DE202015104722U1

DE202015104722U1 - Scratch-resistant antireflective coating

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Publication number: DE202015104722U1
Application number: DE202015104722.3U
Authority: DE
Original assignee: Schott AG
Current assignee: Schott AG
Priority date: 2015-09-04
Filing date: 2015-09-04
Publication date: 2015-09-16
Anticipated expiration: 2025-09-05

Abstract

Scheibenförmiges Element (1) mit – einem im sichtbaren Spektralbereich transparenten scheibenförmigen Substrat (3) und – einer auf dem Substrat (1) abgeschiedenen Antireflexbeschichtung (5), wobei die Antireflexbeschichtung (5) – vier aufeinanderfolgende Lagen (51, 52, 53, 54) umfasst, wobei aneinander angrenzende Lagen sich jeweils in ihrem Brechungsindex unterscheiden, derart, dass der Brechungsindex von Lage zu Lage abwechselnd ansteigt und abnimmt und sich Lagen (52, 54) mit niedrigerem Brechungsindex mit Lagen (51, 53) mit höherem Brechungsindex abwechseln, und wobei – die unterste (51) der vier Lagen (51, 52, 53, 54) eine Lage mit höherem Brechungsindex ist und einen höheren Brechungsindex aufweist, als die benachbarte zweitunterste Lage (52), – wobei die vier Lagen (51, 52, 53, 54) mindestens drei verschiedene Brechungsindices aufweisen, derart, dass der Brechungsindex der untersten, dem Substrat (3) nächsten Lage (51) mit höherem Brechungsindex niedriger ist, als der Brechungsindex der weiteren Lage (53) mit höherem Brechungsindex, und wobei die unterste Lage (51) mit höherem Brechungsindex aus einem sauerstoffhaltigen Material gebildet wird, wodurch dieses scheibenförmige Element (1) insbesondere eine geringe Farbortänderung bei Schichtdickenschwankung zeigt.A disc-shaped element (1) having - a transparent in the visible spectral range disc-shaped substrate (3) and - on the substrate (1) deposited antireflection coating (5), wherein the antireflection coating (5) - four successive layers (51, 52, 53, 54 ), wherein adjacent layers each differ in their refractive index such that the refractive index alternately increases and decreases from layer to layer, and layers (52, 54) of lower refractive index alternate with layers (51, 53) of higher refractive index, and wherein - the lowermost (51) of the four layers (51, 52, 53, 54) is a higher refractive index layer and has a higher refractive index than the adjacent second lowest layer (52), the four layers (51, 52 , 53, 54) have at least three different refractive indices such that the refractive index of the lowermost layer (51) of higher refractive index closest to the substrate (3) is lower, a The refractive index of the further layer (53) having a higher refractive index, and the lower layer (51) having a higher refractive index being formed from an oxygen-containing material, make this disk-shaped element (1) show in particular a small change in color with layer thickness variation.

Description

Die Erfindung betrifft allgemein optische Interferenzbeschichtungen. Insbesondere betrifft die Erfindung Entspiegelungs-, beziehungsweise Antireflexbeschichtungen mit hoher Kratzbeständigkeit. The invention relates generally to optical interference coatings. In particular, the invention relates to antireflection or antireflection coatings with high scratch resistance.

Chemisch vorgespannte Gläser für Anzeigen mobiler elektronischer Geräte, wie Smartphones oder Tablet-PCs sind bekannt. In der Regel werden für diese Anzeigen Alumosilikatgläser als Deckgläser eingesetzt. Diese Alumosilikatgläser weisen typischerweise einen Brechungsindex von größer als 1,5 bei einer Wellenlänge von 550nm auf. Chemically tempered glasses for displays of mobile electronic devices, such as smartphones or tablet PCs are known. As a rule, aluminosilicate glasses are used as coverslips for these displays. These aluminosilicate glasses typically have a refractive index of greater than 1.5 at a wavelength of 550 nm.

Es ist weiterhin bekannt und üblich, Deckgläser für optische Anzeigen chemisch vorzuspannen. Durch das chemische Vorspannen, bei dem Na-Ionen des Glases gegen Kaliumionen aus einem Salzbad ausgetauscht werden, reichert sich das Kalium in einer oberflächennahen Zone von mehreren Mikrometern an. Der Kaliumgehalt liegt dabei im Bereich bis zu wenigen Massenprozenten. Durch das chemische Vorspannen wird eine Erhöhung der Biegefestigkeit sowie der Kratzfestigkeit erzielt. Trotzdem ist nach kurzer Gebrauchszeit eines typischen Produktes eine Schädigung der Oberfläche in Form von Kratzern zu erkennen. Das chemische Vorspannen verhindert zwar das leichte Zerbrechen des Glases bei Biegebelastung, da die Druckvorspannung eine Ausbreitung eines Risses, hervorgerufen beispielsweise durch einen Kratzer verhindert oder verzögert – eine Vermeidung von Kratzern ist jedoch nicht gegeben. It is also known and customary to chemically bias cover glasses for optical displays. By chemical toughening, in which Na ions of the glass are exchanged for potassium ions from a salt bath, the potassium accumulates in a near-surface zone of several micrometers. The potassium content is in the range up to a few percent by mass. By chemical toughening an increase in flexural strength and scratch resistance is achieved. Nevertheless, after a short period of use of a typical product damage to the surface in the form of scratches can be seen. Although chemical tempering prevents easy breakage of the glass under bending load, since the compressive prestressing prevents or delays propagation of a crack caused by a scratch, for example, scratches are avoided.

Eine Antifingerprintbeschichtung (AFP), die entweder oleophob oder hydrophob oder amphiphob ist, kann auf das Glas appliziert werden, so dass Fingerabrücke nicht entstehen oder sich zumindest sehr leicht abreinigen lassen. Heutige Produkte verfügen typischerweise über eine nicht dauerhaft beständige AFP, so dass der Effekt der leichten Reinigbarkeit oder der reduzierten Fingerabdruckauffälligkeit nach wenigen Monaten nicht mehr gegeben ist. Die AFP ist im Allgemeinen eine teilweise organische Schicht, die sehr dünn aufgetragen ist, so dass sie optisch nicht aktiv ist. Die Reflexion des Produktes ist daher in erster Linie durch die Glasoberfläche gegeben. An der Oberseite des Glases werden daher etwa 4 Prozent des Lichtes bei senkrechtem Einfall reflektiert, was insbesondere bei heller Beleuchtung, wie beispielsweise Sonnenschein, störend ist und die Lesbarkeit des Inhalts des Displays einschränkt. An antifingerprint coating (AFP), which is either oleophobic or hydrophobic or amphiphobic, can be applied to the glass, so that fingerprints do not arise or at least can be cleaned very easily. Today's products typically have a non-durable AFP, so the effect of easy cleanability or reduced fingerprint conspicuousness is lost after a few months. The AFP is generally a partially organic layer that is applied very thin so that it is optically inactive. The reflection of the product is therefore given primarily by the glass surface. At the top of the glass, therefore, about 4 percent of the light is reflected at normal incidence, which is particularly disturbing in bright lighting, such as sunshine, and limits the readability of the content of the display.

Antireflexbeschichtungen zur Entspiegelung von Glasoberflächen sind bekannt. Sie bestehen je nach Ausführungsform aus mehreren Schichten, die einseitig oder beidseitig auf das Glassubstrat aufgebracht werden. Je nach Einsatzgebiet des Produktes ist eine mechanisch stabile, das heißt Schädigungsresistente oder kratzfeste Ausführung des Antireflexsystems wünschenswert. Das allgemeine Ziel einer optischen Antireflexbeschichtung ist es in erster Linie, die Reflexion des sichtbaren Teils des elektromagnetischen Spektrums gleichmäßig zu unterdrücken, so dass es möglichst zu keiner Farbauffälligkeit durch eine ungleichmäßige Restreflexion kommt. Ein Beispiel für eine solche farbneutrale, kratzbeständige Antireflexbeschichtung ist in der US 2012/0212826 A1 angegeben. Antireflective coatings for antireflecting glass surfaces are known. Depending on the embodiment, they consist of several layers, which are applied to the glass substrate on one or both sides. Depending on the field of application of the product, a mechanically stable, ie damage-resistant or scratch-resistant version of the antireflection system is desirable. The general objective of an antireflective optical coating is to suppress uniformly the reflection of the visible part of the electromagnetic spectrum, so that as far as possible no color conspicuousness arises due to an uneven residual reflection. An example of such a color neutral, scratch resistant, antireflective coating is in US 2012/0212826 A1 specified.

Im Laufe des Handy-Cover Herstellungsprozesses können die genannten Gläser mit einem Dekordruck auf der dem Nutzer abgewandten Seite, der sogenannten Rückseite des Covers versehen werden, der typischerweise schwarz oder weiß ist. Oft wird der Firmenname des Herstellers oder der Produktname in silberfarbenem Schriftzug aufgedruckt. In the course of the mobile phone cover manufacturing process, said glasses can be provided with a decorative print on the side facing away from the user, the so-called back of the cover, which is typically black or white. Often the company name or the product name is printed in silver lettering.

Antireflexsysteme bestehen in der Regel aus mehr als einer Schicht, insbesondere dann, wenn über einen großen Teil des visuellen Spektrums gleichmäßig entspiegelt werden soll und nicht nur bei einer bestimmten Wellenlänge. Zwei aufeinander folgende Schichten haben unterschiedliche Brechungsindizes. Es wechseln sich Schichten mit hohem und niedrigen Brechungsindex ab. Die wellenlängenabhängige Reflektionskurve ist das Ergebnis des Zusammenwirkens der einzelnen Reflektionen an den Grenzflächen. Eine gleichmäßige, farbneutrale Reflektion ist das Ergebnis einer exakt aufeinander abgestimmten Abfolge von optischen Schichtdicken, d.h. dem Produkt aus Brechungsindex und Schichtdicke. Die Änderung einer oder mehrerer Schichtdicken verändert die Reflektionsbedingungen und damit auch das Reflektionsergebnis, insbesondere auch den Farbort der Reflektion. Antireflection systems usually consist of more than one layer, in particular if a large part of the visual spectrum is to be uniformly antireflected and not only at a specific wavelength. Two consecutive layers have different refractive indices. Layers of high and low refractive index alternate. The wavelength-dependent reflection curve is the result of the interaction of the individual reflections at the interfaces. A uniform, color-neutral reflection is the result of a perfectly matched sequence of optical layer thicknesses, i. the product of refractive index and layer thickness. The change of one or more layer thicknesses changes the reflection conditions and thus also the reflection result, in particular also the color location of the reflection.

