DE102015114877B4 - Scratch-resistant anti-reflective coating and mobile electronic device - Google Patents

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Abstract

Scheibenförmiges Element (1) mit- einem im sichtbaren Spektralbereich transparenten scheibenförmigen Substrat (3) und- einer auf dem Substrat (1) abgeschiedenen Antireflexbeschichtung (5), wobei die Antireflexbeschichtung (5)- vier aufeinanderfolgende Lagen (51, 52, 53, 54) umfasst, wobei aneinander angrenzende Lagen sich jeweils in ihrem Brechungsindex unterscheiden, derart, dass der Brechungsindex von Lage zu Lage abwechselnd ansteigt und abnimmt und sich Lagen (52, 54) mit niedrigerem Brechungsindex mit Lagen (51, 53) mit höherem Brechungsindex abwechseln, und wobei- die unterste (51) der vier Lagen (51, 52, 53, 54) eine Lage mit höherem Brechungsindex ist und einen höheren Brechungsindex aufweist, als die benachbarte zweitunterste Lage (52),- wobei die vier Lagen (51, 52, 53, 54) mindestens drei verschiedene Brechungsindices aufweisen, derart, dass der Brechungsindex der untersten, dem Substrat (3) nächsten Lage (51) mit höherem Brechungsindex niedriger ist, als der Brechungsindex der weiteren Lage (53) mit höherem Brechungsindex, wobei der Brechungsindex der untersten Lage (51) mit höherem Brechungsindex zwischen 1,665 und 1,795 liegt und wobei die unterste Lage (51) mit höherem Brechungsindex aus einem sauerstoffhaltigen Material gebildet wird, wodurch dieses scheibenförmige Element (1) insbesondere eine geringe Farbortänderung bei Schichtdickenschwankung zeigt.Disk-shaped element (1) with a disk-shaped substrate (3) which is transparent in the visible spectral range and an anti-reflective coating (5) deposited on the substrate (1), the anti-reflective coating (5) - four successive layers (51, 52, 53, 54 ), wherein adjoining layers differ in their refractive index, such that the refractive index increases and decreases alternately from layer to layer and layers (52, 54) with a lower refractive index alternate with layers (51, 53) with a higher refractive index, and wherein - the lowest (51) of the four layers (51, 52, 53, 54) is a layer with a higher refractive index and has a higher refractive index than the adjacent second lowest layer (52), - wherein the four layers (51, 52 , 53, 54) have at least three different refractive indices, such that the refractive index of the lowest layer (51) closest to the substrate (3) with a higher refractive index is lower than the refractive index the further layer (53) with a higher refractive index, wherein the refractive index of the lowest layer (51) with a higher refractive index is between 1.665 and 1.795 and wherein the lowest layer (51) with a higher refractive index is formed from an oxygen-containing material, whereby this disc-shaped element ( 1) shows in particular a slight change in the color location with fluctuations in layer thickness.

Description

Die Erfindung betrifft allgemein optische Interferenzbeschichtungen. Insbesondere betrifft die Erfindung Entspiegelungs-, beziehungsweise Antireflexbeschichtungen mit hoher Kratzbeständigkeit.The invention relates generally to optical interference coatings. In particular, the invention relates to anti-reflective or anti-reflective coatings with high scratch resistance.

Chemisch vorgespannte Gläser für Anzeigen mobiler elektronischer Geräte, wie Smartphones oder Tablet-PCs sind bekannt. In der Regel werden für diese Anzeigen Alumosilikatgläser als Deckgläser eingesetzt. Diese Alumosilikatgläser weisen typischerweise einen Brechungsindex von größer als 1,5 bei einer Wellenlänge von 550nm auf.Chemically toughened glasses for displays of mobile electronic devices such as smartphones or tablet PCs are known. As a rule, aluminosilicate glasses are used as cover glasses for these displays. These aluminosilicate glasses typically have a refractive index greater than 1.5 at a wavelength of 550 nm.

Es ist weiterhin bekannt und üblich, Deckgläser für optische Anzeigen chemisch vorzuspannen. Durch das chemische Vorspannen, bei dem Na-Ionen des Glases gegen Kaliumionen aus einem Salzbad ausgetauscht werden, reichert sich das Kalium in einer oberflächennahen Zone von mehreren Mikrometern an. Der Kaliumgehalt liegt dabei im Bereich bis zu wenigen Massenprozenten. Durch das chemische Vorspannen wird eine Erhöhung der Biegefestigkeit sowie der Kratzfestigkeit erzielt. Trotzdem ist nach kurzer Gebrauchszeit eines typischen Produktes eine Schädigung der Oberfläche in Form von Kratzern zu erkennen. Das chemische Vorspannen verhindert zwar das leichte Zerbrechen des Glases bei Biegebelastung, da die Druckvorspannung eine Ausbreitung eines Risses, hervorgerufen beispielsweise durch einen Kratzer verhindert oder verzögert - eine Vermeidung von Kratzern ist jedoch nicht gegeben.It is also known and customary to chemically toughen cover glasses for optical displays. Due to the chemical tempering, in which the Na ions of the glass are exchanged for potassium ions from a salt bath, the potassium accumulates in a zone of several micrometers near the surface. The potassium content is in the range up to a few percent by mass. The chemical toughening increases the flexural strength and the scratch resistance. Nevertheless, after a short period of use of a typical product, damage to the surface in the form of scratches can be seen. Chemical toughening prevents the glass from breaking easily when it is subjected to bending, as the compressive toughening prevents or delays the propagation of a crack, for example caused by a scratch - but scratches cannot be avoided.

Eine Antifingerprintbeschichtung (AFP), die entweder oleophob oder hydrophob oder amphiphob ist, kann auf das Glas appliziert werden, so dass Fingerabrücke nicht entstehen oder sich zumindest sehr leicht abreinigen lassen. Heutige Produkte verfügen typischerweise über eine nicht dauerhaft beständige AFP, so dass der Effekt der leichten Reinigbarkeit oder der reduzierten Fingerabdruckauffälligkeit nach wenigen Monaten nicht mehr gegeben ist. Die AFP ist im Allgemeinen eine teilweise organische Schicht, die sehr dünn aufgetragen ist, so dass sie optisch nicht aktiv ist. Die Reflexion des Produktes ist daher in erster Linie durch die Glasoberfläche gegeben. An der Oberseite des Glases werden daher etwa 4 Prozent des Lichtes bei senkrechtem Einfall reflektiert, was insbesondere bei heller Beleuchtung, wie beispielsweise Sonnenschein, störend ist und die Lesbarkeit des Inhalts des Displays einschränkt.An anti-fingerprint coating (AFP), which is either oleophobic or hydrophobic or amphiphobic, can be applied to the glass so that fingerprints do not arise or can at least be cleaned off very easily. Today's products typically have an AFP that is not permanently resistant, so that the effect of easy cleanability or reduced fingerprint conspicuity is no longer given after a few months. The AFP is generally a partially organic layer that is applied very thinly so that it is not optically active. The reflection of the product is therefore primarily given by the glass surface. At the top of the glass, about 4 percent of the light is reflected at a perpendicular incidence, which is particularly annoying in bright lighting, such as sunshine, and restricts the readability of the content of the display.

Antireflexbeschichtungen zur Entspiegelung von Glasoberflächen sind bekannt. Sie bestehen je nach Ausführungsform aus mehreren Schichten, die einseitig oder beidseitig auf das Glassubstrat aufgebracht werden. Je nach Einsatzgebiet des Produktes ist eine mechanisch stabile, das heißt Schädigungsresistente oder kratzfeste Ausführung des Antireflexsystems wünschenswert.Anti-reflective coatings for anti-reflective coating of glass surfaces are known. Depending on the embodiment, they consist of several layers that are applied to one or both sides of the glass substrate. Depending on the field of application of the product, a mechanically stable, i.e. damage-resistant or scratch-resistant design of the anti-reflective system is desirable.

Die Druckschrift DE 10 2014 108 058 A1 offenbart eine Antireflexbeschichtung mit zwei verschiedenen Brechungsindices und bevorzugt mit einer Siliziumnitridhaltigen untersten Lage und wobei auf der Antireflexbeschichtung eine Lage kettenförmiger fluororganischer Moleküle angeordnet ist, wobei die Moleküle endseitig an die Oberfläche eines optischen Elements gebunden sind.
Die Druckschrift DE 600 31 629 T2 offenbart ein transparentes Substrat, das auf wenigstens einer Seite eine dreischichtige Antireflexbeschichtung umfasst, die aus einem Aufbau aus dünnen Schichten hergestellt ist und mindestens eine der dünnen Schichten mit hohem Brechungsindex Titanoxid umfasst, das durch Kathodenzerstäubung aufgebracht und chemisch durch Einbau von Stickstoff derart modifiziert worden ist, dass sein Brechungsindex bis auf einen Wert von höchstens 2,4 bei einer Wellenlänge von 580 nm gesenkt worden ist. Als relevanter Stand der Technik sind auch die DE 10 2008 054 139 A1 sowie die DE 10 2012 002 927 A1 anzusehen.
The pamphlet DE 10 2014 108 058 A1 discloses an anti-reflective coating with two different refractive indices and preferably with a silicon nitride-containing bottom layer and wherein a layer of chain-like organofluorine molecules is arranged on the anti-reflective coating, the molecules being bound at the end to the surface of an optical element.
The pamphlet DE 600 31 629 T2 discloses a transparent substrate which comprises on at least one side a three-layer anti-reflective coating which is made from a structure of thin layers and comprises at least one of the thin layers with a high refractive index titanium oxide which has been applied by sputtering and chemically modified by the incorporation of nitrogen in this way that its refractive index has been reduced to a value of at most 2.4 at a wavelength of 580 nm. The DE 10 2008 054 139 A1 as well as the DE 10 2012 002 927 A1 to watch.

Das allgemeine Ziel einer optischen Antireflexbeschichtung ist es in erster Linie, die Reflexion des sichtbaren Teils des elektromagnetischen Spektrums gleichmäßig zu unterdrücken, so dass es möglichst zu keiner Farbauffälligkeit durch eine ungleichmäßige Restreflexion kommt. Ein Beispiel für eine solche farbneutrale, kratzbeständige Antireflexbeschichtung ist in der US 2012/0212826 A1 angegeben.The general goal of an optical anti-reflective coating is primarily to suppress the reflection of the visible part of the electromagnetic spectrum evenly so that there is as little color conspicuousness as possible due to uneven residual reflection. An example of such a color-neutral, scratch-resistant anti-reflective coating is in US 2012/0212826 A1 specified.

