DE102011080819A1 - Facet mirror unit for use in micro lithography device for micro lithography utilized during manufacturing of microelectronic circuits, has facet element designed as separately manufactured component connected with another facet element - Google Patents

Facet mirror unit for use in micro lithography device for micro lithography utilized during manufacturing of microelectronic circuits, has facet element designed as separately manufactured component connected with another facet element

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DE102011080819A1
DE102011080819A1 DE201110080819 DE102011080819A DE102011080819A1 DE 102011080819 A1 DE102011080819 A1 DE 102011080819A1 DE 201110080819 DE201110080819 DE 201110080819 DE 102011080819 A DE102011080819 A DE 102011080819A DE 102011080819 A1 DE102011080819 A1 DE 102011080819A1
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facet
facet element
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carrier
particular
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Stig Bieling
Johannes Eisenmenger
Bernhard Kneer
Yim-Bun-Patrick Kwan
Manuel Rauh
Franz-Josef Stickel
Stefan Wiesner
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Abstract

The unit (108) has a facet module (110) arranged on a module carrier (109) and comprising a facet element carrier and a facet element group, where the element group is arranged on the element carrier. A facet element of the element group is designed as a separately manufactured component connected with another facet element of the element group and/or the element carrier. A mechanical connection produced by welding or gluing is formed between the former facet element and the element carrier, where the element carrier is arranged on a supporting element. Independent claims are also included for the following: (1) an optical imaging device for micro lithography (2) a method for manufacturing a facet mirror unit.

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG BACKGROUND OF THE INVENTION
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Facettenspiegeleinheit, eine optische Abbildungseinrichtung mit einer Facettenspiegeleinheit sowie ein Verfahren zum Herstellen einer Facettenspiegeleinheit für eine optische Abbildungseinrichtung. The present invention relates to a facet mirror unit, an optical imaging device having a facet mirror unit and a method for producing a facet mirror unit for an optical imaging device. Die Erfindung lässt sich im Zusammenhang beliebigen optischen Einrichtungen bzw. optischen Abbildungsverfahren anwenden. The invention can be applied any optical devices and optical imaging methods related. Insbesondere lässt sie sich im Zusammenhang mit der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten Mikrolithographie einsetzen. In particular, they can be used in connection with the used in the manufacture of microelectronic circuits microlithography.
  • Typischerweise umfassen die optischen Systeme, die im Zusammenhang mit der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendet werden, eine Mehrzahl optischer Elementeinheiten mit optischen Elementen, wie beispielsweise Linsen, Spiegeln, Gittern etc., die im Verlauf des für die Abbildung verwendeten Lichts angeordnet sind. Typically comprise the optical systems used in connection with the manufacture of microelectronic circuits, a plurality of optical element units with optical elements such as lenses, mirrors, gratings, etc., which are arranged in the course of the light used for imaging. Diese optischen Elemente wirken dabei zusammen, um das Licht einer Lichtquelle auf ein abzubildendes Projektionsmuster zu lenken bzw. das Projektionsmuster auf ein Substrat zu projizieren. These optical elements cooperate thereby to direct the light from a light source to be imaged on a projection pattern and to project the projection pattern on a substrate. Die eingangs genannten Facettenspiegeleinheiten werden häufig dazu verwendet, das für die Abbildung verwendete Licht zu homogenisieren, also in dem verwendeten Lichtbündel eine möglichst gleichmäßige Intensitätsverteilung zu erzielen. The facet mirror units mentioned above are often used to homogenize the light used for the picture, so to achieve a very uniform intensity distribution in the used light beam. Ebenso ist es aber auch möglich, über eine solche Facettenspiegeleinheit eine beliebige andere spezifische Intensitätsverteilung in dem verwendeten Lichtbündel zu generieren. However, it is also possible to generate any other specific intensity distribution in the used light beam over such a facet mirror unit.
  • Insbesondere im Bereich der Mikrolithographie liegen die Genauigkeitsanforderungen an die verwendeten optischen Elemente sowie an das gesamte optische System im mikroskopischen Bereich in der Größenordnung weniger Nanometer oder darunter. In particular, in the field of microlithography, the accuracy requirements are to the used optical elements as well as the entire optical system in a microscopic range in the order of a few nanometers or less. Sie sind dabei nicht zuletzt eine Folge des ständigen Bedarfs, die Auflösung der bei der Herstellung mikroelektronischer Schaltkreise verwendeten optischen Systeme zu erhöhen, um die Miniaturisierung der herzustellenden mikroelektronischen Schaltkreise voranzutreiben. They are not least a result of the constant need to increase the resolution of the optical systems used in the manufacture of microelectronic circuits to drive the miniaturization of the microelectronic circuits. Dies gilt natürlich auch für die verwendeten Facettenspiegeleinheiten sowie für die mit ihnen erzielte Einstellung der Intensitätsverteilung. This is also true for the used facet mirror units, as well as the agreement reached with them setting the intensity distribution.
  • Ein Ansatz, der verfolgt wird, um die Auflösung des optischen Systems zu erhöhen, liegt in der Reduktion der Wellenlänge des für die Abbildung verwendeten Lichts. An approach being pursued in order to increase the resolution of the optical system is the reduction of the wavelength of light used for imaging. So wird beispielsweise für die Mikrolithographie mittlerweile Licht im extremen UV-Bereich (EUV) mit Wellenlängen zwischen 5 nm und 20 nm, typischerweise etwa 13 nm, verwendet, wodurch sich eine Reihe von praktischen Problemen stellen. Thus, light is for example for the microlithography now (EUV) in the extreme ultraviolet range with wavelengths of between 5 nm and 20 nm, typically about 13 nm is used, thereby provide a number of practical problems.
  • Eines der Probleme ist die Absorption des EUV-Lichts durch die verwendeten optischen Elemente. One of the problems is the absorption of the EUV light through the optical elements used. So können in diesem Wellenlängenbereich aufgrund der Absorption keine refraktiven optischen Elemente mehr verwendet werden, sondern es müssen ausschließlich reflektive optische Elemente verwendet werden, bei denen die reflektierende Oberfläche typischerweise als Mehrschichtsystem aufgebaut ist. Thus, no refractive optical elements may more in this wavelength range due to the absorption can be used, but it must only reflective optical elements are used in which the reflective surface is typically constructed as a multilayer system. Jedoch kommt es auch hier nicht zu einer vollständigen Reflexion. However, it does not come here to a complete reflection. Vielmehr wird nach wie vor noch ein erheblicher Anteil der aufgebrachten Energie durch das optische Element absorbiert, mithin also eine erhebliche Wärmeleistung in das optische Element eingebracht, die in der Regel abgeführt werden muss, um die hierdurch induzierte thermische Ausdehnung des optischen Elements nicht zuletzt im Hinblick auf die Genauigkeitsanforderungen an die Lage und Orientierung der optischen Flächen auf einem möglichst geringen Maß zu halten. Rather, it is still yet a significant proportion of the energy applied by the optical element absorbs, so therefore introduced a significant heat output into the optical element, which must be dissipated in the rule to the thereby induced thermal expansion of the optical element not least in view to keep the accuracy requirements on the position and orientation of the optical surfaces on the lowest possible level.
  • In diesem Zusammenhang ist es weiterhin problematisch, dass eine Reduktion der Größe der Facetten, insbesondere bei Pupillenfacettenspiegeln für EUV-Systeme, angestrebt wird, um eine höhere Variabilität bei flexiblen Beleuchtungseinstellungen zu erreichen. In this context, it remains a concern that a reduction in the size of the facets, especially in pupil facet mirrors for EUV systems, the aim is to achieve a higher variability in flexible lighting settings. Insbesondere werden kleinere Pupillenfüllungen angestrebt bzw. benötigt. In particular, smaller pupil filling are desired or required.
  • Problematisch hierbei ist, dass es in der Regel erforderlich ist, die Position und/oder Orientierung der einzelnen Facetten nach ihrer Montage auf dem Modulträger über eine Justiereinrichtung anzupassen, um die (immer anspruchsvoller werdenden) Spezifikationen hinsichtlich der Genauigkeit der Position und/oder Orientierung der optischen Flächen der Facetten einzuhalten. The problem here is that it is usually necessary to adjust the position and / or orientation of the individual facets of its mounting on the module carrier have an adjustment to the (increasingly demanding) specifications as to the accuracy of the position and / or orientation of optical surfaces of the facets observed. Die Führung der Facetten bei der Justierung erfolgt typischerweise über Gelenke bzw. Führungseinrichtungen der Stützeinrichtung, über welche sie auf dem Modulträger abgestützt sind. The guide of the facets in the adjustment is typically via joints and guide means of the support means via which they are supported on the module carrier.