Prozesstechnisch bedingte Schichtdickenschwankungen, wie sie beispielsweise an unterschiedlichen Positionen innerhalb eines Probenhalters (engl.: Carrier) oder bei Schwankungen von Produktionslos zu Produktionslos auftreten, können daher zu einer starken Farbortänderung führen. Je nach Stärke der Schichtdickenschwankung kommt es zu stark auffälligen Farbortvariationen, die die Produktionsausbeute herabsetzen. Process-related layer thickness fluctuations, as they occur, for example, at different positions within a sample holder (English: Carrier) or fluctuations of Produktionslos to Produktionslos, therefore, can lead to a strong color change. Depending on the thickness of the layer thickness variation, there are strongly noticeable color location variations, which reduce the production yield.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Antireflexsystem bereitzustellen, das eine gute Adhäsion an das Glassubstrat hat, eine hohe Kratzfestigkeit besitzt, eine gute Basis für eine Antifingerprintbeschichtung darstellt und insbesondere bei typischen prozessbedingten Schichtdickenschwankungen eine nur geringe Änderung des Farbortes aufweist. Die Erfindung betrifft speziell ein transparentes Element mit einer Antireflexbeschichtung mit vier Lagen. Diese Antireflexbeschichtung ist gemäß der oben genannten Aufgabe so ausgebildet, dass der Farbort von reflektiertem Licht eine verminderte Abhängigkeit von Schichtdickenschwankungen aufweist. The invention is therefore based on the object to provide an antireflection system, which has a good adhesion to the glass substrate, has a high scratch resistance, provides a good basis for a Antifingerprintbeschichtung and especially in typical process-related layer thickness variations has only a small change in color location. The invention specifically relates to a transparent element with a four-layer anti-reflection coating. This antireflection coating is designed in accordance with the above-mentioned object so that the color location of reflected light has a reduced dependence on layer thickness fluctuations.

Das antireflektierend wirkende Interferenz-Schichtsystem gemäß der Erfindung umfasst eine Abfolge alternierend hoch- und niedrigbrechender Schichten. Von Lage zu Lage fortschreitend wird der Brechungsindex mithin abwechselnd höher und niedriger. Das Schichtsystem umfasst dabei mindestens vier Lagen. Eine hohe Kratzbeständigkeit wird erzielt, indem ein transparentes Hartstoff-Material für mindestens eine hochbrechende Schicht verwendet wird. The antireflective interference layer system according to the invention comprises a sequence of alternating high and low refractive layers. As the position progresses, the refractive index becomes alternately higher and lower. The layer system comprises at least four layers. High scratch resistance is achieved by using a transparent hard material for at least one high refractive index layer.

Es zeigt sich, dass die schichtdickenabhängige Farbortschwankung bei einer vierlagigen Antireflexbeschichtung durch die Verwendung von mehr als zwei Materialien erreicht werden kann. Dabei sollte die erste, auf dem Substrat aufgebrachte hochbrechende Schicht einen Brechungsindex n_m haben der zwischen dem Brechungsindex der weiteren hochbrechenden Schicht n_h und dem Brechungsindex der niedrigbrechenden Schicht n_n liegt. It can be seen that the layer thickness-dependent chromaticity variation in a four-layer antireflective coating can be achieved by using more than two materials. In this case, the first high-index layer applied to the substrate should have a refractive index n _m which lies between the refractive index of the further high-index layer n _h and the refractive index of the low-refractive index n _n .

Demgemäß sieht die Erfindung ein scheibenförmiges Element mit

– einem im sichtbaren Spektralbereich transparenten scheibenförmigen Substrat und
– einer auf dem Substrat abgeschiedenen Antireflexbeschichtung vor, wobei die Antireflexbeschichtung
– vier aufeinanderfolgende Lagen umfasst, bei welcher aneinander angrenzende Lagen sich jeweils in ihrem Brechungsindex unterscheiden, derart, dass der Brechungsindex von Lage zu Lage abwechselnd ansteigt und abnimmt und sich Lagen mit niedrigerem Brechungsindex mit Lagen mit höherem Brechungsindex abwechseln.

Accordingly, the invention provides a disk-shaped element

- A transparent in the visible spectral disc-shaped substrate and
An anti-reflection coating deposited on the substrate, the anti-reflection coating
Comprises four successive layers in which adjacent layers each differ in their refractive index, such that the refractive index alternately increases and decreases from layer to layer, and layers of lower refractive index alternate with layers of higher refractive index.

Die unterste der vier Lagen ist eine Lage mit höherem Brechungsindex und weist demzufolge einen höheren Brechungsindex auf, als die benachbarte zweitunterste Lage. The lowermost of the four layers is a layer of higher refractive index and thus has a higher refractive index than the adjacent second lowest layer.

Die vier Lagen weisen nun mindestens drei verschiedene Brechungsindices auf, derart, dass der Brechungsindex der untersten, dem Substrat nächsten Lage mit höherem Brechungsindex niedriger ist, als der Brechungsindex der weiteren Lage mit höherem Brechungsindex. Dabei wird die unterste Lage mit höherem Brechungsindex vorzugsweise aus einem sauerstoffhaltigen Material gebildet. Durch diese Merkmale zeigt das scheibenförmige Element insbesondere eine geringe Farbortänderung bei Schichtdickenschwankung. The four layers now have at least three different refractive indices such that the refractive index of the lowermost layer of the higher refractive index layer is lower than the refractive index of the further layer of higher refractive index. In this case, the lowermost layer with a higher refractive index is preferably formed from an oxygen-containing material. As a result of these features, the disk-shaped element shows, in particular, a slight color change in the case of layer thickness variation.

Die unterste, dem Substrat nächste Lage der Antireflexbeschichtung ist vorzugsweise eine Oxinitrid-Lage oder auch eine Oxid-Lage. Oxinitrid-Lagen mit Silizium oder Aluminium oder mit einer Mischung aus beiden Materialien sind besonders geeignet, da diese Materialien sehr transparent und gleichzeitig hart sind, wobei der Brechungsindex über den Sauerstoffgehalt beim Beschichtungsprozess gut eingestellt und angepasst werden kann. Allgemein können auch mehrere Komponenten für die Zusammensetzung der Lage verwendet werden. So ist gemäß einer Ausführungsform der Erfindung vorgesehen, dass die unterste Lage mindestens drei verschiedene Komponenten in oxinitridischer oder oxidischer Form enthält, die zu mehr als 1 Atomprozent zur Gesamtzusammensetzung beitragen. The lowermost, the substrate next layer of the antireflection coating is preferably an oxynitride layer or an oxide layer. Oxinitride layers with silicon or aluminum or with a mixture of both materials are particularly suitable because these materials are very transparent and at the same time hard, whereby the refractive index can be well adjusted and adjusted by the oxygen content during the coating process. In general, several components can be used for the composition of the layer. Thus, according to one embodiment of the invention, it is provided that the lowest layer contains at least three different components in oxinitridischer or oxidic form, which contribute to more than 1 atomic percent of the total composition.

Die Verwendung von Oxinitriden erleichtert die Herstellung eines mehrlagigen Antireflex-Schichtsystems dahingehend, dass auch für die weitere Hartstoff-Lage mit höherem Brechungsindex Siliziumoxinitrid oder Aluminiumnitrid, Aluminiumoxinitrid oder ein Nitrid oder Oxinitrid aus einem Gemisch von Aluminium und Silizium verwendet werden kann. Da deren Brechungsindex höher sein soll, ist dementsprechend auch der Sauerstoff-Gehalt niedriger. Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist daher vorgesehen, dass beide Lagen mit höherem Brechungsindex Siliziumoxinitrid-Lagen oder Aluminiumoxinitrid-Lagen oder ein Gemisch aus Silizium- und Aluminiumoxinitrid sind, wobei die unterste Lage mit höherem Brechungsindex einen höheren Sauerstoff-Gehalt aufweist, als die weitere Lage mit höherem Brechungsindex. The use of oxynitrides facilitates the production of a multilayer antireflective layer system in that silicon oxynitride or aluminum nitride, aluminum oxynitride or a nitride or oxynitride of a mixture of aluminum and silicon can also be used for the further refractive index hard material layer. Since their refractive index should be higher, the oxygen content is correspondingly lower. According to one embodiment of the invention, it is therefore provided that both layers with a higher refractive index are silicon oxynitride layers or aluminum oxynitride layers or a mixture of silicon and aluminum oxynitride, wherein the lowermost layer with a higher refractive index has a higher oxygen content than the further layer with higher refractive index.

