DE10219514A1 - Lighting system, particularly for EUV lithography - Google Patents

Lighting system, particularly for EUV lithography

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DE10219514A1
DE10219514A1 DE2002119514 DE10219514A DE10219514A1 DE 10219514 A1 DE10219514 A1 DE 10219514A1 DE 2002119514 DE2002119514 DE 2002119514 DE 10219514 A DE10219514 A DE 10219514A DE 10219514 A1 DE10219514 A1 DE 10219514A1
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mirror
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illumination system
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DE2002119514
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Frank Melzer
Wolfgang Singer
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Carl Zeiss SMT GmbH
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Abstract

Ein Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie mit einem Projektionsobjektiv zur Herstellung von Halbleiterelementen für Wellenlängen 193 nm ist mit einer Lichtquelle (1), mit einer Objektebene (12), mit einer Austrittspupille (15) und mit einem ersten optischen Element (5) mit ersten Rasterelementen (6) zur Erzeugung von Lichtkanälen und mit einem zweiten optischen Element (7) mit zweiten Rasterelementen (8) versehen. An illumination system, in particular for EUV lithography nm with a projection objective for producing semiconductor elements for wavelengths 193 having a light source (1), having an object plane (12) with an exit pupil (15) and with a first optical element (5) provided with first raster elements (6) for generating light channels and with a second optical element (7) with second raster elements (8). Jedem Lichtkanal, der von einem der ersten Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) ausgebildet wird, ist ein Rasterelement (8) des zweiten optischen Elementes (7) zugeordnet. Each light passage which is formed the first optical element (5) from one of the first raster elements (6) is associated with a grid element (8) of the second optical element (7). Die Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) und des zweiten optischen Elementes (7) können derart ausgestaltet oder angeordnet werden, daß sie für jeden Lichtkanal einen durchgehenden Strahlverlauf von der Lichtquelle (1) bis zur Objektebene (12) ergibt. The grid elements (6) of the first optical element (5) and the second optical element (7) can be configured or arranged such that it provides for each light channel a continuous beam passing from the light source (1) to the object plane (12). Die ersten Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) sind zur Änderung eines Kippens winkelverstellbar. The first raster elements (6) of the first optical element (5) are angularly adjustable to change a tilt. Die zweiten Rasterelemente (8) des zweiten optischen Elementes (7) können einzeln und unabhängig voneinander im Ort und/oder im Winkel verstellt werden, um durch Verschieben und/oder Kippen der ersten und zweiten Rasterelemente (8) eine andere Zuordnung der ersten Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) zu den zweiten Rasterelementen (8) des zweiten optischen Elementes (7) zu realisieren. The second raster elements (8) of the second optical element (7) can be individually and independently in / or adjusted and angled to by shifting and / or tilting the first and second grid elements (8) a different assignment of the first raster elements ( to realize 6) of the first optical element (5) to said second raster elements (8) of the second optical element (7).

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie mit einem Projektionsobjektiv zur Herstellung von Halbleiterelementen für Wellenlängen 193 nm, mit einer Lichtquelle, mit einer Objektebene, mit einer Austrittspupille, mit einem ersten optischen Element mit ersten Rasterelementen zur Erzeugung von Lichtkanälen und mit einem zweiten optischen Element mit zweiten Rasterelementen, wobei jedem Lichtkanal der von einem der ersten Rasterelemente des ersten optischen Elementes ausgebildet wird, ein Rasterelement des zweiten optischen Elementes zugeordnet ist, wobei die Rasterelemente des ersten optischen Elementes und des zweiten optischen Elementes derart ausgestaltet oder angeordnet werden können, daß sich für jeden Lichtkanal ein durchgehender Strahlverlauf von der Lichtquelle bis zur Objektebene ergibt. The invention relates to an illumination system, in particular for EUV lithography with a projection objective for producing semiconductor elements for wavelengths 193 nm, with a light source, having an object plane, with an exit pupil, comprising a first optical element with first raster elements for generating light channels and a second optical element with second raster elements, wherein each light channel is formed by one of the first raster elements of the first optical element, a scanning element is associated with the second optical element, wherein the raster elements of the first optical element and second optical element are configured or arranged may provide a continuous beam passing from the light source to the object plane is obtained for each light channel.
  • Die Erfindung betrifft auch eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem. The invention also relates to a projection exposure system with such an illumination system.
  • Zur Reduzierung der Strukturbreiten von elektronischen Bauteilen, insbesondere von Halbleiterelementen, soll die Wellenlänge des für die Mikrolithographie eingesetzten Lichtes immer weiter verringert werden. To reduce the structural widths of electronic components, especially semiconductor devices, the wavelength of the light used for microlithography should always be reduced further. In der Lithographie werden z. z in the lithography. Zt. bereits Wellenlängen von ≤ 193 nm verwendet. Zt. Already used wavelengths ≤ 193 nm.
  • Ein für die EUV-Lithographie geeignetes Beleuchtungssystem soll dabei mit möglichst wenigen Reflektionen das für die EUV- Lithographie vorgegebene Feld, insbesondere das Ringfeld eines Objektives homogen, dh uniform ausleuchten. A suitable for EUV lithography illumination system is intended to with as few reflections as the default for EUV lithography field, in particular the annular field homogeneous one objective, ie illuminate uniform. Außerdem soll die Pupille des Objektives feldunabhängig bis zu einem bestimmten Füllgrad σ ausgeleuchtet werden und die Austrittspupille des Beleuchtungssystems in der Eintrittspupille des Objektivs liegen. In addition, the pupil of the objective is to be independently of the field illuminated σ up to a specific degree of filling and the exit pupil of the illumination system lie in the entrance pupil of the objective.
  • Zum allgemeinen Stand der Technik wird auf die US 5,339,346, die US 5,737,137, die US 5,361,292 und die US 5,581,605 verwiesen. The general prior art, US 5,737,137, US 5,361,292 and US 5,581,605 is made to US 5,339,346, directed.
  • Die EP 0 939 341 zeigt ein Beleuchtungssystem für den EUV- Bereich mit einem ersten optischen Integrator, der eine Vielzahl von ersten Rasterelementen aufweist, und einem zweiten optischen Integrator, der eine Vielzahl von zweiten Rasterelementen aufweist. EP 0,939,341 shows an illumination system for the EUV region having a first optical integrator comprising a plurality of first raster elements, and having a second optical integrator comprising a plurality of second raster elements. Die Steuerung der Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille erfolgt dabei über ein Blendenrad. The control of the illumination distribution in the exit pupil is via an aperture wheel. Die Verwendung eines Blendenrades ist jedoch mit deutlichen Lichtverlusten verbunden. The use of a diaphragm wheel is associated with significant loss of light. Weitere vorgeschlagene Lösungen, wie z. Other suggested solutions such. B. eine Quadrupol-Beleuchtungsverteilung und unterschiedlich anwendbare Ausleuchtungne über Wechseloptiken sind jedoch zum einen sehr aufwendig und zum anderen auf bestimmten Arten der Ausleuchtung beschränkt. As a quadrupole illumination distribution and different applicable Ausleuchtungne about interchangeable lenses are limited to a very complicated and partly to certain types of illumination.