Im Laufe des Handy-Cover Herstellungsprozesses können die genannten Gläser mit einem Dekordruck auf der dem Nutzer abgewandten Seite, der sogenannten Rückseite des Covers versehen werden, der typischerweise schwarz oder weiß ist. Oft wird der Firmenname des Herstellers oder der Produktname in silberfarbenem Schriftzug aufgedruckt. In the course of the cell phone cover manufacturing process, said glasses can be provided with a decorative print on the side facing away from the user, the so-called back of the cover, which is typically black or white. Often the company name of the manufacturer or the product name is printed in silver-colored lettering.

Antireflexsysteme bestehen in der Regel aus mehr als einer Schicht, insbesondere dann, wenn über einen großen Teil des visuellen Spektrums gleichmäßig entspiegelt werden soll und nicht nur bei einer bestimmten Wellenlänge. Zwei aufeinander folgende Schichten haben unterschiedliche Brechungsindizes. Es wechseln sich Schichten mit hohem und niedrigen Brechungsindex ab. Die wellenlängenabhängige Reflektionskurve ist das Ergebnis des Zusammenwirkens der einzelnen Reflektionen an den Grenzflächen. Eine gleichmäßige, farbneutrale Reflektion ist das Ergebnis einer exakt aufeinander abgestimmten Abfolge von optischen Schichtdicken, d.h. dem Produkt aus Brechungsindex und Schichtdicke. Die Änderung einer oder mehrerer Schichtdicken verändert die Reflektionsbedingungen und damit auch das Reflektionsergebnis, insbesondere auch den Farbort der Reflektion.Antireflection systems usually consist of more than one layer, especially when anti-reflective coating is to be applied evenly over a large part of the visual spectrum and not just at a certain wavelength. Two consecutive layers have different indices of refraction. It layers with high and low refractive index alternate. The wavelength-dependent reflection curve is the result of the interaction of the individual reflections at the interfaces. A uniform, color-neutral reflection is the result of an exactly coordinated sequence of optical layer thicknesses, ie the product of the refractive index and layer thickness. The change of one or more layer thicknesses changes the reflection conditions and thus also the reflection result, in particular also the color location of the reflection.

Prozesstechnisch bedingte Schichtdickenschwankungen, wie sie beispielsweise an unterschiedlichen Positionen innerhalb eines Probenhalters (engl.: Carrier) oder bei Schwankungen von Produktionslos zu Produktionslos auftreten, können daher zu einer starken Farbortänderung führen. Je nach Stärke der Schichtdickenschwankung kommt es zu stark auffälligen Farbortvariationen, die die Produktionsausbeute herabsetzen.Process-related fluctuations in layer thickness, such as those that occur, for example, at different positions within a sample holder (carrier) or with fluctuations from production lot to production lot, can therefore lead to a strong change in the color locus. Depending on the strength of the layer thickness fluctuations, there are very noticeable variations in the color location, which reduce the production yield.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Antireflexsystem bereitzustellen, das eine gute Adhäsion an das Glassubstrat hat, eine hohe Kratzfestigkeit besitzt, eine gute Basis für eine Antifingerprintbeschichtung darstellt und insbesondere bei typischen prozessbedingten Schichtdickenschwankungen eine nur geringe Änderung des Farbortes aufweist. Die Erfindung betrifft speziell ein transparentes Element mit einer Antireflexbeschichtung mit vier Lagen. Diese Antireflexbeschichtung ist gemäß der oben genannten Aufgabe so ausgebildet, dass der Farbort von reflektiertem Licht eine verminderte Abhängigkeit von Schichtdickenschwankungen aufweist.The invention is therefore based on the object of providing an anti-reflective system that has good adhesion to the glass substrate, has high scratch resistance, represents a good basis for an anti-fingerprint coating and, in particular with typical process-related fluctuations in layer thickness, has only a slight change in the color location. The invention specifically relates to a transparent element having a four-layer anti-reflective coating. According to the above-mentioned object, this anti-reflective coating is designed in such a way that the color location of reflected light has a reduced dependence on fluctuations in layer thickness.

Das antireflektierend wirkende Interferenz-Schichtsystem gemäß der Erfindung umfasst eine Abfolge alternierend hoch- und niedrigbrechender Schichten. Von Lage zu Lage fortschreitend wird der Brechungsindex mithin abwechselnd höher und niedriger. Das Schichtsystem umfasst dabei mindestens vier Lagen. Eine hohe Kratzbeständigkeit wird erzielt, indem ein transparentes Hartstoff-Material für mindestens eine hochbrechende Schicht verwendet wird.The anti-reflective interference layer system according to the invention comprises a sequence of alternating high and low index layers. Progressing from layer to layer, the refractive index is therefore alternately higher and lower. The layer system comprises at least four layers. A high level of scratch resistance is achieved by using a transparent hard material for at least one high-index layer.

Es zeigt sich, dass die schichtdickenabhängige Farbortschwankung bei einer vierlagigen Antireflexbeschichtung durch die Verwendung von mehr als zwei Materialien erreicht werden kann. Dabei sollte die erste, auf dem Substrat aufgebrachte hochbrechende Schicht einen Brechungsindex nm haben der zwischen dem Brechungsindex der weiteren hochbrechenden Schicht nh und dem Brechungsindex der niedrigbrechenden Schicht nn liegt.It turns out that the layer thickness-dependent color locus fluctuation can be achieved with a four-layer anti-reflective coating by using more than two materials. The first high-index layer applied to the substrate should have a refractive index n m which is between the refractive index of the further high-index layer n h and the refractive index of the low-index layer n n .

Demgemäß sieht die Erfindung ein scheibenförmiges Element mit

  • - einem im sichtbaren Spektralbereich transparenten scheibenförmigen Substrat und
  • - einer auf dem Substrat abgeschiedenen Antireflexbeschichtung vor, wobei die Antireflexbeschichtung
  • - vier aufeinanderfolgende Lagen umfasst, bei welcher aneinander angrenzende Lagen sich jeweils in ihrem Brechungsindex unterscheiden, derart, dass der Brechungsindex von Lage zu Lage abwechselnd ansteigt und abnimmt und sich Lagen mit niedrigerem Brechungsindex mit Lagen mit höherem Brechungsindex abwechseln.
Accordingly, the invention provides a disk-shaped element
  • a disk-shaped substrate that is transparent in the visible spectral range and
  • an anti-reflective coating deposited on the substrate, the anti-reflective coating
  • - comprises four successive layers in which adjoining layers differ in their refractive index in such a way that the refractive index increases and decreases alternately from layer to layer and layers with a lower refractive index alternate with layers with a higher refractive index.

Die unterste der vier Lagen ist eine Lage mit höherem Brechungsindex und weist demzufolge einen höheren Brechungsindex auf, als die benachbarte zweitunterste Lage.The lowest of the four layers is a layer with a higher refractive index and consequently has a higher refractive index than the neighboring second lowest layer.

Die vier Lagen weisen nun mindestens drei verschiedene Brechungsindices auf, derart, dass der Brechungsindex der untersten, dem Substrat nächsten Lage mit höherem Brechungsindex niedriger ist, als der Brechungsindex der weiteren Lage mit höherem Brechungsindex, wobei der Brechungsindex der untersten Lage mit höherem Brechungsindex zwischen 1,665 und 1,795 liegt. Dabei wird die unterste Lage mit höherem Brechungsindex aus einem sauerstoffhaltigen Material gebildet. Durch diese Merkmale zeigt das scheibenförmige Element insbesondere eine geringe Farbortänderung bei Schichtdickenschwankung.The four layers now have at least three different refractive indices, such that the refractive index of the lowest layer with a higher refractive index closest to the substrate is lower than the refractive index of the further layer with a higher refractive index, the refractive index of the lowest layer with a higher refractive index between 1.665 and 1.795. The lowest layer with a higher refractive index is formed from an oxygen-containing material. As a result of these features, the disc-shaped element shows, in particular, a slight change in the color locus with fluctuations in layer thickness.

Die unterste, dem Substrat nächste Lage der Antireflexbeschichtung ist vorzugsweise eine Oxinitrid-Lage oder auch eine Oxid-Lage. Oxinitrid-Lagen mit Silizium oder Aluminium oder mit einer Mischung aus beiden Materialien sind besonders geeignet, da diese Materialien sehr transparent und gleichzeitig hart sind, wobei der Brechungsindex über den Sauerstoffgehalt beim Beschichtungsprozess gut eingestellt und angepasst werden kann. Allgemein können auch mehrere Komponenten für die Zusammensetzung der Lage verwendet werden. So ist gemäß einer Ausführungsform der Erfindung vorgesehen, dass die unterste Lage mindestens drei verschiedene Komponenten in oxinitridischer oder oxidischer Form enthält, die zu mehr als 1 Atomprozent zur Gesamtzusammensetzung beitragen.The lowest layer of the anti-reflective coating closest to the substrate is preferably an oxynitride layer or an oxide layer. Oxynitride layers with silicon or aluminum or with a mixture of both materials are particularly suitable because these materials are very transparent and at the same time hard, whereby the refractive index can be set and adapted well via the oxygen content during the coating process. In general, several components can also be used for the composition of the layer. According to one embodiment of the invention, it is provided that the bottom layer contains at least three different components in oxynitridic or oxidic form, which contribute more than 1 atomic percent to the total composition.

Die Verwendung von Oxinitriden erleichtert die Herstellung eines mehrlagigen Antireflex-Schichtsystems dahingehend, dass auch für die weitere Hartstoff-Lage mit höherem Brechungsindex Siliziumoxinitrid oder Aluminiumnitrid, Aluminiumoxinitrid oder ein Nitrid oder Oxinitrid aus einem Gemisch von Aluminium und Silizium verwendet werden kann. Da deren Brechungsindex höher sein soll, ist dementsprechend auch der Sauerstoff-Gehalt niedriger. Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist daher vorgesehen, dass beide Lagen mit höherem Brechungsindex Siliziumoxinitrid-Lagen oder Aluminiumoxinitrid-Lagen oder ein Gemisch aus Silizium- und Aluminiumoxinitrid sind, wobei die unterste Lage mit höherem Brechungsindex einen höheren Sauerstoff-Gehalt aufweist, als die weitere Lage mit höherem Brechungsindex.The use of oxynitrides facilitates the production of a multi-layer anti-reflective layer system in that silicon oxynitride or aluminum nitride, aluminum oxynitride or a nitride or oxynitride made from a mixture of aluminum and silicon can also be used for the further hard material layer with a higher refractive index. Since their refractive index should be higher, the oxygen content is correspondingly lower. According to one embodiment of the invention, it is therefore provided that both layers with a higher refractive index are silicon oxynitride layers or aluminum oxynitride layers or a mixture of silicon and aluminum oxynitride, the lowest layer with a higher refractive index having a higher oxygen content than the further layer with a higher refractive index.

