DE102015200531A1 - Optical module - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Modul, insbesondere einen Facettenspiegel für die Mikrolithographie, mit einem optischen Element (106.2), insbesondere einem Facettenelement, und einer Stützeinrichtung (106.8) zur Abstützung des optischen Elements (106.2), wobei das optische Element (106.2) eine im Betrieb des optischen Moduls (106.1) optisch nutzbare erste Spiegelfläche (106.41) umfasst und die Stützeinrichtung (106.8) ein Stellelement (106.9) zum Einstellen einer Position und/oder Orientierung des optischen Elements (106.2) umfasst. Das optische Element (106.2) umfasst wenigstens eine im Betrieb des optischen Moduls (106.1) optisch nutzbare zweite Spiegelfläche (106.42), wobei eine Position und/oder Orientierung der zweiten Spiegelfläche (106.42) von der Position und/oder Orientierung der ersten Spiegelfläche (106.41) verschieden ist. Die zweite Spiegelfläche (106.42) schließt in einem Anschlussbereich (106.10) in wenigstens einer Anschlussrichtung (R1) im Wesentlichen unmittelbar an die erste Spiegelfläche (106.41) an, wobei die zweite Spiegelfläche (106.42) in dem Anschlussbereich (106.10) unter einem Sprung in ihrer Position und/oder Orientierung an die erste Spiegelfläche (106.41) anschließt.The present invention relates to an optical module, in particular a facet mirror for microlithography, with an optical element (106.2), in particular a facet element, and a support device (106.8) for supporting the optical element (106.2), wherein the optical element (106.2) has a during operation of the optical module (106.1) optically usable first mirror surface (106.41) and the support means (106.8) comprises an adjusting element (106.9) for adjusting a position and / or orientation of the optical element (106.2). The optical element (106.2) comprises at least one optically usable second mirror surface (106.42) during operation of the optical module (106.1), wherein a position and / or orientation of the second mirror surface (106.42) depends on the position and / or orientation of the first mirror surface (106.41 ) is different. The second mirror surface (106.42) in a connection region (106.10) in at least one connection direction (R1) essentially directly adjoins the first mirror surface (106.41), wherein the second mirror surface (106.42) in the connection region (106.10) jumps in its Position and / or orientation to the first mirror surface (106.41) connects.

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Figure DE102015200531A1_0001

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches Modul, insbesondere einen Facettenspiegel für die Mikrolithographie, mit einem optischen Element, insbesondere einem Facettenelement, und einer Stützeinrichtung zur Abstützung des optischen Elements, wobei das optische Element eine im Betrieb des optischen Moduls optisch nutzbare erste Spiegelfläche umfasst und die Stützeinrichtung ein Stellelement zum Einstellen einer Position und/oder Orientierung des optischen Elements umfasst. Weiterhin betrifft die Erfindung eine optische Abbildungseinrichtung, ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements und ein optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie.The present invention relates to an optical module, in particular a facet mirror for microlithography, comprising an optical element, in particular a facet element, and a support device for supporting the optical element, wherein the optical element comprises a first mirror surface that is optically usable during operation of the optical module and the Support means comprises an adjusting element for adjusting a position and / or orientation of the optical element. Furthermore, the invention relates to an optical imaging device, a method for supporting an optical element and an optical imaging method, in particular for microlithography.

Optische Module der hier in Rede stehenden Art, insbesondere Facettenspiegel, werden in der Halbleiterlithographie, wie z.B. der EUV-Mikrolithographie (EUV: Extrem ultraviolette Strahlung), zur Herstellung mikro- bzw. nanostrukturierter Bauteile eingesetzt. Dabei dienen die optischen Module dazu, eine möglichst homogene Ausleuchtung einer Masken- bzw. Retikelebene zu gewährleisten. Zudem werden mithilfe der optischen Module unterschiedliche Beleuchtungssettings (Beleuchtungswinkelverteilungen) im Bereich der Masken- bzw. Retikelebene realisiert. Die Anordnung und die Funktionsweise von optischen Modulen der hier in Rede stehenden Art, insbesondere Facettenspiegeln, in einer Projektionsbelichtungsanlage sind beispielsweise in der DE 100 53 587 A1 beschrieben, deren gesamter Offenbarungsgehalt hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird.Optical modules of the type in question, in particular facet mirrors, are used in semiconductor lithography, such as, for example, EUV microlithography (EUV: extreme ultraviolet radiation) for producing microstructured or nanostructured components. The optical modules serve to ensure the most homogeneous possible illumination of a mask or reticle plane. In addition, different illumination settings (illumination angle distributions) in the area of the mask or reticle plane are realized with the aid of the optical modules. The arrangement and operation of optical modules of the type in question, in particular facet mirrors, in a projection exposure apparatus are described, for example, in US Pat DE 100 53 587 A1 , the entire disclosure of which is incorporated herein by reference.

Ein optisches Modul der eingangs genannten Art ist beispielsweise aus der DE 10 2012 003 169 A1 bekannt, deren gesamter Offenbarungsgehalt hierin durch Bezugnahme eingeschlossen wird wird. Das optische Modul umfasst dabei Feldfacetten, die in Feldfacettengruppen angeordnet sind. Die Feldfacetten einer Feldfacettengruppe sind dabei entlang einer Referenzebene der jeweiligen Feldfacettengruppe angeordnet, die zu einer Haupt-Referenzebene des optischen Moduls geneigt ist. Durch die geneigte Anordnung der jeweiligen Feldfacettengruppe sollen die maximal vorgebbaren Kippwinkel der einzelnen Facettenelemente innerhalb einer Feldfacettengruppe reduziert werden. Jedes Facettenelement ist in seiner Neigung individuell einstellbar. Auf diese Weise sollen eine geringere Abschattung des EUV-Beleuchtungslichts erreicht und zudem die Anforderungen an die Stellelemente zur Einstellung der Neigungswinkel der einzelnen Feldfacetten reduziert werden. An optical module of the type mentioned is, for example, from DE 10 2012 003 169 A1 The entire disclosure of which is incorporated herein by reference. The optical module comprises field facets which are arranged in field facet groups. The field facets of a field facet group are arranged along a reference plane of the respective field facet group, which is inclined to a main reference plane of the optical module. Due to the inclined arrangement of the respective field facet group, the maximum predefinable tilt angle of the individual facet elements within a field facet group should be reduced. Each facet element is individually adjustable in its inclination. In this way, a lower shading of the EUV illumination light to be achieved and also the requirements for the adjusting elements for adjusting the inclination angle of the individual field facets are reduced.

Bei dem voranstehend beschriebenen, wie auch bei anderen bekannten Facettenspiegeln mit individuell einstellbaren Facettenelementen besteht das grundsätzliche Problem, dass die der Verschwenk- bzw. der Verschiebbarkeit der einzelnen Facetten geschuldeten Spalte zwischen den einzelnen Facetten zwangsläufig einen hohen Transmissionsverlust an Beleuchtungsstrahlung mit sich bringen. Zudem ist mit der großen Anzahl der erforderlichen Stellelemente ein beträchtlicher montage- und regelungstechnischer Aufwand verbunden.In the above-described, as well as in other known facet mirrors with individually adjustable facet elements, there is the fundamental problem that the gaps between the individual facets owing to the pivotability or displaceability of the individual facets inevitably entail a high transmission loss of illumination radiation. In addition, associated with the large number of required control elements a considerable assembly and control engineering effort.

Aus der WO 2008/101656 A2 ist es bekannt, mehrere Spiegelelemente eines Facettenspiegels auf einem gemeinsamen Grundkörper zu applizieren. An dem Grundkörper sind Aufnahmen angeordnet, die die Spiegelelemente tragen. Dabei soll eine möglichst hohe Präzision bei der Montage der Spiegelflächen dadurch erreicht werden, dass die Spiegelelemente und die Aufnahmen unter Berücksichtigung der Fertigungsabweichungen der einzelnen Bauteile derart gepaart werden, dass die jeweiligen Fertigungsabweichungen von Spiegelelement und zugeordneter Aufnahme sich wechselseitig kompensieren.From the WO 2008/101656 A2 It is known to apply a plurality of mirror elements of a facet mirror on a common base body. On the body receptacles are arranged, which carry the mirror elements. In this case, the highest possible precision in the assembly of the mirror surfaces is to be achieved in that the mirror elements and the images are paired taking into account the manufacturing deviations of the individual components such that the respective manufacturing deviations of mirror element and associated recording compensate each other.

Bei der aus der WO 2008/101656 A2 bekannten Spiegelanordnung ist nachteilig, dass die Spiegelelemente in ihrer Position und Orientierung an dem Grundkörper festgelegt sind. Es ist somit nicht möglich, eine Vielzahl verschiedener Beleuchtungsverteilungen zur Ausleuchtung einer Maskenebene vorzusehen.At the time of the WO 2008/101656 A2 known mirror arrangement is disadvantageous in that the mirror elements are fixed in their position and orientation on the base body. It is thus not possible to provide a multiplicity of different illumination distributions for illuminating a mask plane.

KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNGBRIEF SUMMARY OF THE INVENTION

Ausgehend von dem voranstehend beschrieben Stand der Technik lag der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein optisches Modul, insbesondere einen Facettenspiegel für die Mikrolithographie, sowie ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements anzugeben, das die zuvor genannten Nachteile nicht oder zumindest in geringerem Maße aufweist und insbesondere auf einfache Weise eine Reduktion des Transmissionsverlustes bei gleichzeitig hoher Flexibilität bezüglich der realisierbaren Beleuchtungsverteilungen ermöglicht. Based on the above-described prior art, the present invention seeks to provide an optical module, in particular a facet mirror for microlithography, and a method for supporting an optical element, which does not or at least to a lesser extent have the disadvantages mentioned above, and in particular in a simple way allows a reduction of the transmission loss with high flexibility with respect to the realizable illumination distributions.

Diese Aufgabe wird durch ein optisches Modul mit den in Anspruch 1 angegebenen Merkmalen gelöst. Weiterhin wird sie durch ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements mit den in Anspruch 16 angegebenen Merkmalen gelöst.This object is achieved by an optical module having the features specified in claim 1. Furthermore, it is achieved by a method for supporting an optical element having the features specified in claim 16.

Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass bei einem optischen Modul der eingangs genannten Art auf einfache Weise eine Reduktion des Transmissionsverlustes bei gleichzeitig hoher Flexibilität bezüglich der realisierbaren Beleuchtungsverteilungen dadurch erreicht werden kann, dass das optische Element wenigstens eine im Betrieb des optischen Moduls optisch nutzbare zweite Spiegelfläche umfasst, wobei eine Position und/oder Orientierung der zweiten Spiegelfläche von der Position und/oder Orientierung der ersten Spiegelfläche verschieden ist, und die zweite Spiegelfläche in einem Anschlussbereich in wenigstens einer Anschlussrichtung im Wesentlichen unmittelbar an die erste Spiegelfläche anschließt, wobei die zweite Spiegelfläche in dem Anschlussbereich unter einem Sprung in ihrer Position und/oder Orientierung an die erste Spiegelfläche anschließt.The invention is based on the finding that, in the case of an optical module of the type mentioned at the outset, a reduction of the transmission loss with simultaneously high flexibility with regard to the achievable illumination distributions can be achieved in that way optical element comprises at least one optically usable in operation of the optical module second mirror surface, wherein a position and / or orientation of the second mirror surface is different from the position and / or orientation of the first mirror surface, and the second mirror surface in a connection region in at least one connection direction in Substantially connects directly to the first mirror surface, wherein the second mirror surface in the connection region with a jump in their position and / or orientation adjoins the first mirror surface.

Es ist erkannt worden, dass im praktischen Einsatz von optischen Modulen, insbesondere Facettenspiegeln, üblicherweise nicht alle Freiheitsgrade bzw. mögliche Beleuchtungsverteilungen eines mit einzeln aktuierbaren Spiegelelementen ausgestatteten optischen Moduls ausgeschöpft werden. Im Vergleich zu den theoretisch erzielbaren Beleuchtungsverteilungen bzw. Beleuchtungssettings sind beispielsweise in einem Mikrolithographieprozess zur Herstellung einer bestimmten Halbleitertopographie nur eine vergleichsweise geringe Anzahl von verschiedenen Beleuchtungsverteilungen bzw. Beleuchtungssettings erforderlich.It has been recognized that in the practical use of optical modules, in particular facet mirrors, not all degrees of freedom or possible illumination distributions of an optical module equipped with individually actuatable mirror elements are usually exhausted. Compared to the theoretically achievable illumination distributions or illumination settings, for example, only a comparatively small number of different illumination distributions or illumination settings are required in a microlithography process for producing a specific semiconductor topography.

So können bei der Auslegung eines optischen Moduls in einem ersten Schritt, unter anderem abhängig von einer abzubildenden Halbleitertopographie, zunächst die für den Lithographieprozess erforderlichen Beleuchtungssettings bestimmt werden. Durch ein gezieltes Zusammenfassen und Anordnen mehrerer Spiegelelemente als Gruppe auf einem gemeinsamen Träger oder dergleichen können diese Gruppen von Spiegelflächen derart auf die zum Wechsel des Beleuchtungssettings verstellbaren optischen Elemente in dem optischen Modul verteilt werden, dass (trotz der fehlenden individuellen Einstellbarkeit der Spiegelflächen innerhalb der jeweiligen Spiegelflächengruppe des jeweiligen optischen Elements) alle relevanten Beleuchtungsverteilungen bzw. Beleuchtungssettings realisiert werden können. Thus, in the design of an optical module in a first step, inter alia, depending on a semiconductor topography to be imaged, the illumination settings required for the lithography process can first be determined. By deliberately summarizing and arranging a plurality of mirror elements as a group on a common carrier or the like, these groups of mirror surfaces can be distributed to the optical elements adjustable for changing the illumination setting in the optical module such that (despite the lack of individual adjustability of the mirror surfaces within the respective Mirror surface group of the respective optical element) all relevant illumination distributions or lighting settings can be realized.

Hierbei können gleichzeitig geringere Transmissionsverluste erzielt werden, da die innerhalb der Spiegelflächengruppe des jeweiligen optischen Elements zueinander nicht verstellbaren Spiegelflächen so eng wie möglich aneinander anschließen können, mithin also Verluste durch Lücken zwischen den Spiegelflächen minimiert werden können. At the same time, lower transmission losses can be achieved since the mirror surfaces which can not be adjusted relative to one another within the mirror surface group of the respective optical element can adjoin one another as closely as possible, and therefore losses due to gaps between the mirror surfaces can be minimized.

