines Schirmelementes zuzuordnen, welches von einer Verwahrkammer in den Prozessraum gefahren wird, um in einer Schirmposition eine Wärmeübertragung zwischen Substrathalter und Gaseinlassorgan zu verhindern. Es ist insbesondere vorgesehen, dass die Masken-Halteeinrichtung nur am Rand der bevorzugt rechteckigen Maske angreifen. Die Masken-Stabilisierungsmittel können aber auch im Substrathalter angeordnet sein. Es ist somit vorgesehen, dass Masken-Stabilisierungsmittel in Form von Magneten, insbesondere Permanent- und/oder Elektromagnete sowie Sensoren zur Ermittlung der magnetischen Feldstärke oder einer vertikalen Position der Maske dem Substrathalter zugeordnet sind und/oder von außerhalb in den Prozessraum bringbar sind. Mit den Sensorelementen wird insbesondere an Stellen, die vom Rand der Maske beabstandet sind die Vertikalposition der Maske in Bezug auf die Lage des Sensors bzw. der Lage des Substrathalters und/oder der Schirmplatte ermittelt. Die Magnetfelder greifen bevorzugt in einem Flächenmittenabschnitt der Maske an, also in einem Flächenbereich der Maske, der vom Rand der Maske beabstandet ist, um diesen Flächenmittenabschnitt gewissermaßen in der Schwebe zu halten. Hierdurch wird verhindert, dass sich die Flächenerstreckungslage der Maske durch eine Schwerkraft bedingte Verformung ändert, wenn die lediglich am Rand untergriffene Maske vom Substrat in einer Vertikalrichtung entfernt wird. Mittels einer Regeleinrichtung werden die von Elektromagneten erzeugten Magnetfelder derart geregelt, dass die Maske in der Schwebe gehalten wird bzw. dass der von den Sensoren gemessene Abstand einen Sollwert einnimmt. Es sind bevorzugt eine Vielzahl an verschiedenen Positionen über die gesamte Flächenerstreckung der Maske verteilt angeordnete Sensoren vorgesehen, wobei die Sensoren dem Substrathalter und/oder dem Schirmelement zugeordnet sind. Die Elektromagneten, die von der Regeleinrichtung nach den Vorgaben der Sensoren geregelt werden, sind dem Substrathalter und/oder dem Schirmelement zugeordnet. Die Regeleinrichtung ist in der Lage, die Maske an jeden der Vielzahl von Messpunkten, an denen jeweils ein Sensor angeordnet ist, in einer vorgegebenen Vertikallage zu halten. Es ist auch vorgesehen, lediglich einen Sensor zu verwenden und diesen etwa in der Maskenflächenmitte zu positionieren oder eine Mehrzahl von Sensoren nur im Flächenmittenabschnitt der Maske anzuordnen. Die Erfindung betrifft sowohl Beschichtungsvorrichtungen, bei denen der Substrathalter in Vertikalrichtung oberhalb des Gaseinlassorganes angeordnet ist als auch solche Vorrichtungen, bei denen der Substrathalter in Vertikalrichtung unterhalb des Gaseinlassorganes angeordnet ist. Das Gaseinlassorgan erstreckt sich bevorzugt über die gesamte Fläche der Maske und besitzt eine Vielzahl in einer Gasaustrittsfläche angeordnete Gasaustrittsöffnungen, die duschkopfartig angeordnet sind und durch die ein dampfförmiger Ausgangsstoff mittels eines Trägergases in den Prozessraum gebracht wird. Die Maske besteht bevorzugt aus INVAR, einem Werkstoff, der in einer Variante der Erfindung keine permanentmagnetischen Eigenschaften aufweist, aber in einem von einem Magneten erzeugten Magnetfeld in Richtung des Magneten angezogen wird. Bei der Verwendung einer derartigen Maske werden sowohl oberhalb als auch unterhalb der Maske angeordnete Magnete verwendet, die jeweils auf die Maske eine anziehende Kraft ausüben. Mittels der Regeleinrichtung werden die von den sich gegenüberliegenden Magneten erzeugten Magnetfelder derart geregelt, dass die Maske in der Schwebe gehalten wird, also die magnetisch entgegengesetzt an der Maske angreifenden Kräfte die an der Maske angreifende Schwerkraft kompensieren. Es liegen sich bevorzugt paarweise Magnete gegenüber, wobei ein Magnet dem Schirmelement und der andere Magnet dem Substrathalter zugeordnet ist. Dem Paar von Magneten kann jeweils ein Magnetfeldsensor oder ein Abstandssensor räumlich zugeordnet sein. Es ist aber auch vorgesehen, dass ein Sensor zwischen einem Magnetpaar angeordnet ist und mehrere Magneten regeltechnisch einem Sensor zugeordnet sind.A device for depositing a layer by means of a process gas introduced through one or more gas outlet openings of a gas inlet element into a process chamber arranged between the gas outlet openings and a substrate holder opposite the gas outlet openings, has a substrate for positioning a mask on a substrate resting against a contact surface of the substrate facing the gas outlet openings the substrate or for removing the mask from the substrate, wherein the mask rests on the directed to the gas outlet openings plan broad side of the substrate during the deposition of the layer. The mask has magnetic zones or magnetically activated zones. The mask may interact with an external magnetic field such that it may be attracted by a magnetic field generating magnet or, if the mask itself is magnetic, may be repelled. What is essential is a mask stabilizer which includes mask stabilization means for stabilizing the mask after removal from the surface of the substrate in a given areal extent. The predetermined areal extent corresponds to the areal extent that the mask occupies when it rests on the substrate. If the substrate is a flat, plane object, for example a glass plate, then the surface extension layer is a flat layer. It is provided that the mask removed from the substrate is held in the predetermined surface extension position by means of a magnetic force generated by a control device by means of a control device. The magnetic forces interact with the magnetic or magnetizable zones of the mask. The invention further relates to a method in which the mask removed from the substrate, by means of a controlled magnetic force cooperating with magnetic or magnetizable zones of the mask, removes the mask removed from the substrate a flatness is maintained. The magnetization device may comprise electromagnets or permanent magnets. To control magnetic field strength sensors and / or distance sensors may be provided. In particular, it is provided to use Hall sensors, distance sensors, capacitive or inductive proximity switches to control the magnetic force. The mask stabilizing means may be placed between the gas outlets of a gas inlet member and the substrate holder. It is provided, in particular, to associate the mask stabilizing means with a screen plate of a screen element which is moved from a storage chamber into the process space in order to prevent heat transfer between substrate holder and gas inlet element in a screen position. In particular, it is provided that the mask holding device engage only at the edge of the preferably rectangular mask. However, the mask stabilization means can also be arranged in the substrate holder. It is thus provided that mask stabilizing means in the form of magnets, in particular permanent magnets and / or electromagnets and sensors for determining the magnetic field strength or a vertical position of the mask are assigned to the substrate holder and / or can be brought from outside into the process space. With the sensor elements, the vertical position of the mask with respect to the position of the sensor or the position of the substrate holder and / or the shield plate is determined in particular at locations which are spaced from the edge of the mask. The magnetic fields preferably engage in a surface center portion of the mask, that is, in a surface area of the mask, which is spaced from the edge of the mask to keep this area center portion in a sense in limbo. This prevents the surface extension position of the mask from being changed by gravity-induced deformation when the mask, which is only gripped at the edge, is removed from the substrate in a vertical direction. By means of a control device, the magnetic fields generated by electromagnets are controlled such that the mask is held in suspension or that the distance measured by the sensors occupies a desired value. A plurality of sensors distributed over the entire areal extent of the mask are preferably provided, wherein the sensors are assigned to the substrate holder and / or the screen element. The electromagnets, which are controlled by the control device according to the specifications of the sensors, are associated with the substrate holder and / or the shielding element. The control device is capable of holding the mask in a predetermined vertical position at each of the plurality of measuring points on each of which a sensor is arranged. It is also envisaged to use only one sensor and to position it approximately in the middle of the mask surface or to arrange a plurality of sensors only in the surface center section of the mask. The invention relates both to coating devices in which the substrate holder is arranged in the vertical direction above the gas inlet member as well as those devices in which the substrate holder is arranged in the vertical direction below the gas inlet member. The gas inlet member preferably extends over the entire surface of the mask and has a plurality of arranged in a gas outlet surface gas outlet openings, which are arranged like a shower head and is brought by a vaporous starting material by means of a carrier gas in the process chamber. The mask is preferably made of INVAR, a material which in a variant of the invention has no permanent magnetic properties, but is attracted in a magnetic field generated by a magnet in the direction of the magnet. When using such a mask, both above and below the mask arranged magnets are used, each exerting an attractive force on the mask. By means of the control device, the magnetic fields generated by the opposing magnets are controlled in such a way that the mask is held in suspension, that is, the magnetically oppositely acting forces on the mask compensate for the force acting on the mask gravity. Preferably, there are pairs of magnets facing one another, one magnet being associated with the screen element and the other magnet with the substrate holder. The pair of magnets may be spatially associated with a magnetic field sensor or a distance sensor, respectively. But it is also envisaged that a sensor is arranged between a pair of magnets and a plurality of magnets are associated control technology a sensor.