  • In der DE 199 03 807 A1 ist ein EUV-Beleuchtungssystem beschrieben, das unter anderem zwei Spiegel mit Rasterelementen umfaßt. DE 199 03 807 A1, an EUV illumination system is described which includes among others two mirrors with raster elements. Derartige Systeme werden auch als doppelt facettierte EUV-Beleuchtungssysteme bezeichnet. Such systems are also referred to as double faceted EUV illumination systems. Die Ausleuchtung der Austrittspupille wird dabei durch die. The illumination of the exit pupil is doing through. Anordnung der Rasterelemente auf dem zweiten Spiegel bestimmt. determined arrangement of the raster elements on the second mirror. Die Ausleuchtung in der Austrittspupille bzw. eine Beleuchtungsverteilung ist dabei festgelegt. The illumination in the exit pupil or a lighting distribution is set here.
  • In der älteren deutschen Patentanmeldung 100 53 587.9 ist ein Beleuchtungssystem beschrieben, wobei durch entsprechende Zuordnungen der Rasterelemente des ersten und des zweiten optischen Elementes eine vorgegebene Ausleuchtung in der Austrittspupille des Beleuchtungssystems eingestellt werden kann. In the earlier German patent application 100 53 587.9 an illumination system is described, wherein a predetermined illumination can be set in the exit pupil of the illumination system by appropriate assignment of the raster elements of the first and the second optical element. Mit einem derartigen Beleuchtungssystem kann das Feld in der Retikelebene homogen und mit partiell gefüllter Apertur sowie die Austrittspupille des Beleuchtungssystems variabel ausgeleuchtet werden. With such an illumination system, the field may be homogeneous in the reticle plane and the illumination system can be illuminated with variable partially filled aperture as well as the exit pupil. Die variable Einstellung einer beliebigen Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille erfolgt dabei weitgehend ohne Lichtverluste. The variable adjustment of any illumination distribution in the exit pupil takes place largely without light loss.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Beleuchtungssystem zu schaffen, mit welchem die Grundidee der älteren Patentanmeldung durch konstruktive Lösungen in der Praxis realisierbar ist. The present invention is an object of the invention to provide a lighting system with which the basic idea of ​​the earlier patent application can be realized by constructive solutions in practice.
  • Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß die ersten Rasterelemente des ersten optischen Elementes zur Änderung eines Kippes winkelverstellbar sind. According to the invention this object is achieved in that the first raster elements of the first optical element are angularly adjustable to change a Kippes. Zusätzlich können auch die zweiten Rasterelemente des zweiten optischen Elementes einzeln und unabhängig voneinander im Ort und/oder im Winkel verstellbar sein, um durch Verschieben und/oder Kippen der ersten und zweiten Rasterelemente eine andere Zuordnung der ersten Rasterelemente des ersten optischen Elementes zu den zweiten Rasterelementen des zweiten optischen Elementes zu realisieren. In addition, the second raster elements can be individually the second optical element and may be adjustable independently of one another in the location and / or at an angle to by shifting and / or tilting the first and second grid elements of a different assignment of the first raster elements of the first optical element to the second raster elements to realize the second optical element.
  • Durch ein entsprechendes Verschieben und/oder Verkippen der Rasterelemente lassen sich nun Lichtkanäle in variablen Ausgestaltungen erreichen. By a corresponding displacement and / or tilting the raster elements now light channels can be achieved in variable configurations.
  • Damit sich die einzelnen Strahlenbündel von Feldwaben als Rasterelemente im Feld wieder überlappen, können Pupillenwaben als Rasterelemente in Bezug auf eine Pupillenwabenplatte bzw. deren Spiegelträger geneigt bzw. entsprechend verkippt werden. Thus, the individual beams from the field raster overlap as raster elements in the field again, pupil honeycombs may be inclined as raster elements with respect to a pupil honeycomb plate or the mirror support or be tilted accordingly. Als Feldwaben und als Pupillenwaben sind besonders Spiegelfacetten geeignet. As field honeycombs and pupil raster mirror facets are particularly suitable.
  • Ist dabei das System als System mit reellen Zwischenbildern der Lichtquelle hinter der Feldwabenplatte bzw. dem Spiegelträger des ersten optischen Elementes aufgebaut, so können die Pupillenwaben gleichzeitig als Feldlinsen für die gekoppelte Ausbildung der Lichtquelle in die Eintrittspupille des Lithographieobjektives bzw. Projektionsobjektives dienen. Is the system constructed as a system with real intermediate images of the light source behind the field honeycomb plate or the mirror support the first optical element, the pupil honeycombs can be used in the entrance pupil of the lithography lens or the projection lens at the same time as field lenses for the coupled configuration of the light source.
  • Wenn in einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung die Anzahl M der zweiten Rasterelemente (Pupillenwaben) der Pupillenwabenplatte bzw. des Spiegelträgers stets größer als N ist, wobei N die Anzahl der Kanäle ist, die durch die Anzahl der ausgeleuchteten ersten Rasterelemente (Feldwaben) bestimmt wird, können variable Ausleuchtungen in der Austrittspupille vorgehalten werden. If the number M of second raster elements (pupil honeycombs) of the pupil honeycomb plate and the mirror carrier is always than N in a preferred embodiment of the invention is greater, where N is the number of channels, which is determined by the number of the illuminated first raster elements (field honeycombs) variable illuminations can be kept in the exit pupil. Mit anderen Worten: in diesem Falle wird man mehr Pupillenwaben bzw. Spiegelfacetten an dem zweiten optischen Element vorsehen, als es für die Anzahl der von den ersten Rasterelementen des ersten optischen Elementes erzeugten Lichtkanäle erforderlich wäre. In other words, in this case we will provide more pupil honeycombs or mirror facets on said second optical element than would be required for the number of light channels generated by the first raster elements of the first optical element. Bei einem bestimmten Setting mit einer bestimmten Feldwabe mit N Kanälen ist somit jeweils nur ein Teil der Pupillenwaben ausgeleuchtet. In a particular setting with a particular field raster element having N channels, only a part of the pupil honeycomb is thus respectively illuminated. Dies führt somit zu einer segmentierten oder parzellierten Ausleuchtung der Pupillenwaben. This therefore leads to a segmented or parceled illumination of the pupil honeycombs.
  • Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den übrigen Unteransprüchen und aus den nachfolgend anhand der Zeichnung prinzipmäßig beschriebenen Ausführungsbeispielen. Further advantageous embodiments and developments of the invention emerge from the remaining dependent claims and from the described in principle below with reference to the drawing embodiments.
  • Es zeigt: It shows:
  • Fig. 1 einen Aufbau eines EUV-Beleuchtungssystemes mit einer Lichtquelle, einem Beleuchtungssystem und einem Projektionsobjektiv; Fig. 1 shows a construction of an EUV illumination system with a light source, an illumination system and a projection objective;
  • Fig. 2 eine Prinzipskizze des Strahlenganges mit zwei Spiegeln mit Rasterelementen in Form von Spiegelfacetten und einer Kollektoreinheit; Figure 2 is a schematic diagram of the beam path with two mirrors with raster elements in the form of mirror facets, and a collector unit.
  • Fig. 3 eine Prinzipskizze eines anderen Strahlenganges mit zwei Spiegeln mit Rasterelementen in Form von Spiegelfacetten und einer Kollektoreinheit; Figure 3 is a schematic diagram of another beam path with two mirrors with raster elements in the form of mirror facets, and a collector unit.
  • Fig. 4 eine Draufsicht auf das erste optische Element in Form einer Feldwabenplatte (Spiegelträger) mit einer Vielzahl von Spiegelfacetten; Fig. 4 is a plan view of the first optical element in the form of a field honeycomb plate (mirror base) having a plurality of mirror facets;
  • Fig. 5 eine Draufsicht auf das zweite optische Element in Form einer Pupillenwabenplatte als Spiegelträger mit einer Vielzahl von Spiegelfacetten bei kreisförmiger Ausleuchtung; Figure 5 is a plan view of the second optical element in the form of a pupil honeycomb plate as a mirror carrier having a plurality of mirror facets with circular illumination.
  • Fig. 6 eine Draufsicht auf das zweite optische Element in Form einer Pupillenwabenplatte mit einer Vielzahl von Spiegelfacetten bei ringförmiger Ausleuchtung; Fig. 6 is a plan view of the second optical element in the form of a pupil honeycomb plate with a plurality of mirror facets with annular illumination;
  • Fig. 7 eine Draufsicht auf eine Pupillenwabenplatte; Fig. 7 is a top view of a pupil honeycomb plate;
  • Fig. 8 einen Schnitt nach der Linie VIII-VIII der Fig. 7; Fig. 8 is a section along the line VIII-VIII of Fig. 7;
  • Fig. 9 eine Draufsicht auf eine Pupillenwabenplatte, die als Steuerscheibe ausgebildet ist; Fig. 9 is a top view of a pupil honeycomb plate, which is formed as control disk;
  • Fig. 10 einen Schnitt nach der Linie XX der Fig. 9; FIG. 10 is a section along the line XX of Fig. 9;
  • Fig. 11 eine vergrößerte Darstellung einer Spiegelfacette mit einem Festkörpergelenk im Schnitt; 11 is an enlarged view of a mirror facet with a solid joint in section.
  • Fig. 12 eine Draufsicht auf die Spiegelfacette nach der Fig. 11; FIG. 12 is a plan view of the mirror facet of FIG. 11;
  • Fig. 13 eine vergrößerte Darstellung einer Spiegelfacette mit einer anderen Lagerungsart im Schnitt; FIG. 13 is an enlarged view of a mirror facet having a different Mounting in section; und and
  • Fig. 14 eine Draufsicht auf die Spiegelfacette nach Fig. 13. Fig. 14 is a plan view of the mirror facet to Fig. 13.
  • Die Fig. 1 zeigt in einer Übersichtsdarstellung eine EUV- Projektionsbelichtungsanlage mit einem kompletten EUV- Beleuchtungssystem mit einer Lichtquelle 1 , z. Fig. 1 shows a summary view of a EUV projection exposure system with a complete EUV illumination system with a light source 1, z. B. Laser-Plasma, Plasma oder Pinch-Plasma-Quelle oder auch einer anderen EUV- Lichtquelle, und einem nur prinzipmäßig dargestellten Projektionsobjektiv 2 . B. Laser-plasma, plasma or pinch-plasma source or another EUV light source, and a projection lens 2 only in principle depicted. Außer der Lichtquelle 1 ist in dem Beleuchtungssystem ein Kollektorspiegel 2 , der z. Apart from the light source 1 is in the illumination system, a collector mirror 2 which, for. B. aus mehreren ineinander angeordneten Schalen bestehen kann, ein Planspiegel 3 oder reflektiver Spektralfilter, eine Blende 4 mit einem Bild der Lichtquelle (nicht bezeichnet), ein erstes optisches Element 5 mit einer Vielzahl von Facettenspiegeln 6 (siehe Fig. 2 und 3), ein nachfolgend angeordnetes zweites optisches Element 7 mit einer Vielzahl von Rasterelementen 8 in Form von Facettenspiegeln und zwei Abbildungsspiegel 9 a und 9 b angeordnet. May consist for example of a plurality of nested shells, a plane mirror 3 or reflective spectral filter, a diaphragm 4 with an image of the light source (not labeled), a first optical element 5 having a plurality of facet mirrors 6 (see Fig. 2 and 3), a valve disposed below second optical element 7 with a plurality of grid elements 8 in the form of facet mirrors and two imaging mirror 9 a and 9 b disposed. Die Abbildungsspiegel 9 a und 9 b dienen dazu, die Facettenspiegel 8 des zweiten optischen Elementes 7 in eine Eintrittspupille des Projektionsobjektives 2 abzubilden. The imaging mirror 9 a and 9 b are used, the second optical element 7 depict in an entrance pupil of the projection lens 2, the facet mirror. 8 Das Retikel 12 kann als Scanning-System in y-Richtung verfahrbar sein. The reticle 12 may be moved as a scanning system in the y direction. Die Retikelebene 11 stellt auch gleichzeitig die Objektebene dar. The reticle 11 also simultaneously represents the object plane.