  • Um zur Vermeidung einer übermäßigen thermischen Ausdehnung der Facetten eine ausreichend gute Wärmeabfuhr aus der einzelnen Facette zu gewährleisten ist jedoch ein guter Wärmedurchgang durch die Stützeinrichtung erforderlich. In order to ensure to avoid excessive thermal expansion of the facets a sufficiently good heat dissipation from the single facet, however, a good heat transfer through the support device is required. Mithin ist es also erforderlich, den thermischen Widerstand der Stützeinrichtung gering zu halten, um möglichst viel Wärme abführen zu können. Consequently, it is therefore necessary to keep the thermal resistance of the support means small to be able to dissipate as much heat. Dies erfordert in der Regel eine möglichst große Querschnittsfläche der Gelenke bzw. Führungseinrichtungen der Stützeinrichtung, wodurch sich allerdings auch deren Steifigkeit erhöht. This usually requires the largest possible cross-sectional area of ​​the joints or guide means of the support device, which, however, also increases the stiffness. Eine solche erhöhte Steifigkeit der Gelenke bzw. Führungseinrichtungen der Stützeinrichtung führt wiederum in der Regel zu einer Erhöhung der Steifigkeit und damit typischerweise auch der Abmessungen der Justiereinrichtung, um die gewünschten Stellbewegungen erzeugen zu können. in turn, such an increased stiffness of the joints and guide means of the support means usually leads to an increase in rigidity and thus typically also the dimensions of the adjusting device in order to produce the desired control movements. Letztlich führt dies dazu, dass sich die Abmessungen der Justiereinrichtung erhöhen, was der Verringerung der Abmessungen der Facetten, insbesondere der Anordnung einer Vielzahl von Facetten auf kleinstem Raum, zuwiderläuft. Ultimately, this leads to increase the dimensions of the adjusting device, which the reduction of the dimensions of the facets, in particular the arrangement of a plurality of facets on the smallest space, contrary.
  • Im Gegensatz dazu könnte zwar versucht werden, die einzelnen Facetten mit so geringen Toleranzen zu fertigen, dass keine weitere Justierung erforderlich ist. Although, in contrast, could produce the individual facets with such small tolerances are trying that no further adjustment is necessary. Insbesondere könnte versucht werden, die einzelnen Facetten bereits auf einem gemeinsamen Trägerkörper zu formen. In particular, it could be attempted to mold the individual facets already on a common carrier body. Dies stellt jedoch bei immer kleineren Facetten, insbesondere bei unterschiedlichen Ausrichtungen der Facetten, mit den derzeit verfügbaren Fertigungstechniken eine auf wirtschaftliche Weise nahezu unlösbare Aufgabe dar. However, this is an economical way almost impossible task at ever smaller facets, especially at different orientations of the facets, using currently available manufacturing techniques.
  • Alternativ könnten sämtliche Facetten separat gefertigt und dann auf einem gemeinsamen Träger fixiert werden. Alternatively, all facets could be manufactured separately and then fixed on a common carrier. Dies hat jedoch den Nachteil, dass sich die individuellen Toleranzen bei verringerter Größe der Facetten und damit einer erhöhten Anzahl der Facetten addieren, sodass der gesamten Facettenspiegel die Toleranzgrenzen überschritten werden. However, this has the advantage that the individual tolerances add at reduced size of the facets and thus an increased number of facets, so that the entire facet mirror the tolerance limits are exceeded the disadvantage.
  • KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG BRIEF SUMMARY OF THE INVENTION
  • Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zu Grunde, eine Facettenspiegeleinheit, eine optische Abbildungseinrichtung mit einer solchen Facettenspiegeleinheiten sowie ein Verfahren zum Herstellen einer Facettenspiegeleinheit zur Verfügung zu stellen, welche die oben genannten Nachteile nicht oder zumindest in geringerem Maße aufweisen und insbesondere auf einfache Weise eine Verkleinerung der Facettenelemente unter Einhaltung enger Toleranzen der Facettenspiegeleinheit bei guter Wärmeabfuhr aus den Facettenelementen ermöglichen. Therefore, the present invention has the object of providing a facet mirror unit, an optical imaging device having such a facet mirror units and a method for producing a facet mirror unit to provide that the above-mentioned disadvantages do not or at least to a lesser extent, and in particular in a simple manner allow reduction of the facet elements while maintaining tight tolerances of the facet mirror unit with good heat dissipation from the facet elements.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt die Erkenntnis zu Grunde, dass man auf einfache Weise die Einhaltung engster Toleranzen bei gleichzeitig guter Wärmeabfuhr aus den Facettenelementen gewährleisten kann, wenn mehrere separat gefertigte Facettenelemente auf einem gemeinsamen Elementträger abgestützt werden, der dann seinerseits auf dem Modulträger der Facettenspiegeleinheit abgestützt wird. The present invention is based on the realization that one can ensure in a simple manner compliance with the strictest tolerances with good heat dissipation from the facet elements when several separately manufactured facet elements are supported on a common element carrier, which is then in turn is supported on the module carrier of the facet mirror unit , Dies hat zum einen den Vorteil, dass die separaten Facettenelemente einfach und mit sehr hoher Präzision gefertigt werden können. This firstly has the advantage that the separate facet elements can be manufactured easily and with very high precision. Auch ihre Anordnung als Facettenelementgruppe auf dem gemeinsamen Elementträger kann dank der vergleichsweise kleinen Modulgröße relativ einfach mit hoher Präzision erfolgen, sodass sich insgesamt auch enge Toleranzen für die gesamte Facettenspiegeleinheit einfacher einhalten lassen. Their arrangement as a facet element group on the common element carrier can be done thanks to the comparatively small module size relatively easily with high precision, so that can be a whole also comply with tight tolerances for the entire facet mirror unit easier.
  • Insbesondere ergibt sich der Vorteil, dass die Facettenmodule separat geprüft werden können, bevor sie auf den Modulträger aufgebracht werden, sodass für den Fall der Nichteinhaltung der vorgegebenen Toleranzen nur das jeweils fehlerhafte Modul als Ausschuss zu verzeichnen ist, während der übrige Teil der Facettenspiegeleinheit hiervon unberührt bleibt. In particular, there is the advantage that the facets modules can be tested separately before being applied to the module carrier, so that in the event of non-compliance with the prescribed tolerances that each faulty module is only recorded as a committee, while the rest of the facet mirror unit unaffected remains.
  • Schließlich ergibt sich in besonders vorteilhafter Weise die Möglichkeit, für das einzelne Facettenmodul bereits für größere Facettenelemente vorhandene bzw. verfügbare Stützeinrichtungen und Justiereinrichtungen zu verwenden. Finally, the ability to use existing or available for larger facet elements supporting devices and adjustment for the individual facets module results in a particularly advantageous manner. So können beispielsweise also auf der Grundfläche einer bisherigen Einzelfacette mehrere Facetten angeordnet werden, wobei dann auch die vorhandenen Stützeinrichtungen zur Abstützung des Facettenmoduls auf dem Modulträger sowie vorhandene Justiereinrichtungen genutzt werden. Thus, multiple facets may for example thus on the footprint of a previous Einzelfacette be arranged, whereby the existing support means for supporting the facets module on the module carrier and existing adjustment devices then be used. Es ergibt sich somit die Möglichkeit, die bereits mit hoher Präzision hergestellten Facettenmodule nach ihrer Abstützung auf dem Modulträger nochmals (gegebenenfalls auch mehrfach) zu justieren, wodurch auch bei erheblicher Erhöhung der Anzahl der Einzelfacetten eine sehr hohe Präzision für Position und/oder Orientierung der optischen Flächen der gesamten Facettenspiegeleinheit erzielt werden kann. Thus, there is the possibility of the facets modules already manufactured with high precision according to their support on the module carrier again (optionally also several times) to adjust, whereby a very high precision for position and / or orientation of the optic even when considerable increase in the number of individual facets surfaces of the entire facet mirror unit can be achieved.
  • Insbesondere können trotz der Verkleinerung der einzelnen Facettenelemente die Dimensionen der Stützeinrichtung unverändert bleiben, sodass unter Beibehaltung der Justierungsmöglichkeiten der thermische Widerstand der Stützeinrichtung nicht steigt, so dass nach wie vor eine gute Wärmeabfuhr aus den einzelnen Facettenelementen gewährleistet ist. In particular, the dimensions of the supporting means can remain unchanged in spite of the reduction of the individual facet elements so that the thermal resistance of the support device does not increase while maintaining the adjustment options so that a good heat dissipation from the individual facet elements is ensured as before.
  • Gemäß einem ersten Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung daher eine Facettenspiegeleinheit, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Mehrzahl von Facettenmodulen und einem Modulträger, wobei die Facettenmodule auf dem Modulträger abgestützt sind. According to a first aspect the present invention therefore relates to a facet mirror unit, in particular for microlithography, having a plurality of facets of modules and a module carrier, said facets modules are supported on the module carrier. Wenigstens ein Facettenmodul umfasst einen Facettenelementträger und eine Facettenelementgruppe aus einer Mehrzahl von Facettenelementen, wobei die Facettenelementgruppe auf dem Facettenelementträger angeordnet ist. At least one facet module includes a facet element support and a facet element group of a plurality of facet elements, wherein the facet element group is arranged on the facet element carrier. Wenigstens ein erstes Facettenelement der Facettenelementgruppe ist als separat gefertigte und nach ihrer Fertigung mit einem zweiten Facettenelement der Facettenelementgruppe und/oder dem Facettenelementträger verbundene Komponente ausgebildet. At least a first facet element of the facet element group is formed as a separately manufactured and after their production with a second facet element of the facet element group and / or the facet element carrier connected component.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung eine optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einer Beleuchtungseinrichtung, einer Maskeneinrichtung zur Aufnahme einer ein Projektionsmuster umfassenden Maske, einer Projektionseinrichtung und einer Substrateinrichtung zur Aufnahme eines Substrats, wobei die Beleuchtungseinrichtung zum Beleuchten des Projektionsmusters mit einem Lichtbündel ausgebildet ist und die Projektionseinrichtung zum Abbilden des Projektionsmusters mittels des Lichtbündels auf dem Substrat ausgebildet ist. According to a further aspect, the present invention relates to an optical imaging device, in particular for microlithography, having an illumination device, a mask means for receiving a a projection pattern comprising a mask, a projection device and a substrate device for holding a substrate, wherein the illumination device for illuminating the projection pattern with a light beam is formed, and the projection device is designed for imaging the pattern by means of projection of the light beam on the substrate. Die Beleuchtungseinrichtung und/oder die Projektionseinrichtung umfasst dabei dann eine erfindungsgemäße Facettenspiegeleinheit. The lighting device and / or the projection device then comprises doing a facet mirror unit according to the invention.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Herstellen einer Facettenspiegeleinheit, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem eine Mehrzahl von Facettenmodulen auf dem Modulträger abgestützt wird. According to a further aspect, the present invention relates to a method for producing a facet mirror unit, in particular for microlithography, in which a plurality of facets modules is supported on the module carrier. Hierbei wird eine Mehrzahl von separaten Facettenelementen gefertigt, die Mehrzahl von separaten Facettenelementen zur Bildung eines Facettenmoduls als Facettenelementgruppe auf einem Facettenelementträger befestigt und das Facettenmodul auf dem Modulträger abgestützt. In this case, a plurality of separate manufactured facet elements, attaching the plurality of separate facet elements to form a module as facets facet element group on a facet element carrier and supported the facet module on the module carrier.