Soll ein rein oxidisches Schichtsystem über einen Sputterprozess hergestellt werden, so kann nur Sauerstoff als Reaktivgas verwendet werden. Eine Mischung des Reakivgases scheidet aus. Trotzdem ist es möglich ein erfindungsgemäßes Antireflex-Schichtsystem herzustellen, indem ein Legierungstarget verwendet wird, das aus mindestens zwei Materialien besteht derart, dass das Oxid des einen Materials hochbrechend ist und das Oxid des anderen Materials niedrigbrechend ist. Durch geschickte Wahl der Zusammensetzung des Legierungstargets kann nun ein Mischoxid über den Sputterprozess in sauerstoffhaltiger Prozessatmosphäre hergestellt werden, das der oben genannten Anforderungen hinsichtlich eines höheren Brechungsindex, der jedoch niedriger als der Brechungsindex der weiteren hochbrechenden Schicht ist, genügt. Als Beispiel ohne Beschränkung auf weitere Möglichkeiten sei hier ein Target aus Silizium mit einer Beimischung von Zirkonium genannt oder ein Target aus Aluminium mit einer Beimischung von Zirkonium.If a purely oxidic layer system is to be produced via a sputtering process, only oxygen can be used as reactive gas. A mixture of the reactive gas is eliminated. Nevertheless, it is possible to produce an anti-reflective layer system according to the invention by using an alloy target which consists of at least two materials in such a way that the oxide of one material is high-index and the oxide of the other material is low-index. By cleverly choosing the composition of the alloy target, a mixed oxide can now be produced via the sputtering process in an oxygen-containing process atmosphere, which meets the above-mentioned requirements with regard to a higher refractive index, but which is lower than the refractive index of the further high-refraction layer. A target made of silicon with an admixture of zirconium or a target made of aluminum with an admixture of zirconium may be mentioned here as an example without limitation to further possibilities.

Wie oben bereits gesagt, können auch mehr als zwei Komponenten am Aufbau der untersten Lage beteiligt sein. Im Speziellen können mindestens drei verschiedene Komponenten in oxinitridischer oder oxidischer Form enthalten sein, die zu mehr als 1 Atomprozent zur Gesamtzusammensetzung beitragen. Beispielsweise kann also neben Si und Al eine weitere Komponente mit ein oder mehr Atomprozent vorhanden und in oxidischer oder oxinitridischer Form eingebunden sein.As already said above, more than two components can be involved in the construction of the lowest layer. In particular, at least three different components can be contained in oxynitridic or oxidic form, which contribute more than 1 atomic percent to the total composition. For example, in addition to Si and Al, another component with one or more atomic percent can be present and incorporated in oxidic or oxynitridic form.

Die Sequenz der vier Lagen der Antireflexbeschichtung wird besonders bevorzugt direkt auf das Substrat aufgebracht. Demgemäß grenzt die Substratoberfläche direkt an die Sequenz der vier Lagen der Antireflexbeschichtung an.The sequence of the four layers of the antireflective coating is particularly preferably applied directly to the substrate. Accordingly, the substrate surface directly adjoins the sequence of the four layers of the anti-reflective coating.

Auf der Antireflexbeschichtung kann gemäß einer besonders bevorzugten Weiterbildung der Erfindung eine fluororganische Schicht aufgebracht sein. Insbesondere kann eine solche Schicht auch als Monolage fluororganischer Moleküle ausgebildet sein, bevorzugt mit einer Schichtdicke von 1 nm bis 20 nm, besonders bevorzugt mit einer Schichtdicke von 1 nm bis 10 nm. Bei der fluororganischen Schicht kann es sich beispielsweise um eine oleophobe Beschichtung handelnAccording to a particularly preferred development of the invention, an organofluorine layer can be applied to the antireflective coating. In particular, such a layer can also be designed as a monolayer of organofluorine molecules, preferably with a layer thickness of 1 nm to 20 nm, particularly preferably with a layer thickness of 1 nm to 10 nm. The organofluorine layer can be, for example, an oleophobic coating

Es hat sich gezeigt, dass ein Schichtsystem, bei dem auf eine Antireflexionsbeschichtung mit einer dicken, oberen Hartstoffschicht, insbesondere mit der größten Schichtdicke der Antireflexionsbeschichtung, noch eine zusätzliche fluororganische Schicht hinzugefügt ist, nicht nur wirksam ist, Fingerabdruckauffälligkeiten zu reduzieren oder sich leicht reinigen zu lassen, sondern dass das derart beschichtete, chemisch vorgespannte Glassubstrat und damit das erfindungsgemäße Element insbesondere die Vermeidung von Kratzern unterstützt.It has been shown that a layer system in which an additional fluorinated organic layer is added to an anti-reflective coating with a thick, upper hard material layer, in particular with the greatest layer thickness of the anti-reflective coating, is not only effective in reducing abnormalities in fingerprints or in making it easy to clean but that the chemically toughened glass substrate coated in this way, and thus the element according to the invention, in particular supports the avoidance of scratches.

Dies wird darauf zurückgeführt, dass die zusätzliche fluororganische Schicht vermutlich den Reibwert der Oberfläche so reduziert, dass eine Schädigung der Oberfläche geringer ausfällt.This is attributed to the fact that the additional fluorine-organic layer presumably reduces the coefficient of friction of the surface in such a way that damage to the surface is less.

Um die Antireflexbeschichtung gemäß der Erfindung abzuscheiden, wird vorzugsweise Sputtern, insbesondere reaktives Sputtern eingesetzt.In order to deposit the anti-reflective coating according to the invention, sputtering, in particular reactive sputtering, is preferably used.

Die Erfindung wird nachfolgend genauer anhand der Figuren und anhand von Ausführungsbeispielen erläutert. In den Figuren bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche oder ähnliche Schichten.The invention is explained in more detail below with reference to the figures and with reference to exemplary embodiments. In the figures, the same reference symbols denote the same or similar layers.

Es zeigen:

  • 1 ein Substrat mit einer vierlagigen Antireflexbeschichtung,
  • 2 eine Variante der in 1 gezeigten Ausführungsform,
  • 3 eine Weiterbildung der Erfindung mit einer lichtabsorbierenden Rückseitenbeschichtung,
  • 4 Farbortänderungen an verschiedenen Elementen abhängig vom Aufbau der Antireflexbeschichtung und dem Vorhandensein oder Fehlen einer lichtabsorbierenden Rückseitenbeschichtung,
  • 5 Farbortänderungen an Antireflexschichtsystemen mit SiO2/TiO2-Lagen.
Show it:
  • 1 a substrate with a four-layer anti-reflective coating,
  • 2 a variant of the in 1 embodiment shown,
  • 3 a further development of the invention with a light-absorbing back coating,
  • 4th Changes in color location on various elements depending on the structure of the anti-reflective coating and the presence or absence of a light-absorbing rear-side coating,
  • 5 Changes in color location on anti-reflective coating systems with SiO 2 / TiO 2 layers.

1 zeigt ein Beispiel eines erfindungsgemäßen scheibenförmigen Elements. Das Element 1 umfasst allgemein und ohne Beschränkung auf das spezielle dargestellte Beispiel ein im sichtbaren Spektralbereich transparentes Substrat 3 und eine auf dem Substrat 1 auf einer Seitenfläche 30 abgeschiedene Antireflexbeschichtung 5. 1 shows an example of a disk-shaped element according to the invention. The element 1 includes generally and without limitation to the specific example shown, a substrate that is transparent in the visible spectral range 3 and one on the substrate 1 on a side face 30th deposited anti-reflective coating 5 .

Die Antireflexbeschichtung 5 umfasst vier aufeinanderfolgende Lagen 51, 52, 53, 54. Benachbarte Lagen unterscheiden sich jeweils in ihrem Brechungsindex. Insbesondere wechselt der Brechungsindex von Lage zu Lage so dass dieser abwechselnd ansteigt und abnimmt. Geht man die Lagen von oben nach unten zum Substrat 3 hin durch, so steigt also der Brechungsindex von der obersten Lage 54 zur zweitobersten Lage 53 an, sinkt zur nächsten Lage 52 ab und steigt zur untersten Lage 51 nochmals an, wobei er unterhalb des Niveaus des Brechungsindex der Lage 53 bleibt.The anti-reflective coating 5 comprises four consecutive layers 51 , 52 , 53 , 54 . Neighboring layers differ in their refractive index. In particular, the refractive index changes from position to position so that it alternately increases and decreases. Going through the layers from top to bottom to the substrate 3 through, so the refractive index increases from the top layer 54 to the second from the top 53 on, sinks to the next layer 52 and rises to the lowest layer 51 again, being below the level of the refractive index of the location 53 remains.

Die unterste der vier Lagen 51, 52, 53, 54 (d.h. Lage 51) ist eine Lage mit höherem Brechungsindex und weist folglich einen höheren Brechungsindex auf, als die benachbarte zweitunterste Lage 52.The lowest of the four layers 51 , 52 , 53 , 54 (i.e. location 51 ) is a layer with a higher refractive index and consequently has a higher refractive index than the adjacent second lowest layer 52 .

Ohne Beschränkung auf das spezielle Ausführungsbeispiel der 1 ist bei einer Antireflexbeschichtung gemäß der Erfindung jedenfalls eine solche Sequenz aus vier Lagen 51, 52, 53, 54 vorhanden. Bevorzugt enthält die Beschichtung 5 als optisch wirksame Schichten nur diese vier Lagen. Es wird aber nicht ausgeschlossen, dass sich weitere Lagen oben und/oder unten, beziehungsweise substratseitig an diese Sequenz anschließen.Without being limited to the specific embodiment of FIG 1 is in any case such a sequence of four layers in an anti-reflective coating according to the invention 51 , 52 , 53 , 54 available. The coating preferably contains 5 only these four layers are optically effective layers. However, it is not ruled out that further layers follow this sequence above and / or below, or on the substrate side.

Die vier Lagen 51, 52, 53, 54 weisen mindestens drei verschiedene Brechungsindices auf, derart, dass der Brechungsindex der untersten, dem Substrat 3 nächsten Lage 51 mit höherem Brechungsindex niedriger ist, als der Brechungsindex der weiteren Lage 53 mit höherem Brechungsindex. Dabei wird die unterste Lage 51 mit höherem Brechungsindex vorzugsweise aus einem sauerstoffhaltigen Material gebildet.The four layers 51 , 52 , 53 , 54 have at least three different refractive indices, such that the refractive index of the lowest, the substrate 3 next location 51 with a higher refractive index is lower than the refractive index of the further layer 53 with a higher refractive index. The lowest layer is 51 with a higher refractive index, preferably formed from an oxygen-containing material.