Zudem ergeben sich reduzierte Anforderungen an die Aktuatorik, da die Spiegelflächen innerhalb der jeweiligen Spiegelflächengruppe gemeinsam durch die Aktuatorik des jeweiligen optischen Elements (gegebenenfalls also nur durch einen einzigen Aktuator) verstellt werden. Für den Settingwechsel ist mithin also im Vergleich zur individuellen Verstellbarkeit jeder Spiegelfläche zum einen nur noch ein Bruchteil der Aktuatoren erforderlich. Dies wirkt sich nicht zuletzt auch positiv auf die Bauraumbeschränkungen aus, da in demselben Bauraum nunmehr deutlich weniger Aktuatoren anzuordnen sind.In addition, reduced requirements for the actuators result, since the mirror surfaces within the respective mirror surface group are adjusted together by the actuators of the respective optical element (possibly only by a single actuator). Thus, compared to the individual adjustability of each mirror surface, only a fraction of the actuators are required for the change of setting. Not least, this also has a positive effect on the space limitations, since significantly fewer actuators are now to be arranged in the same space.

So sind an zumindest einem optischen Element des optischen Moduls wenigstens zwei Spiegelflächen vorgesehen, die (beispielsweise für einen Wechsel des Beleuchtungssettings) über ein gemeinsames Stellelement in ihrer Position und/oder ihrer Orientierung verstellbar sind. Gegenüber optischen Modulen, insbesondere Facettenspiegeln, die einzeln gelagerte, individuell einstellbare Spiegelflächen aufweisen, wobei jeder Spiegelfläche jeweils ein Stellelement zugeordnet ist, kann die Anzahl der erforderlichen Stellelemente auf diese Weise reduziert werden. Zudem sinkt gleichzeitig der erforderliche montage- und regelungstechnische Aufwand, so dass das erfindungsgemäße optische Modul insgesamt kostengünstiger hergestellt und betrieben werden kann.Thus at least two mirror surfaces are provided on at least one optical element of the optical module, which are adjustable in their position and / or their orientation (for example, for a change of the illumination setting) via a common control element. Compared to optical modules, in particular facet mirrors, which have individually mounted, individually adjustable mirror surfaces, wherein each mirror surface is assigned in each case one adjusting element, the number of required adjusting elements can be reduced in this way. In addition, at the same time the required assembly and control technical effort decreases, so that the optical module according to the invention can be manufactured and operated more cost-effective overall.

Die erste Spiegelfläche weist dabei relativ zu der zweiten Spiegelfläche eine von dieser abweichende Position und/oder Orientierung auf. Die beiden Spiegelflächen reflektieren im Betrieb des optischen Moduls das auf die Spiegelflächen auftreffende Licht unabhängig voneinander und gegebenenfalls in voneinander abweichende Richtungen. Die Spiegelflächen gehen insbesondere nicht stetig ineinander über, sondern weisen relativ zueinander einen Sprung in ihrer Position und/oder Orientierung auf. So können sich benachbart zueinander an einem optischen Element angeordnete Spiegelflächen in dem Anschlussbereich in einem Punkt berühren und/oder einen Linienkontakt zueinander ausbilden. Im Falle eines Linienkontaktes können die aneinandergrenzenden Spiegelflächen in einer gemeinsamen Stoßkante zusammentreffen. Insbesondere können die Spiegelflächen in dem Anschlussbereich bei einem Sprung in der Position aber auch derart separat voneinander angeordnet sein, dass sich die einzelnen Spiegelflächen nicht kontaktieren.The first mirror surface has, relative to the second mirror surface, a position and / or orientation deviating therefrom. During operation of the optical module, the two mirror surfaces reflect the light impinging on the mirror surfaces independently of one another and, if appropriate, in different directions from one another. In particular, the mirror surfaces do not continuously merge into one another, but have a jump in their position and / or orientation relative to one another. Thus, adjacent to each other on an optical element arranged mirror surfaces in the connection area in a point touch and / or form a line contact with each other. In the case of line contact, the adjoining mirror surfaces may coincide in a common abutting edge. In particular, the mirror surfaces in the connection region can also be arranged separately from one another in the event of a jump in the position such that the individual mirror surfaces do not contact one another.

Dadurch, dass die beiden Spiegelflächen über ein gemeinsames Stellelement in ihrer Position und/oder Orientierung verstellt werden können, ist es möglich, dass sich die zweite Spiegelfläche in dem Anschlussbereich in wenigstens einer Anschlussrichtung im Wesentlichen unmittelbar an die erste Spiegelfläche anschließt. Mit anderen Worten sind die Spiegelflächen in einer Draufsicht entlang einer im Betrieb des optischen Moduls auf die Spiegelflächen auftreffenden Beleuchtungsstrahlung gesehen dicht gepackt bzw. liegen eng benachbart aneinander an. Entgegen Systemen mit individuell einstellbaren Spiegelflächen ist es daher nicht erforderlich, Spalte zwischen den jeweils benachbart zueinander angeordneten Spiegelflächen vorzusehen, um Raum für die erforderlichen Stellwege zu schaffen. Neben der Anzahl der Stellelemente kann so auch die Anzahl der Spalte in dem optischen Modul reduziert werden. So steht bei gleicher Grundfläche des optischen Moduls eine größere optisch nutzbare Spiegelfläche zur Verfügung. Der Transmissionsverlust kann daher gegenüber Modulen mit individuell einstellbaren, einzeln gelagerten Spiegelflächen nennenswert reduziert werden.Because the two mirror surfaces can be adjusted in their position and / or orientation by means of a common adjusting element, it is possible that the second mirror surface in the connection region adjoins the first mirror surface in at least one connecting direction substantially directly. In other words, as viewed in a plan view, the mirror surfaces are tightly packed along closely adjacent illumination radiation when viewed on the mirror surfaces during operation of the optical module. Contrary to systems with individually adjustable mirror surfaces, it is therefore not necessary to provide gaps between the respectively mutually adjacent mirror surfaces in order to create space for the required travel paths. In addition to the number of control elements, the number of gaps in the optical module can be reduced as well. Thus, with the same base area of the optical module, a larger optically usable mirror surface is available. The transmission loss can therefore be significantly reduced compared to modules with individually adjustable, individually mounted mirror surfaces.

Nach einem ersten Aspekt betrifft die Erfindung daher ein optisches Modul, insbesondere einen Facettenspiegel für die Mikrolithographie, mit einem optischen Element, insbesondere einem Facettenelement, und einer Stützeinrichtung zur Abstützung des optischen Elements, wobei das optische Element eine im Betrieb des optischen Moduls optisch nutzbare erste Spiegelfläche umfasst und die Stützeinrichtung ein Stellelement zum Einstellen einer Position und/oder Orientierung des optischen Elements umfasst, wobei die Einstellung insbesondere für einen Wechsel eines Beleuchtungssettings in einer optischen Abbildungseinrichtung verwendet werden kann. Das optische Element umfasst wenigstens eine im Betrieb des optischen Moduls optisch nutzbare zweite Spiegelfläche, wobei eine Position und/oder Orientierung der zweiten Spiegelfläche von der Position und/oder Orientierung der ersten Spiegelfläche verschieden ist, und die zweite Spiegelfläche in einem Anschlussbereich in wenigstens einer Anschlussrichtung im Wesentlichen unmittelbar an die erste Spiegelfläche anschließt, wobei die zweite Spiegelfläche in dem Anschlussbereich unter einem Sprung in der Position und/oder Orientierung an die erste Spiegelfläche anschließt.According to a first aspect, the invention therefore relates to an optical module, in particular a facet mirror for microlithography, having an optical element, in particular a facet element, and a support device for supporting the optical element, the optical element being optically usable during operation of the optical module Mirror surface and the support means comprises an adjusting element for adjusting a position and / or orientation of the optical element, wherein the setting can be used in particular for a change of a lighting setting in an optical imaging device. The optical element comprises at least one optically usable second mirror surface during operation of the optical module, wherein a position and / or orientation of the second mirror surface is different from the position and / or orientation of the first mirror surface, and the second mirror surface in a connection region in at least one connecting direction essentially directly adjoining the first mirror surface, wherein the second mirror surface in the connection region adjoins the first mirror surface with a jump in position and / or orientation.

Gemäß einer Ausgestaltung der Erfindung gehen die erste Spiegelfläche und die zweite Spiegelfläche des optischen Elements in einer Projektion auf eine Haupterstreckungsebene des optischen Moduls und/oder eine Referenzebene des optischen Elements in dem Anschlussbereich (in der Anschlussrichtung) im Wesentlichen spaltfrei ineinander über. „Spaltfrei“ bedeutet hier, dass die benachbarten Spiegelflächen in der jeweils beschriebenen Projektion bzw. Draufsicht dicht gepackt und lückenlos aneinander anliegen. Insbesondere liegen die erste Spiegelfläche und die zweite Spiegelfläche in wenigstens einer der voranstehend beschriebenen Projektionen bündig aneinander an. Durch diese Anordnung können Transmissionsverluste, wie sie durch das Spiel zwischen separat verschwenk- oder verstellbaren Spiegelflächen auftreten, vermieden werden.According to one embodiment of the invention, the first mirror surface and the second mirror surface of the optical element merge into one another in a projection onto a main extension plane of the optical module and / or a reference plane of the optical element in the connection region (in the connection direction). In this case, "gap-free" means that the adjacent mirror surfaces in the respectively described projection or plan view are tightly packed and abut one another without gaps. In particular, the first mirror surface and the second mirror surface lie flush against one another in at least one of the projections described above. By this arrangement, transmission losses, as they occur through the game between separately pivotable or adjustable mirror surfaces can be avoided.

Die Hauptstreckungsebene stellt dabei die Ebene einer im Wesentlichen flächigen Erstreckung des optischen Moduls dar. Die Referenzebene des optischen Elements ist die Ebene einer im Wesentlichen flächigen Erstreckung des optischen Elements, die insbesondere zur Haupterstreckungsebene verschwenkt und/oder verschoben angeordnet sein kann oder innerhalb der Haupterstreckungsebene angeordnet ist. Die Hauptstreckungsebene und/oder die Referenzebene können im Betrieb des optischen Moduls quer zur auf das optische Modul auftreffenden Beleuchtungsstrahlung ausgerichtet sein. Die Haupterstreckungsebene und/oder die Referenzebene können im Wesentlichen zumindest abschnittsweise orthogonal zur im Betrieb auf den das optische Modul und/oder das optische Element eintreffenden Beleuchtungsstrahlung ausgerichtet sein.The main plane of extension represents the plane of a substantially planar extension of the optical module. The reference plane of the optical element is the plane of a substantially planar extension of the optical element, which can be arranged in particular pivoted to the main extension plane and / or displaced or arranged within the main extension plane is. During operation of the optical module, the main plane of extent and / or the reference plane can be aligned transversely to the illumination radiation impinging on the optical module. The main extension plane and / or the reference plane can essentially be oriented at least in sections orthogonally to the illumination radiation incident on the optical module and / or the optical element during operation.

Alternativ oder ergänzend sind die erste und die zweite Spiegelfläche in einer Richtung quer zu der Haupterstreckungsebene des optischen Moduls und/oder der Referenzebene des optischen Elements in dem Anschlussbereich zueinander mit einem Versatz angeordnet. So können die benachbart zueinander angeordneten Spiegelflächen in einem Schnitt quer zur Referenz- und/oder Haupterstreckungsebene ein stufenartiges Profil beschreiben. Durch den relativen Versatz der Spiegelflächen zueinander ist ein Sprung in der Position der unmittelbar benachbart zueinander angeordneten Spiegelflächen gebildet. Die Spiegelflächen sind durch den Versatz separat voneinander an dem optischen Element angeordnet und können so im Betrieb des optischen Moduls in einer Projektionsbelichtungsanlage besonders einfach einzelnen Beleuchtungskanälen eines Beleuchtungssettings zugeordnet werden.Alternatively or additionally, the first and the second mirror surface are arranged in a direction transverse to the main extension plane of the optical module and / or the reference plane of the optical element in the connection region to each other with an offset. Thus, the mirror surfaces arranged adjacent to one another can describe a step-like profile in a section transverse to the reference and / or main extension plane. Due to the relative offset of the mirror surfaces to each other, a jump in the position of immediately adjacent to each other arranged mirror surfaces is formed. The mirror surfaces are arranged by the offset separately from each other on the optical element and can be assigned in the operation of the optical module in a projection exposure system particularly simple individual illumination channels of a Beleuchtssettings.

Nach einer weiteren Ausführungsform des optischen Moduls umfasst die Stützeinrichtung einen Träger, auf dem die erste und zweite Spiegelfläche gemeinsamen angeordnet sind. Dabei kann der Träger insbesondere mit dem Stellelement verbunden sein. Der Träger kann mit den Spiegelflächen als separates Bauteil einzeln gefertigt werden. Der Träger kann nach Art einer flachen Plattform ausgebildet sein und insbesondere eine quadratische oder rechteckige Grundform aufweisen. Der Träger kann vorgeformte Funktionsflächen aufweisen, die in Form und Lage im Wesentlichen den Spiegelflächen entsprechen. Die Spiegelflächen können beispielsweise durch Polieren und/oder Beschichten der Funktionsflächen des Trägers hergestellt sein, oder auch als separate Spiegelelemente auf den Träger aufgebracht, beispielsweise aufgeklebt, sein. So können eine Vielzahl von Trägern mit den jeweiligen Spiegelflächen individuell vorgefertigt und in einem optischen Modul kombiniert werden.According to a further embodiment of the optical module, the support device comprises a carrier, on which the first and second mirror surfaces are arranged in common. In this case, the carrier can be connected in particular to the actuating element. The carrier can be manufactured individually with the mirror surfaces as a separate component. The carrier may be designed in the manner of a flat platform and in particular have a square or rectangular basic shape. The carrier may have preformed functional surfaces, which substantially correspond in shape and position to the mirror surfaces. The mirror surfaces may be produced, for example, by polishing and / or coating the functional surfaces of the carrier, or may also be applied as separate mirror elements to the carrier, for example adhesively bonded. Thus, a variety of carriers with the respective mirror surfaces can be individually prefabricated and combined in an optical module.