  • Weitere bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen bzw. der nachstehenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele, welche auf die beigefügten Zeichnungen Bezug nimmt. Further preferred embodiments of the invention emerge from the dependent claims and the following description of preferred embodiments which refers to the accompanying drawings.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
  • 1 1 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung, die eine bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Facettenspiegeleinheit umfasst, die mit einer bevorzugten Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellt wurde; is a schematic representation of a preferred embodiment of the optical imaging device according to the invention comprising a preferred embodiment of the facet mirror unit according to the invention was prepared with a preferred embodiment of a method according to the invention;
  • 2 2 ist eine schematische Draufsicht auf die Facettenspiegeleinheit aus is a schematic plan view of the facet mirror unit 1 1 ; ;
  • 3 3 ist eine schematische Schnittdarstellung im Bereich zweier benachbarter Facettenmodule der Facettenspiegeleinheit aus is a schematic sectional view in the region of two adjacent facets modules of the facet mirror unit 2 2 (entlang Linie zwei-zwei aus (Along line two-two from 2 2 ); );
  • 4 4 ist eine schematische Schnittansicht des Facettenmoduls aus is a schematic sectional view of the module of facets 3 3 (entlang Linie IV-IV aus (Along line IV-IV from 3 3 ); );
  • 5 5 ist ein Blockdiagramm einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Herstellen einer Facettenspiegeleinrichtung, mit welcher die Facettenspiegeleinrichtung aus is a block diagram of a preferred embodiment of the method for producing a facet mirror device with which the facet mirror device 2 2 hergestellt werden kann. can be produced.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
  • Unter Bezugnahme auf die Referring to 1 1 bis to 5 5 wird im Folgenden eine bevorzugte Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung is hereinafter referred to a preferred embodiment of the optical imaging device according to the invention 101 101 , die für die Mikrolithographie zur Herstellung elektronischer Schaltkreise zum Einsatz kommt. Which is used for microlithography for the production of electronic circuits. Hierbei wird zur Vereinfachung der nachfolgenden Beschreibung ein xyz-Koordinatensystem eingeführt, in welchem die z-Richtung die Vertikalrichtung bezeichnet. In this case, an xyz coordinate system is introduced in order to simplify the following description, in which the z-direction refers to the vertical direction. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Ausrichtung der Komponenten der Abbildungseinrichtung im Raum vorgesehen sein kann. However, it is understood that, in other variants of the invention also have any other orientation of the components of the imaging device can be provided in the space.
  • 1 1 zeigt eine schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen optischen Abbildungseinrichtung in Form einer Mikrolithographieeinrichtung shows a schematic representation of a preferred embodiment of the optical imaging device according to the invention in the form of a microlithography device 101 101 , die mit Licht im EUV-Bereich mit einer Wellenlänge von 5 nm bis 20 nm, im vorliegenden Beispiel etwa 13 nm, arbeitet. Which operates with light in the EUV range having a wavelength of 5 nm to 20 nm, in this example about 13 nm.
  • Die Mikrolithographieeinrichtung The microlithography device 101 101 umfasst ein Beleuchtungssystem comprises an illumination system 102 102 , eine Maskeneinrichtung A mask device 103 103 , ein optisches Projektionssystem in Form eines Objektivs , A projection optical system in the form of a lens 104 104 und eine Substrateinrichtung and a substrate device 105 105 . , Das Beleuchtungssystem The lighting system 102 102 beleuchtet über die optischen Elemente einer ersten optischen Elementgruppe illuminated on the optical elements a first optical element group 106 106 (sowie über eine nicht dargestellte Lichtleiteinrichtung) eine Maske (As well as a not shown light guide), a mask 103.1 103.1 , die auf einem Maskentisch der Maskeneinrichtung That on a mask table of the mask device 103 103 angeordnet ist, mit einem (nicht näher dargestellten) Projektionslichtbündel. is arranged with a (not shown) projection light bundle. Auf der Maske On the mask 103.1 103.1 befindet sich ein Projektionsmuster, welches mit dem Projektionslichtbündel über die im Objektiv There is a projection pattern to the projection light beam on the lens 104 104 angeordneten optischen Elemente einer zweiten optischen Elementgruppe arranged optical elements of a second optical element group 107 107 auf ein Substrat in Form eines Wafers on a substrate in the form of a wafer 105.1 105.1 projiziert wird, der auf einem Wafertisch der Substrateinrichtung is projected on a wafer stage of the substrate means 105 105 angeordnet ist. is arranged.
  • Das Beleuchtungssystem The lighting system 102 102 umfasst neben einer Lichtquelle includes not only a light source 102.1 102.1 unter anderem eine bevorzugte Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Facettenspiegeleinrichtung among others, a preferred embodiment of a facet mirror device according to the invention 108 108 als eines der optischen Elemente der ersten optischen Elementgruppe as one of the optical elements of the first optical element group 106 106 . ,
  • Wegen der Arbeitswellenlänge im EUV-Bereich (etwa 13 nm) handelt es sich bei sämtlichen optischen Elementen der Abbildungseinrichtung Because of the operating wavelength in the EUV range (about 13 nm) is for all optical elements of the imaging device 101 101 um reflektive optische Elemente. to reflective optical elements. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung, die mit Licht im Bereich anderer Wellenlängen arbeiten, auch beliebige andere optische Elemente verwendet werden können. However, it is understood that, in other variants of the invention, the work with light in the range of other wavelengths, and any other optical elements may be used. Insbesondere können refraktive, reflektive oder diffraktive optische Elemente allein oder in beliebiger Kombination verwendet werden. In particular, refractive, reflective or diffractive optical elements may be used alone or in any combination. Weiterhin kann natürlich auch das Projektionssystem Furthermore, of course, can also be the projection system 104 104 eine erfindungsgemäße Facettenspiegeleinrichtung umfassen. a facet mirror device according to the invention comprise.
  • Wie den as the 2 2 bis to 4 4 zu entnehmen ist, umfasst die Facettenspiegeleinrichtung It can be seen, comprising the facet mirror device 108 108 eine Stützstruktur in Form eines Modulträgers a support structure in the form of a module carrier 109 109 , auf dem eine Vielzahl von Facettenmodulen On which a plurality of facets modules 110 110 angeordnet ist, von denen lediglich eines in dem Schnitt der is arranged, only one of which in the section of the 3 3 dargestellt ist. is shown. Im gezeigten Beispiel sind 900 Facettenmodule In the example shown 900 facets modules 110 110 auf dem Modulträger on the module carrier 109 109 abgestützt. supported. Es versteht sich jedoch, dass der anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Anzahl von Facettenmodulen auf dem Modulträger abgestützt sein kann. However, it is understood that the other variants of the invention may be supported, any other number of facets modules on the module carrier. So können beispielsweise bei bevorzugten Ausgestaltungen der Erfindung bis zu 2.000 Facettenmodule oder sogar mehr auf dem Modulträger abgestützt sein. So can be supported on the module carrier, for example, in preferred embodiments of the invention up to 2,000 facets modules or even more. Es versteht sich, dass vorzugsweise so viele Facettenmodule wie möglich auf dem Modulträger abgestützt sind, um eine möglichst gleichmäßige bzw. fein abgestimmte Intensitätsverteilung des für die Abbildung verwendeten Lichts zu erzielen. It is understood that as many facets as possible modules are supported on the module carrier, preferably to achieve a uniform and finely tuned possible intensity distribution of the light used for imaging. Anzahlen von bis zu 4.000 Facettenmodulen, vorzugsweise sogar bis zu 16.000 Facettenmodulen können realisiert werden. Numbers of up to 4,000 facets modules, preferably even up to 16,000 facets modules can be realized.
  • Im gezeigten Beispiel weisen die Facettenmodule In the example shown have the facets modules 110 110 in der Draufsicht (siehe (In the plan view see 2 2 bzw. or. 4 4 ) eine im Wesentlichen quadratische Außenkontur auf. ) Has a substantially square outer contour. Weiterhin sind die Facettenmodule Furthermore, the facets modules 109 109 so angeordnet, dass zwischen ihnen (in der x- bzw. y-Richtung) ein Spalt von weniger als 0,05 mm verbleibt. arranged so that between them (in the x or y-direction), a gap of less than 0.05 mm remains. Demgemäß ergibt sich, wie insbesondere Accordingly, results, in particular 2 2 zu entnehmen ist, eine rechteckige Matrix aus Facettenmodulen It is apparent from a rectangular matrix of facets modules 109 109 , der einen sehr geringen Verlust an Strahlungsleistung aufweist. Having a very low loss of radiation power.
  • Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung entsprechend den Erfordernissen der Abbildungseinrichtung auch eine beliebige andere Gestaltung und/oder Anordnung der Facettenmodule gewählt werden kann. However, it is understood that, in other variants of the invention according to the requirements of the imaging device, any other design and / or arrangement can be selected facet modules. So können die Facettenmodule eine zumindest abschnittsweise polygonale Außenkontur (beispielsweise eine hexagonale Außenkontur) und/oder eine zumindest abschnittsweise gekrümmte Außenkontur (beispielsweise eine kreisförmige oder elliptische Außenkontur) aufweisen. Thus, the facets modules (for example, a hexagonal outer contour) and / or at least sectionally curved outer contour (for example, a circular or elliptical external contour) have an at least partially polygonal outer contour. Insbesondere je nach ihrer Außenkontur können die Facettenmodule dann auch eine beliebige anderweitige Anordnung, beispielsweise eine kreisförmige Anordnung oder dergleichen, aufweisen. In particular, according to its outer contour of the facets modules can then also have any otherwise arrangement, for example a circular array or the like.
  • Wie den as the 3 3 und and 4 4 zu entnehmen ist, umfasst jedes Facettenmodul It can be seen, each facet module comprises 110 110 eine Mehrzahl von Facettenelementen a plurality of facet elements 110.1 110.1 , . 110.2 110.2 , . 110.3 110.3 und and 110.4 110.4 , die als Facettenelementgruppe That as a facet element group 110.5 110.5 auf einem Facettenelementträger on a facet element carrier 110.6 110.6 angeordnet sind. are arranged. Der Facettenelementträger The facet element carrier 110.6 110.6 ist seinerseits auf einem Stützelement in turn on a supporting element 111 111 angeordnet, über welches das Facettenmodul arranged, via which the facets module 110 110 auf dem Modulträger on the module carrier 109 109 abgestützt ist. is supported.
  • Die Facettenelemente The facet elements 110.1 110.1 , . 110.2 110.2 , . 110.3 110.3 und and 110.4 110.4 weisen auf ihrer dem Facettenelementträger have their the facet element carrier 110.6 110.6 abgewandten Seite jeweils eine reflektive optische Fläche Side facing away from a respective reflective optical surface 110.7 110.7 auf, welche im Betrieb der Abbildungseinrichtung on which during operation of the imaging device 101 101 zur Erzielung einer vorgebbaren Intensitätsverteilung in dem für die Abbildung verwendeten Licht dienen. serve to achieve a predetermined intensity distribution in the light used for the imaging.
  • Die reflektierenden optischen Flächen The reflective optical surfaces 110.7 110.7 sind durch eine mehrschichtige Beschichtung der Vorderseite des Facettenelements are characterized by a multi-layer coating of the front facet of the element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 gebildet, welche an die Wellenlänge des für die Abbildung verwendeten Lichts angepasst ist (typischerweise um in diesem Bereich eine maximale Reflexion zu erzielen). formed which is adapted to the wavelength of light used for imaging (typically to achieve a maximum reflectivity in this range). Es versteht sich hierbei, dass bei gewissen Anwendungen auch ein reflektierendes Gitter auf der optischen Fläche realisiert sein kann. It is understood herein that in certain applications, a reflective grating can be implemented on the optical surface.
  • Im vorliegenden Beispiel handelt es sich dabei jeweils um eine konvexe optische Fläche In the present example, these are in each case by a convex optical surface 110.7 110.7 . , Es versteht sich jedoch, dass die optische Fläche in Abhängigkeit von den Vorgaben für die Abbildungseinrichtung However, it is understood that the optical surface, depending on the requirements for the imaging device 101 101 auch eine beliebige andere Gestalt aufweisen kann. may also have any other shape. So können beispielsweise zumindest abschnittsweise konvexe, zumindest abschnittsweise planare sowie zumindest abschnittsweise konkave optische Flächen sowie beliebige Kombinationen hiervon zur Anwendung kommen. For example, at least sectionally convex, at least partially planar and at least partially concave optical surfaces as well as any combinations thereof are used. Auch die Gestaltung der konkaven bzw. konvexen Abschnitte kann beliebig gewählt werden. The design of the concave and convex portions can be selected as desired. So können beliebig gekrümmte optische Flächen, beispielsweise mit abschnittsweise zylindrischen, sphärischen oder asphärischen Abschnitten oder beliebigen Kombinationen hiervon, Verwendung finden. Thus, any curved optical surfaces thereof, for example, in sections cylindrical, spherical or aspherical portions, or any combination, can be used.
  • Das Stützelement The support element 111 111 ist im vorliegenden Beispiel als im Wesentlichen zylinderrohrförmiges Elemente ausgebildet, welches zwei Richtung seiner Längsachse (z-Achse) versetzte Paare von radialen Einschnitten is formed in the present example as a substantially cylindrical tubular elements having two direction of its longitudinal axis (z-axis) offset pairs of radial slots 111.1 111.1 und and 111.2 111.2 aufweist. having. Die Einschnitte the cuts 111.1 111.1 bzw. or. 111.2 111.2 enden dabei jeweils knapp vor einer ersten Ebene bzw. zweiten Ebene, welche jeweils die Längsachse des Stützelements umfassen, aber um 90° bezüglich der Längsachse des Stützelements forming in each case shortly before a first plane and second planes, each of which comprises the longitudinal axis of the supporting element, but at 90 ° relative to the longitudinal axis of the support member 111 111 verdreht sind. are twisted. Hierdurch sind zwei um 90° bezüglich der Längsachse der Stützelements In this way, two 90 ° relative to the longitudinal axis of the support member 111 111 zueinander verdreht und entlang der Längsachse zueinander versetzt angeordnete Paare von Biegegelenken twisted to each other and along the longitudinal axis offset from each other arranged pairs of flexures 111.3 111.3 und and 111.4 111.4 gebildet. educated.
  • Diese Paare von Biegegelenken These pairs of flexures 111.3 111.3 und and 111.4 111.4 des Stützelements the support element 111 111 definieren zwei zueinander senkrecht verlaufende Schwenkachsen und ermöglichen es, den Facettenelementträger define two mutually perpendicular swiveling axes, making it possible to facet element carrier 110.6 110.6 und damit auch die Facettenelemente and hence the facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 um diese beiden Schwenkachsen zu verschwenken, mithin also in zwei rotatorischen Freiheitsgraden zu justieren. to pivot about the two pivot axes, so adjust accordingly in two rotational degrees of freedom. Hiermit ist es in vorteilhafter Weise möglich, die Verkippung bzw. Orientierung der optischen Flächen der Facettenelemente This makes it possible in an advantageous manner, the tilt or orientation of the optical surfaces of the facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 bezüglich des Modulträgers with respect to the modular support 109 109 einzustellen. adjust.
  • Es versteht sich allerdings, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass der Facettenelementträger However, it is understood may be that in other variants of the invention that the facet element carrier 110.6 110.6 so gestaltet ist, dass er Stellbewegungen in anderen Freiheitsgraden und/oder einer anderen Anzahl von Freiheitsgraden bis hin zu allen sechs Freiheitsgraden ermöglicht. is designed so that it permits adjusting movements in other degrees of freedom and / or a different number of degrees of freedom up to all six degrees of freedom.
  • Die für das Verschwenken des Facettenelementträgers The for the pivoting of the facet element carrier 110.6 110.6 und damit der Facettenelemente and thus the facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 erforderlichen Momente werden über ein mit dem Facettenelementträger Required moments are one with the facet element carrier 110.6 110.6 verbundenes Betätigungselement associated actuator 112 112 , welches sich durch das Stützelement Extending through the support member 111 111 und eine Bohrung in dem Modulträger and a bore in the module carrier 109 109 hindurch bis in den Bereich der Rückseite des Modulträgers passes into the region of the rear side of the module carrier 109 109 erstreckt. extends. Dort greift ein Aktuator There intervenes actuator 113 113 an, welcher gesteuert durch eine Steuereinrichtung to which is controlled by a controller 114 114 entsprechende Stellmomente in das Betätigungselement corresponding restoring torques in the actuator 112 112 einleitet, wie nachfolgend noch näher erläutert wird. initiates, is explained in more detail below.
  • Die Facettenspiegeleinrichtung The facet mirror device 108 108 wurde mit einer bevorzugten Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer Facettenspiegeleinrichtung hergestellt, wie dies im Folgenden näher anhand der was prepared using a preferred variant of the inventive method for producing a facet mirror means as in the following with reference to the 2 2 bis to 5 5 näher erläutert wird. is explained in detail.
  • Im vorliegenden Beispiel wurden sämtliche Facettenelemente In this example, all the elements were facets 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 zunächst (ebenso wie alle übrigen Komponenten der Facettenspiegeleinrichtung First (as well as all other components of the facet mirror device 108 108 ) in einem Schritt ) At step 115.1 115.1 voneinander separat gefertigt und nach ihrer Fertigung in einem Schritt manufactured separately and after their production in a step 115.2 115.2 mit den angrenzenden Facettenelementen with the adjacent facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 der Facettenelementgruppe the facet element group 110.5 110.5 und dem Facettenelementträger and the facet element carrier 110.6 110.6 verbunden und justiert. connected and adjusted.
  • Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass mehrere Facettenelemente gemeinsam gefertigt werden und danach mit einem oder mehreren anderen, separat gefertigten Facettenelementen der Facettenelementgruppe auf dem Facettenelementträger angeordnet werden. However, it is understood that, in other variants of the invention can also be provided that a plurality of facet elements are manufactured together and are then arranged with one or more other, separately manufactured facet elements of the facet element group on the facet element carrier.