Das erfindungsgemäße Verfahren wird ausgeübt, wenn ein Beschichtungsprozess beendet ist, bei dem insbesondere eine OLED-Schicht auf einem Substrat aufgebracht worden ist. Bei der Durchführung des Beschichtungsverfahrens werden feste oder flüssige Partikel in ein Trägergas eingespeist. Das derartig gebildete Aerosol wird mittels einer Aerosoltransportleitung einem Verdampfer zugeführt. Der Verdampfer besitzt auf einer Verdampfungstemperatur aufgeheizte Flächen, die das Trägergas und die Aerosolpartikel derart aufheizen, dass die Aerosolpartikel verdampfen. Der so erzeugte Dampf wird durch das Gaseinlassorgan in den Prozessraum eingespeist. Dies erfolgt durch ein beheiztes Gaseinlassorgan. Der organische Dampf kondensiert auf dem Substrat, das auf einem gekühlten Substrathalter aufliegt. Dabei kann das Substrat an der nach unten weisenden Substratanlagefläche eines Substrathalters oder an einer nach oben weisenden Anlagefläche eines Substrathalters anliegen. Nach Beendigung des Beschichtungsverfahrens wird die Maske mittels Maskentransportmittel oder einem Maskenhalter angehoben bzw. abgesenkt. Beim Lösen der Maske vom Substrat greifen die Maskentransportmittel bzw. der Maskenhalter nur am Rand der Maske an. Die aus magnetisierbarem Material bestehende Maske wird während des Beschichtungsverfahrens mit Magnetkraft gegen die Oberfläche des Substrates gedrückt, wobei die Magnete innerhalb des Substrathalters angeordnet sind und insbesondere ein geregeltes Magnetfeld erzeugen können. Vor dem Entfernen der Maske vom Substrat in Vertikalrichtung wird ein Schieber in den Prozessraum hineingefahren. Bevorzugt handelt es sich bei diesem Schieber um ein Schirmelement, welches an eine Wärmestrahlung vom beheizten Gaseinlassorgan zum Substrathalter unterbrechen soll. Dieser Schieber kann ebenfalls Magnete besitzen, die zusammen mit dem Magneten des Substrathalters ein Magnetfeld aufbauen. Das Magnetfeld wird derart geregelt, dass sich bei der Vertikalverlagerung der Maske ihre Flächenerstreckungslage nicht ändert. Liegt bspw. die Maske in einer Planlage auf dem Substrat, so halten die Magnete die Maske während ihrer Vertikalverlagerung in einer Schwebe, ohne dass sich die Maske verbiegt. In einer Variante der Erfindung besitzen entweder nur der Substrathalter oder nur der Schieber, bei dem es sich um ein Schirmelement handeln kann, die Magnet zur geregelten Lagestabilisierung der Maske.The method according to the invention is exerted when a coating process in which, in particular, an OLED layer has been applied to a substrate is completed. In carrying out the coating process, solid or liquid particles are fed into a carrier gas. The aerosol thus formed is supplied to an evaporator by means of an aerosol transport line. The evaporator has surfaces heated to an evaporation temperature, which heat the carrier gas and the aerosol particles in such a way that the aerosol particles evaporate. The steam thus generated is fed through the gas inlet member into the process space. This is done by a heated gas inlet member. The organic vapor condenses on the substrate which rests on a cooled substrate holder. In this case, the substrate may abut against the downwardly facing substrate abutment surface of a substrate holder or on an upwardly facing abutment surface of a substrate holder. After completion of the coating process, the mask is raised or lowered by means of mask transport means or a mask holder. When loosening the Mask from the substrate attack the mask transport means or the mask holder only at the edge of the mask. The mask made of magnetizable material is pressed against the surface of the substrate during the coating process with magnetic force, wherein the magnets are arranged within the substrate holder and in particular can generate a regulated magnetic field. Before removing the mask from the substrate in the vertical direction, a slider is moved into the process space. This slide is preferably a screen element which is intended to interrupt heat radiation from the heated gas inlet element to the substrate holder. This slider may also have magnets that build a magnetic field together with the magnet of the substrate holder. The magnetic field is regulated in such a way that its surface extension position does not change during the vertical displacement of the mask. If, for example, the mask lies in a flat position on the substrate, the magnets hold the mask in a vertical position during its vertical displacement, without the mask bending. In a variant of the invention, either only the substrate holder or only the slider, which may be a screen element, have the magnet for the controlled position stabilization of the mask.