  • Um unterschiedliche Lichtkanäle zur Setting-Einstellung in den Strahlengang des Beleuchtungssystems zu verbringen, ist beispielsweise eine größere Anzahl M an Spiegelfacetten 8 des zweiten optischen Elementes 7 vorhanden als es der Anzahl N der Spiegelfacetten 6 des ersten optischen Elementes 5 entspricht. To different light channels to spend setting adjustment in the beam path of the illumination system, for example, a greater number M of mirror facets 8 of the second optical element 7 is present than the number N corresponds to the mirror facets 6 of the first optical element. 5 In der Fig. 1 sind die Spiegelfacetten aus Übersichtlichkeitsgründen nicht dargestellt. In FIG. 1, the mirror facets for reasons of clarity are not shown. Die Spiegelfacetten 6 des ersten optischen Elementes 5 sind jeweils einzeln im Winkel verstellbar, während die Spiegelfacetten 8 des zweiten optischen Elementes 7 sowohl im Winkel als auch im Ort verstellbar sind. The mirror facets 6 of the first optical element 5 are each individually adjustable at an angle, while the mirror facets 8 of the second optical element 7 are both angularly adjustable as well in place. In den nachfolgend erläuterten Fig. 7 bis 14 sind Einzelheiten hierzu beschrieben und dargestellt. In the illustrated below Fig. 7 to 14 are described in detail on this and illustrated. Durch die kippbare Anordnung und die Verschiebbarkeit der Spiegelfacetten 6 und 8 können unterschiedliche Strahlengänge und somit unterschiedliche Lichtkanäle zwischen dem ersten optischen Element 5 und dem zweiten optischen Element 7 geschaffen werden. By the tiltable arrangement and the displacement of the mirror facets 6 and 8 different beam paths and thus different light channels can be created between the first optical element 5 and the second optical element. 7
  • Das nachfolgende Projektionsobjektiv 2 kann als ein Sechs-Spiegel-Projektionsobjektiv ausgebildet sein. The following projection lens 2 can be designed as a six-mirror projection objective. Als zu belichtendes Objekt befindet sich auf einer Trägereinheit 13 ein Wafer 14 . As object to be exposed is located on a carrier unit 13, a wafer fourteenth
  • Durch die Einstellbarkeit der Spiegelfacetten 6 und 8 lassen sich unterschiedliche Settings in einer Austrittspupille 15 des Beleuchtungssystems, die gleichzeitig eine Eintrittspupille des Projektionsobjektives 2 bildet, realisieren. Due to the adjustability of the mirror facets 6 and 8, different settings can be in an exit pupil 15 of the illumination system, which simultaneously forms, realize an entrance pupil of the projection objective. 2
  • In den Fig. 2 und 3 sind prinzipmäßig unterschiedliche Lichtkanäle durch unterschiedliche Lagen und Winkel der Spiegelfacetten 6 und 8 der beiden optischen Elemente 5 und 7 dargestellt. In FIGS. 2 and 3, in principle different light channels by different positions and angles of the mirror facets 6 and 8 of the two optical elements 5 and 7 are shown. Das Beleuchtungssystem ist dabei gegenüber der Darstellung in Fig. 1 vereinfacht angegeben (z. B. bezüglich der Lage der optischen Elemente 5 und 7 und mit nur einem Abbildungsspiegel 9 ). The illumination system is shown here with respect to the illustration in FIG. 1 Simplified (z. B. respect to the position of the optical elements 5 and 7 and with only one imaging mirror 9).
  • Dabei zeigt die Darstellung in der Fig. 2 einen größeren Füllfaktor σ. The diagram shows in Fig. 2 is a larger filling factor σ.
  • Für σ = 1,0 ist die Objektivpupille vollständig gefüllt; For σ = 1.0, the objective pupil is completely filled; σ = 0,6 bedeutet entsprechend eine Unterfüllung. σ = 0.6 is accordingly an underfill.
  • Dargestellt ist bei den Fig. 2 und 3 der Strahlengang von der Lichtquelle 1 über das Retikel 12 bis zur Eintrittspupille 15 . Is shown in FIGS. 2 and 3, the beam path from the light source 1 through the reticle 12 to the entrance pupil 15 °.
  • Die Fig. 4 zeigt eine Draufsicht auf einen Spiegelträger 16 des ersten optischen Elementes 5 mit einer Vielzahl von Rasterelementen in Form von Spiegelfacetten 6 . FIG. 4 shows a top view of a mirror carrier 16 of the first optical element 5 having a plurality of raster elements in the form of mirror facets. 6 Dargestellt sind 142 einzeln verstellbare Spiegelfacetten 6 als Feldwaben in Rechteckform, die in Blöcken in einem von dem genesteten Kollektorspiegel 2 ausgeleuchteten Bereich angeordnet sind. 142 are shown individually adjustable mirror facets 6 as field raster in a rectangular shape which are arranged in blocks in a illuminated by the nested collector mirror 2 area. Die Spiegelfacetten 6 können jeweils einzeln bezüglich ihres Winkels verstellt werden. The mirror facets 6 can individually with respect to its angle can be adjusted in each case. Spiegelfacetten 8 des zweiten optischen Elementes 7 können zusätzlich noch untereinander und im Bedarfsfalle auch unabhängig voneinander verschoben werden. Mirror facets 8 of the second optical element 7 may additionally with each other and also move independently of one another if necessary.
  • Die Fig. 5 zeigt eine Draufsicht auf einen Spiegelträger 16 bzw. eine Pupillenwabenplatte des zweiten optischen Elementes 7 , wobei die Lichtkanäle ein kreisförmiges Setting ergeben. FIG. 5 shows a top view of a mirror substrate 16 and a pupil honeycomb plate of the second optical element 7, wherein the light channels give a circular setting.
  • Fig. 6 zeigt eine Draufsicht auf einen Spiegelträger 16 des zweiten optischen Elementes 7 mit Spiegelfacetten in einem ringförmigen bzw. annularen Setting. Fig. 6 shows a top view of a mirror carrier 16 of the second optical element 7 with mirror facets in an annular or annular setting. Eine weiter Möglichkeit besteht in einem bekannten Quadrupol-Setting (nicht dargestellt). A further possibility (not shown) in a known quadrupole setting. In den Fig. 5 und 6 sind die ausgeleuchteten Spiegelfacetten jeweils dunkel dargestellt. In FIGS. 5 and 6, the illuminated mirror facets are respectively shown in dark.