Eine weitere Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, dass das Stellelement an einer den Spiegelflächen abgewandten Seite des Trägers angeordnet ist. Auf diese Weise wird eine Abschattung von auf die Spiegelflächen im Betrieb des optischen Moduls auftreffender Beleuchtungsstrahlung durch das Stellelement verhindert. Dabei ist der Träger insbesondere mit dem Stellelement verbunden. Grundsätzlich können der Träger und das Stellelement auf beliebige Art und Weise miteinander verbunden sein. So kann beispielsweise eine lösbare und/oder stoffschlüssige und/oder formschlüssige Verbindung zwischen dem Stellelement und dem Träger bestehen. Nach einer Ausgestaltung der vorliegenden Erfindung ist das Stellelement insbesondere an den Träger angeformt. So können der Träger und das Stellelement einstückig hergestellt sein. Dadurch wird eine besonders präzise Übertragung von Stellbewegungen zwischen dem Stellelement und dem Träger ermöglicht.A further embodiment of the invention provides that the adjusting element is arranged on a side facing away from the mirror surfaces of the carrier. In this way, shading of incident on the mirror surfaces in the operation of the optical module illumination radiation is prevented by the actuator. In this case, the carrier is in particular connected to the actuating element. in principle For example, the carrier and the actuator may be connected together in any desired manner. Thus, for example, a releasable and / or cohesive and / or positive connection between the actuator and the carrier exist. According to one embodiment of the present invention, the actuating element is in particular integrally formed on the carrier. Thus, the carrier and the actuator can be made in one piece. This allows a particularly precise transmission of positioning movements between the actuator and the carrier.

Das Stellelement kann mechanisch und/oder elektromagnetisch aktuierbar sein. Damit wird eine verschleißfreie, wiederholgenaue Aktuierung der Stellelemente gewährleistet. Weiterhin können das Stellelement und/oder der Träger Kühleinrichtungen aufweisen, um im Betrieb durch die Beleuchtungsstrahlung eingebrachte Wärme abzuführen und Wärmdehnungen in den Bauteilen zu vermeiden.The adjusting element can be actuated mechanically and / or electromagnetically. This ensures a wear-free, repeatable actuation of the control elements. Furthermore, the actuating element and / or the carrier may have cooling devices in order to dissipate heat introduced during operation by the illumination radiation and to avoid thermal expansions in the components.

Wenigstens eine der Spiegelflächen des optischen Moduls kann bogenförmig, insbesondere nach Art eines Ringabschnitts, und/oder im Wesentlichen rechteckig ausgebildet sein. Alternativ oder ergänzend können die Spiegelflächen konkav oder konvex geformt sein. At least one of the mirror surfaces of the optical module can be arcuate, in particular in the manner of a ring section, and / or substantially rectangular. Alternatively or additionally, the mirror surfaces may be concave or convex.

Nach einer weiteren Ausgestaltung des optischen Moduls kann die erste Spiegelfläche eine maximale Abmessung in einer ersten Richtung aufweisen, die größer ist, als eine in einer Richtung quer zur maximalen Abmessung erstreckte Abmessung der jeweiligen Spiegelfläche, wobei die quer zur maximalen Abmessung erstreckte Abmessung der Spiegelfläche insbesondere maximal 10%, vorzugsweise maximal 5%, besonders bevorzugt maximal 3% der maximalen Abmessung beträgt. Das optische Modul kann so insbesondere nach Art eines Feldfacettenspiegels ausgestaltet sein, wobei die einzelnen Facettenelemente insbesondere in Gruppen zusammengefasst sein können. Auf diese Weise kann das optische Modul individuell an die jeweiligen Anforderungen in einer Projektionsbelichtungsanalage angepasst sein.According to a further embodiment of the optical module, the first mirror surface may have a maximum dimension in a first direction which is greater than a dimension of the respective mirror surface extending in a direction transverse to the maximum dimension, the dimension of the mirror surface extending transversely to the maximum dimension in particular is at most 10%, preferably at most 5%, more preferably at most 3% of the maximum dimension. The optical module can thus be configured in particular in the manner of a field facet mirror, with the individual facet elements in particular being able to be grouped together. In this way, the optical module can be adapted individually to the respective requirements in a projection exposure system.

Nach einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung können die Spiegelflächen an Spiegelelementen vorgesehen sein. So können einzelne Spiegelelemente vorgefertigt werden, die dann in dem optischen Modul appliziert werden. Eine Spiegelfläche kann an einem Spiegelelement durch Polieren oder Beschichten einer Oberfläche des Spiegelelements hergestellt werden. Die Spiegelelemente können separat von den die Spiegelelemente tragenden Strukturen des optischen Moduls gefertigt werden, so dass eine effiziente Fertigung der Spiegelflächen erreicht werden kann. According to a further embodiment of the invention, the mirror surfaces may be provided on mirror elements. Thus, individual mirror elements can be prefabricated, which are then applied in the optical module. A mirror surface may be fabricated on a mirror element by polishing or coating a surface of the mirror element. The mirror elements can be manufactured separately from the structures of the optical module carrying the mirror elements, so that efficient production of the mirror surfaces can be achieved.

Die Spiegelelemente des optischen Moduls können in dem Anschlussbereich in der Anschlussrichtung eng benachbart zueinander angeordnet sein und/oder in dem Anschlussbereich in der Anschlussrichtung zumindest abschnittsweise spielfrei aneinander anliegen. Entscheidend ist dabei, dass die zweite Spiegelfläche in dem Anschlussbereich in der Anschlussrichtung im Wesentlichen unmittelbar an die erste Spiegelfläche anschließt, wobei die zweite Spiegelfläche in dem Anschlussbereich unter einem Sprung in ihrer Position und/oder Orientierung an die erste Spiegelfläche anschließt.The mirror elements of the optical module can be arranged closely adjacent to one another in the connection region in the connection direction and / or rest against one another at least in sections in the connection region in the connection direction. It is crucial that the second mirror surface in the connection region in the connection direction substantially directly adjoins the first mirror surface, wherein the second mirror surface in the connection region with a jump in their position and / or orientation adjoins the first mirror surface.

Die Spiegelelemente können im Wesentlichen quaderförmig gebildet sein. Durch die Quaderform lassen sich die Spiegelelemente besonders einfach in der Anschlussrichtung dicht an dicht zueinander positionieren, so dass benachbarte Spiegelelemente in der wenigstens einen Anschlussrichtung im Wesentlichen zumindest abschnittsweise spalt- bzw. spielfrei aneinander anliegen.The mirror elements may be formed substantially cuboid. As a result of the parallelepiped shape, the mirror elements can be positioned particularly close to one another in the connecting direction, so that adjacent mirror elements lie against one another in a gap-free or play-free manner, at least in sections, in at least one connecting direction.

Die Spiegelelemente können in einer Richtung quer zur Haupterstreckungsebene und/oder der Referenzebene einen Versatz zueinander ausweisen und/oder in einem Schnitt quer zur Haupterstreckungsebene und/oder Referenzebene ein stufenartiges Profil ausbilden. So kann die Position und/oder Orientierung der jeweiligen Spiegelfläche durch die Gestalt des Spiegelelements festgelegt sein. Auf diese Weise lassen sich optische Module durch ein modulares Zusammensetzen einzelner Spiegelelemente besonders einfach herstellen.The mirror elements may have an offset relative to one another in a direction transverse to the main extension plane and / or the reference plane and / or form a step-like profile in a section transverse to the main extension plane and / or reference plane. Thus, the position and / or orientation of the respective mirror surface can be determined by the shape of the mirror element. In this way, optical modules can be produced particularly easily by a modular assembly of individual mirror elements.

Die Spiegelelemente sind bevorzugt an einer im Betrieb des optischen Moduls in einer Projektionsbelichtungsanlage einem Beleuchtungsstrahlengang zugewandten Seite des Trägers angeordnet. Die Spiegelelemente können auf einer im Wesentlichen planen Oberfläche des Trägers aufgesetzt und befestigt sein. Bei den Spiegelelementen kann es sich um vergleichsweise dünne und flexible Elemente handeln, die auf vorgeformten Aufnahmesockeln des Trägers positioniert werden. Die Form der Aufnahmesockel kann dabei im Wesentlichen der Form einer für das optische Modul vorgesehenen Spiegelfläche entsprechen. Dabei können die dünnen, flexiblen Spiegelelemente beim Verbinden mit dem Aufnahmesockel an dessen Form angepasst werden. So können die Spiegelelemente beispielsweise eine Dicke von 0,5 mm bis 2 mm haben. Die Spiegelelemente können z.B. adhäsiv mit dem Träger verbunden sein. Das optische Element kann so auf besonders kostengünstige Weise gefertigt werden.The mirror elements are preferably arranged on a side of the carrier facing an illumination beam path during operation of the optical module in a projection exposure apparatus. The mirror elements can be placed and fastened on a substantially planar surface of the carrier. The mirror elements may be comparatively thin and flexible elements that are positioned on preformed receiving bases of the carrier. The shape of the receiving base can essentially correspond to the shape of a mirror surface provided for the optical module. The thin, flexible mirror elements can be adapted to the shape of the receptacle when it is connected. For example, the mirror elements can have a thickness of 0.5 mm to 2 mm. The mirror elements may e.g. be adhesively connected to the carrier. The optical element can be manufactured in a particularly cost-effective manner.

Nach einer weiteren Ausführungsform umfasst das optische Modul eine Vielzahl von optischen Elementen. Die optischen Elemente können mit einem Abstand zueinander angeordnet sind. Dabei können die optischen Elemente mit jeweils benachbart angeordneten optischen Elementen einen Spalt begrenzen. Die optischen Elemente können über eine Fläche, insbesondere die Referenzebene, verteilt angeordnet sein, wobei die optischen Elemente insbesondere in regelmäßigen Abständen und/oder in Gruppen angeordnet sein können, um eine möglichst homogene Ausleuchtung einer Maskenebene in einer optischen Abbildungseinrichtung oder einer Projektionsbelichtungsanlage zu gewährleisten. Insbesondere können die optischen Elemente in einer regelmäßigen Gitterstruktur angeordnet sein.According to a further embodiment, the optical module comprises a multiplicity of optical elements. The optical elements can be arranged at a distance from one another. In this case, the optical elements with each adjacent arranged optical elements define a gap. The optical elements can be distributed over a surface, in particular the reference plane, wherein the optical elements can be arranged in particular at regular intervals and / or in groups in order to ensure the most homogeneous possible illumination of a mask plane in an optical imaging device or a projection exposure system. In particular, the optical elements can be arranged in a regular grid structure.

Die Spiegelflächen bedecken nach einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wenigstens 90%, bevorzugt wenigstens 95%, weiter bevorzugt wenigstens 98%, besonders bevorzugt 99% der im Betrieb des optischen Moduls (insbesondere in einer Projektionsbelichtungsanlage oder einer optischen Abbildungseinrichtung) einer Oberfläche des optischen Moduls, welche der Beleuchtungsstrahlung zugewandtist. The mirror surfaces according to a further embodiment of the present invention cover at least 90%, preferably at least 95%, more preferably at least 98%, most preferably 99% of the surface of the optical module during operation of the optical module (in particular in a projection exposure apparatus or an optical imaging device) which faces the illumination radiation.

Bei der Auslegung bzw. Konstruktion des optischen Moduls kann angestrebt werden, die im Betrieb erforderlichen Beleuchtungssettings mit einer möglichst geringen Anzahl von optischen Elementen abzubilden, welche jeweils eine Gruppen von mehreren Spiegelflächen ausbilden. So können insbesondere auch drei oder mehr Spiegelflächen an einem optischen Element angeordnet sein.In the design or construction of the optical module, it may be desirable to image the illumination settings required during operation with the smallest possible number of optical elements, each of which forms a group of multiple mirror surfaces. Thus, in particular, three or more mirror surfaces may be arranged on an optical element.

An dem optischen Element kann daher wenigstens eine im Betrieb des optischen Moduls optisch nutzbare dritte Spiegelfläche vorgesehen sein, wobei eine Position und/oder Orientierung der dritten Spiegelfläche von der Position und/oder Orientierung der zweiten Spiegelfläche verschieden ist, und die dritte Spiegelfläche in einem Anschlussbereich in der Anschlussrichtung im Wesentlichen unmittelbar an die zweite Spiegelfläche anschließt, wobei die dritte Spiegelfläche in dem Anschlussbereich unter einem Sprung in ihrer Position und/oder Orientierung an die zweite Spiegelfläche anschließt.Therefore, at least one third mirror surface that is optically usable during operation of the optical module can be provided on the optical element, a position and / or orientation of the third mirror surface being different from the position and / or orientation of the second mirror surface, and the third mirror surface being in a connection region is connected in the connecting direction substantially directly to the second mirror surface, wherein the third mirror surface in the connection region with a jump in their position and / or orientation adjoins the second mirror surface.

Je mehr Spiegelflächen in einer Gruppe in einem optischen Element vereint sind, desto größer ist die effektiv nutzbare Spiegelfläche des optischen Moduls. So können an dem optischen Element, je nach Anwendungsfall, 3 bis 30 Spiegelflächen, bevorzugt 3 bis 15 Spiegelflächen, besonders bevorzugt 3 bis 5 Spiegelflächen vorgesehen sein. Dabei kann jedem der Spiegelelemente wenigstens ein weiteres Spiegelelement zugeordnet sein, um Spalte zwischen den Spiegelelementen in voranstehend beschriebener Weise zu vermeiden. Insbesondere kann jede der Spiegelflächen eine von den übrigen Spiegelflächen abweichende Orientierung haben. Alternativ oder ergänzend kann jede der Spiegelflächen eine von den übrigen Spiegelflächen abweichende Position quer zur der Anschlussrichtung haben. Auf diese Weise kann im Betrieb des optischen Moduls jede der Spiegelflächen eines optischen Elements einem individuellen Beleuchtungskanal eines Beleuchtungssettings zugeordnet sein. Hierbei versteht es sich, dass einzelne Spiegelflächen verschiedener optischer Elemente des optischen Moduls demselben Beleuchtungskanal eines bestimmten Beleuchtungssettings zugeordnet sein können (der Beleuchtungskanal mithin also über Spiegelflächen verschiedener optischer Elemente gespeist wird).The more mirror surfaces in a group are combined in one optical element, the larger the effectively usable mirror surface of the optical module. Thus, depending on the application, 3 to 30 mirror surfaces, preferably 3 to 15 mirror surfaces, particularly preferably 3 to 5 mirror surfaces, may be provided on the optical element. In this case, each of the mirror elements can be assigned at least one further mirror element in order to avoid gaps between the mirror elements in the manner described above. In particular, each of the mirror surfaces may have a different orientation from the other mirror surfaces. Alternatively or additionally, each of the mirror surfaces may have a position deviating from the remaining mirror surfaces transversely to the direction of connection. In this way, during operation of the optical module, each of the mirror surfaces of an optical element can be associated with an individual illumination channel of a lighting setting. In this case, it is understood that individual mirror surfaces of different optical elements of the optical module can be assigned to the same illumination channel of a specific illumination setting (ie the illumination channel is thus fed via mirror surfaces of different optical elements).

Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die Erfindung eine optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Beleuchtungseinrichtung mit einer ersten optischen Elementgruppe, einer Objekteinrichtung zur Aufnahme eines Objekts, einer Projektionseinrichtung mit einer zweiten optischen Elementgruppe und einer Bildeinrichtung. Das in der Objekteinrichtung aufgenommene Objekt kann beispielsweise eine in einem Lithographieprozess auf einen Wafer abzubildende Maske sein, während die Bildeinrichtung ein zu belichtender Wafer, oder (im Falle der Inspektion der Maske) ein Bildsensor sein kann. Die Beleuchtungseinrichtung ist zur Beleuchtung des Objekts und die Projektionseinrichtung zur Projektion einer Abbildung des Objekts auf die Bildeinrichtung ausgebildet. Die Beleuchtungseinrichtung und/oder die Projektionseinrichtung umfasst wenigstens ein erfindungsgemäßes optisches Modul. Mit Hilfe des erfindungsgemäßen optischen Moduls kann die Beleuchtungsleistung der optischen Abbildungseinrichtung aufgrund der reduzierten Transmissionsverluste gesteigert werden. So können in einem Projektionsbelichtungsprozess zur Herstellung eines Halbleiters die Prozesszeiten und der Energieverbrauch reduziert werden.According to a further aspect, the invention relates to an optical imaging device, in particular for microlithography, with a lighting device having a first optical element group, an object device for receiving an object, a projection device having a second optical element group and an image device. The object recorded in the object device can be, for example, a mask to be imaged onto a wafer in a lithography process, while the image device can be a wafer to be exposed, or (in the case of inspection of the mask) an image sensor. The illumination device is designed to illuminate the object and the projection device to project an image of the object onto the image device. The illumination device and / or the projection device comprises at least one optical module according to the invention. With the aid of the optical module according to the invention, the illumination performance of the optical imaging device can be increased due to the reduced transmission losses. Thus, in a projection exposure process for manufacturing a semiconductor, process times and power consumption can be reduced.

Die erste Spiegelfläche der optischen Abbildungseinrichtung kann in einem Betriebszustand der Stützeinrichtung wenigstens einem ersten Beleuchtungskanal der Beleuchtungseinrichtung zugeordnet sein und die zweite Spiegelfläche kann wenigstens einem zweiten Beleuchtungskanal der Beleuchtungseinrichtung zugeordnet sein, welcher von dem ersten Beleuchtungskanal verschieden ist. So kann die einem ersten Beleuchtungskanal zugeordnete erste Spiegelfläche in einem Beleuchtungsstrahlengang beispielsweise die auf das optische Element eintreffende Strahlung unter einem anderen Winkel reflektieren als die einem zweiten Beleuchtungskanal zugeordnete zweite Spiegelfläche. The first mirror surface of the optical imaging device may be associated with at least a first illumination channel of the illumination device in an operating state of the support device and the second mirror surface may be associated with at least a second illumination channel of the illumination device, which is different from the first illumination channel. For example, the first mirror surface associated with a first illumination channel in an illumination beam path can, for example, reflect the radiation incident on the optical element at a different angle than the second mirror surface assigned to a second illumination channel.

Das optische Modul kann als Feldfacettenspiegel ausgestaltet sein und mit einem Pupillenfacettenspiegel zusammenwirken, wobei die erste und zweite Spiegelfläche beispielsweise jeweils unterschiedlichen Pupillenfacetten zugeordnet sein können und so Teil unterschiedlicher Beleuchtungskanäle sind. Einem Betriebszustand der Stützeinrichtung ist bevorzugt eine definierte Position und/oder Orientierung des Stellelements zugeordnet. So können durch ein Einstellen der Position und/oder Orientierung des Stellelements in einem ersten Betriebszustand der Stützrichtung gleichzeitig zwei Beleuchtungskanäle einer Beleuchtungseinrichtung bedient werden.The optical module can be embodied as a field facet mirror and interact with a pupil facet mirror, the first and second mirror surfaces, for example, each being assigned to different pupil facets and thus being part of different illumination channels. An operating state of the support device is preferably a defined position and / or Assigned orientation of the control element. Thus, by adjusting the position and / or orientation of the actuating element in a first operating state of the support direction, two illumination channels of a lighting device can be operated simultaneously.

Alternativ oder ergänzend können die erste Spiegelfläche und die zweite Spiegelfläche in einem ersten Betriebszustand der Stützeinrichtung einem ersten Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung zugeordnet sein bzw. zu diesem ersten Beleuchtungssetting beitragen. In einem zweiten Betriebszustand können die erste Spiegelfläche und die zweite Spiegelfläche der Stützeinrichtung einem zweiten Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung zugeordnet sein bzw. zu einem zweiten Beleuchtungssetting beitragen, welches von dem ersten Beleuchtungssetting verschieden ist. Dabei können die erste und/oder die zweite Spiegelfläche, je nach gefordertem Setting, in unterschiedlichen Betriebszuständen der Stützeinrichtung unterschiedlichen Beleuchtungskanälen zugeordnet sein. Alternatively or additionally, in a first operating state of the support device, the first mirror surface and the second mirror surface can be assigned to a first illumination setting of the illumination device or contribute to this first illumination setting. In a second operating state, the first mirror surface and the second mirror surface of the support device can be assigned to a second illumination setting of the illumination device or contribute to a second illumination setting that is different from the first illumination setting. In this case, the first and / or the second mirror surface, depending on the required setting, be assigned to different illumination channels in different operating states of the support device.

Die Anordnung der Spiegelflächen des optischen Moduls kann dabei so gewählt werden, dass insbesondere kreisförmige, ringförmige oder Quadrupol-Ausleuchtungen erzeugt werden können. Das optische Element kann mithilfe des Stellelements folglich in verschiedene Positionen und/oder Orientierungen verschwenkt bzw. verschoben werden, um die jeweils geforderte Beleuchtungsverteilung darzustellen. Dabei können die einzelnen Spiegelflächen des optischen Elements in jeder dieser Positionen und/oder Orientierungen voneinander abweichende Beleuchtungskanäle bedienen. Aufgrund der reduzierten Anzahl von Stellelementen ist daher ein effizienter Wechsel zwischen verschiedenen Beleuchtungssettings ermöglicht, wobei im Vergleich zu optischen Modulen mit einzeln verstellbaren Spiegelflächen der steuer- und regelungstechnische Aufwand reduziert ist. The arrangement of the mirror surfaces of the optical module can be chosen so that in particular circular, annular or quadrupole illuminations can be generated. The optical element can thus be pivoted or moved in various positions and / or orientations with the aid of the adjusting element in order to represent the respective required illumination distribution. In this case, the individual mirror surfaces of the optical element can operate in each of these positions and / or orientations deviating illumination channels. Due to the reduced number of control elements therefore an efficient change between different lighting settings is possible, which compared to optical modules with individually adjustable mirror surfaces of the control and technical control effort is reduced.

Nach einer bevorzugten Ausgestaltung der Abbildungseinrichtungen sind ein erstes erfindungsgemäßes optisches Modul, insbesondere ein Feldfacettenspiegel, und ein zweites optisches Modul, insbesondere einem Pupillenfacettenspiegel, vorgesehen. Das erste optische Modul umfasst wenigstens ein optisches Element, welches die erste Spiegelfläche und die zweite Spiegelfläche ausbildet. Das zweite optische Modul umfasst eine Vielzahl von optischen Elementen, die jeweils einen Beleuchtungskanal in wenigstens einem Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung definieren. Zur Erzielung eines ersten Beleuchtungssettings in einem ersten Betriebszustand der Stützeinrichtung ist die erste Spiegelfläche einem ersten optischen Element des zweiten optischen Moduls und die zweite Spiegelfläche einem zweiten optischen Element des zweiten optischen Moduls zugeordnet, welches von dem ersten optischen Element des zweiten optischen Moduls verschieden ist. Zur Erzielung eines zweiten Beleuchtungssettings in einem zweiten Betriebszustand der Stützeinrichtung ist die erste Spiegelfläche einem dritten optischen Element des zweiten optischen Moduls und die zweite Spiegelfläche einem vierten optischen Element des zweiten optischen Moduls zugeordnet. Das dritte optische Element ist von dem ersten optischen Element verschieden. Alternativ oder ergänzend ist das vierte optische Element von dem zweiten optischen Element verschieden. So können in einfacher Weise wenigstens zwei, vorzugsweise eine Vielzahl verschiedener Beleuchtungssettings erzielt werden.According to a preferred embodiment of the imaging devices, a first optical module according to the invention, in particular a field facet mirror, and a second optical module, in particular a pupil facet mirror, are provided. The first optical module comprises at least one optical element which forms the first mirror surface and the second mirror surface. The second optical module comprises a multiplicity of optical elements, each of which defines an illumination channel in at least one illumination setting of the illumination device. To achieve a first illumination setting in a first operating state of the support means, the first mirror surface is associated with a first optical element of the second optical module and the second mirror surface with a second optical element of the second optical module, which is different from the first optical element of the second optical module. In order to achieve a second illumination setting in a second operating state of the support device, the first mirror surface is associated with a third optical element of the second optical module and the second mirror surface with a fourth optical element of the second optical module. The third optical element is different from the first optical element. Alternatively or additionally, the fourth optical element is different from the second optical element. Thus, at least two, preferably a plurality of different illumination settings can be achieved in a simple manner.

Nach einem weiteren Aspekt betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem eine Position und/oder Orientierung eines optischen Elements, insbesondere eines Facettenelements, eingestellt wird, wobei das optische Element eine im Betrieb des optischen Moduls optisch nutzbare erste Spiegelfläche umfasst. Das optische Element umfasst weiterhin wenigstens eine im Betrieb des optischen Moduls optisch nutzbare zweite Spiegelfläche, die gemeinsam mit der ersten Spiegelfläche verstellt wird, wobei eine Position und/oder Orientierung der zweiten Spiegelfläche von der Position und/oder Orientierung der ersten Spiegelfläche verschieden ist, und die zweite Spiegelfläche in einem Anschlussbereich in wenigstens einer Anschlussrichtung im Wesentlichen unmittelbar an die erste Spiegelfläche anschließt, wobei die zweite Spiegelfläche in dem Anschlussbereich unter einem Sprung in ihrer Position und/oder Orientierung an die erste Spiegelfläche anschließt. Hiermit lassen sich die oben im Zusammenhang mit der erfindungsgemäßen optischen Modul beschriebenen Varianten und Vorteile in demselben Maße realisieren, sodass insoweit auf die obigen Ausführungen verwiesen wird.According to a further aspect, the invention relates to a method for supporting an optical element, in particular for microlithography, in which a position and / or orientation of an optical element, in particular a facet element is adjusted, wherein the optical element during operation of the optical module optically usable first mirror surface includes. The optical element further comprises at least one optically usable in operation of the optical module second mirror surface, which is adjusted together with the first mirror surface, wherein a position and / or orientation of the second mirror surface is different from the position and / or orientation of the first mirror surface, and the second mirror surface in a connection region adjoins the first mirror surface substantially in at least one connection direction, wherein the second mirror surface in the connection region adjoins the first mirror surface with a jump in its position and / or orientation. Hereby, the variants and advantages described above in connection with the optical module according to the invention can be realized to the same extent, so that reference is made to the above statements to that extent.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren können auf einfache Weise verschiedene Beleuchtungssettings realisiert werden, wobei der regelungstechnische Aufwand durch das gleichzeitige Verschwenken wenigstens zweier Spiegelflächen durch ein gemeinsames Stellelement im Vergleich zu bekannten Verfahren, bei denen die Spiegelflächen einzeln verschwenkt werden, reduziert ist.With the method according to the invention different illumination settings can be realized in a simple manner, wherein the control engineering effort is reduced by the simultaneous pivoting of at least two mirror surfaces by a common actuator in comparison to known methods in which the mirror surfaces are pivoted individually.

Bevorzugt wird die erste Spiegelfläche in einem Betriebszustand der Stützeinrichtung wenigstens einem ersten Beleuchtungskanal einer Beleuchtungseinrichtung zugeordnet und die zweite Spiegelfläche wird wenigstens einem zweiten Beleuchtungskanal der Beleuchtungseinrichtung zugeordnet, welcher von dem ersten Beleuchtungskanal verschieden ist. Alternativ oder ergänzend werden die erste Spiegelfläche und die zweite Spiegelfläche in einem ersten Betriebszustand der Stützeinrichtung einem ersten Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung zugeordnet und die erste Spiegelfläche und die zweite Spiegelfläche werden in einem zweiten Betriebszustand der Stützeinrichtung einem zweiten Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung zugeordnet, welches von dem ersten Beleuchtungssetting verschieden ist.In one operating state of the support device, the first mirror surface is preferably assigned to at least one first illumination channel of an illumination device, and the second mirror surface is assigned to at least one second illumination channel of the illumination device, which is different from the first illumination channel. Alternatively or additionally, the first mirror surface and the second mirror surface are in one first operating state of the support device associated with a first illumination setting of the illumination device and the first mirror surface and the second mirror surface are assigned in a second operating state of the support means a second illumination setting of the illumination device, which is different from the first illumination setting.