Figurenlistelist of figures

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand beigefügter Zeichnungen erläutert. Es zeigen:

  • 1 Im Querschnitt ein erstes Ausführungsbeispiel einer Beschichtungsvorrichtung, bei der ein Gaseinlassorgan oberhalb eines Substrathalters angeordnet ist und der Substrathalter und ein Schirmelement 17 insbesondere paarweise sich gegenüberliegende Magnete aufweisen, zwischen welchen Magneten eine Maske in der Schwebe gehalten wird,
  • 2 eine Darstellung gemäß 1, jedoch mit einer Magnetanordnung lediglich im Schirmelement,
  • 3 eine Darstellung ähnlich gemäß 1 eines dritten Ausführungsbeispiels, bei dem das Gaseinlassorgan unterhalb eines Substrathalters angeordnet sind, wobei insbesondere paarweise angeordnete Magnete dem Substrathalter und dem Schirmelement zugeordnet sind und die Maske durch die von Magneten erzeugte Magnetkraft in einer Schwebe gehalten wird,
  • 4 eine Darstellung gemäß 3 eines vierten Ausführungsbeispiels, bei dem die die Maske in einer Schwebe haltenden Magnete nur im Substrathalter angeordnet sind,
  • 5 vergrößert und schematisch eine zwischen einem Substrathalter und einem Schirmelement angeordnet Maske, die mit von einer Regeleinrichtung geregelten Magneten erzeugten Magnetfeldern in einer Schwebe gehalten wird, in der sich Abstände zwischen Maske und Substrathalter bzw. Maske und Schirmelement zeitlich konstant gehalten werden,
  • 6 schematisch den zeitlichen Verlauf der in 5 mit magnetischen Feldstärken, um eine Maske ohne Veränderung ihrer Flächenerstreckungslage von einer Anlagestellung am Substrat 6 in einer Entferntlage zum Substrat vertikal zu verlagen.
Embodiments of the invention are explained below with reference to accompanying drawings. Show it:
  • 1 In cross-section, a first embodiment of a coating apparatus in which a gas inlet member is disposed above a substrate holder and the substrate holder and a screen member 17 in particular in pairs opposite magnets, between which magnet a mask is held in suspension,
  • 2 a representation according to 1 but with a magnet arrangement only in the screen element,
  • 3 a representation similar to 1 a third embodiment, wherein the gas inlet member are arranged below a substrate holder, wherein in particular paired magnets are associated with the substrate holder and the screen member and the mask is held by the magnetic force generated by magnets in a hover,
  • 4 a representation according to 3 a fourth embodiment, in which the magnets holding the mask in a levitation are arranged only in the substrate holder,
  • 5 enlarges and schematically holds a mask arranged between a substrate holder and a screen element, which is held in levitation with magnetic fields generated by a controller controlled by magnets, in which distances between mask and substrate holder or mask and screen element are kept constant over time,
  • 6 schematically the time course of in 5 with magnetic field strengths to vertically displace a mask without changing its areal extent from an abutment position on the substrate 6 in a removed position to the substrate.