Die Bezeichnungen „niedrigerer Brechungsindex“ und „höherer Brechungsindex“ gelten relativ zu den angrenzenden Lagen. Eine Lage mit niedrigerem Brechungsindex grenzt folglich an eine Lage (wenn die niedrigbrechende Lage das Schichtsystem abschließt) oder an zwei Lagen (wenn die niedrigbrechende Lage an beiden Grenzflächen an weitere Lagen des Schichtsystems angrenzt) mit höherem Brechungsindex an.The terms “lower refractive index” and “higher refractive index” apply relative to the adjacent layers. A layer with a lower refractive index consequently adjoins a layer (if the low-refractive-index layer completes the layer system) or two layers (if the low-refractive-index layer adjoins other layers of the layer system at both interfaces) with a higher refractive index.

Das Substrat 3 ist besonders bevorzugt ein anorganisches, oxidisches Substrat, insbesondere ein Glassubstrat. Das erfindungsgemäße Antireflex-Schichtsystem ist ganz besonders auch für chemisch vorgespannte Glassubstrate geeignet.The substrate 3 is particularly preferably an inorganic, oxidic substrate, in particular a glass substrate. The anti-reflective layer system according to the invention is particularly suitable for chemically toughened glass substrates.

Es zeigt sich, dass eine gute Anbindung der ersten Hartstoffschicht an das Substrat erzielt werden kann, wenn es sich um eine oxidische Hartstoffschicht handelt (beispielsweise ZrO2 oder ein Zr-Si-Mischoxid, d.h. ein Gemisch aus ZrO2 und SiO2 oder ein Mischoxid mit ZrO2 und Al2O3) oder wenn es sich bei der ersten Hartstoffschicht um ein sauerstoffhaltiges Nitrid in Form eines Oxinitrides handelt. Geeignete Oxinitride sind beispielsweise Siliziumoxinitrid (SiOxNy) oder Aluminiumoxinitrid (AlOxNy) oder Silizium-Aluminium-Oxinitrid (Si AlOxNy) .It turns out that a good connection of the first hard material layer to the substrate can be achieved if it is an oxidic hard material layer (for example ZrO 2 or a Zr-Si mixed oxide, ie a mixture of ZrO 2 and SiO 2 or a mixed oxide with ZrO 2 and Al 2 O 3 ) or if the first hard material layer is an oxygen-containing nitride in the form of an oxynitride. Suitable oxynitrides are, for example, silicon oxynitride (SiO x N y ) or aluminum oxynitride (AlO x N y ) or silicon-aluminum oxynitride (Si AlO x N y ).

Diese genannten Materialien, ZrO2 bzw. ein Gemisch aus ZrO2 und SiO2 oder Al2O3) und Oxinitride von Silizium oder Aluminium oder einem Gemisch aus Aluminium und Silizium werden für die unterste Lage mit höherem Brechungsindex besonders bevorzugt. ZrO2 kann beispielsweise mit einer TiO2-Lage als weiterer, bzw. oberer Lage mit höherem Brechungsindex kombiniert werden. Eine weitere Möglichkeit besteht darin, für die untere Lage mit höherem Brechungsindex ein Titan enthaltendes Oxid, beispielsweise ein Mischoxid mit Titan und einem weiteren Element zu verwenden. Eine Möglichkeit ist ein Titan/Silizium-Mischoxid. Eine bevorzugte Variante eines erfindungsgemäßen Antireflex-Systems sieht die Verwendung einer ZrO2-Lage als oberste Lage mit höherem Brechungsindex vor in Kombination mit einem Mischoxid aus Zirkonium und Silizium oder Zirkonium und Aluminium oder Zirkonium und Silizium und Aluminium als unterer Lage 51 mit höherem Brechungsindex.These mentioned materials, ZrO 2 or a mixture of ZrO 2 and SiO 2 or Al 2 O 3 ) and oxynitrides of silicon or aluminum or a mixture of aluminum and silicon are particularly preferred for the lowermost layer with a higher refractive index. ZrO 2 can, for example, be combined with a TiO2 layer as a further or upper layer with a higher refractive index. Another possibility is to use an oxide containing titanium, for example a mixed oxide with titanium and a further element, for the lower layer with a higher refractive index. One possibility is a titanium / silicon mixed oxide. A preferred variant of an anti-reflective system according to the invention provides for the use of a ZrO 2 layer as the top layer with a higher refractive index in combination with a mixed oxide of zirconium and silicon or zirconium and aluminum or zirconium and silicon and aluminum as the lower layer 51 with a higher refractive index.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung ist daher die unterste, dem Substrat 3 nächste Lage 51 der Antireflexbeschichtung 5 eine Oxinitrid- oder Oxid-Lage. Diese Lage wird dabei insbesondere aus Oxid oder Oxinitrid zumindest eines der Elemente Silizium oder Aluminium oder aus deren Mischung gebildet. Eine Oxid-Schicht als unterer Lage 51 mit höherem Brechungsindex kann aus einem Oxid von Titan und/oder Zirkonium in Mischung mit Aluminium und/oder Silizium gebildet werden. Eine besonders gute Haftung wird dabei allgemein auch auf chemisch vorgespannten Glassubstraten erzielt.According to a preferred embodiment of the invention, the lowest one is the substrate 3 next layer 51 the anti-reflective coating 5 an oxynitride or oxide layer. This layer is in particular made of oxide or oxynitride at least one of the elements silicon or aluminum or from their Mixture formed. An oxide layer as the lower layer 51 with a higher refractive index can be formed from an oxide of titanium and / or zirconium in a mixture with aluminum and / or silicon. A particularly good adhesion is generally also achieved on chemically toughened glass substrates.

Jedenfalls sind die beiden Lagen 51, 53 zwar Lagen mit höherem Brechungsindex, unterscheiden sich aber dahingehend, dass der Brechungsindex der beiden Schichten, wie oben erläutert, unterschiedlich ist.In any case, the two layers are 51 , 53 Although layers with a higher refractive index differ in that the refractive index of the two layers, as explained above, is different.

Dabei können beide Lagen 51, 53 durchaus die gleichen Bestandteile, jedoch in unterschiedlicher Zusammensetzung enthalten. Sind die Bestandteile zumindest teilweise gleich, so kann dadurch die Herstellung erleichtert werden, da beide Lagen prinzipiell mit dem gleichen Herstellungsverfahren abgeschieden werden können wobei lediglich die Prozessparameter angepasst werden.Both layers can be used 51 , 53 contain exactly the same ingredients, but in different compositions. If the constituents are at least partially the same, the production can be made easier because both layers can in principle be deposited using the same production process, with only the process parameters being adapted.

Eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung basiert dabei darauf, dass beide Lagen 51, 53 mit höherem Brechungsindex Silizium, Stickstoff und Sauerstoff enthaltende Lagen sind, wobei die unterste Lage 51 mit höherem Brechungsindex einen höheren Sauerstoff-Gehalt aufweist, als die weitere Lage 53 mit höherem Brechungsindex.A preferred embodiment of the invention is based on the fact that both layers 51 , 53 with higher refractive index are layers containing silicon, nitrogen and oxygen, with the lowest layer 51 with a higher refractive index has a higher oxygen content than the further layer 53 with a higher refractive index.

Im Falle einer Oxinitridschicht zeigt sich, dass eine ausreichende Haftung der Schicht bereits bei einem niedrigen Sauerstoffanteil von etwa 5 - 10 Atomprozent im Vergleich zu Stickstoff erzielt werden kann. Mit anderen Worten liegt gemäß dieser Ausführungsform der Erfindung der Gehalt von Sauerstoff zu Stickstoff in der untersten Lage 51 bei mindestens 5 Atomprozent, jedoch unterhalb von 10 Atomprozent. Gemäß einer weiteren Ausführungsform liegt das Verhältnis der Gehalte von Sauerstoff zu Stickstoff des Oxinitrids (die Gehalte angegeben in Atomprozent), vorzugsweise eines Siliziumoxinitrids im Bereich von 0,41 bis 1,02.In the case of an oxynitride layer, it can be seen that sufficient adhesion of the layer can be achieved even with a low oxygen content of about 5-10 atomic percent compared to nitrogen. In other words, according to this embodiment of the invention, the content of oxygen to nitrogen is in the lowest layer 51 at least 5 atomic percent, but below 10 atomic percent. According to a further embodiment, the ratio of the contents of oxygen to nitrogen of the oxynitride (the contents indicated in atomic percent), preferably of a silicon oxynitride, is in the range from 0.41 to 1.02.

Allgemein, ohne Beschränkung auf die Ausführungsbeispiele kann in allen siliziumhaltigen Schichten neben Silizium auch Aluminium enthalten sein. Vorzugsweise ist in den oberen drei Lagen, also den Lagen 52, 52, 54 der Anteil von Aluminium geringer als der Anteil von Silizium, jeweils angegeben in Atomprozent. Das Verhältnis der Stoffmengen von Aluminium zu Silizium ist dabei bevorzugt größer als 0,05, vorzugsweise größer als 0,08, wobei die Stoffmenge von Silizium aber gegenüber der Stoffmenge von Aluminium überwiegt. Vorzugsweise beträgt das Verhältnis der Stoffmengen von Aluminium zu Silizium etwa 0,075 bis 0,5 , besonders bevorzugt etwa 0,1.In general, without being restricted to the exemplary embodiments, all silicon-containing layers can contain not only silicon but also aluminum. Preferably it is in the top three layers, i.e. the layers 52 , 52 , 54 the proportion of aluminum is less than the proportion of silicon, in each case given in atomic percent. The ratio of the amount of substance of aluminum to silicon is preferably greater than 0.05, preferably greater than 0.08, but the amount of substance of silicon outweighs the amount of substance of aluminum. The ratio of the amounts of aluminum to silicon is preferably about 0.075 to 0.5, particularly preferably about 0.1.

Für die unterste Lage 51 mit höherem Brechungsindex kann ebenfalls das oben angegebene Verhältnis der Stoffmengen verwendet werden, geeignet ist aber auch ein beliebiges Verhältnis der Stoffmengen von Al und Si.For the lowest layer 51 with a higher refractive index, the ratio of the amounts of substance given above can also be used, but any ratio of the amounts of substance of Al and Si is also suitable.

Die Kratzbeständigkeit der Antireflexbeschichtung kann weiter verbessert werden, indem auf eine erfindungsgemäße Antireflexbeschichtung 5 noch eine zusätzliche fluororganische Schicht 6 aufgebracht ist. Diese fluororganische Schicht ist außerdem wirksam, Fingerabdruckauffälligkeiten zu reduzieren oder sich leicht reinigen zu lassen.The scratch resistance of the anti-reflective coating can be further improved by applying an anti-reflective coating according to the invention 5 an additional organofluorine layer 6th is upset. This organofluorine layer is also effective in reducing abnormal fingerprints or making it easy to clean.