Soll ein rein oxidisches Schichtsystem über einen Sputterprozess hergestellt werden, so kann nur Sauerstoff als Reaktivgas verwendet werden. Eine Mischung des Reakivgases scheidet aus. Trotzdem ist es möglich ein erfindungsgemäßes Antireflex-Schichtsystem herzustellen, indem ein Legierungstarget verwendet wird, das aus mindestens zwei Materialien besteht derart, dass das Oxid des einen Materials hochbrechend ist und das Oxid des anderen Materials niedrigbrechend ist. Durch geschickte Wahl der Zusammensetzung des Legierungstargets kann nun ein Mischoxid über den Sputterprozess in sauerstoffhaltiger Prozessatmosphäre hergestellt werden, das der oben genannten Anforderungen hinsichtlich eines höheren Brechungsindex, der jedoch niedriger als der Brechungsindex der weiteren hochbrechenden Schicht ist, genügt. Als Beispiel ohne Beschränkung auf weitere Möglichkeiten sei hier ein Target aus Silizium mit einer Beimischung von Zirkonium genannt oder ein Target aus Aluminium mit einer Beimischung von Zirkonium. If a purely oxidic layer system is to be produced via a sputtering process, then only oxygen can be used as the reactive gas. A mixture of the reactive gas is eliminated. Nevertheless, it is possible to produce an antireflective layer system according to the invention by using an alloy target which consists of at least two materials such that the oxide of one material is high-refractive and the oxide of the other material is low-refractive. By skillful choice of composition of the Alloy targets can now be a mixed oxide produced by the sputtering process in oxygen-containing process atmosphere, which meets the above requirements for a higher refractive index, but lower than the refractive index of the other high refractive index layer is sufficient. As an example, without limitation to other possibilities here is a target of silicon with an admixture of zirconium called or a target of aluminum with an admixture of zirconium.

Wie oben bereits gesagt, können auch mehr als zwei Komponenten am Aufbau der untersten Lage beteiligt sein. Im Speziellen können mindestens drei verschiedene Komponenten in oxinitridischer oder oxidischer Form enthalten sein, die zu mehr als 1 Atomprozent zur Gesamtzusammensetzung beitragen. Beispielsweise kann also neben Si und Al eine weitere Komponente mit ein oder mehr Atomprozent vorhanden und in oxidischer oder oxinitridischer Form eingebunden sein. As already stated above, more than two components can also be involved in the construction of the lowest layer. In particular, at least three different components may be present in oxinitridic or oxidic form, contributing to greater than 1 atomic percent of the total composition. For example, in addition to Si and Al, a further component with one or more atomic percent may be present and incorporated in oxidic or oxinitridischer form.

Die Sequenz der vier Lagen der Antireflexbeschichtung wird besonders bevorzugt direkt auf das Substrat aufgebracht. The sequence of the four layers of the antireflection coating is particularly preferably applied directly to the substrate.

Demgemäß grenzt die Substratoberfläche direkt an die Sequenz der vier Lagen der Antireflexbeschichtung an. Accordingly, the substrate surface directly adjoins the sequence of the four layers of the antireflective coating.

Auf der Antireflexbeschichtung kann gemäß einer besonders bevorzugten Weiterbildung der Erfindung eine fluororganische Schicht aufgebracht sein. Insbesondere kann eine solche Schicht auch als Monolage fluororganischer Moleküle ausgebildet sein, bevorzugt mit einer Schichtdicke von 1 nm bis 20 nm, besonders bevorzugt mit einer Schichtdicke von 1 nm bis 10 nm. Bei der fluororganischen Schicht kann es sich beispielsweise um eine oleophobe Beschichtung handeln On the antireflection coating according to a particularly preferred embodiment of the invention, a fluoroorganic layer can be applied. In particular, such a layer can also be formed as a monolayer of fluoroorganic molecules, preferably with a layer thickness of 1 nm to 20 nm, particularly preferably with a layer thickness of 1 nm to 10 nm. The fluoroorganic layer can be, for example, an oleophobic coating

Es hat sich gezeigt, dass ein Schichtsystem, bei dem auf eine Antireflexionsbeschichtung mit einer dicken, oberen Hartstoffschicht, insbesondere mit der größten Schichtdicke der Antireflexionsbeschichtung, noch eine zusätzliche fluororganische Schicht hinzugefügt ist, nicht nur wirksam ist, Fingerabdruckauffälligkeiten zu reduzieren oder sich leicht reinigen zu lassen, sondern dass das derart beschichtete, chemisch vorgespannte Glassubstrat und damit das erfindungsgemäße Element insbesondere die Vermeidung von Kratzern unterstützt. It has been found that a layer system in which an additional fluoroorganic layer is added to an antireflection coating with a thick, upper layer of hard material, in particular with the largest layer thickness of the antireflection coating, is not only effective in reducing fingerprinting marks or cleaning easily let, but that the thus coated, chemically toughened glass substrate and thus the element according to the invention supports in particular the avoidance of scratches.

Dies wird darauf zurückgeführt, dass die zusätzliche fluororganische Schicht vermutlich den Reibwert der Oberfläche so reduziert, dass eine Schädigung der Oberfläche geringer ausfällt. This is attributed to the fact that the additional fluoroorganic layer presumably reduces the coefficient of friction of the surface so that damage to the surface is less pronounced.

Um die Antireflexbeschichtung gemäß der Erfindung abzuscheiden, wird vorzugsweise Sputtern, insbesondere reaktives Sputtern eingesetzt. In order to deposit the antireflection coating according to the invention, it is preferable to use sputtering, in particular reactive sputtering.

Die Erfindung wird nachfolgend genauer anhand der Figuren und anhand von Ausführungsbeispielen erläutert. In den Figuren bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche oder ähnliche Schichten. The invention will be explained in more detail below with reference to the figures and exemplary embodiments. In the figures, like reference characters designate the same or similar layers.

Es zeigen: Show it:

1 ein Substrat mit einer vierlagigen Antireflexbeschichtung, 1 a substrate with a four-layer antireflective coating,

2 eine Variante der in 1 gezeigten Ausführungsform, 2 a variant of in 1 shown embodiment,

3 eine Weiterbildung der Erfindung mit einer lichtabsorbierenden Rückseitenbeschichtung, 3 a development of the invention with a light-absorbing backside coating,

4 Farbortänderungen an verschiedenen Elementen abhängig vom Aufbau der Antireflexbeschichtung und dem Vorhandensein oder Fehlen einer lichtabsorbierenden Rückseitenbeschichtung, 4 Color locus changes to different elements depending on the structure of the anti-reflection coating and the presence or absence of a light absorbing backsize coating;

5 Farbortänderungen an Antireflexschichtsystemen mit SiO₂/TiO₂-Lagen. 5 Color locus changes in antireflective layer systems with SiO ₂ / TiO ₂ layers.

1 zeigt ein Beispiel eines erfindungsgemäßen scheibenförmigen Elements. Das Element 1 umfasst allgemein und ohne Beschränkung auf das spezielle dargestellte Beispiel ein im sichtbaren Spektralbereich transparentes Substrat 3 und eine auf dem Substrat 1 auf einer Seitenfläche 30 abgeschiedene Antireflexbeschichtung 5. 1 shows an example of a disk-shaped element according to the invention. The element 1 generally includes, but is not limited to, the particular example illustrated, a transparent substrate in the visible spectral region 3 and one on the substrate 1 on a side surface 30 deposited anti-reflective coating 5 ,

Die Antireflexbeschichtung 5 umfasst vier aufeinanderfolgende Lagen 51, 52, 53, 54. Benachbarte Lagen unterscheiden sich jeweils in ihrem Brechungsindex. Insbesondere wechselt der Brechungsindex von Lage zu Lage so dass dieser abwechselnd ansteigt und abnimmt. Geht man die Lagen von oben nach unten zum Substrat 3 hin durch, so steigt also der Brechungsindex von der obersten Lage 54 zur zweitobersten Lage 53 an, sinkt zur nächsten Lage 52 ab und steigt zur untersten Lage 51 nochmals an, wobei er unterhalb des Niveaus des Brechungsindex der Lage 53 bleibt. The anti-reflective coating 5 includes four consecutive layers 51 . 52 . 53 . 54 , Neighboring layers differ in their refractive index. In particular, the refractive index changes from Position to position so that it alternately increases and decreases. If you go the layers from top to bottom to the substrate 3 through, so the refractive index of the top layer increases 54 to the second highest position 53 on, sinks to the next location 52 off and climbs to the bottom 51 again, being below the refractive index level 53 remains.

Die unterste der vier Lagen 51, 52, 53, 54 (d.h. Lage 51) ist eine Lage mit höherem Brechungsindex und weist folglich einen höheren Brechungsindex auf, als die benachbarte zweitunterste Lage 52. The lowest of the four layers 51 . 52 . 53 . 54 (ie location 51 ) is a layer of higher refractive index and thus has a higher refractive index than the adjacent second lowest layer 52 ,

Ohne Beschränkung auf das spezielle Ausführungsbeispiel der 1 ist bei einer Antireflexbeschichtung gemäß der Erfindung jedenfalls eine solche Sequenz aus vier Lagen 51, 52, 53, 54 vorhanden. Bevorzugt enthält die Beschichtung 5 als optisch wirksame Schichten nur diese vier Lagen. Es wird aber nicht ausgeschlossen, dass sich weitere Lagen oben und/oder unten, beziehungsweise substratseitig an diese Sequenz anschließen. Without limitation to the specific embodiment of 1 In any case, in the case of an antireflection coating according to the invention, such a sequence consists of four layers 51 . 52 . 53 . 54 available. The coating preferably contains 5 as optically effective layers only these four layers. However, it is not excluded that further layers at the top and / or bottom, or on the substrate side follow this sequence.

Die vier Lagen 51, 52, 53, 54 weisen mindestens drei verschiedene Brechungsindices auf, derart, dass der Brechungsindex der untersten, dem Substrat 3 nächsten Lage 51 mit höherem Brechungsindex niedriger ist, als der Brechungsindex der weiteren Lage 53 mit höherem Brechungsindex. Dabei wird die unterste Lage 51 mit höherem Brechungsindex vorzugsweise aus einem sauerstoffhaltigen Material gebildet. The four layers 51 . 52 . 53 . 54 have at least three different refractive indices, such that the refractive index of the lowest, the substrate 3 next location 51 with higher refractive index is lower than the refractive index of the other layer 53 with higher refractive index. This is the lowest position 51 with higher refractive index preferably formed from an oxygen-containing material.