Beschreibung der AusführungsformenDescription of the embodiments

Die in den 1, 2, 3, 4 und 5 dargestellten Vorrichtungen besitzen ein Reaktorgehäuse 1, welches einen Prozessraum 2 gasdicht nach außen kapselt. An einer Öffnung 4, die verschließbar ist, grenzt eine Verwahrkammer 3 an die Höhlung des Reaktorgehäuses 1, in welcher sich der Prozessraum 2 befindet.The in the 1 . 2 . 3 . 4 and 5 devices shown have a reactor housing 1 which is a process room 2 gas-tight capsules to the outside. At an opening 4 , which is lockable, adjoins a storage room 3 to the cavity of the reactor housing 1 in which the process room 2 located.

Innerhalb des Reaktorgehäuses 1 befindet sich ein Substrathalter 5, welcher auf eine Kondensationstemperatur kühlbar ist. Der Substrathalter 5 besitzt eine Substratanlagefläche, an der ein Substrat 6 in berührender Flächenanlage anliegt. Das Substrat 6 kann über elektrostatische Kräfte an der Substratanlagefläche des Substrathalters 5 gehalten werden.Inside the reactor housing 1 there is a substrate holder 5 which is coolable to a condensation temperature. The substrate holder 5 has a substrate abutment surface on which a substrate 6 in contact with surface area. The substrate 6 may be due to electrostatic forces on the substrate contact surface of the substrate holder 5 being held.

Ein Maskenhalter 8, der Teil einer Maskentransporteinrichtung ist, ist in der Lage, eine Maske 7 von einer Anlagestellung, in der die Maske berührend auf der zum Prozessraum 2 weisenden Seite des Substrates 6 anliegt in Vertikalrichtung in eine Abstandslage zu verlagern. Dabei greift der Maskenhalter 8 nur am Rand 7' der Maske 7 an.A mask holder 8th which is part of a mask transport means is capable of forming a mask 7 from an investment position in which the mask touching on the process room 2 pointing side of the substrate 6 abuts in the vertical direction to move in a distance position. The mask holder engages 8th only on the edge 7 ' the mask 7 at.

Die Verwahrkammer 3 verwahrt einen Magnetträger, der in den Ausführungsbeispielen von einem Schirmelement 17 ausgebildet ist. Das Schirmelement 17 besitzt eine Schirmplatte, die eine wärmeisolierende Wirkung besitzt und die mittels einer Führung 18 bzw. mittels Verlagerungsmitteln von der Verwahrkammer 3 in den Prozessraum 2 fahrbar ist, wo das Schirmelement 17 in einer Schirmstellung den Substrathalter 5 thermisch von einem Gaseinlassorgan 9 trennt, welches an einer zum Prozessraum 2 weisenden Gasaustrittsfläche Gasaustrittsöffnungen 10 aufweist, durch welches ein Prozessgas in den Prozessraum 2 einströmen kann. Das Prozessgas enthält einen dampfförmigen organischen Ausgangsstoff, der durch Beheizen des Gaseinlassorganes 9 in der Dampfform gehalten wird und welcher in einem Beschichtungsschritt in den Bereichen von Fenstern zwischen Stegen der Maske 7 auf dem Substrat 6 kondensiert.The storage room 3 stores a magnetic carrier, which in the embodiments of a screen element 17 is trained. The screen element 17 has a shield plate, which has a heat-insulating effect and by means of a guide 18 or by means of displacement of the storage chamber 3 in the process room 2 mobile is where the screen element 17 in a screen position the substrate holder 5 thermally from a gas inlet member 9 separates which at one to the process space 2 pointing gas outlet surface gas outlet openings 10 through which a process gas enters the process space 2 can flow in. The process gas contains a vaporous organic starting material, which is heated by heating the gas inlet member 9 is held in the vapor form and which in a coating step in the areas of windows between webs of the mask 7 on the substrate 6 condensed.

Zur Erzeugung des organischen Dampfes wird ein Trägergas, bei dem es sich um Wasserstoff, Stickstoff oder ein Edelgas handeln kann, in eine Trägergasleitung 5 eingespeist. Die Trägergasleitung 5 mündet in einen Aerosolerzeuger 13, wo mittels eines Dosierers feste oder flüssige Partikel, die in einem Vorratsbehälter 14 bevorratet werden, in den Trägergasstrom eingespeist werden, sodass sich ein Aerosol bildet, welches mittels einer Aerosolleitung 16 einem Verdampfer 12 zugeleitet wird, der beheizte Wände besitzt, die das Trägergas und die Aerosolpartikel derart aufheizen, dass die Aerosolpartikel verdampfen, um als Dampf durch eine Gaszuleitung 11 in das Gaseinlassorgang 9 gebracht zu werden.To generate the organic vapor, a carrier gas, which is hydrogen, Nitrogen or a noble gas can act in a carrier gas line 5 fed. The carrier gas line 5 flows into an aerosol generator 13 where by means of a dosing solid or liquid particles in a reservoir 14 be stored, are fed into the carrier gas stream, so that an aerosol is formed, which by means of an aerosol line 16 an evaporator 12 having heated walls that heat the carrier gas and the aerosol particles such that the aerosol particles evaporate to be vaporized by a gas supply line 11 in the gas inlet process 9 to be brought.