Die erhöhte Kratzbeständigkeit wird darauf zurückgeführt, dass die zusätzliche fluororganische Schicht vermutlich den Reibwert der Oberfläche so reduziert, dass eine Schädigung der Oberfläche geringer ausfällt.The increased scratch resistance is attributed to the fact that the additional organofluorine layer presumably reduces the coefficient of friction of the surface so that there is less damage to the surface.

2 zeigt eine Variante der in 1 gezeigten Ausführungsform. Sowohl 1, als auch 2 sind Beispiele einer Ausführungsform der Erfindung, bei welcher die oberste Lage mit höherem Brechungsindex, welche die zweitoberste Lage 53 der vierlagigen Antireflexbeschichtung 5 bildet, eine größere Schichtdicke aufweist, als die Lagen 51 und 52. 2 shows a variant of the in 1 embodiment shown. Either 1 , as well as 2 are examples of an embodiment of the invention in which the top layer with a higher refractive index is the second top layer 53 the four-layer anti-reflective coating 5 forms, has a greater layer thickness than the layers 51 and 52 .

Bei dem Ausführungsbeispiel der 2 ist aber die Schichtdicke der zweitobersten Schicht 53 nochmals deutlich größer, als bei dem in 1 gezeigten Beispiel. Allgemein lassen sich Schichtdesigns finden, bei welchen eine der höherbrechenden Schichten sehr dick ist und die dennoch gute Entspiegelungseigenschaften aufweisen. Die große Schichtdicke der einer der harten, höherbrechenden Lagen, vorzugsweise der zweitobersten Lage 53 führt zu einer hohen Kratzbeständigkeit des Schichtsystems. Allerdings erweist es sich als günstig, wenn die Schichtdicke der zweitobersten Lage 53 nicht mehr als die Hälfte der Gesamt-Schichtdicke aller vier Lagen 51, 52, 53, 54 beträgt. Gemäß noch einer bei dem Beispiel der 2 ebenfalls realisierten Ausführungsform weist die Lage 52, also die Lage mit niedrigerem Brechungsindex, welche sich zwischen den beiden Lagen 51, 53 mit höherem Brechungsindex befindet, die kleinste Schichtdicke der vier Lagen auf. Es zeigt sich, dass diese Schicht tatsächlich vorzugsweise möglichst dünn gewählt werden sollte, um eine im Vergleich minimale Farbortschwankung bei Schichtdickenvariation zu erzielen.In the embodiment of 2 but is the layer thickness of the second top layer 53 again significantly larger than the in 1 shown example. In general, layer designs can be found in which one of the higher refractive index layers is very thick and which nevertheless have good anti-reflective properties. The great layer thickness of one of the hard, higher refractive index layers, preferably the second from the top 53 leads to a high scratch resistance of the layer system. However, it turns out to be beneficial if the layer thickness of the second layer from the top 53 no more than half of the total layer thickness of all four layers 51 , 52 , 53 , 54 amounts. According to another in the example of 2 also realized embodiment shows the situation 52 , i.e. the layer with a lower refractive index, which is between the two layers 51 , 53 with a higher refractive index is the smallest layer thickness of the four layers. It turns out that this layer should actually preferably be selected to be as thin as possible in order to achieve a comparatively minimal fluctuation in the color location when the layer thickness varies.

Als Lagen 52, 54 mit niedrigerem Brechungsindex können allgemein, ohne Beschränkung auf die speziellen Ausführungsbeispiele SiO2-Lagen dienen. Mit anderen Worten sind bei einer vierlagigen Antireflexbeschichtung 5 dann die oberste Lage 54 und die zweitunterste Lage 52 aus SiO2 gebildet. Siliziumoxid ist aufgrund seines relativ niedrigen Brechungsindex besonders geeignet, um hohe Brechungsindex-Sprünge an den Grenzflächen der Antireflexbeschichtung zu erhalten. Diese Siliziumoxidschichten können bevorzugt einen geringen Anteil an Al2O3 enthalten, wobei das Verhältnis der Gehalte in Atomprozent von Aluminium zu Silizium im Bereich von 0,05 bis 0,3, bevorzugt im Bereich 0,1 liegt. Eine derart geringe Beimischung von Al2O3 zu SiO2 führt nur zu einer sehr geringen Erhöhung des Brechungsindex.As layers 52 , 54 SiO 2 layers with a lower refractive index can generally be used, without being restricted to the specific exemplary embodiments. In other words, with a four-layer anti-reflective coating 5 then the top layer 54 and the second from the bottom 52 formed from SiO 2 . Due to its relatively low refractive index, silicon oxide is particularly suitable for obtaining high refractive index jumps at the interfaces of the anti-reflective coating. These silicon oxide layers can preferably contain a small proportion of Al 2 O 3 , the ratio of the contents in atomic percent of aluminum to silicon in the range from 0.05 to 0.3, preferably in the range 0.1. Such a small addition of Al 2 O 3 to SiO 2 only leads to a very small increase in the refractive index.

Beim Ausführungsbeispiel der 2 ist noch eine weitere Ausführungsform der Erfindung realisiert. Gemäß dieser Ausführungsform ist die Schichtdicke der untersten Lage 51 größer als die Schichtdicke der zweituntersten Lage 52. Auch diese allgemeine Beziehung der Schichtdicken führt in Verbindung mit der Ausgestaltung der Brechungsindizes zu einer verbesserten Stabilität der Antireflex-Wirkung bei herstellungsbedingten Schichtdickenschwankungen. Diese Ausführungsform ist unabhängig von den speziellen in 2 dargestellten Schichtdicken.In the embodiment of 2 Yet another embodiment of the invention is implemented. According to this embodiment, the layer thickness is the lowest layer 51 greater than the layer thickness of the second lowest layer 52 . This general relationship between the layer thicknesses, in conjunction with the design of the refractive indices, also leads to an improved stability of the antireflection effect in the case of production-related fluctuations in layer thickness. This embodiment is independent of the specific in 2 layer thicknesses shown.

3 zeigt eine Weiterbildung der Erfindung. Gemäß dieser Ausführungsform ist allgemein auf der Seite 31 des Substrats 3, welche der Seite 30 mit der Antireflexbeschichtung 5 gegenüberliegt, eine lichtabsorbierende Beschichtung 7, vorzugsweise eine schwarze Beschichtung aufgebracht. Diese Dekor-Beschichtung dient vorzugsweise als lichtundurchlässiges Dekor und rahmt typischerweise einen Anzeigebereich 32 ein, innerhalb welchem ein Display, beispielsweise eine LCD- oder OLED-Anzeige für einen Betrachter sichtbar ist. Das lichtundurchlässige Dekor verbirgt Komponenten, wie beispielsweise eine randseitige Befestigung des Substrats 3 oder auch am Rand des Displays liegende Anschlüsse. 3 shows a further development of the invention. According to this embodiment is generally on the side 31 of the substrate 3 which side 30th with the anti-reflective coating 5 opposite, a light-absorbing coating 7th , preferably a black coating applied. This decorative coating is preferably used as an opaque decoration and typically frames a display area 32 one, within which a display, for example an LCD or OLED display, is visible to a viewer. The opaque decoration hides components, such as an edge attachment of the substrate 3 or connections on the edge of the display.

Als Ausgangspunkt zur Verdeutlichung der Erfindung dient als Beispiel ein Abdeckglas mit einer aus dem Stand der Technik bekannten Antireflexbeschichtung mit der Schichtabfolge Glas/Si3N4/SiO2/Si3N4/SiO2. Dementsprechend wird auf einer Glasscheibe als Substrat 3 erst eine Siliziumnitrid-Schicht als Schicht 51, dann als Schicht 52 eine SiO2-Schicht, dann eine weitere Siliziumnitrid-Schicht 53 und darauf SiO2-Schicht als oberste Schicht 54 der Antireflexbeschichtung 5 abgeschieden. Wie in 1 dargestellt, kann auf der obersten Lage 54 der Antireflexbeschichtung 5 noch eine fluororganische Schicht aufgebracht werden.A cover glass with an antireflective coating known from the prior art with the layer sequence glass / Si 3 N 4 / SiO 2 / Si 3 N 4 / SiO 2 serves as an example as a starting point to illustrate the invention. Accordingly, on a sheet of glass as a substrate 3 first a silicon nitride layer as a layer 51 , then as a layer 52 a SiO 2 layer, then another silicon nitride layer 53 and thereon SiO 2 layer as the top layer 54 the anti-reflective coating 5 deposited. As in 1 shown can be on the top layer 54 the anti-reflective coating 5 an organofluorine layer can also be applied.

4 zeigt Farbortänderungen an verschiedenen Elementen 1 abhängig vom Aufbau der Antireflexbeschichtung 5 und dem Vorhandensein oder Fehlen einer lichtabsorbierenden, beziehungsweise lichtblockenden Beschichtung 7 auf der Seite 31 des Substrats 3. Die Messwerte sind mit Bezugszeichen in Klammern einzeln bezeichnet. 4th shows changes in color location on various elements 1 depending on the structure of the anti-reflective coating 5 and the presence or absence of a light-absorbing or light-blocking coating 7th on the website 31 of the substrate 3 . The measured values are individually designated with reference symbols in brackets.

Ein optimaler Fall gleichmäßiger Reflektion liegt beispielsweise vor, wenn für das Substrat 3 ein Alumosilikatglas verwendet wird, und die Schichtdicken vom Glas aus wie folgt sind: Lage (51) Si3N4 15 nm Lage (52) SiO2 32 nm Lage (53) Si3N4 132 nm Lage (54) SiO2 87 nm An optimal case of uniform reflection is, for example, when for the substrate 3 an aluminosilicate glass is used and the layer thicknesses from the glass are as follows: Location (51) Si 3 N 4 15 nm Location (52) SiO 2 32 nm Location (53) Si 3 N 4 132 nm Location (54) SiO 2 87 nm

In diesem Fall lässt sich ein Farbort gemäß CIE-Lab auf dem reinen Glas ohne Dekor, beziehungsweise ohne lichtabsorbierende Beschichtung 7 mit den Koordinaten a und b von 1,0 und 3,7 ermitteln (Messwert 40).In this case, a color location according to CIE-Lab can be applied to the pure glass without a decoration or without a light-absorbing coating 7th determine with the coordinates a and b of 1.0 and 3.7 (measured value 40 ).

Weicht man in den Schichtdicken um + 1nm ab (16nm (Lage 51), 33nm (Lage 52), 133nm (Lage 53), 88nm (Lage 54)), ergeben sich die Farbortwerte 1,5 und 2,8 (Messwert 41). Bei Reduktion der Schichtdicken um 1 nm (14nm, 31nm, 131nm, 86nm) ergeben sich a und b zu 0,1 und 4,7. Die drei vorstehend diskutierten Messwerte 40, 41, 42 sind in 4 mit dreieckigen Symbolen eingezeichnet.If one deviates by + 1nm in the layer thickness (16nm (position 51 ), 33nm (location 52 ), 133nm (position 53 ), 88nm (location 54 )), the chromaticity coordinates 1.5 and 2.8 result (measured value 41 ). If the layer thickness is reduced by 1 nm (14nm, 31nm, 131nm, 86nm), a and b result in 0.1 and 4.7. The three measurements discussed above 40 , 41 , 42 are in 4th drawn in with triangular symbols.