  • Die Fig. 7 zeigt eine Draufsicht auf den Spiegelträger 16 des zweiten optischen Elementes 7 , wobei der Spiegelträger 16 als Führungsscheibe ausgebildet ist. Fig. 7 shows a plan view of the mirror carrier 16 of the second optical element 7, the mirror carrier 16 is formed as a guide washer. Der Spiegelträger 16 bzw. die Führungsscheibe ist mit einer Vielzahl von Führungsnuten 17 (aus Übersichtlichkeitsgründen ist in der Fig. 7 nur eine Führungsnut 17 dargestellt) versehen, in welchen jeweils eine kreisförmige Spiegelfacette 8 geführt ist. The mirror support 16 and the guide disk is provided with a plurality of guiding grooves 17 (for reasons of clarity is shown in FIG. 7, only one guide groove shown 17), in each of which a circular mirror facet 8 is guided. Die Führungsnuten 17 verlaufen im wesentlichen radial bzw. leicht gebogen dazu. The guide grooves 17 extend substantially radially or slightly bent to it. Der Verlauf der Führungsnuten 17 richtet sich nach dem jeweiligen Anwendungsfall und nach der gewünschten Verschieberichtung der Spiegelfacetten 8 . The course of the guide grooves 17 depends on the respective application and on the desired direction of displacement of the mirror facets. 8
  • Unter dem Spiegelträger 16 bzw. der Führungsscheibe ist parallel und anliegend dazu eine Steuerscheibe 18 angeordnet, die ebenfalls mit einer den Führungsnuten 17 und damit den Spiegelfacetten 8 entsprechenden Anzahl von Steuernuten 19 versehen ist. Under the mirror support 16 and the guide plate is parallel and adjacent a control plate 18 arranged to the likewise provided with a guide grooves so that the mirror facets 8 corresponding number is 17 and is provided of control grooves 19th Jede Spiegelfacette 8 ist somit in einer Führungsnut 17 und in einer Steuernut 19 geführt. Each mirror facet 8 is thus guided in a guide groove 17 and in a control groove 19th Wird die Steuerscheibe 18 durch eine nicht dargestellte Antriebseinrichtung in Pfeilrichtung 20 der Fig. 7 bewegt, so bewegen sich die Spiegelfacetten 8 entlang der Führungsnut 17 radial nach innen oder außen. If the control disk is moved by an unillustrated driving means in the direction of arrow 20 of Fig. 7 18, then the mirror facets 8 move along the guide groove 17 radially inwardly or outwardly. Durch diese Verschiebung ändern sich die Zuordnungen der Lichtkanäle und damit die Ausleuchtung. Due to this shift, the assignments of the light channels and thereby the illumination change. Dies bedeutet, durch Verdrehen der Steuerscheibe 18 relativ zur Führungsscheibe 16 wird im Kreuzungspunkt der beiden Nuten 17 und 19 die dazugehörige Spiegelfacette 8 entlang der dazugehörigen Führungsnut 17 verschoben. That is, by rotating the cam disc 18 relative to the guide plate 16 is shifted in the intersection point of the two grooves 17 and 19, the corresponding mirror facet 8 along the associated guide groove 17th
  • Die Fig. 9 und 10 zeigen eine Ausgestaltung zur Verschiebung der Spiegelfacetten 8 des zweiten optischen Elementes 7 jeweils in einer Führungsnut 17 des Spiegelträgers 16 , wobei jeweils eine Antriebseinrichtung 21 (in der Fig. 9 und 10 nur im Prinzip und gestrichelt dargestellt) vorgesehen ist. FIGS. 9 and 10 show an embodiment for the displacement of the mirror facets 8 of the second optical element 7 in each case in a guide groove 17 of the mirror carrier 16, wherein each drive means 21 (shown in Fig. 9 and 10 only in principle and by broken lines) is provided , In diesem Falle besitzt jede Spiegelfacette 8 ihren eigenen Antrieb in der dazugehörigen Führungsnut 17 , wobei der Antrieb z. In this case, each mirror facet 8 has its own drive in the associated guide groove 17, the drive z. B. nach dem bekannten Piezo-Inch-Worm-Prinzip erfolgen kann. B. can be carried out according to the known piezo-inch Worm principle.
  • Selbstverständlich sind für diesen Zweck auch noch andere Antriebseinrichtungen möglich, durch die die Spiegelfacetten 8 jeweils einzeln verstellt werden können. Of course, other drive mechanisms are possible for this purpose by the mirror facets 8 can be adjusted individually in each case. Anstelle einer Anordnung der Antriebseinrichtung jeweils direkt in einer Führungsnut 17 kann diese selbstverständlich im Bedarfsfalle auch unabhängig davon unter bzw. hinter dem Spiegelträger 16 angeordnet sein. Instead of arranging the drive means in each case directly into a guide groove 17, these can, of course, if required, also regardless of under or behind the mirror support 16 be disposed.
  • In den Fig. 11 und 12 ist im Schnitt und in der Draufsicht eine vergrößerte Darstellung einer Spiegelfacette 6 des ersten optischen Elementes 5 dargestellt, welche durch ein Gelenk 22 , das als Festkörpergelenk ausgebildet ist, mit dem Spiegelträger 16 des ersten optischen Elementes 5 verbunden ist. In Figs. 11 and 12 an enlarged view of a mirror facet 6 is shown the first optical element 5 in section and in plan view, which is connected by a hinge 22, which is constructed as solid joint with the mirror carrier 16 of the first optical element 5 , Dabei können alle Teile einstückig sein oder jede Spiegelfacette 6 weist einen zentralen Steg als Gelenk 22 auf, über welchem die Verbindung mit dem darunterliegenden Spiegelträger 16 erfolgt. All parts may be integrally or each mirror facet 6 has a central web as a hinge 22, via which the connection with the underlying mirror substrate sixteenth
  • Durch nicht näher dargestellte Aktuatoren 23 , die sich zwischen dem Spiegelträger 16 und der Unterseite jeder Spiegelfacette 6 befinden, kann jede Spiegelfacette 6 gegenüber dem Spiegelträger 16 gekippt werden. By non-illustrated actuators 23 which are each mirror facet 6 between the mirror support 16 and the bottom surface, each mirror facet 6 can be tilted with respect to the mirror support sixteenth Aus der Draufsicht gemäß Fig. 12 ist ersichtlich, daß durch einen Aktuator 23 , der sich auf der y- Achse befindet, und einen weiteren Aktuator 23 , der sich auf der x-Achse befindet, Kippmöglichkeiten in beide Richtungen gegeben sind. From the top view of Fig. 12 it is seen that by an actuator 23, which is located on the y-axis, and are given a further actuator 23, which is located on the x-axis, the tipping options in both directions. Dabei befinden sich die beiden Aktuatoren 23 jeweils auf der ihr zugehörigen Achse außerhalb des Achsenschnittpunktes. In this case, the two actuators 23 are each located on their associated axis outside the axis of intersection.