Gemäß einer weiteren Ausgestaltung des Verfahrens kann zur Erzielung eines ersten Beleuchtungssettings in einem ersten Betriebszustand der Stützeinrichtung die erste Spiegelfläche einem ersten optischen Element eines zweiten optischen Moduls zugeordnet werden und die zweite Spiegelfläche einem zweiten optischen Element des zweiten optischen Moduls zugeordnet werden, welches von dem ersten optischen Element verschieden ist. Zur Erzielung eines zweiten Beleuchtungssettings in einem zweiten Betriebszustand der Stützeinrichtung kann die erste Spiegelfläche einem dritten optischen Element des zweiten optischen Moduls zugeordnet werden und die zweite Spiegelfläche einem vierten optischen Element des zweiten optischen Moduls zugeordnet werden, wobei das dritte optische Element von dem ersten optischen Element verschieden ist und/oder das vierte optische Element von dem zweiten optischen Element verschieden ist.In accordance with a further embodiment of the method, in order to achieve a first illumination setting in a first operating state of the support device, the first mirror surface can be assigned to a first optical element of a second optical module and the second mirror surface can be assigned to a second optical element of the second optical module which differs from the first optical element optical element is different. In order to achieve a second illumination setting in a second operating state of the support device, the first mirror surface can be assigned to a third optical element of the second optical module and the second mirror surface can be assigned to a fourth optical element of the second optical module, the third optical element being part of the first optical element is different and / or the fourth optical element is different from the second optical element.

Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die Erfindung ein optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem über eine Beleuchtungseinrichtung mit einer ersten optischen Elementgruppe ein Objekt beleuchtet wird und mittels einer Projektionseinrichtung mit einer zweiten optischen Elementgruppe eine Abbildung des Objekts auf einer Bildeinrichtung erzeugt wird. In der Beleuchtungseinrichtung und/der Projektionseinrichtung wird ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Abstützung eines optischen Elements verwendet.According to a further aspect, the invention relates to an optical imaging method, in particular for microlithography, in which an object is illuminated via a lighting device having a first optical element group and an image of the object is generated on an image device by means of a projection device with a second optical element group. In the illumination device and / or the projection device, a method according to the invention for supporting an optical element is used.

Weitere Aspekte und Ausführungsbeispiele der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen und der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele, die sich auf die beigefügten Figuren bezieht. Alle Kombinationen der offenbarten Merkmale, unabhängig davon, ob diese Gegenstand eines Anspruchs sind oder nicht, liegen im Schutzbereich der Erfindung.Further aspects and embodiments of the invention will become apparent from the dependent claims and the following description of preferred embodiments, which refers to the accompanying figures. All combinations of the disclosed features, whether or not they are the subject of a claim, are within the scope of the invention.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

1 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführung einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage, die eine bevorzugte Ausführung eines erfindungsgemäßen optisches Moduls umfasst und mit der bevorzugte Ausführungen der erfindungsgemäßen Verfahren ausgeführt werden können. 1 is a schematic representation of a preferred embodiment of a projection exposure apparatus according to the invention, which comprises a preferred embodiment of an optical module according to the invention and can be carried out with the preferred embodiments of the inventive method.

2 ist eine schematische perspektivische Darstellung eines ersten Ausführungsbeispiels eines erfindungsgemäßen optischen Moduls aus 1. 2 is a schematic perspective view of a first embodiment of an optical module according to the invention 1 ,

3 ist eine schematische Darstellung einer Ausgestaltung von Facettenelementen eines Facettenspiegels aus dem Stand der Technik (3A) im Vergleich zu den optischen Elementen des erfindungsgemäßen optischen Moduls aus 2 (3B). 3 is a schematic representation of an embodiment of facet elements of a facet mirror of the prior art ( 3A ) compared to the optical elements of the optical module according to the invention 2 ( 3B ).

4 ist eine schematische Darstellung eines Querschnitts eines erfindungsgemäßen optischen Elements aus 3 (entlang der Linie IV-IV). 4 is a schematic representation of a cross section of an optical element according to the invention 3 (along the line IV-IV).

5 ist eine schematische Darstellung einer Draufsicht auf einen Pupillenfacettenspiegel. 5 is a schematic representation of a plan view of a pupil facet mirror.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNGDETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

Im Folgenden wird unter Bezugnahme auf die 1 bis 5 ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage 101, die ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen optisches Moduls umfasst, beschrieben. Zur Vereinfachung der nachfolgenden Ausführungen wird in den Zeichnungen ein x,y,z-Koordinatensystem angegeben, wobei die z-Richtung der vertikalen Richtung entspricht. Selbstverständlich ist es in weiteren Ausgestaltungen der Erfindung möglich, beliebige davon abweichende Orientierungen eines x,y,z-Koordinatensystems zu wählen.The following is with reference to the 1 to 5 A preferred embodiment of a projection exposure apparatus according to the invention 101 which comprises a preferred embodiment of an optical module according to the invention. To simplify the following explanations, an x, y, z coordinate system is indicated in the drawings, the z-direction corresponding to the vertical direction. Of course, it is possible in further embodiments of the invention to choose any deviating orientations of an x, y, z coordinate system.

1 ist eine schematische, nicht maßstabsgetreue Darstellung der Projektionsbelichtungsanlage 101, die in einem Mikrolithographieprozess zur Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Die Projektionsbelichtungsanlage 101 umfasst eine Beleuchtungseinrichtung 102 und eine Projektionseinrichtung 103, die dazu ausgebildet ist, in einem Belichtungsprozess ein Bild einer Struktur einer in einer Maskeneinheit 104 angeordneten Maske 104.1 auf ein Substrat 105.1 einer Substrateinheit 105 zu übertragen. Dazu leuchtet die Beleuchtungseinrichtung 102 die Maske 104.1 aus. Die optische Projektionseinrichtung 103 empfängt das Licht von der Maske 104.1 und projiziert das Bild der Maskenstruktur der Maske 104.1 auf das Substrat 105.1, wie z.B. einen Wafer oder dergleichen. 1 is a schematic, not to scale representation of the projection exposure system 101 , which is used in a microlithography process for the production of semiconductor devices. The projection exposure machine 101 includes a lighting device 102 and a projection device 103 , which is adapted, in an exposure process, to form an image of a structure in a mask unit 104 arranged mask 104.1 on a substrate 105.1 a substrate unit 105 transferred to. The lighting device lights up for this purpose 102 the mask 104.1 out. The optical projection device 103 receives the light from the mask 104.1 and project the image of the mask structure of the mask 104.1 on the substrate 105.1 such as a wafer or the like.

Die Beleuchtungseinrichtung 102 umfasst eine optische Elementgruppe 106, die ein erfindungsgemäßes optisches Modul 106.1 aufweist. Wie im Folgenden näher ausgeführt wird, ist das optische Modul 106.1 in Form eines Feldfacettenspiegels ausgestaltet. Die Projektionseinrichtung 103 umfasst zudem eine optische Elementgruppe 107, die das optische Modul 107.1 aufweist. Die optischen Module 106.1, 107.1 der optischen Elementgruppen 106, 107 sind entlang einer gefalteten optischen Achse 101.1 der Projektionsbelichtungsanlage 101 angeordnet. Jede der optischen Elementgruppen 106, 107 kann eine Vielzahl optischer Module 106.1, 107.1 umfassen.The lighting device 102 comprises an optical element group 106 , which is an optical module according to the invention 106.1 having. As will be explained in more detail below, the optical module 106.1 designed in the form of a field facet mirror. The projection device 103 also includes an optical element group 107 that the optical module 107.1 having. The optical modules 106.1 . 107.1 the optical element groups 106 . 107 are along a folded optical axis 101.1 the projection exposure system 101 arranged. Each of the optical element groups 106 . 107 can be a variety of optical modules 106.1 . 107.1 include.

In dem vorliegenden Ausführungsbeispiel arbeitet die Projektionsbelichtungsanlage 101 mit Licht im EUV-Bereich (extrem ultraviolette Strahlung), mit Wellenlängen zwischen 5 nm bis 20 nm, insbesondere mit einer Wellenlänge von 13 nm. Bei den optischen Modulen 106.1, 107.1 der Beleuchtungseinrichtung 102 und der Projektionseinrichtung 103 handelt es sich ausschließlich um reflektive optische Elemente. In weiteren Ausgestaltungen der Erfindung ist es selbstverständlich auch möglich, jede Art von optischen Elementen (refraktiv, reflektiv, diffraktiv) alleine oder in Kombination einzusetzen. Insbesondere können die Beleuchtungseinrichtung 102 und/oder die Projektionseinrichtung 103 eines oder mehrere erfindungsgemäße optische Module 106.1 umfassen.In the present embodiment, the projection exposure apparatus operates 101 with light in the EUV range (extreme ultraviolet radiation), with wavelengths between 5 nm to 20 nm, in particular with a wavelength of 13 nm. For the optical modules 106.1 . 107.1 the lighting device 102 and the projection device 103 are exclusively reflective optical elements. In further embodiments of the invention, it is of course also possible to use any type of optical elements (refractive, reflective, diffractive) alone or in combination. In particular, the lighting device 102 and / or the projection device 103 one or more optical modules according to the invention 106.1 include.

2 zeigt ein Ausführungsbespiel eines erfindungsgemäßen optischen Moduls 106.1. Hierbei handelt es sich um einen Feldfacettenspiegel, der insbesondere im Zusammenwirken mit einem Pupillenfacettenspiegel 108 (5) zur Erzeugung sekundärer Lichtquellen in einem Beleuchtungsstrahlengang dient, um eine möglichst homogene Ausleuchtung der Maske 104.1 in den auszuleuchtenden Bereichen zu erzielen und insbesondere unterschiedliche Beleuchtungsverteilungen bzw. Beleuchtungssettings zu realisieren. Im vorliegenden Beispiel erfolgt der Lichteinfall auf die dargestellten Facettenspiegel 106.1, 108 im Wesentlichen entgegen der z-Richtung. Es kann jedoch auch eine beliebige andere, zur z-Richtung geneigte Beleuchtungsrichtung vorgesehen sein. 2 shows an exemplary example of an optical module according to the invention 106.1 , This is a field facet mirror, which in particular interacts with a pupil facet mirror 108 ( 5 ) is used to generate secondary light sources in an illumination beam path, in order to ensure the most homogeneous possible illumination of the mask 104.1 to achieve in the areas to be illuminated and in particular to realize different illumination distributions or lighting settings. In the present example, the light is incident on the illustrated facet mirrors 106.1 . 108 essentially counter to the z-direction. However, it can also be provided any other, inclined to the z-direction illumination direction.

Der Facettenspiegel 106.1 gemäß 2 umfasst eine Vielzahl optischer Elemente 106.2, die als Feldfacettenelemente ausgebildet sind. An ihrer Oberseite 106.3, welche im Betrieb dem Lichteinfall zugewandt ist, weisen die Facettenelemente 106.2 im vorliegenden Beispiel jeweils mehrere Spiegelflächen 106.4 auf. The facet mirror 106.1 according to 2 includes a variety of optical elements 106.2 formed as field facet elements. At the top 106.3 , which faces the light incidence during operation, have the facet elements 106.2 in the present example in each case several mirror surfaces 106.4 on.

Die Facettenelemente 106.2 des Facettenspiegels 106.1 sind im vorliegenden Beispiel in Facettengruppen 106.5 angeordnet. Die Facettengruppen 106.5 des Facettenspiegels 106.1 definieren dabei jeweils Referenzebenen 106.6 auf, die im vorliegenden Beispiel in unterschiedlichen Neigungswinkeln zu der durch die x- und y-Richtung aufgespannten Haupterstreckungsebene (xy Ebene) angeordnet sind. Die einzelnen Facettenelemente 106.2 sind in 2 lediglich für eine Facettengruppe 106.5 dargestellt. Die übrigen Facettengruppen 106.5 umfassen ebenfalls über die Erstreckung der jeweiligen Referenzebenen 106.6 angeordnete Facettenelemente 106.2. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Anordnung und/oder Gruppierung der Facettenelemente gewählt sein kann The faceted elements 106.2 of the facet mirror 106.1 in the present example are in facet groups 106.5 arranged. The facet groups 106.5 of the facet mirror 106.1 define reference levels 106.6 on, which are arranged in the present example at different angles of inclination to the main plane of extent spanned by the x and y directions (xy plane). The individual facet elements 106.2 are in 2 only for one facet group 106.5 shown. The other facet groups 106.5 also encompass the extent of the respective reference planes 106.6 arranged facet elements 106.2 , It is understood, however, that in other variants of the invention, any other arrangement and / or grouping of the facet elements can be selected

3 zeigt schematisch einen Vergleich zwischen Facettenelementen 201.1 eines vorbekannten Facettenspiegels 201 und den optischen Elementen 106.2 eines erfindungsgemäßen optischen Moduls 106.1. Der rechte Teil der 3 zeigt schematisch erfindungsgemäße optische Elemente 106.2 gemäß dem Detail III der 2. Die Spiegelflächen 106.41 bis 106.43 eines optischen Elements 106.2 sind im Wesentlichen bogenförmig ausgebildet, insbesondere nach Art eines Ringabschnitts. Wie anhand der Spiegelfläche 106.41 gezeigt ist, ist die in x-Richtung gemessene Länge L der Spiegelfläche 106.41 größer als die in y-Richtung gemessene Breite B der jeweiligen Spiegelfläche 106.41. Die Breite B beträgt dabei lediglich ca. 5 % der Länge L der jeweiligen Spiegelflächen 106.41 bis 106.43. 3 schematically shows a comparison between facet elements 201.1 a prior art facet mirror 201 and the optical elements 106.2 an optical module according to the invention 106.1 , The right part of the 3 shows schematically optical elements according to the invention 106.2 according to detail III of 2 , The mirror surfaces 106.41 to 106.43 an optical element 106.2 are formed substantially arcuate, in particular in the manner of a ring section. As with the mirror surface 106.41 is shown, the length L measured in the x-direction is the mirror surface 106.41 greater than the width B measured in the y-direction of the respective mirror surface 106.41 , The width B is only about 5% of the length L of the respective mirror surfaces 106.41 to 106.43 ,

Während die Facettenelemente 201.1 jeweils einzelne Spiegelflächen 201.2 aufweisen, umfassen die erfindungsgemäßen optischen Elemente 106.2 in dem hier dargestellten Beispiel drei separate Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43. Wie aus der Darstellung des optischen Elements 106.2 in 3 zu entnehmen ist, gehen die Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 in einer Projektion auf die Haupterstreckungsebene (xy-Ebene) des optischen Moduls 106.1 spaltfrei ineinander über bzw. liegen bündig aneinander an.While the faceted elements 201.1 each individual mirror surfaces 201.2 comprise the optical elements according to the invention 106.2 in the example shown here, three separate mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 , As from the representation of the optical element 106.2 in 3 it can be seen, go the mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 in a projection on the main extension plane (xy plane) of the optical module 106.1 gapless into each other over or lie flush against each other.