Mit einem schwarzen Dekor, beziehungsweise im Bereich einer wie in 3 eingezeichneten lichtabsorbierenden Beschichtung 7 auf der Rückseite des Abdeckglases schwanken die Farbortwerte bei gleicher Beschichtung deutlich mehr. Die entsprechenden Messwerte 43, 44, 45 sind mit Rautensymbolen gekennzeichnet. Stärkere Farbortschwankungen ergeben sich auch bei einem ausgeschalteten und dann dunklen Display, sowie auch in dunklen Bereichen des eingeschalteten Displays, also beispielsweise bei einem dunklen Bildschirmhintergrund.With a black decor, or in the area one like in 3 drawn light-absorbing coating 7th on the back of the cover glass, the chromaticity values fluctuate significantly more with the same coating. The corresponding measured values 43 , 44 , 45 are marked with diamond symbols. Stronger color locus fluctuations also occur when the display is switched off and then dark, and also in dark areas of the display when it is switched on, for example with a dark screen background.

Die Farbwerte des optimalen Falls liegen hier bei:

  • a = -0,2, b = 2,1 (Messwert 43); bei +1 nm Schichtdicke:
    • a = 1,7 und b = -0,7 (Messwert 44); bei -1 nm Schichtdicke a= -2,6 und b = 4,6 (Messwert 45).
The color values of the optimal case are here:
  • a = -0.2, b = 2.1 (measured value 43 ); at +1 nm layer thickness:
    • a = 1.7 and b = -0.7 (measured value 44 ); at -1 nm layer thickness a = -2.6 and b = 4.6 (measured value 45 ).

Diese stärkere Schwankung und Abhängigkeit von der Schichtdicke ist auf den durch das Dekor ausgeblendeten Rückseitenreflex zurück zu führen. Im Falle des reinen Glases reflektiert dessen Rückseite etwa 4% (gleichmäßig über den Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichtes) und trägt damit etwa zehnmal so viel zum Gesamtreflex bei wie die entspiegelte Vorderseite (ca. 0,5%). Die durch die Schichtdickenschwankung hervorgerufenen Farbortvariationen werden durch die Rückseite „überstrahlt“ und sind weniger auffällig. Im Falle eines schwarzen Rückseitendekors wird der Rückseitenreflex nahezu unterdrückt. Somit wird der Farbort fast ausschließlich durch die Antireflexbeschichtung 5 bestimmt und durch Schichtdickenschwankungen hervorgerufene Farbortänderungen fallen mehr ins Gewicht.This greater fluctuation and dependence on the layer thickness can be attributed to the rear-side reflex that is masked out by the decor. In the case of pure glass, its rear side reflects about 4% (evenly over the wavelength range of visible light) and thus contributes about ten times as much to the total reflection as the anti-reflective front side (about 0.5%). The color location variations caused by the fluctuations in layer thickness are "outshone" by the back and are less noticeable. In the case of a black backside decoration, the backside reflex is almost suppressed. Thus the color point is almost exclusively due to the anti-reflective coating 5 Determined and caused by fluctuations in the layer thickness, changes in color location are more significant.

Die Messwerte 60 bis 62 (Kreuzsymbole) und 63 bis 65 (quadratische Symbole) sind zum Vergleich berechnete Farbortänderungen an erfindungsgemäßen Antireflexbeschichtungen 5, welche die gleichen Schichtdickenschwankungen aufweisen.The readings 60 to 62 (Cross symbols) and 63 to 65 (square symbols) are color locus changes calculated for comparison on antireflective coatings according to the invention 5 , which have the same layer thickness fluctuations.

Die erste Schicht der erfindungsgemäßen Antireflexbeschichtungen 5 ist dabei jeweils eine sauerstoffhaltige Siliziumnitridschicht. Dabei ist das Verhältnis von Sauerstoff zu Stickstoff, O/N, derart eingestellt, dass sich ein Brechungsindex bei 550nm von etwa 1,71 ergibt. Bei höheren Brechungsindizes in Richtung Si3N4 nimmt die Farbortschwankung zu. Bei zu viel Sauerstoff im SiOxNy ergeben sich keine guten Antireflex-Bedingungen mehr für eine vierlagige Antireflexbeschichtung. Ohne Beschränkung auf die Zusammensetzung der untersten Lage 51 liegt der Brechungsindex der untersten Lage 51 mit höherem Brechungsindex zwischen 1,665 und 1,795. Bevorzugt liegt dabei der Brechungsindex bei kleiner als 1,790, besonders bevorzugt bei kleiner als 1,785.The first layer of the anti-reflective coatings of the invention 5 is an oxygen-containing silicon nitride layer. The ratio of oxygen to nitrogen, O / N, is set in such a way that the result is a refractive index at 550 nm of approximately 1.71. With higher refractive indices in the direction of Si 3 N 4 , the color locus fluctuations increase. If there is too much oxygen in the SiO x N y , there are no longer any good antireflective conditions for a four-layer antireflective coating. Without limitation to the composition of the lowest layer 51 is the refractive index of the lowest layer 51 with a higher refractive index between 1.665 and 1.795. The refractive index is preferably less than 1.790, particularly preferably less than 1.785.

Die Messwerte 60 - 62 betreffen ein Glassubstrat ohne Dekor und sind daher mit den Messwerten 40, 41, 42 zu vergleichen. Es ist ersichtlich, dass die Farborte bei einem erfindungsgemäßen Schichtsystem bei gleichen Schichtdickenschwankungen deutlich dichter zusammenliegen, als bei einer Antireflexbeschichtung mit gleichartigen höherbrechenden Schichten. Auch bei einer erfindungsgemäßen Antireflexbeschichtung 5 mit hinsichtlich des Materials und Brechungsindex unterschiedlichen höherbrechenden Lagen 52, 53 steigt im Bereich einer lichtabsorbierenden Beschichtung 7 die Farbortschwankung an (Messwerte 63 - 65). Auch hier sind die Farbortschwankungen aber sehr viel geringer als bei einer Antireflexbeschichtung mit in Bezug auf Material und Brechungsindex gleichartigen höherbrechenden Lagen 52, 53.The readings 60 - 62 concern a glass substrate without decoration and are therefore with the measured values 40 , 41 , 42 to compare. It can be seen that the color locations in a layer system according to the invention are significantly closer together with the same layer thickness fluctuations than in an anti-reflective coating with similar higher refractive index layers. Even with an anti-reflective coating according to the invention 5 with different higher refractive index layers in terms of material and refractive index 52 , 53 increases in the area of a light-absorbing coating 7th the color locus fluctuation (measured values 63 - 65 ). Here, too, the color locus fluctuations are much smaller than in the case of an anti-reflective coating with higher refractive index layers of the same type in terms of material and refractive index 52 , 53 .

Ein konkretes Beispiele für ein erfindungsgemäßes Antireflexsystem mit gegenüber dem Stand der Technik aufgebauten AR-Systemen geringerer Farbortschwankung bei Schichtdickenschwankung ist in folgender Tabelle aufgeführt: Lage (51) SiOXNY (n = 1,77) 33 nm Lage (52) SiO2 24 nm Lage (53) Si3N4 132 nm Lage (54) SiO2 87 nm A specific example of an antireflection system according to the invention with AR systems built up compared to the prior art with lower color locus fluctuations with layer thickness fluctuations is listed in the following table: Location (51) SiO X N Y (n = 1.77) 33 nm Location (52) SiO 2 24 nm Location (53) Si 3 N 4 132 nm Location (54) SiO 2 87 nm

5 zeigt Farborte der Lichtreflexe von Substraten mit TiO2 / SiO2 - basierten Antireflexbeschichtungen. Die Farborte wurden wieder für ein mit einer rückseitigen lichtabsorbierenden Beschichtung 7 versehenes scheibenförmiges Element 1 berechnet. 5 shows color locations of the light reflections from substrates with TiO 2 / SiO 2 -based anti-reflective coatings. The color locations were again for one with a rear light-absorbing coating 7th provided disc-shaped element 1 calculated.

Auch diese Antireflexbeschichtungen 5 weisen jeweils vier Lagen auf. Für die Lagen 51, 53 mit höherem Brechungsindex wurden bei den in 5 eingetragenen Farbort-Werten 46, 47, 48 Titandioxid-Lagen (TiO2) verwendet. Die Farbort-Werte 66, 67, 68 gehören zu einer erfindungsgemäßen Antireflexbeschichtung 5, bei welcher die vier Lagen 51, 52, 53, 54 der Beschichtung mindestens drei verschiedene Brechungsindices aufweisen, derart, dass der Brechungsindex der untersten, dem Substrat 3 nächsten Lage 51 mit höherem Brechungsindex niedriger ist, als der Brechungsindex der weiteren Lage 53 mit höherem Brechungsindex, wobei die unterste Lage 51 mit höherem Brechungsindex aus einem sauerstoffhaltigen Material gebildet wird.These anti-reflective coatings too 5 each have four layers. For the locations 51 , 53 with a higher refractive index, the in 5 entered color locus values 46 , 47 , 48 Titanium dioxide layers (TiO 2 ) used. The chromaticity coordinates 66 , 67 , 68 belong to an anti-reflective coating according to the invention 5 , in which the four layers 51 , 52 , 53 , 54 of the coating have at least three different refractive indices, such that the refractive index of the lowest, the substrate 3 next location 51 with a higher refractive index is lower than the refractive index of the further layer 53 with a higher refractive index, with the lowest layer 51 is formed with a higher refractive index from an oxygen-containing material.

Im vorliegenden Fall wurde für die unterste Lage 51 ein SiOxNy, also ein sauerstoffhaltiges Siliziumnitrid gewählt, bei welchem der Brechungsindex bei etwa 1,77 liegt. Reines Siliziumnitrid hat demgegenüber einen Brechungsindex von etwa n=2. Mit einem Wert von 1,77 liegt der Brechungsindex der Lage 51 zwischen den Werten von SiO2 (d.h. dem Brechungsindex der Lagen 52, 54), und TiO2 (also dem Brechungsindex der Lage 53).In the present case, for the lowest layer 51 a SiO x N y , that is to say an oxygen-containing silicon nitride, in which the refractive index is approximately 1.77. In contrast, pure silicon nitride has a refractive index of around n = 2. The refractive index of the layer is 1.77 51 between the values of SiO 2 (ie the refractive index of the layers 52 , 54 ), and TiO 2 (i.e. the refractive index of the layer 53 ).