  • Weiterhin versteht es sich, dass die Facettenelemente bei anderen Varianten der Erfindung nicht notwendigerweise alle untereinander und/oder mit dem Facettenelementträger verbunden sein müssen. Furthermore, it is understood that the facet elements must be in other variants of the invention are not necessarily all together and / or connected to the facet element carrier. Vielmehr genügt es, dass jeweils eine Verbindung zu einem angrenzenden Bauteil (Facettenelement oder Facettenelementträger) vorliegt, welche gewährleistet, dass am Ende die Facettenelementgruppe bezüglich des Facettenelementträgers fixiert ist. Rather, it is sufficient that each have a connection to an adjacent component (facet element or facet element carrier) is present, which ensures that at the end of the facets of the facet element group element support is fixed with respect to.
  • Im vorliegenden Beispiel werden die Facettenelemente In the present example, the facet elements are 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ohne ein spaltausgleichendes Material durch gegenseitiges Ansprengen zunächst in einem Schritt without a gap-compensating material by mutual wringing first in a step 115.3 115.3 untereinander zu der Facettenelementgruppe with each other to the facet element group 110.5 110.5 verbunden (mithin also allein durch die Oberflächenkräfte zwischen ihren hoch präzise ausgeführten Fügeflächen miteinander verbunden), bevor sie auf gleiche Weise in einem Schritt connected (consequently therefore connected to each other solely by the surface forces between their joining surfaces highly precisely executed) before it in the same manner in a step 115.4 115.4 mit dem Facettenelementträger with the facet element carrier 110.6 110.6 zu dem Facettenmodul to the facet module 110 110 verbunden werden. get connected.
  • Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung die Verbindung zwischen dem betreffenden Facettenelement und dem Facettenelementträger und/oder einem angrenzenden Facettenelement auf andere Weise realisiert sein kann. However, it is understood that, in other variants of the invention the connection between the respective facet element and the facet element carrier and / or an adjacent facet element can be realized in other ways. Insbesondere kann die mechanische Verbindung durch wenigstens eine formschlüssige Verbindung, wenigstens eine kraftschlüssige Verbindung bzw. wenigstens eine stoffschlüssige Verbindung oder beliebige Kombinationen hiervon hergestellt sein. In particular, the mechanical connection thereof may be prepared by at least one positive connection, at least one non-positive connection or at least one material connection or any combinations.
  • Für eine solche mechanische Verbindung können beliebige Verbindungstechniken verwendet werden. For such a mechanical connection, any connection techniques can be used. Insbesondere können das bereits genannte Ansprengen, aber auch spaltausgleichende Verfahren, wie beispielsweise Weichlötverfahren, Hartlötverfahren, Schweißverfahren, Klebeverfahren, so genannte Fusionsbonding-Verfahren, Niedrigtemperaturbonding-Verfahren, Reaktivbonding-Verfahren, anodische Bonding-Verfahren und Laserlötverfahren etc. einzeln oder in beliebiger Kombination zur Anwendung kommen. In particular, the wringing already mentioned, as well as gap-balancing methods such as soldering method, for example, brazing, welding, adhesive processes, so-called Fusionsbonding method, low temperature bonding method, Reaktivbonding process, anodic bonding method and laser soldering, etc. individually or in any combination to application come.
  • Im vorliegenden Beispiel sind sämtliche Flächen der Facettenelemente In the present example, all surfaces of the facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 , insbesondere die jeweilige optische Fläche , In particular the respective optical surface 110.7 110.7 der Facettenelemente the facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 , mit einer maximalen Maßabweichung bezüglich einer Sollgeometrie von weniger als 100 μm, vorzugsweise weniger als 10 μm, weiter vorzugsweise weniger als 1 μm, ausgeführt. , With a maximum dimensional deviation with respect to a target geometry of less than 100 microns, preferably less than 10 microns, more preferably less than 1 micron is executed.
  • Weiterhin sind sämtliche Flächen der Facettenelemente Furthermore, all the surfaces of the facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 , insbesondere die jeweilige optische Fläche , In particular the respective optical surface 110.7 110.7 der Facettenelemente the facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 , mit einer maximalen Winkelabweichung bezüglich einer Sollgeometrie von weniger als 5 mrad, vorzugsweise weniger als 100 μrad, weiter vorzugsweise weniger als 10 μrad, ausgeführt. , With a maximum deviation angle with respect mrad a desired geometry of less than 5, preferably less than 100 μrad, more preferably less than 10 μrad executed.
  • Die Einhaltung dieser äußerst geringen Abweichungen von der jeweiligen Sollgeometrie werden nicht zuletzt dadurch ermöglicht, dass die Facettenelemente Compliance with these extremely small deviations from the respective target geometry are possible not least by the fact that the facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 separat gefertigt werden, wodurch sich der Aufwand für eine derart präzise Fertigung in vertretbaren Grenzen halten lässt. be manufactured separately, whereby the cost for such a precise manufacture within reasonable limits can be met.
  • Weiterhin werden die Facettenelemente Furthermore, the facet elements are 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 bei der gegenseitigen Montage sowie der Montage auf dem Facettenelementträger in the mutual mounting, and the mounting on the facet element carrier 110.5 110.5 derart präzise positioniert, dass ihre jeweilige optische Fläche so precisely positioned that their respective optical surface 110.7 110.7 im auf dem Facettenelementträger in on the facet element carrier 110.5 110.5 montierten Zustand mit einer maximalen Positionsabweichung bezüglich einer Referenz von weniger als 500 μm, vorzugsweise weniger als 50 μm, weiter vorzugsweise weniger als 5 μm, angeordnet ist. assembled state with a maximum deviation relative to a reference position of less than 500 microns, preferably less than 50 microns, more preferably less than 5 microns, is arranged.
  • Schließlich werden die Facettenelemente Finally, the facet elements are 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 bei der gegenseitigen Montage sowie der Montage auf dem Facettenelementträger in the mutual mounting, and the mounting on the facet element carrier 110.5 110.5 derart präzise ausgerichtet, dass ihre jeweilige optische Fläche so precisely aligned that their respective optical surface 110.7 110.7 im auf dem Facettenelementträger montierten Zustand mit einer maximalen Orientierungsabweichung bezüglich einer Referenz von weniger als 1000 μrad, vorzugsweise weniger als 100 μrad, weiter vorzugsweise weniger als 10 μrad, ausgeführt ist. is mounted on the facet element carrier state with a maximum orientation deviation with respect to a reference μrad of less than 1000, preferably less than 100 μrad, more preferably less than 10 μrad executed.
  • Hierbei versteht es sich, dass als Referenz eine beliebige Komponente bzw. ein beliebiger Referenzbereich eines der Facettenelemente Here, it should be understood that reference to any component or an arbitrary reference region of one of the facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 oder des Facettenelementträgers or facet element carrier 110.5 110.5 gewählt sein kann. may be selected. Vorzugsweise handelt es sich bei der Referenz um die optische Fläche Preferably, for the reference to the optical surface 110.7 110.7 eines der Facettenelemente, beispielsweise des ersten Facettenelements one of the facet elements, for example the first facet element 110.1 110.1 . ,
  • Es versteht sich hierbei, dass die vorstehend beschriebenen Positionstoleranzen und/oder Orientierungstoleranzen (sowohl für die einzelnen Facettenelemente It should be understood here is that the position tolerances described above and / or orientation tolerances (both for the individual facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 als auch für die Justierung des Facettenmoduls and for the adjustment of the facet module 110 110 ) nicht in allen sechs Freiheitsgraden eingehalten werden müssen. ) Need not be complied with in all six degrees of freedom. So kann es je nach den Vorgaben der Abbildungseinrichtung It can vary depending on the specifications of the imaging device 101 101 gegebenenfalls sogar ausreichen, dass diese nur in einem für die Abbildungsqualität der Abbildungseinrichtung possibly even sufficient that this in only one of the imaging quality of the imaging device 101 101 relevanten Freiheitsgrad eingehalten werden. relevant degrees of freedom are respected. Im vorliegenden Beispiel sind die beiden rotatorischen Freiheitsgrade um die x-Achse und die y-Achse, mithin also die Ausrichtung der optischen Flächen In the present example, the two rotational degrees of freedom about the x-axis and the y-axis, so consequently the alignment of the optical surfaces 110.7 110.7 , von besonderer optischer Relevanz, sodass im vorliegenden Beispiel hierauf der Fokus liegt. Of particular relevance optical, so that in the present example, then the focus.
  • Diese präzise Anordnung und Ausrichtung der Facettenelemente This precise arrangement and orientation of the facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 bezüglich einer Referenz hat den Vorteil, dass bei der in dem Schritt with respect to a reference has the advantage that, when in the step 115.5 115.5 folgenden Justierung der Facettenelementgruppe following adjustment of the facet element group 110.6 110.6 lediglich die Position und/oder Ausrichtung der Referenz überprüft werden muss, um sämtliche Facettenelemente only the position and / or orientation of the reference must be checked to every facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 korrekt zu positionieren bzw. auszurichten. correct position and align.