Im Vergleich zu dem vorbekannten Facettenspiegel 201 werden somit die Spiegelflächen 201.2 dreier Facettenelemente 201.1 gruppiert in einem erfindungsgemäßen optischen Element 106.2 vereint. So kann die Anzahl der Spalte 106.7 bei dem erfindungsgemäßen optischen Modul 106.1 im Vergleich zu der Anzahl der Spalte 202.3 des vorbekannten Facettenspiegels 201 deutlich reduziert werden. Bei gleicher Grundfläche steht damit insgesamt eine größere optisch nutzbare Spiegelfläche zur Verfügung. Selbstverständlich ist es in anderen Ausführungsformen des optischen Moduls ebenfalls denkbar, einzelne optische Elemente vorzusehen, die zwei oder mehr Spiegelflächen aufweisen, wobei andere optische Elemente lediglich eine einzelne Spiegelfläche tragen. So kann die Anzahl der Spiegelflächen, die an einem jeweiligen optischen Element vorgesehen sind, in dem optischen Modul 106.1 gegebenenfalls variieren.Compared to the previously known facet mirror 201 thus become the mirror surfaces 201.2 three facet elements 201.1 grouped in an optical element according to the invention 106.2 united. So can the number of column 106.7 in the optical module according to the invention 106.1 compared to the number of columns 202.3 the previously known facet mirror 201 be significantly reduced. With the same base area, there is thus a total of a larger optically usable mirror surface available. Of course, it is also conceivable in other embodiments of the optical module to provide individual optical elements which have two or more mirror surfaces, wherein other optical elements carry only a single mirror surface. Thus, the number of mirror surfaces provided on a respective optical element may be in the optical module 106.1 possibly vary.

4 ist eine schematische Darstellung eines Querschnitts eines optischen Elements 106.2 des optischen Moduls 106.1 aus 3 entlang der Linie IV-IV. Das optische Element 106.2 weist an seiner Oberseite 106.3 die Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 auf. Die Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 sind im vorliegenden Beispiel konkav geformt. Bei weiteren Ausführungen eines erfindungsgemäßen optischen Elements können die Spiegelflächen im Wesentlichen plan bzw. eben ausgebildet sein. Ebenso sind natürlich auch beliebige Kombinationen solcher gekrümmter und ebener Spiegelflächen möglich. 4 is a schematic representation of a cross section of an optical element 106.2 of the optical module 106.1 out 3 along the line IV-IV. The optical element 106.2 points at its top 106.3 the mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 on. The mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 are concave in the present example. In further embodiments of an optical element according to the invention, the mirror surfaces may be substantially planar or planar. Likewise, of course, any combination of such curved and flat mirror surfaces are possible.

Eine Stützeinrichtung 106.8 dient der Abstützung des optischen Elements 106.2. Die Stützeinrichtung 106.8 umfasst ein Stellelement 106.9 zum Einstellen der Position und/oder Orientierung des optischen Elements 106.2. Die erste Spiegelfläche 106.41 und die zweite Spiegelfläche 106.42 liegen in einem Anschlussbereich 106.10 in einer Anschlussrichtung R1 im Wesentlichen spaltfrei aneinander an. Die Anschlussrichtung R1 verläuft in dem hier gezeigten Ausführungsbeispiel im Wesentlichen parallel zur y-Achse. Die zweite Spiegelfläche 106.42 und die dritte Spiegelfläche 106.43 liegen in der Anschlussrichtung R1 in einem Anschlussbereich 106.11 ebenso spaltfrei aneinander an. A support device 106.8 serves to support the optical element 106.2 , The support device 106.8 includes an actuator 106.9 for adjusting the position and / or orientation of the optical element 106.2 , The first mirror surface 106.41 and the second mirror surface 106.42 lie in a connection area 106.10 in a connecting direction R1 substantially gap-free to each other. The connection direction R1 extends in the embodiment shown here substantially parallel to the y-axis. The second mirror surface 106.42 and the third mirror surface 106.43 lie in the connection direction R1 in a connection area 106.11 as gapless together.

Die erste Spiegelfläche 106.41 und die zweite Spiegelfläche 106.42 weisen in dem Anschlussbereich 106.10 relativ zueinander einen Sprung in ihrer Position und Orientierung auf. Demgegenüber weisen die zweite Spiegelfläche 106.42 und die dritte Spiegelfläche 106.43 in dem Anschlussbereich 106.11 nur einen Sprung in ihrer Orientierung auf. In einer Richtung R2, die quer zur Haupterstreckungsebene (xy-Ebene) und der Anschlussrichtung R1 verläuft, sind die Spiegelflächen 106.41, 106.42 und 106.43 in dem Anschlussbereich 106.10 mit einem Versatz zueinander angeordnet (weisen also einen Sprung in der Position auf), während dies im Anschlussbereich 106.11 zwischen den Spiegelflächen 106.42 und 106.43 nicht der Fall ist.The first mirror surface 106.41 and the second mirror surface 106.42 point in the connection area 106.10 relative to each other on a jump in their position and orientation. In contrast, the second mirror surface 106.42 and the third mirror surface 106.43 in the connection area 106.11 just a jump in their orientation. In a direction R2 which is transverse to the main extension plane (xy plane) and the connection direction R1, the mirror surfaces are 106.41 . 106.42 and 106.43 in the connection area 106.10 with an offset to each other (ie, have a jump in the position), while this in the connection area 106.11 between the mirror surfaces 106.42 and 106.43 not the case.

Die Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 sind an Spiegelelementen 106.12 vorgesehen. Die Spiegelelemente 106.12 sind in den Anschlussbereichen 106.10, 106.11 entlang der Anschlussrichtung R1 ebenfalls so dicht gepackt und eng benachbart zueinander angeordnet, dass sie im Wesentlichen spaltfrei aneinander liegen. Die Spiegelelemente 106.12 weisen eine im Wesentlichen quaderförmige Grundform auf. Durch den relativen Versatz der Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 der Spiegelelemente 106.8 optischen Fläche des entlang der Richtung R2 ist ein stufenartiges Profil optischen Elements 106.2 gebildet.The mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 are on mirror elements 106.12 intended. The mirror elements 106.12 are in the connection areas 106.10 . 106.11 along the connecting direction R1 also so densely packed and arranged closely adjacent to each other that they are substantially gap-free to each other. The mirror elements 106.12 have a substantially cuboid basic shape. Due to the relative offset of the mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 the mirror elements 106.8 optical surface of the along the direction R2 is a step-like profile optical element 106.2 educated.

Die Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 sind durch eine entsprechende refelktierende Beschichtung der Spiegelelemente 106.12 erzeugt. Zur weiteren Verbesserung der Reflexionseigenschaften können die Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 zudem poliert sein.The mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 are by a corresponding refelktierende coating of the mirror elements 106.12 generated. To further improve the reflection properties, the mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 also be polished.

Die Spiegelelemente 106.12 werden von einem gemeinsamen, im Wesentlichen einstückigen und starren Träger 106.13 der Stützeinrichtung 106.8 getragen. Die Spiegelelemente 106.12 sind im vorliegenden Beispiel auf den Träger 106.13 aufgeklebt. Das Stellelement 106.9 ist an einer den Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 abgewandten Seite des Trägers 106.13 angeordnet. Der Träger 106.13 und das Stellelement 106.9 sind im vorliegenden Beispiel ebenfalls einstückig ausgebildet, können bei anderen Varianten aber auch als separate Komponenten ausgebildet sein.The mirror elements 106.12 are made of a common, essentially one-piece and rigid carrier 106.13 the support device 106.8 carried. The mirror elements 106.12 are in the present example on the carrier 106.13 glued. The actuator 106.9 is at one of the mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 opposite side of the carrier 106.13 arranged. The carrier 106.13 and the actuator 106.9 are also integrally formed in the present example, but may be formed in other variants as separate components.

Wie voranstehend bereits erwähnt worden ist, ist das erfindungsgemäße optische Modul 106.1 dazu ausgebildet, in der Projektionsbelichtungsanlage 101 mit dem in 5 dargestellten Pupillenfacettenspiegel 108 zusammenzuwirken. Das als Feldfacettenspiegel ausgebildete optische Modul 106.1 und der Pupillenfacettenspiegel 108 sind im vorliegenden Beispiel Teil der Beleuchtungseinrichtung 102 zur Beleuchtung der Maske 104.1.As already mentioned above, the optical module according to the invention is 106.1 trained in the projection exposure apparatus 101 with the in 5 illustrated pupil facet mirror 108 co. The trained as a field facet mirror optical module 106.1 and the pupil facet mirror 108 are part of the lighting device in the present example 102 for lighting the mask 104.1 ,

Dabei reflektiert das optische Modul 106.1 das auf dieses Modul auftreffende Licht in Richtung des Pupillenfacettenspiegels 108. Der Pupillenfacettenspiegel 108 reflektiert seinerseits das auftreffende Licht in Richtung der Maskeneinheit 104 um eine vorgegebene Beleuchtungsverteilung im Bereich der Maskeneinheit 104 einzustellen und die Maske 104.1 auszuleuchten. Der Pupillenfacettenspiegel 108 weist Pupillenfacetten 108.1 auf, die jeweils einen Beleuchtungskanal der Beleuchtungseinrichtung 102 zur Ausleuchtung der Maske 104.1 repräsentieren. Die Pupillenfacetten 108.1 weisen im Bereich ihrer im Betrieb dem Lichteinfall zugewandten Oberfläche 108.2 die Spiegelflächen 108.3 auf, die das Licht in Richtung der Maskeneinheit 104 reflektieren.The optical module reflects 106.1 the light impinging on this module in the direction of the pupil facet mirror 108 , The pupil facet mirror 108 in turn reflects the incident light towards the mask unit 104 by a predetermined illumination distribution in the area of the mask unit 104 adjust and the mask 104.1 illuminate. The pupil facet mirror 108 has pupil facets 108.1 each having a lighting channel of the lighting device 102 to illuminate the mask 104.1 represent. The pupil facets 108.1 have in the range of their operation in the light-facing surface 108.2 the mirror surfaces 108.3 on the light in the direction of the mask unit 104 reflect.

Die erste Spiegelfläche 106.41 ist in einer ersten Position und Orientierung der Stützeinrichtung 106.8, wie sie in 4 dargestellt ist, einer ersten Pupillenfacette 108.11 des Pupillenfacettenspiegels 108 und damit einem ersten Beleuchtungskanal der Beleuchtungseinrichtung 102 zugeordnet. Die zweite und dritte Spiegelfläche 106.42 und 106.43 sind jeweils den Pupillenfacetten 108.12 und 108.13 des Pupillenfacettenspiegels 108 zugeordnet. Jede der Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 reflektiert somit das auf die Seite 106.3 des optischen Elements 106.2 eintreffende Licht in Richtung der jeweils zugeordneten Pupillenfacette 108.11, 108,12, 108,13, so dass mit dem optischen Element 106.2 gleichzeitig drei Beleuchtungskanäle der Beleuchtungseinrichtung 102 bedient werden. Der durch die (in 4 dargestellte) erste Position und Orientierung der Stützeinrichtung 106.8 definierte erste Betriebszustand der Stützeinrichtung 106.8 ist Teil eines ersten Beleuchtungssettings der Beleuchtungseinrichtung 102.The first mirror surface 106.41 is in a first position and orientation of the support means 106.8 as they are in 4 is shown, a first pupil facet 108.11 of the pupil facet mirror 108 and thus a first illumination channel of the illumination device 102 assigned. The second and third mirror surface 106.42 and 106.43 are each the pupil facets 108.12 and 108.13 of the pupil facet mirror 108 assigned. Each of the mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 thus reflects that on the page 106.3 of the optical element 106.2 incoming light in the direction of the respectively assigned pupil facet 108.11 . 108.12 . 108.13 , so with the optical element 106.2 simultaneously three lighting channels of the lighting device 102 to be served. The one by the (in 4 shown) first position and orientation of the support means 106.8 defined first operating state of the support device 106.8 is part of a first illumination setting of the illumination device 102 ,

In einem zweiten Betriebszustand, wie er in 4 gestrichelte Kontur 109 angedeutet ist, ist das optische Element 106.2 über die Stützeinrichtung 106.8 in eine zweite Position und Orientierung verschwenkt dargestellt. Der durch die zweite Position und Orientierung der Stützeinrichtung 106.8 gekennzeichnete zweite Betriebszustand ist einem zweiten Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung 102 zugeordnet. In a second operating state, as in 4 dashed outline 109 is indicated, is the optical element 106.2 over the support device 106.8 shown pivoted in a second position and orientation. The second position and orientation of the support means 106.8 characterized second operating state is a second illumination setting of the illumination device 102 assigned.

Im Falle dieses zweiten Beleuchtungssettings reflektieren die Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 das einfallende Licht in Richtung der Pupillenfacetten 108.14, 108.15, 108.16 des Pupillenfacettenspiegels 108, die von den Pupillenfacetten 108.11, 108.12, 108.13 verschieden sind. Folglich bedienen die Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 im zweiten Betriebszustand der Stützeinrichtung 106.8 von dem ersten Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung 102 abweichende Beleuchtungskanäle. In the case of this second illumination setting, the mirror surfaces reflect 106.41 . 106.42 . 106.43 the incident light in the direction of the pupil facets 108.14 . 108.15 . 108.16 of the pupil facet mirror 108 that of the pupil facets 108.11 . 108.12 . 108.13 are different. Consequently, the mirror surfaces serve 106.41 . 106.42 . 106.43 in the second operating state of the support device 106.8 from the first illumination setting of the illumination device 102 different lighting channels.

Hierbei versteht es sich, dass bei bestimmten Varianten der Erfindung ein Beleuchtungskanal sowohl in dem ersten Beleuchtungssetting als auch in dem zweiten Beleuchtungssetting über das optische Element 106.2 bedient werden kann, wobei dies dann in den unterschiedlichen Settings über unterschiedliche Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 erfolgt (beispielsweise also im ersten Setting über die erste Spiegelfläche 106.41 und im zweiten Setting über die zweite Spiegelfläche 106.42).It is understood that in certain variants of the invention, a lighting channel in both the first illumination setting and in the second illumination setting on the optical element 106.2 can be served, and this then in the different settings on different mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 takes place (for example, in the first setting on the first mirror surface 106.41 and in the second setting over the second mirror surface 106.42 ).