Die Bezeichnungen „niedrigerer Brechungsindex“ und „höherer Brechungsindex“ gelten relativ zu den angrenzenden Lagen. Eine Lage mit niedrigerem Brechungsindex grenzt folglich an eine Lage (wenn die niedrigbrechende Lage das Schichtsystem abschließt) oder an zwei Lagen (wenn die niedrigbrechende Lage an beiden Grenzflächen an weitere Lagen des Schichtsystems angrenzt) mit höherem Brechungsindex an. The terms "lower refractive index" and "higher refractive index" apply relative to the adjacent layers. A layer with a lower refractive index consequently adjoins one layer (when the low-index layer completes the layer system) or two layers (when the low-index layer adjoins other layers of the layer system at both interfaces) with a higher refractive index.

Das Substrat 3 ist besonders bevorzugt ein anorganisches, oxidisches Substrat, insbesondere ein Glassubstrat. Das erfindungsgemäße Antireflex-Schichtsystem ist ganz besonders auch für chemisch vorgespannte Glassubstrate geeignet. The substrate 3 is particularly preferably an inorganic, oxidic substrate, in particular a glass substrate. The antireflective layer system according to the invention is particularly suitable for chemically toughened glass substrates.

Es zeigt sich, dass eine gute Anbindung der ersten Hartstoffschicht an das Substrat erzielt werden kann, wenn es sich um eine oxidische Hartstoffschicht handelt (beispielsweise ZrO₂ oder ein Zr-Si-Mischoxid, d.h. ein Gemisch aus ZrO₂ und SiO₂ oder ein Mischoxid mit ZrO₂ und Al₂O₃) oder wenn es sich bei der ersten Hartstoffschicht um ein sauerstoffhaltiges Nitrid in Form eines Oxinitrides handelt. Geeignete Oxinitride sind beispielsweise Siliziumoxinitrid (SiO_xN_y) oder Aluminiumoxinitrid (AlO_xN_y) oder Silizium-Aluminium-Oxinitrid (Si AlO_xN_y). It can be seen that a good bonding of the first hard material layer to the substrate can be achieved if it is an oxidic hard material layer (for example ZrO ₂ or a Zr-Si mixed oxide, ie a mixture of ZrO ₂ and SiO ₂ or a mixed oxide with ZrO ₂ and Al ₂ O ₃ ) or when the first hard material layer is an oxygen-containing nitride in the form of an oxynitride. Suitable oxynitrides are, for example, silicon oxynitride (SiO _x N _y ) or aluminum oxynitride (AlO _x N _y ) or silicon aluminum oxynitride (Si AlO _x N _y ).

Diese genannten Materialien, ZrO₂ bzw. ein Gemisch aus ZrO₂ und SiO₂ oder Al₂O₃) und Oxinitride von Silizium oder Aluminium oder einem Gemisch aus Aluminium und Silizium werden für die unterste Lage mit höherem Brechungsindex besonders bevorzugt. ZrO₂ kann beispielsweise mit einer TiO2-Lage als weiterer, bzw. oberer Lage mit höherem Brechungsindex kombiniert werden. Eine weitere Möglichkeit besteht darin, für die untere Lage mit höherem Brechungsindex ein Titan enthaltendes Oxid, beispielsweise ein Mischoxid mit Titan und einem weiteren Element zu verwenden. Eine Möglichkeit ist ein Titan/Silizium-Mischoxid. Eine bevorzugte Variante eines erfindungsgemäßen Antireflex-Systems sieht die Verwendung einer ZrO₂-Lage als oberste Lage mit höherem Brechungsindex vor in Kombination mit einem Mischoxid aus Zirkonium und Silizium oder Zirkonium und Aluminium oder Zirkonium und Silizium und Aluminium als unterer Lage 51 mit höherem Brechungsindex. These materials mentioned, ZrO ₂ or a mixture of ZrO ₂ and SiO ₂ or Al ₂ O ₃ ) and oxynitrides of silicon or aluminum or a mixture of aluminum and silicon are particularly preferred for the lowest layer with a higher refractive index. For example, ZrO ₂ can be combined with a TiO ₂ layer as a further or upper layer with a higher refractive index. Another possibility is to use a titanium-containing oxide, for example a mixed oxide with titanium and another element, for the lower layer with a higher refractive index. One possibility is a titanium / silicon mixed oxide. A preferred variant of an antireflective system according to the invention provides for the use of a ZrO ₂ layer as the uppermost layer with a higher refractive index in combination with a mixed oxide of zirconium and silicon or zirconium and aluminum or zirconium and silicon and aluminum as the lower layer 51 with higher refractive index.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung ist daher die unterste, dem Substrat 3 nächste Lage 51 der Antireflexbeschichtung 5 eine Oxinitrid- oder Oxid-Lage. Diese Lage wird dabei insbesondere aus eine Oxid oder Oxinitrid zumindest eines der Elemente Silizium Aluminium oder deren Mischung gebildet. Eine Oxid-Schicht als unterer Lage 51 mit höherem Brechungsindex kann aus einem Oxid von Titan und/oder Zirkonium in Mischung mit Aluminium und/oder Silizium gebildet werden. Eine besonders gute Haftung wird dabei allgemein auch auf chemisch vorgespannten Glassubstraten erzielt. According to a preferred embodiment of the invention is therefore the lowest, the substrate 3 next location 51 the anti-reflective coating 5 an oxynitride or oxide layer. In this case, this layer is formed, in particular, from an oxide or oxynitride of at least one of the elements silicon aluminum or a mixture thereof. An oxide layer as a lower layer 51 The higher refractive index may be formed from an oxide of titanium and / or zirconium mixed with aluminum and / or silicon. A particularly good adhesion is generally achieved on chemically tempered glass substrates.

Jedenfalls sind die beiden Lagen 51, 53 zwar Lagen mit höherem Brechungsindex, unterscheiden sich aber dahingehend, dass der Brechungsindex der beiden Schichten, wie oben erläutert, unterschiedlich ist. Anyway, the two layers 51 . 53 Although layers with higher refractive index, but differ in that the refractive index of the two layers, as explained above, is different.

Dabei können beide Lagen 51, 53 durchaus die gleichen Bestandteile, jedoch in unterschiedlicher Zusammensetzung enthalten. Sind die Bestandteile zumindest teilweise gleich, so kann dadurch die Herstellung erleichtert werden, da beide Lagen prinzipiell mit dem gleichen Herstellungsverfahren abgeschieden werden können wobei lediglich die Prozessparameter angepasst werden. Both layers can 51 . 53 quite the same ingredients, but in different compositions. If the constituents are at least partially the same, the production can be facilitated thereby, since both layers can in principle be deposited using the same production method, with only the process parameters being adapted.

Eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung basiert dabei darauf, dass beide Lagen 51, 53 mit höherem Brechungsindex Silizium, Stickstoff und Sauerstoff enthaltende Lagen sind, wobei die unterste Lage 51 mit höherem Brechungsindex einen höheren Sauerstoff-Gehalt aufweist, als die weitere Lage 53 mit höherem Brechungsindex. A preferred embodiment of the invention is based on the fact that both layers 51 . 53 with higher refractive index silicon, nitrogen and oxygen containing layers are, the lowest layer 51 having a higher refractive index has a higher oxygen content than the further layer 53 with higher refractive index.

Im Falle einer Oxinitridschicht zeigt sich, dass eine ausreichende Haftung der Schicht bereits bei einem niedrigen Sauerstoffanteil von etwa 5–10 Atomprozent im Vergleich zu Stickstoff erzielt werden kann. Mit anderen Worten liegt gemäß dieser Ausführungsform der Erfindung der Gehalt von Sauerstoff zu Stickstoff in der untersten Lage 51 bei mindestens 5 Atomprozent, jedoch unterhalb von 10 Atomprozent. Gemäß einer weiteren Ausführungsform liegt das Verhältnis der Gehalte von Sauerstoff zu Stickstoff des Oxinitrids (die Gehalte angegeben in Atomprozent), vorzugsweise eines Siliziumoxinitrids im Bereich von 0,41 bis 1,02. In the case of an oxynitride layer, it can be seen that sufficient adhesion of the layer can be achieved even at a low oxygen content of about 5-10 atomic percent compared to nitrogen. In other words, according to this embodiment of the invention, the content of oxygen to nitrogen in the bottom layer 51 at least 5 atomic percent but below 10 atomic percent. According to a further embodiment, the ratio of the oxygen to nitrogen contents of the oxynitride (contents in atomic percent), preferably of a silicon oxynitride, is in the range of 0.41 to 1.02.

Allgemein, ohne Beschränkung auf die Ausführungsbeispiele kann in allen siliziumhaltigen Schichten neben Silizium auch Aluminium enthalten sein. Vorzugsweise ist in den oberen drei Lagen, also den Lagen 52, 52, 54 der Anteil von Aluminium geringer als der Anteil von Silizium, jeweils angegeben in Atomprozent. Das Verhältnis der Stoffmengen von Aluminium zu Silizium ist dabei bevorzugt größer als 0,05, vorzugsweise größer als 0,08, wobei die Stoffmenge von Silizium aber gegenüber der Stoffmenge von Aluminium überwiegt. Vorzugsweise beträgt das Verhältnis der Stoffmengen von Aluminium zu Silizium etwa 0,075 bis 0,5, besonders bevorzugt etwa 0,1. In general, without limitation to the exemplary embodiments, aluminum may be present in all silicon-containing layers in addition to silicon. Preferably, in the upper three layers, so the layers 52 . 52 . 54 the proportion of aluminum is less than the proportion of silicon, each in atomic percent. The ratio of the molar amounts of aluminum to silicon is preferably greater than 0.05, preferably greater than 0.08, wherein the molar amount of silicon but outweighs the molar amount of aluminum. Preferably, the ratio of the molar amounts of aluminum to silicon is about 0.075 to 0.5, more preferably about 0.1.

Für die unterste Lage 51 mit höherem Brechungsindex kann ebenfalls das oben angegebene Verhältnis der Stoffmengen verwendet werden, geeignet ist aber auch ein beliebiges Verhältnis der Stoffmengen von Al und Si. For the lowest position 51 with higher refractive index can also be the above ratio of the amounts of substance can be used, but is also suitable any ratio of the amounts of Al and Si.