  • Da die Verstellung bzw. Kippung jeder Spiegelfacette 6 nur in einem sehr geringen Maße stattfindet, können als Aktuatoren 23 z. Since the adjustment or tilt of each mirror facet 6 takes place only in a very small degree, may contain as actuators 23rd B. piezokeramische Elemente verwendet werden. B. piezoceramic elements are used.
  • In den Fig. 13 und 14 ist eine Ausgestaltung dargestellt, durch die größere Kippungen für die Spiegelfacetten 6 ermöglicht werden. In Figs. 13 and 14, an embodiment is shown, made possible by the greater tilting of the mirror facets. 6 Wie aus Fig. 13 ersichtlich ist, befindet sich in diesem Falle zwischen der Spiegelfacette 6 und dem Spiegelträger 16 ein zentrales Kippgelenk bzw. Kipplager 24 . As is apparent from Fig. 13, is located in this case between the mirror facet 6 and the mirror support 16 a central pivot joint or pivot bearing 24th Auch hier sorgen Aktuatoren 23 für Verkippungen der Spiegelfacette 6 sowohl in x- als auch in y-Richtung. Here too, actuators 23 for tilting the mirror facet 6 in both the x and y directions. Hierzu befinden sich in diesem Falle zwei auf Abstand voneinander angeordnete Aktuatoren 23 auf der y-Achse außerhalb des Schnittpunktes der beiden Achsen und zwei weitere Aktuatoren 23 außerhalb der y-Achse beidseitig in gleichem Abstand von der x-Achse (siehe Fig. 14). For this purpose, are in this case two in spaced apart actuators 23 on the y-axis outside the point of intersection of the two axes and two further actuators 23 outside the y-axis on both sides at the same distance from the x-axis (see Fig. 14).
  • Durch die in den Fig. 11 bis 14 dargestellten Kippeinrichtungen lassen sich nicht nur die Spiegelfacetten 6 des ersten optischen Elementes 5 sondern auch die Spiegelfacetten 8 des zweiten optischen Elementes 7 beliebig und unabhängig voneinander verstellen. By tilting means illustrated to 14 in FIGS. 11, not only the mirror facets 6 of the first optical element 5 but also the mirror facets 8 of the second optical element 7 can be arbitrarily and independently adjustable.
  • Im Unterschied zu den Spiegelfacetten 6 des ersten optischen Elementes 5 , die eine langgezogene bzw. schmale Rechteckform aufweisen, besitzen die Spiegelfacetten 8 des zweiten optischen Elementes 7 eine Kreisform. In contrast to the mirror facets 6 of the first optical element 5 having an elongated and narrow rectangular shape, 8 have the mirror facets of the second optical element 7 has a circular shape. Dieser Unterschied hat jedoch keinen Einfluß auf die Art bzw. Wirkungsweise der in den Fig. 11 bis 14 dargestellten Kippeinrichtungen. This difference, however, has no influence on the nature and operation of the tilting means shown to 14 in Fig. 11.
  • Grundsätzlich lassen sich die Spiegelfacetten 6 des ersten optischen Elementes ebenfalls in gleicher Weise verschieben, wie in den Fig. 7 bis 10 dargestellt, aber in der Praxis wird dies im allgemeinen nicht erforderlich sein; . Basically, let the mirror facets 6 of the first optical element also move in the same way as in Figures 7 through 10 but in practice this will generally not be necessary; vielmehr werden reine Kippeinstellungen in der Regel ausreichend sein. rather pure Kippeinstellungen will be generally sufficient.
  • Als Aktuatoren 23 sind auch magnetisch oder elektrisch aktivierbare Betätigungsglieder möglich. As actuators 23 and magnetically or electrically activatable actuators are possible. Die Aktuatoren 23 können dabei über einen Regelkreis (nicht dargestellt) stufenlos die Spiegelfacetten 6 bzw. 8 verstellen. The actuators 23 may thereby the mirror facets (not shown) via a control circuit continuously adjustable 6 and 8 respectively. Ebenso ist es auch möglich für die Aktuatoren Endpositionen festzulegen, womit für die Spiegelfacetten 6 bzw. 8 jeweils zwei exakte Kippstellungen vorgegeben sind. Likewise, it is also possible to define end positions for the actuators, with which the mirror facets 6 and 8, two exact tilt positions are predetermined.

Claims (27)

1. Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie mit einem Projektionsobjektiv zur Herstellung von Halbleiterelementen für Wellenlängen 193 nm, mit einer Lichtquelle, mit einer Objektebene, mit einer Austrittspupille, mit einem ersten optischen Element mit ersten Rasterelementen zur Erzeugung von Lichtkanälen und mit einem zweiten optischen Element mit zweiten Rasterelementen, wobei jedem Lichtkanal der von einem der ersten Rasterelemente des ersten optischen Elementes ausgebildet wird, ein Rasterelement des zweiten optischen Elementes zugeordnet ist, und wobei die Rasterelemente des ersten optischen Elementes und des zweiten optischen Elementes derart ausgestaltet oder angeordnet werden können, daß sich für jeden Lichtkanal ein durchgehender Strahlverlauf von der Lichtquelle bis zur Objektebene ergibt, dadurch gekennzeichnet , daß die ersten Rasterelemente ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) zur Änderung eines Kippes winkelverstellbar sind, um durch Kippen 1. Lighting system, nm, in particular for EUV lithography with a projection objective for producing semiconductor elements for wavelengths 193, second with a light source, having an object plane, with an exit pupil, comprising a first optical element with first raster elements for generating light channels and with a optical element with second raster elements, wherein each light channel is formed by one of the first raster elements of the first optical element, a pixel of the second optical element is associated, and wherein the raster elements of the first optical element and the second optical element may be configured or arranged that a continuous beam passing from the light source to the object plane is obtained for each light channel, characterized in that the first raster elements of the first optical element (5) are angularly adjustable to change a Kippes (6) by tilting der ersten Rasterelemente ( 8 ) eine andere Zuordnung der ersten Rasterelemente ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) zu den zweiten Rasterelementen ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) zu realisieren. (8) to realize the first raster elements, a different assignment of the first raster elements (6) of the first optical element (5) to said second raster elements (8) of the second optical element (7).
2. Beleuchtungssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anzahl M der zweiten Rasterelemente ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) größer ist als die Anzahl N der Rasterelemente ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ). 2. Lighting system according to claim 1, characterized in that the number M of second raster elements (8) of the second optical element (7) is greater than the number N of the grid elements (6) of the first optical element (5).