So kann mithilfe des in erfindungsgemäßer Weise ausgestalteten optischen Elements 106.2 ein gleichzeitiges Umschalten der Spiegelflächen 106.41, 106.42, 106.43 von drei Beleuchtungskanälen eines ersten Beleuchtungssettings auf drei davon abweichende Beleuchtungskanäle eines zweiten Beleuchtungssettings durch eine einzige Betätigung der Stützeinrichtung 106.8 erreicht werden.Thus, by means of the optical element designed in accordance with the invention 106.2 a simultaneous switching of the mirror surfaces 106.41 . 106.42 . 106.43 of three illumination channels of a first illumination setting on three different illumination channels of a second illumination setting by a single operation of the support means 106.8 be achieved.

Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend weiterhin ausschließlich anhand eines Beispiels aus dem Bereich der Mikrolithographie beschrieben. Es versteht sich jedoch, dass die Erfindung auch im Zusammenhang mit beliebigen anderen optischen Anwendungen, insbesondere Abbildungsverfahren bei anderen Wellenlängen, zum Einsatz kommen kann. The present invention has been further described above solely by way of example from the field of microlithography. It is understood, however, that the invention may also be used in connection with any other optical applications, in particular imaging processes at other wavelengths.

So kann die Erfindung im Zusammenhang mit der Inspektion von Objekten, wie beispielsweise der so genannten Maskeninspektion zu Einsatz kommen, bei welcher die für die Mikrolithographie verwendeten Masken auf ihre Integrität etc. untersucht werden. An Stelle des Substrats 105.1 tritt dann in 1 beispielsweise eine Sensoreinheit, welche die Abbildung des Projektionsmusters der Maske 104.1 (zur weiteren Verarbeitung) erfasst. Diese Maskeninspektion kann dann sowohl im Wesentlichen bei derselben Wellenlänge erfolgen, die im späteren Mikrolithographieprozess verwendet wird. Ebenso können aber auch beliebige hiervon abweichende Wellenlängen für die Inspektion verwendet werden.Thus, the invention can be used in connection with the inspection of objects, such as the so-called mask inspection, in which the masks used for microlithography are examined for their integrity, etc. In place of the substrate 105.1 then enters 1 For example, a sensor unit, which is the image of the projection pattern of the mask 104.1 (for further processing). This mask inspection may then be performed at substantially the same wavelength as used in the later microlithography process. Likewise, however, any deviating wavelengths may be used for the inspection.

Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend schließlich anhand eines konkreten Ausführungsbeispiels beschrieben, welches konkrete Kombinationen der in den nachfolgenden Patentansprüchen definierten Merkmale zeigt. Es sei an dieser Stelle ausdrücklich darauf hingewiesen, dass der Gegenstand der vorliegenden Erfindung nicht auf diese Merkmalskombinationen beschränkt ist, sondern auch sämtliche übrigen Merkmalskombinationen, wie sie sich aus den nachfolgenden Patentansprüchen ergeben, zum Gegenstand der vorliegenden Erfindung gehören.The present invention has finally been described above with reference to a concrete embodiment, which shows concrete combinations of the features defined in the following patent claims. It should be expressly noted at this point that the subject matter of the present invention is not limited to these combinations of features, but also all other combinations of features, as they result from the following claims, are the subject of the present invention.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 10053587 A1 [0002] DE 10053587 A1 [0002]
  • DE 102012003169 A1 [0003] DE 102012003169 A1 [0003]
  • WO 2008/101656 A2 [0005, 0006] WO 2008/101656 A2 [0005, 0006]

Claims (19)