Bei dem in der 1 dargestellten Ausführungsbeispiel sind im Substrathalter 5 ein oder mehrere Magnete 20, bei denen es sich um Elektromagnete handelt, vorgesehen. An mehreren Stellen sind insbesondere gleichmäßig über die Substratanlagefläche verteilt Abstandssensoren 22 angeordnet, mit denen der Abstand der Maske 7 zum Substrathalter 5 bestimmbar ist.In the in the 1 illustrated embodiment are in the substrate holder 5 one or more magnets 20 , which are electromagnets provided. At several points in particular evenly distributed over the substrate contact surface distance sensors 22 arranged, with which the distance of the mask 7 to the substrate holder 5 is determinable.

Das Schirmelement 17 besitzt ebenfalls ein oder mehrere Magnete 19, bei denen es sich um Elektromagnete handelt und Abstandssensoren 21, um den Abstand zwischen Schirmelement 17 und Maske 7 zu bestimmen.The screen element 17 also has one or more magnets 19 , which are electromagnets and distance sensors 21 to the distance between screen element 17 and mask 7 to determine.

Es ist insbesondere vorgesehen, dass sich die ein oder mehreren Magnete 19 des Schirmelementes 17 und die ein oder mehreren Magnete 20 des Substrathalters 5 paarweise gegenüberliegen und zu jedem Magnetpaar 19, 20 zumindest ein Magnetsensor 21 gehört, sodass die jeweils beiden Magneten 19, 20 zusammen mit dem Abstandssensor 21, 22 einen Regelkreis ausbilden. Einer der jeweils beiden Magneten 19, 20 kann auch ein Permanentmagnet sein.It is especially envisaged that the one or more magnets 19 of the screen element 17 and the one or more magnets 20 of the substrate holder 5 in pairs opposite each other and to each magnet pair 19 . 20 at least one magnetic sensor 21 heard, so that each two magnets 19 . 20 together with the distance sensor 21 . 22 form a control loop. One of the two magnets 19 . 20 can also be a permanent magnet.

Mit einer in der 5 dargestellten Regeleinrichtung 23 werden die Magnetfelder B1, die von den Magneten 20 erzeugt werden und die Magnetfelder B2, die von den Magneten 19 erzeugt werden derart geregelt, dass die Abstände a zwischen Substrathalter 5 und Maske 7 mittels der Abstandssensoren 22 und/oder die Abstände b der Maske 7 vom Schirmelement 17, die mit den Abstandssensoren 21 bestimmt werden, einen vorbestimmten Wert besitzen.With one in the 5 illustrated control device 23 be the magnetic fields B1, those of the magnets 20 be generated and the magnetic fields B2, by the magnets 19 be generated in such a way that the distances a between substrate holder 5 and mask 7 by means of the distance sensors 22 and / or the distances b the mask 7 from the screen element 17 that with the distance sensors 21 be determined to have a predetermined value.

Um die Maske vom Substrathalter 5 zu entfernen, wird der Sollwert des Abstandes a im zeitlichen Verlauf vergrößert, bis die Maske 7 einen vorbestimmten Endabstand erreicht hat. Alternativ dazu kann der Sollwert des Abstandes b zeitlich verkleinert werden, bis die Maske 7 den vorgegebenen Endabstand erreicht hat.To the mask from the substrate holder 5 to remove, the setpoint of the distance a increased over time until the mask 7 has reached a predetermined end distance. Alternatively, the setpoint of the distance b be reduced in time until the mask 7 has reached the predetermined final distance.

Die Maske 7 kann aus INVAR bestehen oder einem anderen Werkstoff, der selbst nicht magnetisch aber in einem Magnetfeld polarisierbar ist, also von einem Magneten magnetisch angezogen oder abgestoßen wird. Die von den Magneten 19, 20 erzeugten Magnetfelder B1 , B2 haben somit jeweils eine anziehende ggf. auch eine abstoßende Wirkung auf die Maske 7. Eine dadurch nach oben gerichtete vom Magnetfeld B1 erzeugte Kraft und eine nach unten gerichtete, vom Magnetfeld B2 erzeugte Kraft werden so ausbalanciert, dass sie die auf die Maske 7 ausgeübte Schwerkraft kompensieren, um somit die Maske 7 in der Schwebe zu halten.The mask 7 can consist of INVAR or another material that is not itself magnetic but can be polarized in a magnetic field, that is magnetically attracted or repelled by a magnet. The one from the magnets 19 . 20 generated magnetic fields B 1 . B 2 thus each have an attractive, if necessary, a repulsive effect on the mask 7 , An upward of the magnetic field B 1 generated force and a downward, from the magnetic field B 2 The force generated is balanced so that it covers the mask 7 compensate for applied gravity, thus the mask 7 to hold in the balance.