Ein mögliches Beispiel für den Aufbau eines erfindungsgemäßen AR-Systems aus den zuvor genannten Materialien SiOxNy, SiO2 und TiO2 ist exemplarisch in folgender Tabelle gegeben: Lage (51) SiOXNY (n=1, 733) 61 nm Lage (52) SiO2 10 nm Lage (53) TiO2 102 nm Lage (54) SiO2 89 nm A possible example for the construction of an AR system according to the invention from the aforementioned materials SiO x N y , SiO 2 and TiO 2 is given in the following table: Location (51) SiO X N Y (n = 1,733) 61 nm Location (52) SiO 2 10 nm Location (53) TiO 2 102 nm Location (54) SiO 2 89 nm

Es ergibt sich ein ähnliches Bild wie bei den Beispielen der 4. Bei Verwendung von nur zwei verschiedenen Brechungsindices im 4-lagigen AR System (Farbort-Werte 46, 47, 48) kommt es bei Variationen der Schichtdicken der Lagen um ±1 nm zu einer stärkeren Farbortschwankung als bei Verwendung von drei Brechungsindices (Farbort-Werte 66, 67, 68), wenn diese wie zuvor beschrieben in der Reihenfolge vom Substrat aus gesehen nmittel, nniedrig, nhoch, nniedrig verlaufen. Bei dem in 2 gezeigten Beispiel entsprechen die Verhältnisse der Schichtdicken den Werten der vorstehenden Tabelle.The picture is similar to that of the examples in 4th . When using only two different refractive indices in the 4-layer AR system (color locus values 46 , 47 , 48 ), variations in the layer thicknesses of the layers by ± 1 nm lead to a greater fluctuation in the color locus than when using three refractive indices (color locus values 66 , 67 , 68 ), if, as described above, they run in the order of n medium , n low , n high , n low as seen from the substrate. The in 2 In the example shown, the proportions of the layer thicknesses correspond to the values in the table above.

Gute Entspiegelungseigenschaften können auch noch erzielt werden, wenn die oben angegebenen Schichtdicken jeweils um 10% abweichen. Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung betragen daher die Schichtdicken für die unterste Lage 51 61 ± 6,1 nm, für die zweitunterste Lage 52 10 ± 1 nm, für die obere, höherbrechende Lage 53 102 ± 10,2 nm und für die oberste Lage 54 89 ± 8,9 nm.Good anti-reflective properties can also be achieved if the layer thicknesses given above differ by 10%. According to one embodiment of the invention, the layer thicknesses for the bottom layer are therefore 51 61 ± 6.1 nm, for the second lowest position 52 10 ± 1 nm, for the upper, higher index layer 53 102 ± 10.2 nm and for the top layer 54 89 ± 8.9 nm.

Anhand dieser Beispiele wird deutlich, dass es günstig ist, wenn ein gewisser Mindestunterschied der Brechungsindizes der beiden Lagen 51, 53 mit höherem Brechungsindex vorhanden ist. Allgemein, ohne Beschränkung auf die anhand der Figuren beschriebenen Beispiele ist gemäß einer Weiterbildung der Erfindung vorgesehen, dass der Brechungsindex der untersten Lage 51 der vier Lagen 51, 52, 53, 54 der Antireflexbeschichtung 5 kleiner als 1,79 zu wählen ist und gleichzeitig derart einzustellen, dass die benachbarte Lage 52 eine Schichtdicke zwischen 1 und 20 nm, bevorzugt zwischen 5 und 15 nm aufweist. Eine geringe Schichtdicke der Lage 52 erweist sich als besonders wirkungsvoll, um die Empfindlichkeit des AR-Systems gegenüber Farbortschwankungen bei Variation der Schichtdicken zu reduzieren. Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung ist daher vorgesehen, dass die Schichtdicke der Lage 52 mit niedrigerem Brechungsindex, welche sich zwischen den beiden Lagen 51, 53 mit höherem Brechungsindex befindet, beziehungsweise der zweituntersten Lage unterhalb von 20 nm, bevorzugt unterhalb von 18 nm, besonders bevorzugt unterhalb 15 nm liegt.These examples make it clear that it is beneficial if there is a certain minimum difference in the refractive indices of the two layers 51 , 53 with a higher refractive index is present. In general, without limitation to the examples described with reference to the figures, a further development of the invention provides that the refractive index of the lowest layer 51 of the four layers 51 , 52 , 53 , 54 the anti-reflective coating 5 less than 1.79 is to be selected and at the same time to be set in such a way that the adjacent position 52 has a layer thickness between 1 and 20 nm, preferably between 5 and 15 nm. A thin layer of the layer 52 proves to be particularly effective in reducing the sensitivity of the AR system to color locus fluctuations when the layer thicknesses vary. According to a further development of the invention, it is therefore provided that the layer thickness of the layer 52 with a lower refractive index, which is between the two layers 51 , 53 with a higher refractive index, or the second lowest layer is below 20 nm, preferably below 18 nm, particularly preferably below 15 nm.

Nach unten hin wird dieser Unterschied durch den Brechungsindex der Lagen mit niedrigerem Brechungsindex begrenzt. Je nach verwendeten Materialien im Aufbau des Antireflex-Systems sind hierbei für die unterste Lage 51 Brechungsindices von ab etwa 1,66 bevorzugt.This difference is limited towards the bottom by the refractive index of the layers with the lower refractive index. Depending on the materials used in the structure of the anti-reflective system, here are for the bottom layer 51 Refractive indices from about 1.66 are preferred.

Der Brechungsindex der Schicht 51 liegt also bevorzugt in dem Bereich zwischen 1,66 und 1,79.The refractive index of the layer 51 is therefore preferably in the range between 1.66 and 1.79.

6 zeigt einen typischen Anwendungsfall für die Erfindung. Gemäß einer Ausgestaltung der Erfindung ist ohne Beschränkung auf das dargestellte Beispiel ein mobiles elektronisches Gerät 20 mit einer elektronischen Anzeige 21, vorzugsweise einer Matrixanzeige, beziehungsweise einer pixelgesteuerten Anzeige vorgesehen, wobei das elektronische Gerät 20 ein erfindungsgemäßes scheibenförmiges Element 1 aufweist, welches die elektronische Anzeige 21 abdeckt, wobei die Seite 30 des scheibenförmigen Elements 1 mit der Antireflexbeschichtung 5 nach außen gewandt ist. Auf diese Weise kann die Antireflexbeschichtung 5 ihre Wirkung in der Verminderung störender Lichtreflexe einerseits und einem Schutz vor Verkratzen durch äußere mechanische Einwirkungen andererseits ausüben. 6th shows a typical application for the invention. According to one embodiment of the invention, without being limited to the example shown, there is a mobile electronic device 20th with an electronic display 21st , preferably a matrix display or a pixel-controlled display is provided, the electronic device 20th a disk-shaped element according to the invention 1 has which the electronic display 21st covers, with the side 30th of the disc-shaped element 1 with the anti-reflective coating 5 is turned outwards. This way the anti-reflective coating can 5 exercise their effect in the reduction of disruptive light reflections on the one hand and protection against scratching by external mechanical influences on the other.

Bei dem dargestellten Beispiel handelt es sich um ein mobiles Gerät in Form eines Tablet-PCs. In gleichem Maße geeignet ist die Erfindung auch für Mobiltelefone, insbesondere sogenannte Smart-Phones, mobile Navigationsgeräte und mobile Medienwiedergabegeräte, wie insbesondere Musik- und Videoabspielgeräte, sowie für Smartwatches.The example shown is a mobile device in the form of a tablet PC. The invention is equally suitable for mobile telephones, in particular so-called smart phones, mobile navigation devices and mobile media playback devices, such as in particular music and video playback devices, and for smartwatches.

Besondere mechanische Belastungen treten bei solchen Geräten insbesondere auch dann auf, wenn die Geräte mit einer Benutzerschnittstelle mit einem berührungsempfindlichen Bildschirm ausgestattet sind, so dass die Seite 30 mit der Antireflexbeschichtung 5 des erfindungsgemäßen Elements 1 gleichzeitig auch eine Bedienungsoberfläche der Schnittstelle darstellt. Gerade bei dieser Ausführungsform der Erfindung ist auch eine weitere Beschichtung in Form der oben genannten und im Beispiel der 1 gezeigten fluororganischen Schicht 6.Particular mechanical loads occur with such devices in particular when the devices are equipped with a user interface with a touch-sensitive screen, so that the side 30th with the anti-reflective coating 5 of the element according to the invention 1 at the same time also represents a user interface of the interface. Particularly in this embodiment of the invention, there is also a further coating in the form of the one mentioned above and in the example of 1 organic fluorine layer shown 6th .

Häufig soll das Abdeckglas der elektronischen Anzeige nicht vollständig transparent sein, sondern, wie auch anhand der 3 erläutert, gewisse Bereiche verdeckt werden. Dazu wird eine lichtabsorbierende Beschichtung 7 vorgesehen, welche die Randbereiche des Elements 1 bedeckt und die elektronische Anzeige 21 umrahmt. Gerade in diesen in 6 schwarz eingezeichneten, mit einer lichtblockenden Beschichtung versehenen Randbereichen sind Farbortschwankungen besonders deutlich sichtbar, wie anhand der Beispiele der 4 und 5 gezeigt wurde. Zwar sind die Lichtreflexe aufgrund der Antireflexbeschichtung 5 an sich nur sehr schwach. Dem steht aber entgegen, dass der dunkle Hintergrund aufgrund der lichtabsorbierenden Beschichtung für einen hohen Kontrast sorgt, so dass auch sehr schwache Lichtreflexe bemerkbar sind. Mit dem erfindungsgemäßen Design der Antireflexbeschichtung 5 wird nun dafür gesorgt, dass die verbleibenden sichtbaren Lichtreflexe farblich einheitlich erscheinen.Often, the cover glass of the electronic display should not be completely transparent, but, as also based on the 3 explained, certain areas are covered. This is done using a light-absorbing coating 7th provided which the edge areas of the element 1 covered and the electronic display 21st framed. Especially in this in 6th Black-drawn edge areas provided with a light-blocking coating are particularly clearly visible, as can be seen from the examples in FIG 4th and 5 was shown. The light reflections are due to the anti-reflective coating 5 in itself only very weak. However, this is countered by the fact that the dark background ensures a high contrast due to the light-absorbing coating, so that even very weak light reflections are noticeable. With the design of the anti-reflective coating according to the invention 5 it is now ensured that the remaining visible light reflections appear uniformly colored.