Optisches Modul, insbesondere Facettenspiegel für die Mikrolithographie, mit – einem optischen Element (106.2), insbesondere einem Facettenelement, und – einer Stützeinrichtung (106.8) zur Abstützung des optischen Elements (106.2), wobei – das optische Element (106.2) eine im Betrieb des optischen Moduls (106.1) optisch nutzbare erste Spiegelfläche (106.41) umfasst und – die Stützeinrichtung (106.8) ein Stellelement (106.9) zum Einstellen einer Position und/oder Orientierung des optischen Elements (106.2) umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Element (106.2) wenigstens eine im Betrieb des optischen Moduls (106.1) optisch nutzbare zweite Spiegelfläche (106.42) umfasst, wobei – eine Position und/oder Orientierung der zweiten Spiegelfläche (106.42) von der Position und/oder Orientierung der ersten Spiegelfläche (106.41) verschieden ist, und – die zweite Spiegelfläche (106.42) in einem Anschlussbereich (106.10) in wenigstens einer Anschlussrichtung (R1) im Wesentlichen unmittelbar an die erste Spiegelfläche (106.41) anschließt, wobei – die zweite Spiegelfläche (106.42) in dem Anschlussbereich (106.10) unter einem Sprung in ihrer Position und/oder Orientierung an die erste Spiegelfläche (106.41) anschließt.Optical module, in particular faceted mirrors for microlithography, with - an optical element ( 106.2 ), in particular a facet element, and - a support device ( 106.8 ) for supporting the optical element ( 106.2 ), wherein - the optical element ( 106.2 ) during operation of the optical module ( 106.1 ) optically usable first mirror surface ( 106.41 ) and - the support device ( 106.8 ) an actuator ( 106.9 ) for adjusting a position and / or orientation of the optical element ( 106.2 ), characterized in that - the optical element ( 106.2 ) at least one during operation of the optical module ( 106.1 ) optically usable second mirror surface ( 106.42 ), wherein - a position and / or orientation of the second mirror surface ( 106.42 ) of the position and / or orientation of the first mirror surface ( 106.41 ) is different, and - the second mirror surface ( 106.42 ) in a connection area ( 106.10 ) in at least one connecting direction (R1) substantially directly to the first mirror surface ( 106.41 ), wherein - the second mirror surface ( 106.42 ) in the connection area ( 106.10 ) under a jump in their position and / or orientation to the first mirror surface ( 106.41 ). Optisches Modul nach Anspruch 1, wobei – die erste Spiegelfläche (106.41) und die zweite Spiegelfläche (106.42) in einer Projektion auf eine Haupterstreckungsebene (x-y) des optisches Moduls (106.1) und/oder eine Referenzebene (106.6) des optischen Elements (106.2) in dem Anschlussbereich (106.10) im Wesentlichen spaltfrei ineinander übergehen, insbesondere bündig aneinander anliegen, und/oder – die erste Spiegelfläche (106.41) und die zweite Spiegelfläche (106.42) in einer Richtung quer zu einer Haupterstreckungsebene (x-y) des optischen Moduls (106.1) und/oder einer Referenzebene (106.6) des optischen Elements (106.2) in dem Anschlussbereich (106.10) zueinander mit einem Versatz angeordnet sind. An optical module according to claim 1, wherein - the first mirror surface ( 106.41 ) and the second mirror surface ( 106.42 ) in a projection on a main extension plane (xy) of the optical module ( 106.1 ) and / or a reference plane ( 106.6 ) of the optical element ( 106.2 ) in the connection area ( 106.10 ) merge into each other substantially gap-free, in particular flush with each other, and / or - the first mirror surface ( 106.41 ) and the second mirror surface ( 106.42 ) in a direction transverse to a main extension plane (xy) of the optical module (FIG. 106.1 ) and / or a reference plane ( 106.6 ) of the optical element ( 106.2 ) in the connection area ( 106.10 ) are arranged to each other with an offset. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 oder 2, wobei – die Stützeinrichtung (106.8) einen Träger (106.13) umfasst, auf dem die erste und zweite Spiegelfläche (106.41, 106.42) gemeinsamen angeordnet sind, wobei – der Träger (106.13) insbesondere mit dem Stellelement (106.9) verbunden ist.Optical module according to one of claims 1 or 2, wherein - the supporting device ( 106.8 ) a carrier ( 106.13 ), on which the first and second mirror surface ( 106.41 . 106.42 ), whereby - the carrier ( 106.13 ) in particular with the actuating element ( 106.9 ) connected is. Optisches Modul nach Anspruch 3, wobei – das Stellelement (106.9) an einer den Spiegelflächen (106.41, 106.42) abgewandten Seite des Trägers (106.13) angeordnet ist, wobei – das Stellelement (106.9) insbesondere an den Träger (106.13) angeformt ist.An optical module according to claim 3, wherein - the actuating element ( 106.9 ) at one of the mirror surfaces ( 106.41 . 106.42 ) facing away from the carrier ( 106.13 ), wherein - the actuating element ( 106.9 ) in particular to the wearer ( 106.13 ) is formed. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei – wenigstens eine der Spiegelflächen (106.4) im Wesentlichen bogenförmig ausgebildet ist, insbesondere nach Art eines Ringabschnitts ausgebildet ist, und/oder – wenigstens eine der Spiegelflächen (106.4) im Wesentlichen rechteckig ausgebildet ist und/oder – wenigstens eine der Spiegelflächen (106.4) konkav oder konvex geformt ist.Optical module according to one of claims 1 to 4, wherein - at least one of the mirror surfaces ( 106.4 ) is formed substantially arcuate, in particular in the manner of a ring portion is formed, and / or - at least one of the mirror surfaces ( 106.4 ) is substantially rectangular and / or - at least one of the mirror surfaces ( 106.4 ) is concave or convex. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei – wenigstens eine der Spiegelflächen (106.4) eine maximale Abmessung (l) in einer ersten Richtung aufweist, die größer ist als eine in einer Richtung quer zur maximalen Abmessung (l) erstreckte Abmessung (b) der jeweiligen Spiegelfläche (106.4), wobei – die quer zur maximalen Abmessung (l) erstreckte Abmessung (b) der Spiegelfläche (106.4) insbesondere maximal 10%, vorzugsweise maximal 5%, besonders bevorzugt maximal 3% der maximalen Abmessung beträgt.Optical module according to one of claims 1 to 5, wherein - at least one of the mirror surfaces ( 106.4 ) has a maximum dimension (l) in a first direction that is greater than a dimension (b) of the respective mirror surface (b) in a direction transverse to the maximum dimension (l) ( 106.4 ), wherein - the dimension (b) of the mirror surface extending transversely to the maximum dimension (l) ( 106.4 ) is in particular at most 10%, preferably at most 5%, particularly preferably at most 3% of the maximum dimension. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei – die Spiegelflächen (106.4) an Spiegelelementen (106.12) vorgesehen sind, wobei – die Spiegelelemente (106.12) insbesondere in dem Anschlussbereich in der Anschlussrichtung (R1) eng benachbart zueinander angeordnet sind und/oder – die Spiegelelemente (106.12) insbesondere in dem Anschlussbereich (106.10, 106.11) in der Anschlussrichtung (R1) zumindest abschnittsweise spielfrei aneinander anliegen und/oder – die Spiegelelemente (106.12) insbesondere im Wesentlichen quaderförmig ausgebildet sind.Optical module according to one of claims 1 to 6, wherein - the mirror surfaces ( 106.4 ) on mirror elements ( 106.12 ) are provided, wherein - the mirror elements ( 106.12 ) are arranged in close proximity to one another, in particular in the connection area in the connection direction (R1), and / or - the mirror elements ( 106.12 ) especially in the connection area ( 106.10 . 106.11 ) abut against each other at least in sections in the connecting direction (R1) and / or - the mirror elements ( 106.12 ) are formed in particular substantially cuboid. Optisches Modul nach Anspruch 2 und 7, wobei – die Spiegelelemente (106.12) in einer Richtung (R2) quer zur Haupterstreckungsebene (x-y) und/oder der Referenzebene (106.6) einen Versatz zueinander aufweisen und/oder – die Spiegelelemente (106.12) in einem Schnitt quer zur Haupterstreckungsebene (x-y) und/oder der Referenzebene (106.6) ein stufenartiges Profil ausbilden.Optical module according to claim 2 and 7, wherein - the mirror elements ( 106.12 ) in a direction (R2) transverse to the main extension plane (xy) and / or the reference plane ( 106.6 ) have an offset to one another and / or - the mirror elements ( 106.12 ) in a section transverse to the main extension plane (xy) and / or the reference plane ( 106.6 ) form a step-like profile. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei es – eine Vielzahl von optischen Elementen (106.2) umfasst, wobei – die optischen Elemente (106.2) mit einem Abstand zueinander angeordnet sind, insbesondere mit jeweils benachbart angeordneten optischen Elementen (106.2) einen Spalt (106.7) begrenzen und/oder – die optischen Elemente (106.2) regelmäßigen Abständen zueinander angeordnet sind und/oder – die optischen Elemente (106.2) in Gruppen (106.5) angeordnet sind. An optical module according to any one of claims 1 to 8, wherein - a plurality of optical elements ( 106.2 ), wherein - the optical elements ( 106.2 ) are arranged at a distance from one another, in particular with adjacently arranged optical elements ( 106.2 ) a gap ( 106.7 ) and / or - the optical elements ( 106.2 ) are arranged at regular intervals from each other and / or - the optical elements ( 106.2 ) in groups ( 106.5 ) are arranged. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei – die Spiegelflächen (106.4) 90%, bevorzugt 95%, weiter bevorzugt 98%, besonders bevorzugt 99% der im Betrieb einer Beleuchtungsstrahlung zugewandten Oberfläche des optisches Moduls (106.1) bedecken. Optical module according to one of claims 1 to 9, wherein - the mirror surfaces ( 106.4 ) 90%, preferably 95%, more preferably 98%, particularly preferably 99% of the surface of the optical module facing during operation of an illumination radiation (US Pat. 106.1 ) cover. Optisches Modul nach einem der Ansprüche 1–10, wobei – an dem optischen Element (106.2) wenigstens eine im Betrieb des optischen Moduls optisch nutzbare dritte Spiegelfläche (106.43) vorgesehen ist, wobei – wobei eine Position und/oder Orientierung der dritten Spiegelfläche (106.43) von der Position und/oder Orientierung der zweiten Spiegelfläche (106.42) verschieden ist, und – die dritte Spiegelfläche (106.43) in einem Anschlussbereich (106.11) in der Anschlussrichtung (R1) im Wesentlichen unmittelbar an die zweite Spiegelfläche (106.42) anschließt, wobei – die dritte Spiegelfläche (106.43) in dem Anschlussbereich (106.11) unter einem Sprung in ihrer Position und/oder Orientierung an die zweite Spiegelfläche (106.42) anschließt.An optical module according to any one of claims 1-10, wherein - on the optical element ( 106.2 ) at least one optically usable during operation of the optical module third mirror surface ( 106.43 ), wherein - a position and / or orientation of the third mirror surface ( 106.43 ) of the position and / or orientation of the second mirror surface ( 106.42 ) is different, and - the third mirror surface ( 106.43 ) in a connection area ( 106.11 ) in the connecting direction (R1) substantially directly to the second mirror surface ( 106.42 ), wherein - the third mirror surface ( 106.43 ) in the connection area ( 106.11 ) under a jump in their position and / or orientation to the second mirror surface ( 106.42 ). Optisches Modul nach Anspruch 11, wobei – an dem optischen Element (106.2) mehrere Spiegelflächen (106.4), insbesondere 3 bis 30 Spiegelflächen (106.4), bevorzugt 3 bis 15 Spiegelflächen (106.4), besonders bevorzugt 3 bis 5 Spiegelflächen (106.4) vorgesehen sind, wobei – insbesondere jede der Spiegelflächen (106.4) eine von den übrigen Spiegelflächen (106.4) abweichende Orientierung hat und/oder jede der Spiegelflächen (106.4) eine von den übrigen Spiegelflächen (106.4) abweichende Position quer zur der Anschlussrichtung (R1) hat.Optical module according to claim 11, wherein - on the optical element ( 106.2 ) several mirror surfaces ( 106.4 ), in particular 3 to 30 mirror surfaces ( 106.4 ), preferably 3 to 15 mirror surfaces ( 106.4 ), particularly preferably 3 to 5 mirror surfaces ( 106.4 ), in particular - each of the mirror surfaces ( 106.4 ) one of the remaining mirror surfaces ( 106.4 ) has different orientation and / or each of the mirror surfaces ( 106.4 ) one of the remaining mirror surfaces ( 106.4 ) has a different position transversely to the connecting direction (R1). Optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einer Beleuchtungseinrichtung (102) mit einer ersten optischen Elementgruppe (106), – einer Objekteinrichtung (104) zur Aufnahme eines Objekts (104.1), – einer Projektionseinrichtung (103) mit einer zweiten optischen Elementgruppe (107) und – einer Bildeinrichtung (105), wobei – die Beleuchtungseinrichtung (102) zur Beleuchtung des Objekts (104.1) ausgebildet ist und – die Projektionseinrichtung (103) zur Projektion einer Abbildung des Objekts (104.1) auf die Bildeinrichtung (105) ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass – die Beleuchtungseinrichtung (102) und/oder die Projektionseinrichtung (103) wenigstens ein optisches Modul (106.1) nach einem der Ansprüche 1 bis 10 umfasst.Optical imaging device, in particular for microlithography, with - a lighting device ( 102 ) with a first optical element group ( 106 ), - an object facility ( 104 ) for receiving an object ( 104.1 ), - a projection device ( 103 ) with a second optical element group ( 107 ) and - an image device ( 105 ), wherein - the illumination device ( 102 ) for illuminating the object ( 104.1 ) is formed and - the projection device ( 103 ) for projecting an image of the object ( 104.1 ) on the image device ( 105 ), characterized in that - the illumination device ( 102 ) and / or the projection device ( 103 ) at least one optical module ( 106.1 ) according to one of claims 1 to 10. Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 13, wobei – die erste Spiegelfläche (106.4) in einem Betriebszustand der Stützeinrichtung (106.8) wenigstens einem ersten Beleuchtungskanal der Beleuchtungseinrichtung (102) zugeordnet ist und die zweite Spiegelfläche (106.4) wenigstens einem zweiten Beleuchtungskanal der Beleuchtungseinrichtung (102) zugeordnet ist, welcher von dem ersten Beleuchtungskanal verschieden ist, und/oder – die erste Spiegelfläche (106.41) und die zweite Spiegelfläche (106.42) in einem ersten Betriebszustand der Stützeinrichtung (106.8) einem ersten Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung (102) zugeordnet sind und die erste Spiegelfläche (106.41) und die zweite Spiegelfläche (106.42) in einem zweiten Betriebszustand der Stützeinrichtung (106.8) einem zweiten Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung (102) zugeordnet sind, welches von dem ersten Beleuchtungssetting verschieden ist.Optical imaging device according to claim 13, wherein - the first mirror surface ( 106.4 ) in an operating state of the support device ( 106.8 ) at least a first illumination channel of the illumination device ( 102 ) and the second mirror surface ( 106.4 ) at least a second illumination channel of the illumination device ( 102 ), which is different from the first illumination channel, and / or - the first mirror surface ( 106.41 ) and the second mirror surface ( 106.42 ) in a first operating state of the support device ( 106.8 ) a first illumination setting of the illumination device ( 102 ) and the first mirror surface ( 106.41 ) and the second mirror surface ( 106.42 ) in a second operating state of the support device ( 106.8 ) a second illumination setting of the illumination device ( 102 ), which is different from the first lighting setting. Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 13 oder 14, wobei – ein erstes optisches Modul (106.1) nach einem der Ansprüche 1 bis 12, insbesondere ein Feldfacettenspiegel, vorgesehen ist und – ein zweites optisches Modul (108), insbesondere einem Pupillenfacettenspiegel, vorgesehen ist, wobei – das erste optische Modul (106.1) wenigstens ein optisches Element (106.2) umfasst, welches die erste Spiegelfläche (106.41) und die zweite Spiegelfläche (106.42) ausbildet, – das zweite optische Modul (108) eine Vielzahl von optischen Elementen (108.1) umfasst, die jeweils einen Beleuchtungskanal in wenigstens einem Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung (102) definieren, wobei – zur Erzielung eines ersten Beleuchtungssettings in einem ersten Betriebszustand der Stützeinrichtung (106.8) die erste Spiegelfläche (106.41) einem ersten optischen Element (108.11) des zweiten optischen Moduls (108) zugeordnet ist und die zweite Spiegelfläche (106.42) einem zweiten optischen Element (108.12) des zweiten optischen Moduls (108) zugeordnet ist, welches von dem ersten optischen Element (108.11) verschieden ist, und – zur Erzielung eines zweiten Beleuchtungssettings in einem zweiten Betriebszustand der Stützeinrichtung (106.8) die erste Spiegelfläche (106.41) einem dritten optischen Element (108.14) des zweiten optischen Moduls (108) zugeordnet ist und die zweite Spiegelfläche (106.42) einem vierten optischen Element (108.15) des zweiten optischen Moduls (108) zugeordnet ist, wobei – das dritte optische Element (108.14) von dem ersten optischen Element (108.11) verschieden ist und/oder das vierte optische Element (108.15) von dem zweiten optischen Element (108.12) verschieden ist.Optical imaging device according to claim 13 or 14, wherein - a first optical module ( 106.1 ) according to one of claims 1 to 12, in particular a field facet mirror, and - a second optical module ( 108 ), in particular a pupil facet mirror, wherein - the first optical module ( 106.1 ) at least one optical element ( 106.2 ) comprising the first mirror surface ( 106.41 ) and the second mirror surface ( 106.42 ), - the second optical module ( 108 ) a plurality of optical elements ( 108.1 ), each having a lighting channel in at least one lighting setting of the lighting device ( 102 ), wherein - to achieve a first illumination setting in a first operating state of the support device ( 106.8 ) the first mirror surface ( 106.41 ) a first optical element ( 108.11 ) of the second optical module ( 108 ) and the second mirror surface ( 106.42 ) a second optical element ( 108.12 ) of the second optical module ( 108 ) associated with the first optical element ( 108.11 ) is different, and - to achieve a second illumination setting in a second operating state of the support device ( 106.8 ) the first mirror surface ( 106.41 ) a third optical element ( 108.14 ) of the second optical module ( 108 ) and the second mirror surface ( 106.42 ) a fourth optical element ( 108.15 ) of the second optical module ( 108 ), wherein - the third optical element ( 108.14 ) of the first optical element ( 108.11 ) is different and / or the fourth optical element ( 108.15 ) of the second optical element ( 108.12 ) is different. Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements, insbesondere für Facettenspiegel für die Mikrolithographie, bei dem – eine Position und/oder Orientierung eines optischen Elements (106.2), insbesondere eines Facettenelements, eingestellt wird, wobei – das optischen Element (106.2) eine im Betrieb des optischen Moduls (106.1) optisch nutzbare erste Spiegelfläche (106.41) umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass – das optische Element (106.2) wenigstens eine im Betrieb des optischen Moduls (106.1) optisch nutzbare zweite Spiegelfläche (106.42) umfasst, die gemeinsam mit der ersten Spiegelfläche (106.41) verstellt wird, wobei – eine Position und/oder Orientierung der zweiten Spiegelfläche (106.42) von der Position und/oder Orientierung der ersten Spiegelfläche (106.41) verschieden ist, und – die zweite Spiegelfläche (106.42) in einem Anschlussbereich (106.10) in wenigstens einer Anschlussrichtung (R1) im Wesentlichen unmittelbar an die erste Spiegelfläche (106.41) anschließt, wobei – die zweite Spiegelfläche (106.42) in dem Anschlussbereich (106.10) unter einem Sprung in ihrer Position und/oder Orientierung an die erste Spiegelfläche (106.4) anschließt.Method for supporting an optical element, in particular for facet mirrors for microlithography, in which - a position and / or orientation of an optical element ( 106.2 ), in particular a facet element, wherein - the optical element ( 106.2 ) during operation of the optical module ( 106.1 ) optically usable first mirror surface ( 106.41 ), characterized in that - the optical element ( 106.2 ) at least one during operation of the optical module ( 106.1 ) optically usable second mirror surface ( 106.42 ), which together with the first mirror surface ( 106.41 ), wherein - a position and / or orientation of the second mirror surface ( 106.42 ) of the position and / or orientation of the first mirror surface ( 106.41 ) is different, and - the second mirror surface ( 106.42 ) in a connection area ( 106.10 ) in at least one connecting direction (R1) substantially directly to the first mirror surface ( 106.41 ), wherein - the second mirror surface ( 106.42 ) in the connection area ( 106.10 ) under a jump in their position and / or orientation to the first mirror surface ( 106.4 ). Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass – die erste Spiegelfläche (106.41) in einem Betriebszustand der Stützeinrichtung (106.8) wenigstens einem ersten Beleuchtungskanal einer Beleuchtungseinrichtung (102) zugeordnet wird und die zweite Spiegelfläche (106.42) wenigstens einem zweiten Beleuchtungskanal der Beleuchtungseinrichtung (102) zugeordnet wird, welcher von dem ersten Beleuchtungskanal verschieden ist, und/oder – die erste Spiegelfläche (106.41) und die zweite Spiegelfläche (106.42) in einem ersten Betriebszustand der Stützeinrichtung (106.8) einem ersten Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung (102) zugeordnet werden und die erste Spiegelfläche (106.41) und die zweite Spiegelfläche (106.42) in einem zweiten Betriebszustand der Stützeinrichtung (106.8) einem zweiten Beleuchtungssetting der Beleuchtungseinrichtung (102) zugeordnet werden, welches von dem ersten Beleuchtungssetting verschieden ist.Method for supporting an optical element according to claim 16, characterized in that - the first mirror surface ( 106.41 ) in an operating state of the support device ( 106.8 ) at least a first illumination channel of a lighting device ( 102 ) and the second mirror surface ( 106.42 ) at least a second illumination channel of the illumination device ( 102 ), which is different from the first illumination channel, and / or - the first mirror surface ( 106.41 ) and the second mirror surface ( 106.42 ) in a first operating state of the support device ( 106.8 ) a first illumination setting of the illumination device ( 102 ) and the first mirror surface ( 106.41 ) and the second mirror surface ( 106.42 ) in a second operating state of the support device ( 106.8 ) a second illumination setting of the illumination device ( 102 ), which is different from the first lighting setting. Verfahren zum Abstützen eines optischen Elements nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass – zur Erzielung eines ersten Beleuchtungssettings in einem ersten Betriebszustand der Stützeinrichtung (106.8) die erste Spiegelfläche (106.41) einem ersten optischen Element (108.11) eines zweiten optischen Moduls (108) zugeordnet wird und die zweite Spiegelfläche (106.42) einem zweiten optischen Element (108.12) des zweiten optischen Moduls (108) zugeordnet wird, welches von dem ersten optischen Element (108.11) verschieden ist, und – zur Erzielung eines zweiten Beleuchtungssettings in einem zweiten Betriebszustand der Stützeinrichtung (106.8) die erste Spiegelfläche (106.41) einem dritten optischen Element (108.14) des zweiten optischen Moduls (108) zugeordnet wird und die zweite Spiegelfläche (106.42) einem vierten optischen Element (108.15) des zweiten optischen Moduls (108) zugeordnet wird, wobei – das dritte optische Element (108.14) von dem ersten optischen Element (108.11) verschieden ist und/oder das vierte optische Element (108.15) von dem zweiten optischen Element (108.12) verschieden ist.A method for supporting an optical element according to claim 16, characterized in that - (to achieve a first illumination settings in a first operating state of the support device 106.8 ) the first mirror surface ( 106.41 ) a first optical element ( 108.11 ) of a second optical module ( 108 ) and the second mirror surface ( 106.42 ) a second optical element ( 108.12 ) of the second optical module ( 108 ) associated with the first optical element ( 108.11 ) is different, and - to achieve a second illumination setting in a second operating state of the support device ( 106.8 ) the first mirror surface ( 106.41 ) a third optical element ( 108.14 ) of the second optical module ( 108 ) and the second mirror surface ( 106.42 ) a fourth optical element ( 108.15 ) of the second optical module ( 108 ), wherein - the third optical element ( 108.14 ) of the first optical element ( 108.11 ) is different and / or the fourth optical element ( 108.15 ) of the second optical element ( 108.12 ) is different. Optisches Abbildungsverfahren, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – über eine Beleuchtungseinrichtung (102) mit einer ersten optischen Elementgruppe (106) ein Objekt (104.1) beleuchtet wird und – mittels einer Projektionseinrichtung (102) mit einer zweiten optischen Elementgruppe (107) eine Abbildung des Objekts (104.1) auf einer Bildeinrichtung (105) erzeugt wird, dadurch gekennzeichnet, dass – in der Beleuchtungseinrichtung (102) und/der Projektionseinrichtung (103) ein Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 18 verwendet wird.Optical imaging method, in particular for microlithography, in which - via a lighting device ( 102 ) with a first optical element group ( 106 ) an object ( 104.1 ) and - by means of a projection device ( 102 ) with a second optical element group ( 107 ) an image of the object ( 104.1 ) on an image device ( 105 ), characterized in that - in the illumination device ( 102 ) and / or the projection device ( 103 ) a method according to any one of claims 16 to 18 is used.
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