Bei den Ausführungsbeispielen sind die Magnete 19, 20 bevorzugt gleichmäßig über die im Wesentlichen rechteckige Anlagefläche des Substrathalters 5 bzw. die rechteckige Erstreckungsfläche des Schirmelementes 17 verteilt angeordnet. Zwischen einzelnen Magneten 19, 20 können die Abstandssensoren 21, 22 vorgesehen sein. Die Anzahl der Abstandssensoren 21, 22 ist bevorzugt geringer als die Anzahl der Magneten 19, 20, sodass zu einem ein Abstandssensor 21, 22 aufweisenden Regelkreis eine Vielzahl von Magneten 19, 20 jeweils des Substrathalters 5 oder des Schirmelementes 17 gehören.In the embodiments, the magnets 19 . 20 preferably uniformly over the substantially rectangular contact surface of the substrate holder 5 or the rectangular extension surface of the screen element 17 arranged distributed. Between individual magnets 19 . 20 can the distance sensors 21 . 22 be provided. The number of distance sensors 21 . 22 is preferably less than the number of magnets 19 . 20 so that one becomes a distance sensor 21 . 22 having a variety of magnets 19 . 20 each of the substrate holder 5 or the screen element 17 belong.

In den Ausführungsbeispielen wird der Magnetträger 17 von einem Schirmelement ausgebildet. Es ist aber auch möglich, den Magnetträger anderweitig auszubilden.In the embodiments, the magnetic carrier 17 formed by a screen element. But it is also possible to form the magnetic carrier otherwise.

Bei dem in den 2 und 4 dargestellten Ausführungsbeispiel besitzt entweder nur der Substrathalter 5 ein oder mehrere Magnete 20 und ein oder mehrere Abstandssensoren 22 oder nur das Schirmelement 17 ein oder mehrere Magnete 19 und ein oder mehrere Abstandssensoren 21. Es handelt sich dabei um Elektromagnete 19, 20, deren Magnetkraft derart geregelt werden kann, dass ihre auf die Maske 7 ausgeübte Anziehungskraft die auf die Maske 7 wirkende Schwerkraft kompensiert.In the in the 2 and 4 illustrated embodiment has either only the substrate holder 5 one or more magnets 20 and one or more distance sensors 22 or only the screen element 17 one or more magnets 19 and one or more distance sensors 21 , These are electromagnets 19 . 20 , whose magnetic force can be controlled so that their on the mask 7 exerted attraction on the mask 7 acting gravity compensated.

Die Regeleinrichtung ist derart eingerichtet, dass sie in der Lage ist, die sich in einer Planlage erstreckende Maske 7 ohne Veränderung ihrer Planlage durch Änderung der Magnetfelder B1 , B2 vertikal zu verlagern. Die Maske 7 wird dabei lediglich an ihrem Rand 7' von dem Maskenhalter 8 untergriffen. Um zu vermeiden, dass die Maske in ihrem Flächenmittenabschnitt nach unten hin durchhängt werden die geregelten Magnetfelder B1 , B2 erzeugt, die bevorzugt nur in dem von dem Rand 7' der Maske 7 umgebenen Flächenmittenabschnitt der Maske 7 eine Kraft auf die Maske 7 ausüben. Die Magnetfelder werden derart geregelt, dass sich die Flächenerstreckungslage, insbesondere die Planlage der Maske während ihrer Vertikalverlagerung nicht ändert.The controller is arranged to be capable of forming the mask extending in a flat position 7 without changing their flatness by changing the magnetic fields B 1 . B 2 shift vertically. The mask 7 is only at the edge 7 ' from the mask holder 8th under attack. In order to avoid that the mask sags downward in its area center section, the controlled magnetic fields B 1 . B 2 preferably only in that of the edge 7 ' the mask 7 surrounded area center portion of the mask 7 a power on the mask 7 exercise. The magnetic fields are controlled in such a way that the surface extension position, in particular the flatness of the mask, does not change during its vertical displacement.

Die 6 zeigt hierzu den zeitlichen Verlauf der magnetischen Feldstärken B1 , B2 , die von den Magneten 19, 20 erzeugt werden, um die Vertikallage x der Maske 7 zu verändern.The 6 shows the temporal course of the magnetic field strengths B 1 . B 2 that from the magnets 19 . 20 be generated to the vertical position x the mask 7 to change.

Die vorstehenden Ausführungen dienen der Erläuterung der von der Anmeldung insgesamt erfassten Erfindungen, die den Stand der Technik zumindest durch die folgenden Merkmalskombinationen jeweils auch eigenständig weiterbilden, nämlich: The above explanations serve to explain the inventions as a whole, which further develop the state of the art independently, at least by the following feature combinations, namely:

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, durch magnetisch wirkende Masken-Stabilisierungsmittel 19, 20, 21, 22, 23, um die Maske 7 nach ihrer Entfernung von der Oberfläche des Substrates 6 in einer vorgegebenen Flächenerstreckungslage, insbesondere einer Planlage zu stabilisieren;A device characterized by magnetically acting mask stabilizing means 19 . 20 . 21 . 22 . 23 to the mask 7 after their removal from the surface of the substrate 6 to stabilize in a given areal extent, in particular a flatness;

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Masken-Stabilisierungsmittel ein oder mehrere Magnete 19, 20, insbesondere Permanent- und/oder Elektromagnete aufweisen, die dem Substrathalter 5 zugeordnet sind oder von außerhalb in den Prozessraum 2 bringbar sind;A device characterized in that the mask stabilizing means comprises one or more magnets 19 . 20 , in particular permanent and / or electromagnets, which are the substrate holder 5 are assigned or from outside into the process space 2 can be brought;