  • Zunächst wird das Facettenmodul First, the facets module 110 110 in dem Schritt in step 115.5 115.5 mit der Stützeinrichtung with the support device 111 111 und dem Betätigungselement and the actuating element 112 112 auf dem Modulträger on the module carrier 109 109 montiert. assembled. Die mechanische Verbindung zwischen diesen Komponenten kann dabei auf beliebige geeignete Weise erfolgen. The mechanical connection between these components can be carried out in any suitable manner. Insbesondere kann die mechanische Verbindung durch wenigstens eine formschlüssige Verbindung, wenigstens eine kraftschlüssige Verbindung bzw. wenigstens eine stoffschlüssige Verbindung oder beliebige Kombinationen hiervon hergestellt sein. In particular, the mechanical connection thereof may be prepared by at least one positive connection, at least one non-positive connection or at least one material connection or any combinations.
  • In einem weiteren Teilschritt erfolgt dann eine Positionierung und Ausrichtung der optischen Fläche then, in a further partial step, a positioning and orientation of the optical surface 110.7 110.7 des ersten Facettenelements the first facet element 110.1 110.1 , welche bei der Herstellung des Facettenmoduls Which in the preparation of the facet module 110 110 als Referenz für die optischen Flächen as a reference for the optical surfaces 110.7 110.7 der übrigen Facettenelemente the other facet elements 110.2 110.2 bis to 110.4 110.4 diente. served.
  • Dies erfolgt unter Verwendung der Messergebnisse einer Messeinrichtung This is done using the measurement results of a measuring device 116 116 . , Im vorliegenden Beispiel ist die Messeinrichtung In this example, the measuring device 116 116 eine optische Einrichtung mit einem Sender an optical device having a transmitter 116.1 116.1 , der Messlichtbündel , The measuring light beam 116.2 116.2 auf die optische Fläche on the optical surface 110.7 110.7 des ersten Facettenelements the first facet element 110.1 110.1 sendet. sends. Das Messlichtbündel The measuring light beam 116.2 116.2 wird an der optischen Fläche is applied to the optical surface 110.7 110.7 reflektiert und gelangt anschließend zu einem Sensor reflected and then passes to a sensor 116.3 116.3 der Messeinrichtung the measuring device 116 116 , welcher dann entsprechende Messsignale an die Steuereinrichtung Which then corresponding measurement signals to the control means 114 114 liefert. supplies.
  • Im vorliegenden Beispiel ist der Sender In the present example, the transmitter 116.1 116.1 ein konventioneller Sender, der Licht mit einer Wellenlänge von 633 nm aussendet. emits a conventional transmitter, the light having a wavelength of 633 nm. Demgemäß kann es erforderlich sein, im Bereich der Vorderseite des ersten Facettenelements Accordingly, it may be necessary in the area of ​​the front of the first facet element 110.1 110.1 einen Messabschnitt mit einer reflektierenden Beschichtung vorzusehen, welche für die Wellenlänge des Messlichtbündels provide a measurement portion with a reflective coating, which for the wavelength of the measuring light beam 116.2 116.2 ausgelegt ist, sofern die übrige (an die Wellenlänge des für die Abbildung verwendeten Lichts im EUV-Bereich angepasste) Beschichtung der optischen Fläche is designed, provided that the rest (adapted to the wavelength of light used for the imaging in the EUV range) coating the optical surface 110.7 110.7 bei der Wellenlänge des Messlichtbündels at the wavelength of the measuring light beam 116.2 116.2 keine ausreichende Reflektion liefert. does not provide sufficient reflection. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung eine andere Wellenlänge für das Messlichtbündel verwendet werden kann, sodass sich ein solcher Messabschnitt mit einer abweichenden Beschichtung gegebenenfalls erübrigt. However, it is understood that, in other variants of the invention, a different wavelength may be used for the measuring light beam so that such a measurement portion with a different coating is not necessary if necessary.
  • Die Signale des Sensors The sensor signals 116.3 116.3 werden in der Steuereinrichtung be in the control means 114 114 verarbeitet, welche daraus dann eine Bewertung der Position und/oder Orientierung der optischen Fläche processed, which it then an evaluation of the position and / or orientation of the optical surface 110.7 110.7 des ersten Facettenelements the first facet element 110.1 110.1 ableitet und den Manipulator derived and the manipulator 113 113 in Abhängigkeit von den Signalen des Sensors in dependence on the signals of the sensor 116.3 116.3 ansteuert, um die gewünschte Position und/oder Orientierung der optischen Fläche drives to the desired position and / or orientation of the optical surface 110.7 110.7 zu erzielen. to achieve.
  • Ist die Justierung des Facettenmoduls Is the adjustment of the facet module 110 110 beendet, kann dieses auf beliebige geeignete Weise in der eingestellten Position und Orientierung bezüglich des Modulträgers completed, this may in any suitable manner in the adjusted position and orientation with respect to the modular support 109 109 fixiert werden. be fixed. Auch hierfür können wiederum wenigstens eine formschlüssige Verbindung, wenigstens eine kraftschlüssige Verbindung bzw. wenigstens eine stoffschlüssige Verbindung oder beliebige Kombinationen hiervon zur Anwendung kommen. Also this turn a positive connection, at least one non-positive connection or at least one material connection or any combinations may be used at least thereof.
  • In einem Schritt In a step 115.6 115.6 wird dann überprüft, ob ein weiteres Facettenmodul it is then checked whether another facet module 110 110 hergestellt und montiert werden soll. is to be produced and assembled. Ist dies der Fall, wird der Schritt If so, step 115.2 115.2 wiederholt. repeated. Andernfalls wird das Verfahren in einem Schritt Otherwise, the method, in a step 115.7 115.7 beendet. completed.
  • Es versteht sich, dass bei anderen Varianten der Erfindung natürlich auch vorgesehen sein kann, dass vorab sämtliche Facettenmodule It is understood that in other variants of the invention may be also provided that advance all facets modules 110 110 hergestellt werden und anschließend nacheinander oder gegebenenfalls gemeinsam auf dem Modulträger angebracht und justiert werden. are prepared and are then attached one after the other, or optionally together on the module carrier and adjusted.
  • Im vorliegenden Beispiel umfasst die Facettenelementgruppe In the present example, the facet element group comprises 110.5 110.5 jeweils vier Facettenelemente four facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 . , Gegenüber einer herkömmlichen Gestaltung, bei welcher das Stützelement Compared to a conventional configuration in which the support member 111 111 lediglich eine einzige Facette trägt, ist somit eine Reduktion der Facettenfläche der einzelnen Facette auf ein Viertel möglich. only a single facet carries, thus reducing the facet surface of each facet on a quarter is possible. Mithin erhöht sich also die Anzahl der Einzelfacetten gegenüber einer herkömmlichen Gestaltung in vorteilhafter Weise bei gleichen Abmessungen der Facettenspiegeleinrichtung Consequently therefore the number of facets increases compared with a conventional design advantageously with the same dimensions of the facet mirror device 108 108 auf das Vierfache. to four times. Hierbei verändert sich allerdings in vorteilhafter Weise die Wärmeabfuhr über das Stützelement Here, however, advantageously the heat dissipation via the support element changes 111 111 nicht, da dieses unverändert bleiben kann. Because it can not remain unchanged.
  • Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine beliebige andere Anzahl von Facettenelementen auf dem Facettenelementträger angeordnet werden können. However, it is understood that, in other variants of the invention, any other number of facet elements on the facet element supports may be disposed. Vorzugsweise umfasst die Facettenelementgruppe wenigstens 100 Facettenelemente, vorzugsweise wenigstens 10 Facettenelemente, weiter vorzugsweise wenigstens zwei Facettenelemente. Preferably, the facet element group includes at least 100 facet elements, preferably at least 10 facet elements, more preferably at least two facet elements.
  • Auch hinsichtlich der Anzahl der Facettenmodule kann grundsätzlich eine beliebige geeignete Anzahl verwendet werden. Also regarding the number of facets modules any suitable number may be used in principle. Vorzugsweise sind wenigstens 10 Facettenmodule, vorzugsweise wenigstens 100 Facettenmodule, weiter vorzugsweise wenigstens 1000 Facettenmodule, auf dem Modulträger angeordnet. Preferably, at least 10 facets modules, preferably at least 100 modules facets, more preferably at least 1000 facets modules, arranged on the module carrier.
  • Im vorliegenden Beispiel weist jedes Facettenelement In the present example, each facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 der Facettenelementgruppe the facet element group 110.5 110.5 genau eine optische Fläche exactly one optical surface 110.7 110.7 auf. on. Die optischen Flächen The optical surfaces 110.7 110.7 sind dabei so ausgerichtet, dass im Betrieb der Abbildungseinrichtung are aligned so that in operation of the imaging device 101 101 bei zwei unterschiedlichen Beleuchtungseinstellungen jeweils nur die optischen Flächen at two different illumination settings in each case only the optical surfaces 110.7 110.7 des ersten und zweiten Facettenelements the first and second facets element 110.1 110.1 und and 110.2 110.2 oder die optischen Flächen or the optical surfaces 110.7 110.7 des dritten und vierten Facettenelements the third and fourth facets element 110.3 110.3 und and 110.4 110.4 mit Licht beaufschlagt werden. are acted upon by light. Es versteht sich jedoch, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch eine (gegebenenfalls gleichmäßige) Beaufschlagung sämtlicher optischer Flächen vorgesehen sein kann. However, it is understood that in other variants of the invention, an impingement of all optical surfaces may be provided (optionally uniform).
  • Es versteht sich weiterhin, dass bei anderen Varianten der Erfindung auch vorgesehen sein kann, dass wenigstens eines der Facettenelemente mehr als eine optische Fläche aufweist, von denen einzelne nur bei bestimmten Beleuchtungseinstellungen mit Licht beaufschlagt werden. It is further understood, that may be also provided in other variants of the invention that at least one of the facets of elements comprises more than one optical surface of which are acted upon only in certain lighting settings by individual light.