Die Kratzbeständigkeit der Antireflexbeschichtung kann weiter verbessert werden, indem auf eine erfindungsgemäße Antireflexbeschichtung 5 noch eine zusätzliche fluororganische Schicht 6 aufgebracht ist. Diese fluororganische Schicht ist außerdem wirksam, Fingerabdruckauffälligkeiten zu reduzieren oder sich leicht reinigen zu lassen. The scratch resistance of the antireflection coating can be further improved by applying to an antireflective coating according to the invention 5 still an additional fluoroorganic layer 6 is applied. This fluoroorganic layer is also effective to reduce fingerprinting or to be easily cleaned.

Die erhöhte Kratzbeständigkeit wird darauf zurückgeführt, dass die zusätzliche fluororganische Schicht vermutlich den Reibwert der Oberfläche so reduziert, dass eine Schädigung der Oberfläche geringer ausfällt. The increased scratch resistance is attributed to the fact that the additional fluoroorganic layer presumably reduces the coefficient of friction of the surface so that damage to the surface is less pronounced.

2 zeigt eine Variante der in 1 gezeigten Ausführungsform. Sowohl 1, als auch 2 sind Beispiele einer Ausführungsform der Erfindung, bei welcher die oberste Lage mit höherem Brechungsindex, welche die zweitoberste Lage 53 der vierlagigen Antireflexbeschichtung 5 bildet, eine größere Schichtdicke aufweist, als die Lagen 51 und 52. 2 shows a variant of in 1 shown embodiment. Either 1 , as well as 2 are examples of an embodiment of the invention in which the uppermost layer of higher refractive index, which is the second uppermost layer 53 the four-layer anti-reflective coating 5 forms, has a greater thickness than the layers 51 and 52 ,

Bei dem Ausführungsbeispiel der 2 ist aber die Schichtdicke der zweitobersten Schicht 53 nochmals deutlich größer, als bei dem in 1 gezeigten Beispiel. Allgemein lassen sich Schichtdesigns finden, bei welchen eine der höherbrechenden Schichten sehr dick ist und die dennoch gute Entspiegelungseigenschaften aufweisen. Die große Schichtdicke der einer der harten, höherbrechenden Lagen, vorzugsweise der zweitobersten Lage 53 führt zu einer hohen Kratzbeständigkeit des Schichtsystems. Allerdings erweist es sich als günstig, wenn die Schichtdicke der zweitobersten Lage 53 nicht mehr als die Hälfte der Gesamt-Schichtdicke aller vier Lagen 51, 52, 53, 54 beträgt. Gemäß noch einer bei dem Beispiel der 2 ebenfalls realisierten Ausführungsform weist die Lage 52, also die Lage mit niedrigerem Brechungsindex, welche sich zwischen den beiden Lagen 51, 53 mit höherem Brechungsindex befindet, die kleinste Schichtdicke der vier Lagen auf. Es zeigt sich, dass diese Schicht tatsächlich vorzugsweise möglichst dünn gewählt werden sollte, um eine im Vergleich minimale Farbortschwankung bei Schichtdickenvariation zu erzielen. In the embodiment of the 2 but is the layer thickness of the second uppermost layer 53 again significantly larger than the in 1 shown example. In general, layer designs can be found in which one of the higher-refractive layers is very thick and nevertheless has good antireflection properties. The large layer thickness of one of the hard, higher refractive layers, preferably the second uppermost layer 53 leads to a high scratch resistance of the coating system. However, it proves favorable if the layer thickness of the second uppermost layer 53 not more than half of the total layer thickness of all four layers 51 . 52 . 53 . 54 is. According to another example in the example of 2 also realized embodiment has the situation 52 That is, the lower refractive index layer that exists between the two layers 51 . 53 with higher refractive index, the smallest layer thickness of the four layers. It turns out that, in fact, this layer should preferably be as thin as possible in order to achieve a comparatively minimal chromaticity variation with layer thickness variation.

Als Lagen 52, 54 mit niedrigerem Brechungsindex können allgemein, ohne Beschränkung auf die speziellen Ausführungsbeispiele SiO₂-Lagen dienen. Mit anderen Worten sind bei einer vierlagigen Antireflexbeschichtung 5 dann die oberste Lage 54 und die zweitunterste Lage 52 aus SiO₂ gebildet. Siliziumoxid ist aufgrund seines relativ niedrigen Brechungsindex besonders geeignet, um hohe Brechungsindex-Sprünge an den Grenzflächen der Antireflexbeschichtung zu erhalten. Diese Siliziumoxidschichten können bevorzugt einen geringen Anteil an Al₂O₃ enthalten, wobei das Verhältnis der Gehalte in Atomprozent von Aluminium zu Silizium im Bereich von 0,05 bis 0,3, bevorzugt im Bereich 0,1 liegt. Eine derart geringe Beimischung von Al₂O₃ zu SiO₂ führt nur zu einer sehr geringen Erhöhung des Brechungsindex. As layers 52 . 54 With lower refractive index, generally without limitation to the specific embodiments, SiO ₂ layers may serve. In other words, in a four-layer antireflection coating 5 then the topmost location 54 and the second lowest location 52 formed of SiO ₂ . Silicon oxide is particularly suitable because of its relatively low refractive index to obtain high refractive index jumps at the interfaces of the antireflective coating. These silicon oxide layers may preferably contain a small amount of Al ₂ O ₃ , wherein the ratio of the contents in atomic percent of aluminum to silicon in the range of 0.05 to 0.3, preferably in the range 0.1. Such a small admixture of Al ₂ O ₃ to SiO ₂ leads only to a very small increase in the refractive index.

Beim Ausführungsbeispiel der 2 ist noch eine weitere Ausführungsform der Erfindung realisiert. Gemäß dieser Ausführungsform ist die Schichtdicke der untersten Lage 51 größer als die Schichtdicke der zweituntersten Lage 52. Auch diese allgemeine Beziehung der Schichtdicken führt in Verbindung mit der Ausgestaltung der Brechungsindizes zu einer verbesserten Stabilität der Antireflex-Wirkung bei herstellungsbedingten Schichtdickenschwankungen. Diese Ausführungsform ist unabhängig von den speziellen in 2 dargestellten Schichtdicken. In the embodiment of 2 Yet another embodiment of the invention is realized. According to this embodiment, the layer thickness is the lowest layer 51 greater than the layer thickness of second lowest location 52 , This general relationship of the layer thicknesses, in conjunction with the design of the refractive indices, also leads to an improved stability of the antireflection effect in the case of production-related layer thickness fluctuations. This embodiment is independent of the specific ones in FIG 2 shown layer thicknesses.

3 zeigt eine Weiterbildung der Erfindung. Gemäß dieser Ausführungsform ist allgemein auf der Seite 31 des Substrats 3, welche der Seite 30 mit der Antireflexbeschichtung 5 gegenüberliegt, eine lichtabsorbierende Beschichtung 7, vorzugsweise eine schwarze Beschichtung aufgebracht. Diese Dekor-Beschichtung dient vorzugsweise als lichtundurchlässiges Dekor und rahmt typischerweise einen Anzeigebereich 32 ein, innerhalb welchem ein Display, beispielsweise eine LCD- oder OLED-Anzeige für einen Betrachter sichtbar ist. Das lichtundurchlässige Dekor verbirgt Komponenten, wie beispielsweise eine randseitige Befestigung des Substrats 3 oder auch am Rand des Displays liegende Anschlüsse. 3 shows a development of the invention. According to this embodiment is generally on the page 31 of the substrate 3 which of the page 30 with the anti-reflective coating 5 opposite, a light-absorbing coating 7 , preferably applied a black coating. This decorative coating preferably serves as an opaque decor and typically frames a display area 32 a, within which a display, such as an LCD or OLED display is visible to a viewer. The opaque decor conceals components, such as a peripheral attachment of the substrate 3 or even at the edge of the display lying connections.

Als Ausgangspunkt zur Verdeutlichung der Erfindung dient als Beispiel ein Abdeckglas mit einer aus dem Stand der Technik bekannten Antireflexbeschichtung mit der Schichtabfolge Glas/Si₃N₄/SiO₂/Si₃N₄/SiO₂. Dementsprechend wird auf einer Glasscheibe als Substrat 3 erst eine Siliziumnitrid-Schicht als Schicht 51, dann als Schicht 52 eine SiO₂-Schicht, dann eine weitere Siliziumnitrid-Schicht 53 und darauf SiO₂-Schicht als oberste Schicht 54 der Antireflexbeschichtung 5 abgeschieden. Wie in 1 dargestellt, kann auf der obersten Lage 54 der Antireflexbeschichtung 5 noch eine fluororganische Schicht aufgebracht werden. As a starting point for clarification of the invention serves as an example a cover glass with an antireflection coating known from the prior art with the layer sequence glass / Si ₃ N ₄ / SiO ₂ / Si ₃ N ₄ / SiO ₂ . Accordingly, on a glass plate as a substrate 3 first a silicon nitride layer as a layer 51 , then as a layer 52 an SiO ₂ layer, then another silicon nitride layer 53 and thereon SiO ₂ layer as the uppermost layer 54 the anti-reflective coating 5 deposited. As in 1 shown, can be on the topmost position 54 the anti-reflective coating 5 still be applied a fluoro-organic layer.

4 zeigt Farbortänderungen an verschiedenen Elementen 1 abhängig vom Aufbau der Antireflexbeschichtung 5 und dem Vorhandensein oder Fehlen einer lichtabsorbierenden, beziehungsweise lichtblockenden Beschichtung 7 auf der Seite 31 des Substrats 3. Die Messwerte sind mit Bezugszeichen in Klammern einzeln bezeichnet. 4 shows color changes to different elements 1 depending on the structure of the anti-reflective coating 5 and the presence or absence of a light absorbing or light blocking coating 7 on the website 31 of the substrate 3 , The measured values are denoted by reference numerals in parentheses individually.