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Magnete 19 an einem Schirmelement 17 angeordnet sind, welches zwischen die Maske 7 und einem Gaseinlassorgan 9 bringbar ist;A device characterized in that the magnets 19 on a screen element 17 are arranged, which between the mask 7 and a gas inlet member 9 can be brought;

Eine Vorrichtung, die gekennzeichnet ist durch eine Regeleinrichtung 23, mit der die von Elektromagneten 19, 20 der Masken-Stabilisierungsmittel erzeugten Magnetfelder B1 , B2 derart regelbar sind, dass zumindest ein Flächenmittenabschnitt der unterhalb oder oberhalb bezogen auf eine durch die Schwerkraft vorgegebene Richtung der Magnete 19, 20 liegende Maske 7 in der Schwebe gehalten wird;A device characterized by a control device 23 , with that of electromagnets 19 . 20 the mask stabilizer generated magnetic fields B 1 . B 2 are controllable such that at least one surface center portion of the below or above with respect to a predetermined by gravity direction of the magnets 19 . 20 lying mask 7 is held in suspense;

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Masken-Stabilisierungsmittel mindestens einen Abstandssensor 21, 22 aufweisen zur Ermittlung eines Abstands a, b zwischen dem Abstandssensor 21, 22 und der Maske 7 und/oder zwischen dem Substrathalter 5 und der Maske 7;A device, characterized in that the mask stabilization means comprise at least one distance sensor 21 . 22 have for determining a distance a . b between the distance sensor 21 . 22 and the mask 7 and / or between the substrate holder 5 and the mask 7 ;

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Maske 7 in einer durch die Schwerkraft vorgegebenen Richtung entweder oberhalb oder unterhalb des Substrathalters 5 angeordnet ist;A device characterized in that the mask 7 in a direction given by gravity either above or below the substrate holder 5 is arranged;

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Schirmelement 17 entlang einer Führung 18 und/oder mittels Verlagerungsmittel aus der Verwahrkammer 3 heraus und in den Prozessraum 2 hinein und wieder zurück verlagerbar ist;A device characterized in that the screen element 17 along a guide 18 and / or by displacement means from the storage chamber 3 out and into the process room 2 can be shifted in and out again;

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet, dass die Maske 7 aus INVAR besteht;A device characterized in that the mask 7 consists of INVAR;

Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Maske 2 nur an ihrem Rand von einem dem Maskentransportsystem zugeordneten Maskenhalter 8 gehalten ist und die Maskenstabilisierungsmittel nur an vom Rand entfernten Abschnitten der Maske 7 angereifen;A device characterized in that the mask 2 only at its edge by a mask holder associated with the mask transport system 8th is held and the mask stabilizer only at edge-removed portions of the mask 7 is mature;

Ein Verfahren, dass dadurch gekennzeichnet ist, dass beim Entfernen der Maske 7 vom Substrat 6 die Maske 7 mittels Magnetkraft in einer vorgegebenen Flächenerstreckungslage stabilisiert wird.A method characterized in that when removing the mask 7 from the substrate 6 the mask 7 is stabilized by means of magnetic force in a predetermined surface extension position.

Alle offenbarten Merkmale sind (für sich, aber auch in Kombination untereinander) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/beigefügten Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren mit ihren Merkmalen eigenständige erfinderische Weiterbildungen des Standes der Technik, insbesondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen.All disclosed features are essential to the invention (individually, but also in combination with one another). The disclosure of the associated / attached priority documents (copy of the prior application) is hereby also incorporated in full in the disclosure of the application, also for the purpose of including features of these documents in claims of the present application. The subclaims characterize with their features independent inventive developments of the prior art, in particular to make on the basis of these claims divisional applications.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Reaktorgehäusereactor housing
22
Prozessraumprocess space
33
VerwahrkammerVerwahrkammer
44
Öffnungopening
55
Substrathaltersubstrate holder
66
Substratsubstratum
77
Maskemask
7'7 '
Randedge
88th
Maskenhaltermask holder
99
GaseinlassorganGas inlet element
1010
GasaustrittsöffnungGas outlet
1111
Gaszuleitunggas supply
1212
VerdampferEvaporator
1313
Aerosolerzeugeraerosol generator
1414
Vorratsbehälterreservoir
1515
TrägergaszuleitungCarrier gas supply line
1616
Aerosolleitungaerosol line
1717
Schirmelementscreen element
1818
Führungguide
1919
Magnetmagnet
2020
Magnetmagnet
2121
Abstandssensordistance sensor
2222
Abstandssensordistance sensor
2323
Regeleinrichtung control device
B1 B 1
Magnetfeldmagnetic field
B2 B 2
Magnetfeldmagnetic field
aa
Abstanddistance
bb
Abstand distance
xx
Vertikallagevertical location

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list of the documents listed by the applicant has been generated automatically and is included solely for the better information of the reader. The list is not part of the German patent or utility model application. The DPMA assumes no liability for any errors or omissions.