  • Die optisch nutzbare Fläche der optischen Flächen The optically usable area of ​​the optical surfaces 110.7 110.7 kann eine beliebige geeignete Größe aufweisen. may have any suitable size. Vorzugsweise beträgt die optische nutzbare Fläche der optischen Flächen Preferably, the optical effective area of ​​the optical surfaces 110.7 110.7 etwa 1 mm 2 bis 100 mm 2 , insbesondere 3 mm 2 bis 50 mm 2 , weiter vorzugsweise 5 mm 2 bis 25 mm 2 . about 1 mm 2 to 100 mm 2, particularly 3 mm 2 to 50 mm 2, more preferably 5 mm 2 to 25 mm 2.
  • Die vorliegende Erfindung wurde vorstehend anhand von Beispielen aus dem Bereich der Mikrolithographie mit Licht beschrieben, dessen Wellenlänge im EUV-Bereich liegt. The present invention has been described with examples from the field of microlithography with light whose wavelength is in the EUV range. Es versteht sich jedoch, dass die vorliegende Erfindung ebenso auch für beliebige andere Anwendungen bzw. Abbildungsverfahren, insbesondere bei beliebigen Wellenlängen des zur Abbildung verwendeten Lichts, eingesetzt werden kann. However, it is understood that the present invention can also be used for any other applications or imaging processes, especially at any wavelengths of the light used for imaging.

Claims (17)

  1. Facettenspiegeleinheit, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einer Mehrzahl von Facettenmodulen ( Facet mirror unit, in particular for microlithography, comprising: - (a plurality of facets modules 110 110 ) und – einem Modulträger ( ), And - a module carrier ( 109 109 ), wobei – die Facettenmodule ( ), Wherein - the facets modules ( 110 110 ) auf dem Modulträger ( ) (On the module carrier 109 109 ) abgestützt sind, dadurch gekennzeichnet , dass – wenigstens ein Facettenmodul ( ) Are supported, characterized in that - at least one facet module ( 110 110 ) einen Facettenelementträger ( ) A facet element carrier ( 110.6 110.6 ) und eine Facettenelementgruppe ( ) And a facet element group ( 110.5 110.5 ) aus einer Mehrzahl von Facettenelementen ( ) (Of a plurality of facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) umfasst, wobei – die Facettenelementgruppe ( ), Wherein - the facet element group ( 110.5 110.5 ) auf dem Facettenelementträger ( ) (On the facet element carrier 110.6 110.6 ) angeordnet ist – wenigstens ein erstes Facettenelement ( ) Is arranged - at least a first facet element ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) als separat gefertigte und nach ihrer Fertigung mit einem zweiten Facettenelement ( ) (As separately manufactured and after their production with a second facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) und/oder dem Facettenelementträger ( () And / or the facet element carrier 110.6 110.6 ) verbundene Komponente ausgebildet ist. ) Connected component is formed.
  2. Facettenspiegeleinheit nach Anspruch 1, wobei sämtliche Facettenelemente ( Facet mirror unit according to claim 1, wherein all of the facet elements ( 110.2 110.2 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) als separat gefertigte und nach ihrer Fertigung mit einem benachbarten Facettenelement ( ) (As separately manufactured and after their production with an adjacent facet element 110.2 110.2 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) und/oder dem Facettenelementträger ( () And / or the facet element carrier 110.6 110.6 ) verbundene Komponente ausgebildet sind. ) Connected component are formed.
  3. Facettenspiegeleinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 2, wobei – wenigstens ein Bereich des ersten Facettenelements ( Facet mirror unit according to any one of claims 1 to 2, wherein - at least a portion of the first facet element ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), insbesondere eine optische Fläche ( (), In particular an optical surface 110.7 110.7 ) des ersten Facettenelements ( () Of the first facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), mit einer maximalen Maßabweichung bezüglich einer Sollgeometrie von weniger als 100 μm, vorzugsweise weniger als 10 μm, weiter vorzugsweise weniger als 1 μm, ausgeführt ist und/oder – wenigstens ein Bereich des ersten Facettenelements ( ), With a maximum dimensional deviation with respect to a target geometry of less than 100 microns, preferably less than 10 microns, more preferably less than 1 micron, is carried out and / or - at least a portion of the first facet element ( 110.2 110.2 bis to 110.4 110.4 ), insbesondere eine optische Fläche ( (), In particular an optical surface 110.7 110.7 ) des ersten Facettenelements ( () Of the first facet element 110.2 110.2 bis to 110.4 110.4 ), mit einer maximalen Winkelabweichung bezüglich einer Sollgeometrie von weniger als 5 mrad, vorzugsweise weniger als 100 μrad, weiter vorzugsweise weniger als 10 μrad, ausgeführt ist. ), With a maximum deviation angle with respect mrad a desired geometry of less than 5, preferably less than 100 μrad, more preferably less than 10 μrad, is executed.
  4. Facettenspiegeleinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei – im auf dem Facettenelementträger ( Facet mirror unit according to any one of claims 1 to 3 wherein - (in on the facet element carrier 110.6 110.6 ) montierten Zustand des ersten Facettenelements ( ) Mounted state of the first facet element ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) wenigstens ein Bereich des ersten Facettenelements ( ) At least (a portion of the first facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), insbesondere eine optische Fläche ( (), In particular an optical surface 110.7 110.7 ) des ersten Facettenelements ( () Of the first facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), mit einer maximalen Positionsabweichung bezüglich einer Referenz, insbesondere einer optischen Fläche ( ), (With a maximum deviation relative to a reference position, in particular an optical surface 110.7 110.7 ) eines weiteren Facettenelement ( () Of another facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ), von weniger als 500 μm, vorzugsweise weniger als 50 μm, weiter vorzugsweise weniger als 5 μm, angeordnet ist und/oder – im auf dem Facettenelementträger ( ), Of less than 500 microns, preferably less than 50 microns, more preferably, is less than 5 microns arranged and / or - (in on the facet element carrier 110.6 110.6 ) montierten Zustand des ersten Facettenelements ( ) Mounted state of the first facet element ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) wenigstens ein Bereich des ersten Facettenelements ( ) At least (a portion of the first facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), insbesondere eine optische Fläche ( (), In particular an optical surface 110.7 110.7 ) des ersten Facettenelements ( () Of the first facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), mit einer maximalen Orientierungsabweichung bezüglich einer Referenz, insbesondere einer optischen Fläche ( ), (With a maximum deviation relative to a reference orientation, in particular an optical surface 110.7 110.7 ) eines weiteren Facettenelements ( () Of another facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ), von weniger als 1000 μrad, vorzugsweise weniger als 100 μrad, weiter vorzugsweise weniger als 10 μrad, ausgeführt ist. ) Μrad of less than 1000, preferably less than 100 μrad, more preferably less than 10 μrad, is executed.
  5. Facettenspiegeleinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei – der Facettenelementträger ( Facet mirror unit according to any one of claims 1 to 4, wherein - the facet element carrier ( 110.6 110.6 ) auf dem Modulträger ( ) (On the module carrier 109 109 ) abgestützt ist und – der Facettenelementträger ( ) Is supported, and - (the facet element carrier 110.6 110.6 ) zur, insbesondere aktiven, Einstellung der Position und/oder Orientierung der Facettenelementgruppe ( ) (For the particular active setting of the position and / or orientation of the facet element group 110.5 110.5 ) bezüglich des Modulträgers ( ) (With respect to the modular support 109 109 ) in wenigstens einem Freiheitsgrad, vorzugsweise wenigstens zwei rotatorischen Freiheitsgraden, ausgebildet ist. ) Is formed in at least one degree of freedom, preferably at least two rotational degrees of freedom.
  6. Facettenspiegeleinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei – die Facettenelementgruppe ( Facet mirror unit according to any one of claims 1 to 5, wherein - the facet element group ( 110.5 110.5 ) wenigstens 100 Facettenelemente, vorzugsweise wenigstens 10 Facettenelemente, weiter vorzugsweise wenigstens zwei Facettenelemente, umfasst und/oder – wenigstens 10 Facettenmodule, vorzugsweise wenigstens 100 Facettenmodule, weiter vorzugsweise wenigstens 1000 Facettenmodule, auf dem Modulträger ( ) Of at least 100 facet elements, preferably at least 10 facet elements, more preferably at least two facet elements comprises, and / or - at least 10 facets modules, preferably at least 100 modules facets, more preferably at least 1,000 facets modules (on the module carrier 109 109 ) angeordnet sind. ) Are arranged.
  7. Facettenspiegeleinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei jedes Facettenelement ( Facet mirror unit according to any one of claims 1 to 6, wherein each facet element ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) wenigstens eine optische Fläche, insbesondere genau eine optische Fläche, aufweist. ) Having at least one optical surface, in particular precisely one optical surface.
  8. Facettenspiegeleinheit nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei – zwischen wenigstens einem Facettenelement ( Facet mirror unit according to any one of claims 1 to 7, wherein - between at least one facet element ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) und dem Facettenelementträger ( ) And the facet element carrier ( 110.6 110.6 ) und/oder einem angrenzenden Facettenelement ( () And / or an adjacent facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) eine mechanische Verbindung besteht, wobei – die mechanische Verbindung durch wenigstens eine formschlüssige Verbindung und/oder wenigstens eine kraftschlüssige Verbindung und/oder wenigstens eine stoffschlüssige Verbindung hergestellt ist und/oder – die mechanische Verbindung durch wenigstens eine Verbindungstechnik aus der Gruppe Ansprengen, Weichlöten, Hartlöten, Schweißen, Kleben, Fusionsbonding, Niedrigtemperaturbonding, Reaktivbonding, anodisches Bonding und Laserlöten hergestellt ist. ) Is a mechanical connection, wherein - the mechanical connection is established by at least one form-fitting connection and / or at least one non-positive connection and / or at least one material connection and / or - the mechanical connection through at least one connection technique from the group wringing, soldering, brazing, welding, gluing, Fusionsbonding, low temperature bonding, Reaktivbonding, anodic bonding and laser soldering is made.