3. Beleuchtungssystem nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zweiten Rasterelemente ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) einzeln und unabhängig voneinander im Ort und/oder im Winkel verstellbar sind, um durch Verschieben und/oder Kippen der ersten und zweiten Rasterelemente ( 8 ) eine andere Zuordnung der ersten Rasterelemente ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) zu den zweiten Rasterelementen ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) zu realisieren. 3. The illumination system of claim 1 or 2, characterized in that the second raster elements (8) one of the second optical element (7) and are independently in the location and / or angularly adjustable so by moving and / or tilting the first and (8) to realize the second raster elements, a different assignment of the first raster elements (6) of the first optical element (5) to said second raster elements (8) of the second optical element (7).
4. Beleuchtungssystem nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten Rasterelemente als Feldwaben in Form von ersteh Spiegelfacetten ( 6 ) ausgebildet sind und daß die zweiten Rasterelemente als Pupillenwaben in Form von zweiten Spiegelfacetten ( 8 ) ausgebildet sind, wobei die ersten Spiegelfacetten ( 6 ) und die zweiten Spiegelfacetten ( 8 ) jeweils auf einem Spiegelträger ( 16 ) angeordnet sind. 4. Lighting system according to claim 3, characterized in that the first raster elements are designed as field honeycombs in the form of ersteh mirror facets (6) and that the second raster elements are designed as pupil honeycombs in the form of the second mirror facets (8), wherein the first mirror facet (6 ) and the second mirror facets (8) are each arranged on a mirror carrier (16).
5. Beleuchtungssystem nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtkanäle zwischen den Spiegelfacetten ( 6 , 8 ) des ersten und des zweiten optischen Elementes ( 5 , 7 ) durch Verkippen der Spiegelfacetten ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) in Bezug auf den Spiegelträger ( 16 ) einstellbar sind, um so unterschiedliche Zuordnungen der ersten Spiegelfacetten ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) zu den zweiten Spiegelfacetten ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) und damit unterschiedliche Ausleuchtungen der Austrittspupille ( 15 ) zu realisieren. 5. Lighting system according to claim 4, characterized in that the light channels between the mirror facets (6, 8) of the first and the second optical element (5, 7) by tilting of the mirror facets (6) of the first optical element (5) with respect to the mirror carrier (16) are adjustable, in order to realize as different assignments of the first mirror facet (6) of the first optical element (5) to the second mirror facet (8) of the second optical element (7) and thus different illuminations of the exit pupil (15) ,
6. Beleuchtungssystem nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtkanäle zwischen den ersten Spiegelfacetten ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) und den zweiten Spiegelfacetten ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) durch Verkippen und Verschieben der zweiten Spiegelfacetten ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) in Bezug auf den Spiegelträger ( 16 ) einstellbar sind. 6. The illumination system of claim 4 or 5, characterized in that the light channels between the first mirror facet (6) of the first optical element (5) and the second mirror facets (8) of the second optical element (7) by tilting and shifting the second mirror facets (8) the second optical element (7) are adjustable in relation to the mirror carrier (16).
7. Beleuchtungssystem nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Spiegelfacetten ( 6 , 8 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) und/oder des zweiten optischen Elementes ( 7 ) jeweils über ein Gelenk ( 22 ) mit dem dazugehörigen Spiegelträger ( 16 ) verbunden sind. 7. The illumination system of claim 4, characterized in that the mirror facets (6, 8) of the first optical element (5) and / or the second optical element (7) are each connected via a joint (22) with the associated mirror carrier (16) are.
8. Beleuchtungssystem nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Gelenke ( 22 ) als Festkörpergelenke ausgebildet sind. 8. The illumination system according to claim 7, characterized in that the joints (22) are formed as solid body joints.
9. Beleuchtungssystem nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Spiegelfacetten ( 6 , 8 ) in x-Richtung und/oder in y-Richtung kippbar sind. 9. The illumination system of claim 7 or 8, characterized in that the mirror facets (6, 8) in x-direction and / or in the y direction are tilted.
10. Beleuchtungssystem nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Gelenke ( 22 ) jeweils auf der x-Achse und/oder der y-Achse der Spiegelfacetten ( 6 , 8 ) befinden. 10. The illumination system of claim 9, characterized in that the joints (22) are each located on the x-axis and / or the y-axis of the mirror facets (6, 8).
11. Beleuchtungssystem nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß zum Verschieben und/oder Kippen der Spiegelfacetten ( 6 , 8 ) Aktuatoren ( 23 ) zwischen den Rasterelementen ( 6 , 8 ) und dem Spiegelträger ( 16 ) angeordnet sind. 11. The illumination system of claim 4, characterized in that the displacement and / or tilting of the mirror facets (6, 8), actuators (23) and the mirror carrier (16) are disposed between the grid elements (6, 8).
12. Beleuchtungssystem nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Aktuatoren ( 23 ) piezokeramische Verstellglieder aufweisen. 12. An illumination system according to claim 11, characterized in that the actuators comprise (23) piezoceramic adjustment members.
13. Beleuchtungssystem nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Aktuatoren ( 23 ) mit magnetisch oder elektrisch aktivierbaren Betätigungsgliedern versehen sind. 13. An illumination system according to claim 12, characterized in that the actuators (23) are provided with magnetically or electrically activatable actuators.
14. Beleuchtungssystem nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Aktuatoren ( 23 ) über einen Regelkreis stufenlos die Rasterelemente ( 6 , 8 ) verstellen. 14. The illumination system of claim 11, characterized in that the actuators (23) adjust a control loop continuously the grid elements (6, 8).
15. Beleuchtungssystem nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß für die Aktuatoren ( 23 ) Endpositionen festgelegt sind. 15. The illumination system of claim 11, characterized in that for the actuators (23) end positions are defined.
16. Beleuchtungssystem nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Spiegelfacetten ( 6 , 8 ) auf vorgegebenen Bahnen verschiebbar sind. 16. A lighting system according to claim 4, characterized in that the mirror facets (6, 8) are movable on predetermined paths.
17. Beleuchtungssystem nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß in dem Spiegelträger ( 16 ) Kurvenbahnen eingebracht sind, in denen die Spiegelfacetten ( 6 , 8 ) jeweils einzeln geführt sind. 17. Lighting system according to claim 16, characterized in that in the mirror support (16) cam tracks are inserted, in which the mirror facets (6, 8) are individually connected.
18. Beleuchtungssystem nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß der Spiegelträger ( 16 ) als Führungsscheibe ausgebildet ist, die mit einer Steuerscheibe ( 18 ) zusammenwirkt, in welcher Führungsbahnen ( 19 ) zur Verschiebung der Spiegelfacetten ( 6 , 8 ) angeordnet sind. 18. An illumination system according to claim 17, characterized in that the mirror carrier (16) is designed as a guide washer that are cooperating with a cam disc (18) disposed in said guide tracks (19) for displacement of the mirror facets (6, 8).