Zitierte PatentliteraturCited patent literature

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  • US 2016/0248049 A1 [0003]US 2016/0248049 A1 [0003]

Zitierte Nicht-PatentliteraturCited non-patent literature

  • Transactions on Semiconductor Manufacturing, Vol. 3, NO. 3. August 1990 „Applications of Magnetic Levitation-Based Micro-Automation in Semiconductor Manufacturing” [0004]Transactions on Semiconductor Manufacturing, Vol. 3, NO. August 3, 1990 "Applications of Magnetic Levitation-Based Micro-Automation in Semiconductor Manufacturing" [0004]

Claims (11)

Vorrichtung zum Beschichten zumindest eines Substrates durch Einspeisen eines Ausgangsstoffs in einen Prozessraum (2), mit einem Substrathalter (5) zur Aufnahme des zumindest einen Substrates (6) und einer Maske (7), die von einem Maskentransportsystem (8) vor dem Beschichten an die Oberfläche des Substrates (6) bringbar und nach dem Beschichten von der Oberfläche des Substrates (6) entfernbar ist, wobei die Maske (7) zumindest teilweise magnetisch oder magnetisch aktivierbar ist, gekennzeichnet durch magnetisch wirkende Masken-Stabilisierungsmittel (19, 20, 21, 22, 23), um die Maske (7) nach ihrer Entfernung von der Oberfläche des Substrates (6) in einer vorgegebenen Flächenerstreckungslage, insbesondere einer Planlage zu stabilisieren.Apparatus for coating at least one substrate by feeding a starting material into a process space (2), comprising a substrate holder (5) for receiving the at least one substrate (6) and a mask (7) from a mask transport system (8) prior to coating the surface of the substrate (6) can be brought and removed after the coating from the surface of the substrate (6), wherein the mask (7) is at least partially magnetically or magnetically activated, characterized by magnetically acting mask stabilizing means (19, 20, 21 , 22, 23) in order to stabilize the mask (7) after its removal from the surface of the substrate (6) in a predetermined areal extent, in particular a flatness. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Masken-Stabilisierungsmittel ein oder mehrere Magnete (19, 20), insbesondere Permanent- und/oder Elektromagnete aufweisen, die dem Substrathalter (5) zugeordnet sind oder von außerhalb in den Prozessraum (2) bringbar sind.Device after Claim 1 , characterized in that the mask stabilization means one or more magnets (19, 20), in particular permanent and / or electromagnets which are associated with the substrate holder (5) or from outside in the process space (2) can be brought. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnete (19) an einem Schirmelement (17) angeordnet sind, welches zwischen die Maske (7) und einem Gaseinlassorgan (9) bringbar ist.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the magnets (19) are arranged on a screen element (17) which can be brought between the mask (7) and a gas inlet member (9). Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Regeleinrichtung (23), mit der die von Elektromagneten (19, 20) der Masken-Stabilisierungsmittel erzeugten Magnetfelder (B1, B2) derart regelbar sind, dass zumindest ein Flächenmittenabschnitt der unterhalb oder oberhalb bezogen auf eine durch die Schwerkraft vorgegebene Richtung der Magnete (19,20) liegende Maske (7) in der Schwebe gehalten wird.Device according to one of the preceding claims, characterized by a control device (23) with which the magnetic fields (B 1 , B 2 ) generated by electromagnets (19, 20) of the mask stabilizing means are controllable such that at least one surface center section of the below or above relative to a predetermined by the gravity direction of the magnets (19,20) lying mask (7) is held in suspension. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Masken-Stabilisierungsmittel mindestens einen Abstandssensor (21, 22) aufweisen zur Ermittlung eines Abstands (a, b) zwischen dem Abstandssensor (21, 22) und der Maske (7) und/oder zwischen dem Substrathalter (5) und der Maske (7).Device according to one of the preceding claims, characterized in that the mask stabilization means comprise at least one distance sensor (21, 22) for determining a distance (a, b) between the distance sensor (21, 22) and the mask (7) and / or between the substrate holder (5) and the mask (7). Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Maske (7) in einer durch die Schwerkraft vorgegebenen Richtung entweder oberhalb oder unterhalb des Substrathalters (5) angeordnet ist.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the mask (7) is arranged in a direction predetermined by gravity either above or below the substrate holder (5). Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Schirmelement (17) entlang einer Führung (18) und/oder mittels Verlagerungsmittel aus der Verwahrkammer (3) heraus und in den Prozessraum (2) hinein und wieder zurück verlagerbar ist.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the screen element (17) along a guide (18) and / or displacement means by means of displacement from the storage chamber (3) and into the process space (2) and back again. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Maske (7) aus INVAR besteht.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the mask (7) consists of INVAR. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Maske (2) nur an ihrem Rand von einem dem Maskentransportsystem zugeordneten Maskenhalter (8) gehalten ist und die Maskenstabilisierungsmittel nur an vom Rand entfernten Abschnitten der Maske (7) angereifen.Device according to one of the preceding claims, characterized in that the mask (2) is held only at its edge by a mask holder (8) associated with the mask transport system, and the mask stabilizer only ripens at portions of the mask (7) remote from the edge. Verfahren zum Beschichten eines Substrates unter Verwendung einer Vorrichtung gemäß einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass beim Entfernen der Maske (7) vom Substrat (6) die Maske (7) mittels Magnetkraft in einer vorgegebenen Flächenerstreckungslage stabilisiert wird.Method for coating a substrate using a device according to one or more of the preceding claims, characterized in that, when the mask (7) is removed from the substrate (6), the mask (7) is stabilized by means of magnetic force in a predetermined surface extension position. Vorrichtung oder Verfahren, gekennzeichnet durch eines oder mehrere der kennzeichnenden Merkmale eines der vorhergehenden Ansprüche.Apparatus or method characterized by one or more of the characterizing features of any one of the preceding claims.
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