Es ist dem Fachmann ersichtlich, dass die Erfindung nicht auf die Ausführungsbeispiele, wie sie in den Figuren dargestellt sind, beschränkt ist, sondern vielmehr vielfältig im Rahmen des Gegenstands der Patentansprüche variiert werden kann. Insbesondere können die Merkmale der einzelnen Ausführungsbeispiele auch miteinander kombiniert werden. So kann für ein mobiles elektronisches Gerät 20 sowohl eine Beschichtung gemäß 1, als auch mit den weiteren Merkmalen des Beispiels der 2 verwendet werden. Eine fluororganische Beschichtung 6 kann in jeder der dargestellten Ausführungsformen vorhanden sein. Diese Möglichkeit wird auch ausdrücklich bevorzugt.It is evident to the person skilled in the art that the invention is not restricted to the exemplary embodiments as shown in the figures, but rather can be varied in many ways within the scope of the subject matter of the patent claims. In particular, the features of the individual exemplary embodiments can also be combined with one another. So can for a mobile electronic device 20th both a coating according to 1 , as well as with the other features of the example of the 2 be used. An organic fluorine coating 6th may be in any of the illustrated embodiments. This option is also expressly preferred.

Claims (16)

Scheibenförmiges Element (1) mit - einem im sichtbaren Spektralbereich transparenten scheibenförmigen Substrat (3) und - einer auf dem Substrat (1) abgeschiedenen Antireflexbeschichtung (5), wobei die Antireflexbeschichtung (5) - vier aufeinanderfolgende Lagen (51, 52, 53, 54) umfasst, wobei aneinander angrenzende Lagen sich jeweils in ihrem Brechungsindex unterscheiden, derart, dass der Brechungsindex von Lage zu Lage abwechselnd ansteigt und abnimmt und sich Lagen (52, 54) mit niedrigerem Brechungsindex mit Lagen (51, 53) mit höherem Brechungsindex abwechseln, und wobei - die unterste (51) der vier Lagen (51, 52, 53, 54) eine Lage mit höherem Brechungsindex ist und einen höheren Brechungsindex aufweist, als die benachbarte zweitunterste Lage (52), - wobei die vier Lagen (51, 52, 53, 54) mindestens drei verschiedene Brechungsindices aufweisen, derart, dass der Brechungsindex der untersten, dem Substrat (3) nächsten Lage (51) mit höherem Brechungsindex niedriger ist, als der Brechungsindex der weiteren Lage (53) mit höherem Brechungsindex, wobei der Brechungsindex der untersten Lage (51) mit höherem Brechungsindex zwischen 1,665 und 1,795 liegt und wobei die unterste Lage (51) mit höherem Brechungsindex aus einem sauerstoffhaltigen Material gebildet wird, wodurch dieses scheibenförmige Element (1) insbesondere eine geringe Farbortänderung bei Schichtdickenschwankung zeigt. Disc-shaped element (1) with - A disk-shaped substrate (3) and transparent in the visible spectral range - An anti-reflective coating (5) deposited on the substrate (1), the anti-reflective coating (5) - comprises four successive layers (51, 52, 53, 54), adjacent layers each differing in their refractive index, such that the refractive index alternately increases and decreases from layer to layer and layers (52, 54) with a lower refractive index alternate with layers (51, 53) with a higher refractive index, and where - The lowest (51) of the four layers (51, 52, 53, 54) is a layer with a higher refractive index and has a higher refractive index than the adjacent second lowest layer (52), - The four layers (51, 52, 53, 54) having at least three different refractive indices, such that the refractive index of the lowest layer (51) closest to the substrate (3) is lower with a higher refractive index than the refractive index of the further layer (53) with a higher refractive index, the refractive index of the lowermost layer (51) with a higher refractive index being between 1.665 and 1.795 and the lowermost layer (51) with a higher refractive index being formed from an oxygen-containing material, whereby this disc-shaped element (1) in particular shows a slight change in color location with fluctuation in layer thickness Scheibenförmiges Element (1) gemäß dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (3) ein Glassubstrat, insbesondere ein chemisch vorgespanntes Glassubstrat ist.Disc-shaped element (1) according to the preceding claim, characterized in that the substrate (3) is a glass substrate, in particular a chemically toughened glass substrate. Scheibenförmiges Element (1) gemäß einem der beiden vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die unterste, dem Substrat (3) nächste Lage (51) der Antireflexbeschichtung (5) eine Oxinitrid-Lage oder eine Oxid-Lage ist.Disc-shaped element (1) according to one of the two preceding claims, characterized in that the lowest layer (51) of the anti-reflective coating (5) closest to the substrate (3) is an oxynitride layer or an oxide layer. Scheibenförmiges Element (1) gemäß dem vorstehenden Anspruch, dadurch gekennzeichnet, dass beide Lagen (51, 53) mit höherem Brechungsindex Siliziumoxinitrid-Lagen sind, wobei die unterste Lage (51) mit höherem Brechungsindex einen höheren Sauerstoff-Gehalt aufweist, als die weitere Lage (53) mit höherem Brechungsindex.Disc-shaped element (1) according to the preceding claim, characterized in that both layers (51, 53) with a higher refractive index are silicon oxynitride layers, the lowest layer (51) with a higher refractive index having a higher oxygen content than the further layer (53) with a higher refractive index. Scheibenförmiges Element (1) gemäß einem der beiden vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass Sauerstoff in der untersten Lage (51) im Bereich von 5 bis 10 Atomprozent enthalten ist, oder dass das Verhältnis der Gehalte in Atomprozent von Sauerstoff zu Stickstoff des Oxinitrids in Atomprozent im Bereich von 0,41 bis 1,02 liegt.Disc-shaped element (1) according to one of the two preceding claims, characterized in that oxygen in the lowermost layer (51) is contained in the range of 5 to 10 atomic percent, or that the ratio of the contents in atomic percent of oxygen to nitrogen of the oxynitride in atomic percent ranges from 0.41 to 1.02. Scheibenförmiges Element (1) gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die oberste Lage mit höherem Brechungsindex, welche die zweitoberste Lage der vierlagigen Antireflexbeschichtung (5) bildet, die Lage mit der größten Schichtdicke unter den vier Lagen (51, 52, 53, 54) ist.Disc-shaped element (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the top layer with a higher refractive index, which forms the second top layer of the four-layer anti-reflective coating (5), is the layer with the greatest layer thickness among the four layers (51, 52, 53 , 54) is. Scheibenförmiges Element (1) gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass auf der Antireflexbeschichtung (5) eine fluororganische Schicht 6 aufgebracht ist.Disc-shaped element (1) according to one of the preceding claims, characterized in that an organofluorine layer 6 is applied to the anti-reflective coating (5). Scheibenförmiges Element gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass auf der Seite (31) des Substrats (3), welche der Seite (30) mit der Antireflexbeschichtung (5) gegenüberliegt, eine lichtabsorbierende Beschichtung (7) aufgebracht ist.Disc-shaped element according to one of the preceding claims, characterized in that a light-absorbing coating (7) is applied to the side (31) of the substrate (3) which is opposite the side (30) with the anti-reflective coating (5). Scheibenförmiges Element (1) gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Lagen (52, 54) mit niedrigerem Brechungsindex SiO2-Lagen sind.Disc-shaped element (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the layers (52, 54) with a lower refractive index are SiO 2 layers. Scheibenförmiges Element (1) gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Lagen (52, 54) mit niedrigerem Brechungsindex SiO2-Lagen sind, die zusätzlich Al2O3 enthalten derart, dass das Verhältnis der Gehalte von Al/Si in Atomprozent im Bereich von 0,05 bis 0,3, bevorzugt etwa 0,1 ist.Disc-shaped element (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the layers (52, 54) with a lower refractive index are SiO 2 layers which additionally contain Al 2 O 3 in such a way that the ratio of the Al / Si contents in Atomic percent is in the range from 0.05 to 0.3, preferably about 0.1. Scheibenförmiges Element (1) gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichtdicke der zweituntersten Lage (52) unterhalb von 20 nm, bevorzugt unterhalb von 18 nm, besonders bevorzugt unterhalb 15 nm liegt.Disc-shaped element (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the layer thickness of the second lowest layer (52) is below 20 nm, preferably below 18 nm, particularly preferably below 15 nm. Scheibenförmiges Element (1) gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichtdicke der untersten Lage (51) größer als die Schichtdicke der zweituntersten Lage (52) ist.Disc-shaped element (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the layer thickness of the lowest layer (51) is greater than the layer thickness of the second lowest layer (52). Scheibenförmiges Element (1) gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das die Antireflexbeschichtung (5) folgende Schichtdicken aufweist: 61 ± 6,1 nm für die unterste Lage (51) der vier aufeinanderfolgenden Lagen, 10 ± 1 nm für die zweitunterste Lage (52) der vier aufeinanderfolgenden Lagen, 102 ± 10,2 nm für die obere, höherbrechende Lage (53) der vier aufeinanderfolgenden Lagen und 89 ± 8,9 nm für die oberste Lage (54) der vier aufeinanderfolgenden Lagen.Disc-shaped element (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the anti-reflective coating (5) has the following layer thicknesses: 61 ± 6.1 nm for the bottom layer (51) of the four successive layers, 10 ± 1 nm for the second bottom Position (52) of the four successive layers, 102 ± 10.2 nm for the upper, higher refractive index layer (53) of the four successive layers and 89 ± 8.9 nm for the top layer (54) of the four successive layers. Scheibenförmiges Element gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Substratoberfläche direkt an die Sequenz der vier Lagen (51, 52, 53, 54) der Antireflexbeschichtung (5) angrenzt.Disc-shaped element according to one of the preceding claims, characterized in that the substrate surface directly adjoins the sequence of the four layers (51, 52, 53, 54) of the anti-reflective coating (5). Mobiles elektronisches Gerät (20) mit einer elektronischen Anzeige (21), wobei das elektronische Gerät (20) ein scheibenförmiges Element (1) gemäß einem der vorstehenden Ansprüche aufweist, welches die elektronische Anzeige (21) abdeckt, wobei die Seite (30) des scheibenförmigen Elements (1) mit der Antireflexbeschichtung (5) nach außen gewandt ist.Mobile electronic device (20) with an electronic display (21), wherein the electronic device (20) comprises a disc-shaped element (1) according to one of the preceding claims, which covers the electronic display (21), wherein the side (30) of the disc-shaped element (1) with the anti-reflective coating (5) facing outwards. Mobiles elektronisches Gerät (20) gemäß dem vorstehenden Anspruch, gekennzeichnet durch eine Benutzerschnittstelle mit einem berührungsempfindlichen Bildschirm, wobei die Seite (30) des Elements (1) mit der Antireflexbeschichtung (5) eine Bedienungsoberfläche der Schnittstelle darstellt.Mobile electronic device (20) according to the preceding claim, characterized by a user interface with a touch-sensitive screen, wherein the side (30) of the element (1) with the anti-reflective coating (5) represents a user interface of the interface.
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