  9. Optische Abbildungseinrichtung, insbesondere für die Mikrolithographie, mit – einer Beleuchtungseinrichtung ( Optical imaging device, in particular for microlithography, comprising - a lighting device ( 102 102 ), – einer Maskeneinrichtung ( ), - a mask means ( 103 103 ) zur Aufnahme einer ein Projektionsmuster umfassenden Maske ( ) Comprising for receiving a projection of a mask pattern ( 103.1 103.1 ), – einer Projektionseinrichtung ( ), - projection means ( 104 104 ) und – einer Substrateinrichtung ( (A substrate device -) and 105 105 ) zur Aufnahme eines Substrats ( ) (For holding a substrate 105.1 105.1 ), wobei – die Beleuchtungseinrichtung ( ), Wherein - the illumination device ( 102 102 ) zum Beleuchten des Projektionsmusters mit einem Lichtbündel ausgebildet ist, – die Projektionseinrichtung ( ) Is designed for illuminating the projection pattern with a light beam, - the projection means ( 104 104 ) zum Abbilden des Projektionsmusters mittels des Lichtbündels auf dem Substrat ( ) For imaging of the projection pattern on the substrate (by means of the light beam 105.1 105.1 ) ausgebildet ist und – die Beleuchtungseinrichtung ( ) Is formed and - the illumination device ( 102 102 ) und/oder die Projektionseinrichtung ( () And / or the projection means 104 104 ) eine Facettenspiegeleinheit ( ) A facet mirror unit ( 108 108 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 8 umfasst. ) According to one of claims 1 to. 8
  10. Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 9, wobei die optischen Oberflächen der Facettenelemente ( Optical imaging device according to claim 9, wherein the optical surfaces of the facet elements ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) derart ausgerichtet und/oder angeordnet sind, dass in einem vorgegebenen Betriebszustand, insbesondere beim Abbilden des Projektionsmusters auf dem Substrat, das Lichtbündel nur auf die optischen Oberflächen eines Teils der Facettenelemente ( are) oriented such and / or arranged such that in a predetermined operating state, particularly in imaging of the projection pattern on the substrate, the light beam (on the optical surfaces of a portion of the facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) auftrifft. ) Incident.
  11. Optische Abbildungseinrichtung nach Anspruch 9 oder 10, wobei das Lichtbündel eine Wellenlänge im EUV-Bereich, insbesondere eine Wellenlänge von 5 nm bis 20 nm, vorzugsweise eine Wellenlänge von etwa 13 nm, aufweist. Optical imaging device according to claim 9 or 10, wherein the light beam has a wavelength in the EUV range, in particular a wavelength of 5 nm to 20 nm, preferably a wavelength of about 13 nm.
  12. Verfahren zum Herstellen einer Facettenspiegeleinheit, insbesondere für die Mikrolithographie, bei dem – eine Mehrzahl von Facettenmodulen ( A method for producing a facet mirror unit, in particular for microlithography, in which: - (a plurality of facets modules 110 110 ) auf dem Modulträger ( ) (On the module carrier 109 109 ) abgestützt werden, dadurch gekennzeichnet, dass – eine Mehrzahl von separaten Facettenelementen ( be) supported, characterized in that - a plurality of (separate facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) gefertigt wird, – die Mehrzahl von separaten Facettenelementen ( ) Is manufactured, - the majority (from separate facet elements 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) zur Bildung eines Facettenmoduls ( ) (To form a facet module 110 110 ) als Facettenelementgruppe ( ) (As facet element group 110.5 110.5 ) auf einem Facettenelementträger ( ) (On a facet element carrier 110.6 110.6 ) befestigt wird, und – das Facettenmodul ( ) Is fixed, and - said facets module ( 110 110 ) auf dem Modulträger ( ) (On the module carrier 109 109 ) abgestützt wird. ) Is supported.
  13. Verfahren nach Anspruch 12, wobei wenigstens ein erstes Facettenelement ( The method of claim 12 wherein at least a first facet element ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) mit einem zweiten Facettenelement ( ) (With a second facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) und/oder dem Facettenelementträger ( () And / or the facet element carrier 110.6 110.6 ) verbunden wird. ) Is connected.
  14. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, wobei – wenigstens ein Bereich des ersten Facettenelements ( The method of claim 12 or 13, wherein - at least a portion of the first facet element ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), insbesondere eine optische Fläche ( (), In particular an optical surface 110.7 110.7 ) des ersten Facettenelements ( () Of the first facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), mit einer maximalen Maßabweichung bezüglich einer Sollgeometrie von weniger als 100 μm, vorzugsweise weniger als 10 μm, weiter vorzugsweise weniger als 1 μm, ausgeführt wird und/oder – wenigstens ein Bereich des ersten Facettenelements ( ), With a maximum dimensional deviation with respect to a target geometry of less than 100 microns, preferably less than 10 microns, more preferably less than 1 micron, is executed, and / or - at least a portion of the first facet element ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), insbesondere eine optische Fläche ( (), In particular an optical surface 110.7 110.7 ) des ersten Facettenelements ( () Of the first facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), mit einer maximalen Winkelabweichung bezüglich einer Sollgeometrie von weniger als 5 mrad, vorzugsweise weniger als 100 μrad, weiter vorzugsweise weniger als 10 μrad, ausgeführt wird. ), With a maximum deviation angle with respect mrad a desired geometry of less than 5, preferably less than 100 μrad, more preferably less than 10 μrad, is executed.
  15. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 14, wobei – wenigstens ein Bereich des ersten Facettenelements ( (At least a portion of the first facet element - The method of any of claims 12 to 14, wherein 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), insbesondere eine optische Fläche ( (), In particular an optical surface 110.7 110.7 ) des ersten Facettenelements ( () Of the first facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), mit einer maximalen Positionsabweichung bezüglich einer Referenz, insbesondere einer optischen Fläche ( ), (With a maximum deviation relative to a reference position, in particular an optical surface 110.7 110.7 ) eines weiteren Facettenelement ( () Of another facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ), von weniger als 500 μm, vorzugsweise weniger als 50 μm, weiter vorzugsweise weniger als 5 μm, angeordnet wird und/oder – wenigstens ein Bereich des ersten Facettenelements ( ), Of less than 500 microns, preferably less than 50 microns, more preferably less than 5 microns, is arranged and / or - at least a portion of the first facet element ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), insbesondere eine optische Fläche ( (), In particular an optical surface 110.7 110.7 ) des ersten Facettenelements ( () Of the first facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ), mit einer maximalen Orientierungsabweichung bezüglich einer Referenz, insbesondere einer optischen Fläche ( ), (With a maximum deviation relative to a reference orientation, in particular an optical surface 110.7 110.7 ) eines weiteren Facettenelements ( () Of another facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ), von weniger als 1000 μrad, vorzugsweise weniger als 100 μrad, weiter vorzugsweise weniger als 10 μrad, ausgeführt wird. ) Μrad of less than 1000, preferably less than 100 μrad, more preferably less than 10 μrad, is executed.
  16. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 15, wobei – der Facettenelementträger ( Method according to one of claims 12 to 15, wherein - (the facet element carrier 110.6 110.6 ) auf dem Modulträger ( ) (On the module carrier 109 109 ) abgestützt wird und – die Position und/oder Orientierung der Facettenelementgruppe ( ) Is supported, and - (the position and / or orientation of the facet element group 110.5 110.5 ) bezüglich des Modulträgers ( ) (With respect to the modular support 109 109 ) in wenigstens einem Freiheitsgrad, vorzugsweise wenigstens zwei rotatorischen Freiheitsgraden, über den Facettenelementträger ( ) In at least one degree of freedom, preferably at least two rotational degrees of freedom (through the facet element carrier 110.6 110.6 ) eingestellt wird. ) Is adjusted.
  17. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 16, wobei – wenigstens ein Facettenelement ( Method according to one of claims 12 to 16, wherein - at least one facet element ( 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) mit dem Facettenelementträger ( ) (With the facet element carrier 110.6 110.6 ) und/oder einem angrenzenden Facettenelement ( () And / or an adjacent facet element 110.1 110.1 bis to 110.4 110.4 ) der Facettenelementgruppe ( () Of the facet element group 110.5 110.5 ) mechanisch verbunden wird, wobei – die mechanische Verbindung durch wenigstens eine formschlüssige Verbindung und/oder wenigstens eine kraftschlüssige Verbindung und/oder wenigstens eine stoffschlüssige Verbindung hergestellt wird und/oder – die mechanische Verbindung durch wenigstens eine Verbindungstechnik aus der Gruppe Ansprengen, Weichlöten, Hartlöten, Schweißen, Kleben, Fusionsbonding, Niedrigtemperaturbonding, Reaktivbonding, anodisches Bonding und Laserlöten hergestellt wird. ) Is mechanically connected, wherein - the mechanical connection is produced by at least one form-fitting connection and / or at least one non-positive connection and / or at least one material connection and / or - the mechanical connection through at least one connection technique from the group wringing, soldering, brazing, , welding, gluing, Fusionsbonding, low temperature bonding, Reaktivbonding, anodic bonding and laser soldering is produced.
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