Ein optimaler Fall gleichmäßiger Reflektion liegt beispielsweise vor, wenn für das Substrat 3 ein Alumosilikatglas verwendet wird, und die Schichtdicken vom Glas aus wie folgt sind: Lage (51) Si₃N₄ 15 nm Lage (52) SiO₂ 32 nm Lage (53) Si₃N₄ 132 nm Lage (54) SiO₂ 87 nm An optimal case of uniform reflection is, for example, when for the substrate 3 an aluminosilicate glass is used, and the layer thicknesses from the glass are as follows: Location ( 51 ) Si ₃ N ₄ 15 nm Location ( 52 ) SiO ₂ 32 nm Location ( 53 ) Si ₃ N ₄ 132 nm Location ( 54 ) SiO ₂ 87 nm

In diesem Fall lässt sich ein Farbort gemäß CIE-Lab auf dem reinen Glas ohne Dekor, beziehungsweise ohne lichtabsorbierende Beschichtung 7 mit den Koordinaten a und b von 1,0 und 3,7 ermitteln (Messwert 40). In this case, a color location according to CIE-Lab on the pure glass without decor, or without light-absorbing coating 7 with the coordinates a and b of 1.0 and 3.7 (measured value 40 ).

Weicht man in den Schichtdicken um +1nm ab (16nm (Lage 51), 33nm (Lage 52), 133nm (Lage 53), 88nm (Lage 54)), ergeben sich die Farbortwerte 1,5 und 2,8 (Messwert 41). Bei Reduktion der Schichtdicken um 1 nm (14nm, 31nm, 131nm, 86nm) ergeben sich a und b zu 0,1 und 4,7. Die drei vorstehend diskutierten Messwerte 40, 41, 42 sind in 4 mit dreieckigen Symbolen eingezeichnet. If one deviates in the layer thicknesses by + 1nm (16nm (Lage 51 ), 33nm (location 52 ), 133nm (location 53 ), 88nm (location 54 )), the color locus values 1.5 and 2.8 (measured value 41 ). Reduction of the layer thickness by 1 nm (14nm, 31nm, 131nm, 86nm) results in a and b of 0.1 and 4.7. The three measurements discussed above 40 . 41 . 42 are in 4 drawn with triangular symbols.

Mit einem schwarzen Dekor, beziehungsweise im Bereich einer wie in 3 eingezeichneten lichtabsorbierenden Beschichtung 7 auf der Rückseite des Abdeckglases schwanken die Farbortwerte bei gleicher Beschichtung deutlich mehr. Die entsprechenden Messwerte 43, 44, 45 sind mit Rautensymbolen gekennzeichnet. Stärkere Farbortschwankungen ergeben sich auch bei einem ausgeschalteten und dann dunklen Display, sowie auch in dunklen Bereichen des eingeschalteten Displays, also beispielsweise bei einem dunklen Bildschirmhintergrund. With a black decor, respectively in the area of an as in 3 drawn light-absorbing coating 7 On the back of the cover glass, the color location values fluctuate significantly more with the same coating. The corresponding measured values 43 . 44 . 45 are marked with diamond symbols. Greater chromaticity variations also occur with a switched off and then dark display, as well as in dark areas of the switched-on display, so for example with a dark screen background.

Die Farbwerte des optimalen Falls liegen hier bei:
a = –0,2, b = 2,1 (Messwert 43); bei +1 nm Schichtdicke:
a = 1,7 und b = –0,7 (Messwert 44); bei –1 nm Schichtdicke
a = –2,6 und b = 4,6 (Messwert 45). The color values of the optimal case are here:
a = -0.2, b = 2.1 (measured value 43 ); at +1 nm layer thickness:
a = 1.7 and b = -0.7 (measured value 44 ); at -1 nm layer thickness
a = -2.6 and b = 4.6 (measured value 45 ).

Diese stärkere Schwankung und Abhängigkeit von der Schichtdicke ist auf den durch das Dekor ausgeblendeten Rückseitenreflex zurück zu führen. Im Falle des reinen Glases reflektiert dessen Rückseite etwa 4% (gleichmäßig über den Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichtes) und trägt damit etwa zehnmal so viel zum Gesamtreflex bei wie die entspiegelte Vorderseite (ca. 0,5%). Die durch die Schichtdickenschwankung hervorgerufenen Farbortvariationen werden durch die Rückseite "überstrahlt" und sind weniger auffällig. Im Falle eines schwarzen Rückseitendekors wird der Rückseitenreflex nahezu unterdrückt. Somit wird der Farbort fast ausschließlich durch die Antireflexbeschichtung 5 bestimmt und durch Schichtdickenschwankungen hervorgerufene Farbortänderungen fallen mehr ins Gewicht. This greater fluctuation and dependence on the layer thickness is due to the hidden by the decor back reflex. In the case of pure glass, its backside reflects about 4% (uniformly over the wavelength range of visible light), contributing about ten times as much to the overall reflection as the non-reflective front side (about 0.5%). The color location variations caused by the layer thickness variation are "outshined" by the back and are less noticeable. in the In case of a black back decoration, the back reflection is almost suppressed. Thus, the color point almost exclusively by the anti-reflection coating 5 determined and caused by layer thickness variations color location changes are more significant.

Die Messwerte 60 bis 62 (Kreuzsymbole) und 63 bis 65 (quadratische Symbole) sind zum Vergleich berechnete Farbortänderungen an erfindungsgemäßen Antireflexbeschichtungen 5, welche die gleichen Schichtdickenschwankungen aufweisen. The measured values 60 to 62 (Cross symbols) and 63 to 65 (square symbols) are for comparison calculated color location changes to antireflective coatings according to the invention 5 which have the same layer thickness variations.

Die erste Schicht der erfindungsgemäßen Antireflexbeschichtungen 5 ist dabei jeweils eine sauerstoffhaltige Siliziumnitridschicht. Dabei ist das Verhältnis von Sauerstoff zu Stickstoff, O/N, derart eingestellt, dass sich ein Brechungsindex bei 550nm von etwa 1,71 ergibt. Bei höheren Brechungsindizes in Richtung Si₃N₄ nimmt die Farbortschwankung zu. Bei zu viel Sauerstoff im SiO_xN_y ergeben sich keine guten Antireflex-Bedingungen mehr für eine vierlagige Antireflexbeschichtung. Generell, ohne Beschränkung auf die Zusammensetzung der untersten Lage 51 ist es günstig, wenn der Brechungsindex der untersten Lage 51 mit höherem Brechungsindex zwischen 1,665 und 1,795 liegt. Bevorzugt liegt dabei der Brechungsindex bei kleiner als 1,790, besonders bevorzugt bei kleiner als 1,785. The first layer of the antireflective coatings of the invention 5 is in each case an oxygen-containing silicon nitride layer. Here, the ratio of oxygen to nitrogen, O / N, is adjusted so that a refractive index at 550 nm of about 1.71 results. With higher refractive indices in the direction of Si ₃ N ₄ , the color locus fluctuation increases. If there is too much oxygen in the SiO _x N _y , good antireflection conditions no longer result for a four-layer antireflective coating. Generally, without limitation to the composition of the lowest layer 51 it is favorable if the refractive index of the lowest layer 51 with higher refractive index between 1.665 and 1.795. The refractive index is preferably less than 1.790, more preferably less than 1.785.

Die Messwerte 60–62 betreffen ein Glassubstrat ohne Dekor und sind daher mit den Messwerten 40, 41, 42 zu vergleichen. Es ist ersichtlich, dass die Farborte bei einem erfindungsgemäßen Schichtsystem bei gleichen Schichtdickenschwankungen deutlich dichter zusammenliegen, als bei einer Antireflexbeschichtung mit gleichartigen höherbrechenden Schichten. Auch bei einer erfindungsgemäßen Antireflexbeschichtung 5 mit hinsichtlich des Materials und Brechungsindex unterschiedlichen höherbrechenden Lagen 52, 53 steigt im Bereich einer lichtabsorbierenden Beschichtung 7 die Farbortschwankung an (Messwerte 63–65). Auch hier sind die Farbortschwankungen aber sehr viel geringer als bei einer Antireflexbeschichtung mit in Bezug auf Material und Brechungsindex gleichartigen höherbrechenden Lagen 52, 53. The measured values 60 - 62 affect a glass substrate without decor and are therefore with the readings 40 . 41 . 42 to compare. It can be seen that in the case of a layer system according to the invention, the color loci are much closer to one another with the same layer thickness fluctuations than with an antireflection coating with similar higher refractive index layers. Also in an antireflection coating according to the invention 5 with different high refractive index layers in terms of material and refractive index 52 . 53 increases in the range of a light-absorbing coating 7 the color locus fluctuation (measured values 63 - 65 ). But here, the Farbortschwankungen are much lower than in an antireflection coating with respect to material and refractive index similar higher refractive index layers 52 . 53 ,

Ein konkretes Beispiele für ein erfindungsgemäßes Antireflexsystem mit gegenüber dem Stand der Technik aufgebauten AR-Systemen geringerer Farbortschwankung bei Schichtdickenschwankung ist in folgender Tabelle aufgeführt: Lage (51) SiO_xN_Y (n = 1,77) 33 nm Lage (52) SiO₂ 24 nm Lage (53) Si₃N₄ 132 nm Lage (54) SiO₂ 87 nm A concrete example of an antireflection system according to the invention with AR systems of lower color order variation with layer thickness variation compared to the prior art is shown in the following table: Location ( 51 ) SiO _x N _Y (n = 1.77) 33 nm Location ( 52 ) SiO ₂ 24 nm Location ( 53 ) Si ₃ N ₄ 132 nm Location ( 54 ) SiO ₂ 87 nm

5 zeigt Farborte der Lichtreflexe von Substraten mit TiO₂/SiO₂-basierten Antireflexbeschichtungen. Die Farborte wurden wieder für ein mit einer rückseitigen lichtabsorbierenden Beschichtung 7 versehenes scheibenförmiges Element 1 berechnet. 5 shows color loci of the light reflections of substrates with TiO ₂ / SiO ₂ -based antireflection coatings. The color loci were returned to one with a back light absorbing coating 7 provided disc-shaped element 1 calculated.