19. Beleuchtungssystem nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Steuerscheibe ( 18 ) angetrieben ist. 19. An illumination system according to claim 18, characterized in that the control disc (18) is driven.
20. Beleuchtungssystem nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß jede Spiegelfacette ( 6 , 8 ) in einer Kurvenbahn des Spiegelträgers ( 16 ) geführt und daß jede Spiegelfacette ( 6 , 8 ) einzeln durch ein Antriebsglied antreibbar ist. 20. An illumination system according to claim 17, characterized in that each mirror facet (6, 8) guided in a cam track of the mirror carrier (16) and in that each mirror facet (6, 8) individually drivable by a drive member.
21. Beleuchtungssystem nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß die Antriebseinrichtung ( 21 ) jeweils in einer Kurvenbahn angeordnet ist und jede Spiegelfacette ( 6 , 8 ) einzeln nach dem Inch-Worm-Prinzip bewegt wird. 21. An illumination system according to claim 20, characterized in that the drive device (21) is arranged in each case in a curved path and each mirror facet (6, 8) individually is moved to the inch Worm principle.
22. Projektionsbelichtunganlage für die Mikrolithograhpie zur Herstellung von Halbleiterelementen mit einem Beleuchtungssystem und mit einem Projektionsobjektiv, insbesondere für Wellenlängen ≤ 193 nm, mit einer Lichtquelle, mit einer Objektebene, mit einer Austrittspupille, mit einem ersten optischen Element mit ersten Rasterelementen zur Erzeugung von Lichtkanälen und mit einem zweiten optischen Element mit zweiten Rasterelementen, wobei jedem Lichtkanal der von einem der ersten Rasterelemente des ersten optischen Elementes ausgebildet wird, ein Rasterelement des zweiten optischen Elementes zugeordnet ist, und wobei die Rasterelemente des ersten optischen Elementes und des zweiten optischen Elementes derart ausgestaltet oder angeordnet werden können, daß sich für jeden Lichtkanal ein durchgehender Strahlverlauf von der Lichtquelle bis zur Objektebene ergibt, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten Rasterelemente ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) zur Änderung eines 22. Projection exposure apparatus for Mikrolithograhpie for the production of semiconductor elements having an illumination system and a projection objective, in particular for wavelengths ≤ 193 nm, comprising a light source, an object plane, with an exit pupil, comprising a first optical element with first raster elements for generating light channels and , a pixel of the second optical element is associated with a second optical element with second raster elements, wherein each light channel is formed by one of the first raster elements of the first optical element, and wherein the raster elements of the first optical element and the second optical element configured or can be arranged such that a continuous beam passing from the light source to the object plane is obtained for each light channel, characterized in that the first raster elements (6) of the first optical element (5) for changing a Kippes winkelverstellbar sind, um durch Kippen der ersten Rasterelemente ( 8 ) eine andere Zuordnung der ersten Rasterelemente ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) zu den zweiten Rasterelementen ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) zu realisieren. Kippes are angularly adjustable in order to realize, by tilting the first raster elements (8) a different assignment of the first raster elements (6) of the first optical element (5) to said second raster elements (8) of the second optical element (7).
23. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Anzahl M der zweiten Rasterelemente ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) größer ist als die Anzahl N der Rasterelemente ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ). 23. Projection exposure apparatus according to claim 22, characterized in that the number M of second raster elements (8) of the second optical element (7) is greater than the number N of the grid elements (6) of the first optical element (5).
24. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 22 oder 23, dadurch gekennzeichnet, daß die zweiten Rasterelemente ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) einzeln und unabhängig voneinander im Ort und/oder im Winkel verstellbar sind, um durch Verschieben und/oder Kippen der ersten und zweiten Rasterelemente ( 8 ) eine andere Zuordnung der ersten Rasterelemente ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) zu den zweiten Rasterelementen ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) zu realisieren. 24. Projection exposure apparatus according to claim 22 or 23, characterized in that the second raster elements (8) one of the second optical element (7) and are independently in the location and / or angularly adjustable so by moving and / or tilting the first and (8) to realize the second raster elements, a different assignment of the first raster elements (6) of the first optical element (5) to said second raster elements (8) of the second optical element (7).
25. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten Rasterelemente als Feldwaben in Form von ersten Spiegelfacetten ( 6 ) ausgebildet sind und daß die zweiten Rasterelemente als Pupillenwaben in Form von zweiten Spiegelfacetten ( 8 ) ausgebildet sind, wobei die ersten Spiegelfacetten ( 6 ) und die zweiten Spiegelfacetten ( 8 ) jeweils auf einem Spiegelträger ( 16 ) angeordnet sind. 25. Projection exposure apparatus according to claim 24, characterized in that the first raster elements are designed as field honeycombs in the form of the first mirror facet (6) and that the second raster elements are designed as pupil honeycombs in the form of the second mirror facets (8), wherein the first mirror facet (6 ) and the second mirror facets (8) are each arranged on a mirror carrier (16).
26. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtkanäle zwischen den Spiegelfacetten ( 6 , 8 ) des ersten und des zweiten optischen Elementes ( 5 , 7 ) durch Verkippen der Spiegelfacetten ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) in Bezug auf den Spiegelträger ( 16 ) einstellbar sind, um so unterschiedliche Zuordnungen der ersten Spiegelfacetten ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) zu den zweiten Spiegelfacetten ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) und damit unterschiedliche Ausleuchtungen der Austrittspupille ( 15 ) zu realisieren. 26. Projection exposure apparatus according to claim 25, characterized in that the light channels between the mirror facets (6, 8) of the first and the second optical element (5, 7) by tilting of the mirror facets (6) of the first optical element (5) with respect to the mirror carrier (16) are adjustable, in order to realize as different assignments of the first mirror facet (6) of the first optical element (5) to the second mirror facet (8) of the second optical element (7) and thus different illuminations of the exit pupil (15) ,
27. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 25 oder 26, dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtkanäle zwischen den ersten Spiegelfacetten ( 6 ) des ersten optischen Elementes ( 5 ) und den zweiten Spiegelfacetten ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) durch Verkippen und Verschieben der zweiten Spiegelfacetten ( 8 ) des zweiten optischen Elementes ( 7 ) in Bezug auf den Spiegelträger ( 16 ) einstellbar sind. 27. Projection exposure apparatus according to claim 25 or 26, characterized in that the light channels between the first mirror facet (6) of the first optical element (5) and the second mirror facets (8) of the second optical element (7) by tilting and shifting the second mirror facets (8) the second optical element (7) are adjustable in relation to the mirror carrier (16).
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