Auch diese Antireflexbeschichtungen 5 weisen jeweils vier Lagen auf. Für die Lagen 51, 53 mit höherem Brechungsindex wurden bei den in 5 eingetragenen Farbort-Werten 46, 47, 48 Titandioxid-Lagen (TiO₂) verwendet. Die Farbort-Werte 66, 67, 68 gehören zu einer erfindungsgemäßen Antireflexbeschichtung 5, bei welcher die vier Lagen 51, 52, 53, 54 der Beschichtung mindestens drei verschiedene Brechungsindices aufweisen, derart, dass der Brechungsindex der untersten, dem Substrat 3 nächsten Lage 51 mit höherem Brechungsindex niedriger ist, als der Brechungsindex der weiteren Lage 53 mit höherem Brechungsindex, wobei die unterste Lage 51 mit höherem Brechungsindex aus einem sauerstoffhaltigen Material gebildet wird. Also these anti-reflective coatings 5 each have four layers. For the layers 51 . 53 with higher refractive index were in the in 5 registered color location values 46 . 47 . 48 Titanium dioxide layers (TiO ₂ ) used. The color location values 66 . 67 . 68 belong to an antireflective coating according to the invention 5 in which the four layers 51 . 52 . 53 . 54 the coating have at least three different refractive indices, such that the refractive index of the lowest, the substrate 3 next location 51 with higher refractive index is lower than the refractive index of the other layer 53 with higher refractive index, the lowest layer 51 is formed with a higher refractive index of an oxygen-containing material.

Im vorliegenden Fall wurde für die unterste Lage 51 ein SiO_xN_y, also ein sauerstoffhaltiges Siliziumnitrid gewählt, bei welchem der Brechungsindex bei etwa 1,77 liegt. Reines Siliziumnitrid hat demgegenüber einen Brechungsindex von etwa n = 2. Mit einem Wert von 1,77 liegt der Brechungsindex der Lage 51 zwischen den Werten von SiO2 (d.h. dem Brechungsindex der Lagen 52, 54), und TiO₂ (also dem Brechungsindex der Lage 53). In the present case was for the lowest position 51 a SiO _x N _y , that is selected an oxygen-containing silicon nitride, wherein the refractive index is about 1.77. In contrast, pure silicon nitride has a refractive index of about n = 2. With a value of 1.77, the refractive index of the layer is 51 between the values of SiO 2 (ie the refractive index of the layers 52 . 54 ), and TiO ₂ (ie the refractive index of the layer 53 ).

Ein mögliches Beispiel für den Aufbau eines erfindungsgemäßen AR-Systems aus den zuvor genannten Materialien SiO_xN_y, SiO₂ und TiO₂ ist exemplarisch in folgender Tabelle gegeben: Lage (51) SiO_xN_Y (n = 1,733) 61 nm Lage (52) SiO₂ 10 nm Lage (53) TiO₂ 102 nm Lage (54) SiO₂ 89 nm A possible example for the construction of an inventive AR system from the aforementioned materials SiO _x N _y , SiO ₂ and TiO ₂ is given by way of example in the following table: Location ( 51 ) SiO _x N _Y (n = 1.733) 61 nm Location ( 52 ) SiO ₂ 10 nm Location ( 53 ) TiO ₂ 102 nm Location ( 54 ) SiO ₂ 89 nm

Es ergibt sich ein ähnliches Bild wie bei den Beispielen der 4. Bei Verwendung von nur zwei verschiedenen Brechungsindices im 4-lagigen AR System (Farbort-Werte 46, 47, 48) kommt es bei Variationen der Schichtdicken der Lagen um ±1 nm zu einer stärkeren Farbortschwankung als bei Verwendung von drei Brechungsindices (Farbort-Werte 66, 67, 68), wenn diese wie zuvor beschrieben in der Reihenfolge vom Substrat aus gesehen n_mittel, n_niedrig, n_hoch, n_niedrig verlaufen. Bei dem in 2 gezeigten Beispiel entsprechen die Verhältnisse der Schichtdicken den Werten der vorstehenden Tabelle. The result is a similar picture as in the examples of 4 , When using only two different refractive indices in the 4-layer AR system (color locus values 46 . 47 . 48 ) variations of the layer thicknesses of the layers by ± 1 nm result in a greater chromaticity variation than when using three refractive indices (color location values) 66 . 67 . 68 ), as described above, in order from the substrate, as follows: n _medium , n _low , n _high , n _low . At the in 2 As shown, the ratios of the layer thicknesses correspond to the values of the above table.

Gute Entspiegelungseigenschaften können auch noch erzielt werden, wenn die oben angegebenen Schichtdicken jeweils um 10% abweichen. Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung betragen daher die Schichtdicken für die unterste Lage 51 61 ± 6,1 nm, für die zweitunterste Lage 52 10 ± 1 nm, für die obere, höherbrechende Lage 53 102 ± 10,2 nm und für die oberste Lage 54 89 ± 8,9 nm. Good antireflective properties can also be achieved if the above-specified layer thicknesses each deviate by 10%. According to one embodiment of the invention, therefore, the layer thicknesses for the lowest layer 51 61 ± 6.1 nm, for the second lowest layer 52 10 ± 1 nm, for the upper, higher refractive position 53 102 ± 10.2 nm and for the topmost layer 54 89 ± 8.9 nm.

Anhand dieser Beispiele wird deutlich, dass es günstig ist, wenn ein gewisser Mindestunterschied der Brechungsindizes der beiden Lagen 51, 53 mit höherem Brechungsindex vorhanden ist. Allgemein, ohne Beschränkung auf die anhand der Figuren beschriebenen Beispiele ist gemäß einer Weiterbildung der Erfindung vorgesehen, dass der Brechungsindex der untersten Lage 51 der vier Lagen 51, 52, 53, 54 der Antireflexbeschichtung 5 kleiner als 1,79 zu wählen ist und gleichzeitig derart einzustellen, dass die benachbarte Lage 52 eine Schichtdicke zwischen 1 und 20 nm, bevorzugt zwischen 5 und 15 nm aufweist. Eine geringe Schichtdicke der Lage 52 erweist sich als besonders wirkungsvoll, um die Empfindlichkeit des AR-Systems gegenüber Farbortschwankungen bei Variation der Schichtdicken zu reduzieren. Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung ist daher vorgesehen, dass die Schichtdicke der Lage 52 mit niedrigerem Brechungsindex, welche sich zwischen den beiden Lagen 51, 53 mit höherem Brechungsindex befindet, beziehungsweise der zweituntersten Lage unterhalb von 20 nm, bevorzugt unterhalb von 18 nm, besonders bevorzugt unterhalb 15 nm liegt. It is clear from these examples that it is favorable if a certain minimum difference in the refractive indices of the two layers 51 . 53 is present with higher refractive index. In general, without limitation to the examples described with reference to the figures, it is provided according to a development of the invention that the refractive index of the lowest layer 51 the four layers 51 . 52 . 53 . 54 the anti-reflective coating 5 smaller than 1.79 is to choose and at the same time to adjust so that the neighboring situation 52 a layer thickness between 1 and 20 nm, preferably between 5 and 15 nm. A small layer thickness of the situation 52 proves to be particularly effective in reducing the sensitivity of the AR system to chromaticity variations with variation of layer thicknesses. According to one embodiment of the invention, it is therefore provided that the layer thickness of the layer 52 with lower refractive index, which is located between the two layers 51 . 53 is located with a higher refractive index, or the second lowest layer is below 20 nm, preferably below 18 nm, more preferably below 15 nm.

Nach unten hin wird dieser Unterschied durch den Brechungsindex der Lagen mit niedrigerem Brechungsindex begrenzt. Je nach verwendeten Materialien im Aufbau des Antireflex-Systems sind hierbei für die unterste Lage 51 Brechungsindices von ab etwa 1,66 bevorzugt. At the bottom, this difference is limited by the refractive index of the lower refractive index layers. Depending on the materials used in the structure of the antireflection system are here for the bottom layer 51 Refractive indices of from about 1.66 are preferred.

Der Brechungsindex der Schicht 51 liegt also bevorzugt in dem Bereich zwischen 1,66 und 1,79. The refractive index of the layer 51 is thus preferably in the range between 1.66 and 1.79.

6 zeigt einen typischen Anwendungsfall für die Erfindung. Gemäß einer Ausgestaltung der Erfindung ist ohne Beschränkung auf das dargestellte Beispiel ein mobiles elektronisches Gerät 20 mit einer elektronischen Anzeige 21, vorzugsweise einer Matrixanzeige, beziehungsweise einer pixelgesteuerten Anzeige vorgesehen, wobei das elektronische Gerät 20 ein erfindungsgemäßes scheibenförmiges Element 1 aufweist, welches die elektronische Anzeige 21 abdeckt, wobei die Seite 30 des scheibenförmigen Elements 1 mit der Antireflexbeschichtung 5 nach außen gewandt ist. Auf diese Weise kann die Antireflexbeschichtung 5 ihre Wirkung in der Verminderung störender Lichtreflexe einerseits und einem Schutz vor Verkratzen durch äußere mechanische Einwirkungen andererseits ausüben. 6 shows a typical application for the invention. According to one embodiment of the invention, without limitation to the illustrated example, a mobile electronic device 20 with an electronic display 21 , preferably a matrix display, or a pixel-controlled display provided, wherein the electronic device 20 an inventive disk-shaped element 1 which has the electronic display 21 covering, taking the page 30 the disc-shaped element 1 with the anti-reflective coating 5 turned to the outside. In this way, the antireflection coating 5 to exert their effect in the reduction of disturbing light reflections on the one hand and protection against scratching by external mechanical effects on the other hand.

Bei dem dargestellten Beispiel handelt es sich um ein mobiles Gerät in Form eines Tablet-PCs. In gleichem Maße geeignet ist die Erfindung auch für Mobiltelefone, insbesondere sogenannte Smart-Phones, mobile Navigationsgeräte und mobile Medienwiedergabegeräte, wie insbesondere Musik- und Videoabspielgeräte, sowie für Smartwatches. The example shown is a mobile device in the form of a tablet PC. To the same extent, the invention is also suitable for mobile phones, in particular so-called smart phones, mobile navigation devices and mobile media players, in particular music and video players, and for smart watches.

Besondere mechanische Belastungen treten bei solchen Geräten insbesondere auch dann auf, wenn die Geräte mit einer Benutzerschnittstelle mit einem berührungsempfindlichen Bildschirm ausgestattet sind, so dass die Seite 30 mit der Antireflexbeschichtung 5 des erfindungsgemäßen Elements 1 gleichzeitig auch eine Bedienungsoberfläche der Schnittstelle darstellt. Gerade bei dieser Ausführungsform der Erfindung ist auch eine weitere Beschichtung in Form der oben genannten und im Beispiel der 1 gezeigten fluororganischen Schicht 6. Particular mechanical loads occur in such devices, especially when the devices are equipped with a user interface with a touch-sensitive screen, so that the page 30 with the anti-reflective coating 5 of the element according to the invention 1 at the same time also represents a user interface of the interface. Just in this embodiment of the invention is also a further coating in the form of the above and in the example of 1 shown fluoroorganic layer 6 ,

Häufig soll das Abdeckglas der elektronischen Anzeige nicht vollständig transparent sein, sondern, wie auch anhand der 3 erläutert, gewisse Bereiche verdeckt werden. Dazu wird eine lichtabsorbierende Beschichtung 7 vorgesehen, welche die Randbereiche des Elements 1 bedeckt und die elektronische Anzeige 21 umrahmt. Gerade in diesen in 6 schwarz eingezeichneten, mit einer lichtblockenden Beschichtung versehenen Randbereichen sind Farbortschwankungen besonders deutlich sichtbar, wie anhand der Beispiele der 4 und 5 gezeigt wurde. Zwar sind die Lichtreflexe aufgrund der Antireflexbeschichtung 5 an sich nur sehr schwach. Dem steht aber entgegen, dass der dunkle Hintergrund aufgrund der lichtabsorbierenden Beschichtung für einen hohen Kontrast sorgt, so dass auch sehr schwache Lichtreflexe bemerkbar sind. Mit dem erfindungsgemäßen Design der Antireflexbeschichtung 5 wird nun dafür gesorgt, dass die verbleibenden sichtbaren Lichtreflexe farblich einheitlich erscheinen. Often, the cover of the electronic display should not be completely transparent, but, as well as on the basis of 3 explained, certain areas are covered. This is a light-absorbing coating 7 provided, which are the edge areas of the element 1 covered and the electronic display 21 framed. Especially in these 6 black bordered, provided with a light-blocking coating edge color variations are particularly clearly visible, as shown by the examples of 4 and 5 was shown. Although the light reflections are due to the anti-reflection coating 5 in itself only very weak. This is countered by the fact that the dark background due to the light-absorbing coating provides a high contrast, so that even very weak light reflections are noticeable. With the inventive design of the anti-reflection coating 5 is now ensured that the remaining visible light reflections appear in a uniform color.

Es ist dem Fachmann ersichtlich, dass die Erfindung nicht auf die Ausführungsbeispiele, wie sie in den Figuren dargestellt sind, beschränkt ist, sondern vielmehr vielfältig im Rahmen des Gegenstands der Patentansprüche variiert werden kann. Insbesondere können die Merkmale der einzelnen Ausführungsbeispiele auch miteinander kombiniert werden. So kann für ein mobiles elektronisches Gerät 20 sowohl eine Beschichtung gemäß 1, als auch mit den weiteren Merkmalen des Beispiels der 2 verwendet werden. Eine fluororganische Beschichtung 6 kann in jeder der dargestellten Ausführungsformen vorhanden sein. Diese Möglichkeit wird auch ausdrücklich bevorzugt. It will be apparent to those skilled in the art that the invention is not limited to the embodiments shown in the figures, but rather varied within the scope of the subject-matter of the claims. In particular, the features of the individual embodiments can also be combined with each other. So can for a mobile electronic device 20 both a coating according to 1 , as well as with the further features of the example of 2 be used. A fluoroorganic coating 6 may be present in any of the illustrated embodiments. This possibility is also expressly preferred.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

US 2012/0212826 A1 [0005]

Claims

Disc-shaped element ( 1 ) with - a transparent in the visible spectral range disc-shaped substrate ( 3 ) and - one on the substrate ( 1 ) deposited antireflection coating ( 5 ), the antireflective coating ( 5 ) - four successive layers ( 51 . 52 . 53 . 54 ), wherein mutually adjacent layers each differ in their refractive index, such that the refractive index increases and decreases alternately from layer to layer and layers ( 52 . 54 ) with lower refractive index with layers ( 51 . 53 ) alternate with higher refractive index, and where - the lowest ( 51 ) of the four layers ( 51 . 52 . 53 . 54 ) is a layer of higher refractive index and has a higher refractive index than the adjacent second lowest layer ( 52 ), The four layers ( 51 . 52 . 53 . 54 ) have at least three different refractive indices, such that the refractive index of the lowest, the substrate ( 3 ) next situation ( 51 ) with a higher refractive index than the refractive index of the further layer ( 53 ) with higher refractive index, and wherein the lowest layer ( 51 ) is formed with a higher refractive index from an oxygenous material, whereby this disk-shaped element ( 1 ) shows in particular a small color change in layer thickness variation.

Disc-shaped element ( 1 ) according to the preceding claim, characterized in that the substrate ( 3 ) is a glass substrate, in particular a chemically toughened glass substrate.

Disc-shaped element ( 1 ) according to one of the two preceding claims, characterized in that the lowest, the substrate ( 3 ) next location ( 51 ) of the antireflective coating ( 5 ) is an oxynitride layer, preferably with silicon or aluminum or with aluminum and silicon, or an oxide layer, in particular a ZrO ₂ -containing layer.

Disc-shaped element ( 1 ) according to the preceding claim, characterized in that both layers ( 51 . 53 ) with higher refractive index silicon oxynitride layers, wherein the lowest layer ( 51 ) having a higher refractive index has a higher oxygen content than the further layer ( 53 ) with higher refractive index.

Disc-shaped element ( 1 ) according to one of the two preceding claims, characterized in that oxygen in the lowest layer ( 51 ) in the range of 5 to 10 atomic percent, or that the ratio of the contents in atomic percent of oxygen to nitrogen of the oxynitride in atomic percent is in the range of 0.41 to 1.02.

Disc-shaped element ( 1 ) according to one of the preceding claims, characterized in that the uppermost layer of higher refractive index, which is the second uppermost layer of the four-layer antireflection coating ( 5 ), the layer with the greatest layer thickness under the four layers ( 51 . 52 . 53 . 54 ).

Disc-shaped element ( 1 ) according to one of the preceding claims, characterized in that on the antireflective coating ( 5 ) a fluoroorganic layer 6 is applied.

Disc-shaped element according to one of the preceding claims, characterized in that on the side ( 31 ) of the substrate ( 3 ) which of the page ( 30 ) with the antireflection coating ( 5 ), a light-absorbing coating ( 7 ), preferably a decorative coating is applied.

Disc-shaped element ( 1 ) according to one of the preceding claims, characterized in that the layers ( 52 . 54 ) are SiO ₂ layers with lower refractive index.

Disc-shaped element ( 1 ) according to one of the preceding claims, characterized in that the layers ( 52 . 54 ) having lower refractive index are SiO ₂ layers additionally containing Al ₂ O ₃ such that the ratio of the contents of Al / Si in atomic percent is in the range of 0.05 to 0.3, preferably about 0.1.

Disc-shaped element ( 1 ) according to one of the preceding claims, characterized in that the refractive index of the lowest layer ( 51 ) having a higher refractive index between 1.665 and 1.795, preferably less than 1.790, more preferably less than 1.785. lies.

Disc-shaped element ( 1 ) according to one of the preceding claims, characterized in that the layer thickness of the second lowest layer ( 52 ) is below 20 nm, preferably below 18 nm, particularly preferably below 15 nm.

Disc-shaped element ( 1 ) according to one of the preceding claims, characterized in that the layer thickness of the lowest layer ( 51 ) greater than the layer thickness of the second lowest layer ( 52 ).

Disc-shaped element ( 1 ) according to one of the preceding claims, characterized in that the anti-reflection coating ( 5 ) has the following layer thicknesses: 61 ± 6.1 nm for the lowest layer ( 51 ) of the four successive layers, 10 ± 1 nm for the second lowest layer ( 52 ) of the four successive layers, 102 ± 10.2 nm for the upper, higher refractive index layer ( 53 ) of the four successive layers and 89 ± 8.9 nm for the uppermost layer ( 54 ) of the four successive layers.

Disc-shaped element according to one of the preceding claims, characterized in that the substrate surface directly to the sequence of the four layers ( 51 . 52 . 53 . 54 ) of the antireflective coating ( 5 ) adjoins.

Mobile electronic device ( 20 ) with an electronic display ( 21 ), preferably a matrix display, wherein the electronic device ( 20 ) a disk-shaped element ( 1 ) according to one of the preceding claims, which comprises the electronic display ( 21 ), whereby the page ( 30 ) of the disc-shaped element ( 1 ) with the antireflection coating ( 5 ) is turned to the outside.

Mobile electronic device ( 20 ) according to the preceding claim, characterized by a user interface with a touch-sensitive screen, the page ( 30 ) of the element ( 1 ) with the antireflection coating ( 5 ) represents a user interface of the interface.