HINTERGRUND DER ERFINDUNGBACKGROUND OF THE INVENTION
Gebiet der ErfindungField of the invention
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Reinigungsvorrichtung zum Reinigen einer Oberfläche eines plattenförmigen Werkstücks, wie zum Beispiel eines Halbleiterwafers.The present invention relates to a cleaning apparatus for cleaning a surface of a plate-shaped workpiece, such as a semiconductor wafer.
Beschreibung des Stands der TechnikDescription of the Related Art
Allgemein bekannt ist eine Schleuderreinigungsvorrichtung, die einen drehbaren Haltetisch zum Halten eines Wafers und eine Reinigungsdüse zum Sprühen einer Reinigungsflüssigkeit auf den Wafer, der an dem Haltetisch, der gedreht wird, gehalten wird, beinhaltet (siehe zum Beispiel das offengelegte japanische Patent Nr. 2009-094247 ). Bei der in dem offengelegten japanischen Patent Nr. 2009-094247 beschriebenen Reinigungsvorrichtung wird die Reinigungsdüse beim Sprühen der Reinigungsflüssigkeit aus der Reinigungsdüse auf den Wafer über dem Haltetisch schwenkend hin und her bewegt, wodurch eine Verschmutzung, die an der gesamten Oberfläche des Wafers anhaftet, entfernt wird. Da die Reinigungsflüssigkeit auf den Wafer, der gedreht wird, gesprüht wird, wird die Reinigungsflüssigkeit an dem Wafer durch eine Zentrifugalkraft verteilt. Um diese Verteilung der Reinigungsflüssigkeit zu bewältigen, ist eine Verteilungsverhinderungsabdeckung vertikal bewegbar so vorgesehen, dass sie den Haltetisch umgibt, wobei die Verteilungsverhinderungsabdeckung in einem Betriebszustand der Reinigungsvorrichtung angehoben wird, um dadurch die Verteilung der Reinigungsflüssigkeit zu verhindern.Generally known is a spin cleaning apparatus which includes a rotatable holding table for holding a wafer and a cleaning nozzle for spraying a cleaning liquid onto the wafer held on the holding table being rotated (see, for example, the Laid-Open Patent Publication) Japanese Patent No. 2009-094247 ). In the disclosed in the Japanese Patent No. 2009-094247 As described, when the cleaning liquid is sprayed from the cleaning nozzle onto the wafer above the holding table, the cleaning nozzle is reciprocally moved to and fro whereby a contamination adhering to the entire surface of the wafer is removed. Since the cleaning liquid is sprayed on the wafer being rotated, the cleaning liquid is distributed to the wafer by a centrifugal force. In order to cope with this distribution of the cleaning liquid, a distribution preventing cover is vertically movably provided so as to surround the holding table, wherein the distribution preventing cover is raised in an operating state of the cleaning device, thereby preventing the distribution of the cleaning liquid.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNGSUMMARY OF THE INVENTION
Ein Schwamm ist an einer inneren Oberfläche der Verteilungsverhinderungsabdeckung in der Reinigungsvorrichtung vorgesehen, um die Reinigungsflüssigkeit, die von dem Haltetisch verteilt wird, zu absorbieren. Da der Schwamm eine dreidimensionale Netzwerkstruktur aufweist, kann die Reinigungsflüssigkeit leicht durch den Schwamm absorbiert werden. Jedoch kann die durch den Schwamm absorbierte Reinigungsflüssigkeit schwer abgeführt werden. Dementsprechend ist eine Abführrate der durch den Schwamm absorbierten Reinigungsflüssigkeit gering und entsteht, wenn der Schwamm mit der Reinigungsflüssigkeit gesättigt ist, ein Problem dahingehend, dass die auf den Schwamm auftreffende Reinigungsflüssigkeit zu Dunst werden kann, der an einer Umgebung des Wafers oder des Haltetischs anhaften kann.A sponge is provided on an inner surface of the distribution preventing cover in the cleaning device to absorb the cleaning liquid distributed from the holding table. Since the sponge has a three-dimensional network structure, the cleaning liquid can be easily absorbed by the sponge. However, the cleaning liquid absorbed by the sponge may be difficult to dissipate. Accordingly, a discharge rate of the cleaning liquid absorbed by the sponge is small and, when the sponge is saturated with the cleaning liquid, there arises a problem that the cleaning liquid impinging on the sponge may become vapor liable to adhere to an environment of the wafer or the holding table ,
Es ist deshalb ein Ziel der vorliegenden Erfindung, eine Reinigungsvorrichtung bereitzustellen, die mit einem einfachen Aufbau effektiv die Erzeugung von Dunst verhindern kann.It is therefore an object of the present invention to provide a cleaning device which can effectively prevent the generation of haze with a simple structure.
Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Reinigungsvorrichtung bereitgestellt, die beinhaltet: einen Haltetisch zum Halten eines plattenförmigen Werkstücks; einen Motor zum Drehen des Haltetischs; eine Reinigungsdüse zum Sprühen einer Reinigungsflüssigkeit auf das an dem Haltetisch gehaltene plattenförmige Werkstück; und eine Abdeckung zum Absorbieren der Reinigungsflüssigkeit, die aus der Reinigungsdüse gesprüht und von dem Haltetisch, der das plattenförmige Werkstück hält und sich mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit dreht, verteilt wurde. Die Abdeckung beinhaltet eine obere Platte mit einer Öffnung zum Freilegen einer oberen Oberfläche des Haltetischs und eine Seitenplatte, die so mit der oberen Platte verbunden ist, dass sie sich von dieser nach unten erstreckt. Die obere Platte ist oberhalb einer oberen Oberfläche des an dem Haltetisch gehaltenen plattenförmigen Werkstücks angeordnet. Die Seitenplatte ist mit einer netzartigen Gitterbahn versehen, die von einer inneren Oberfläche der Seitenplatte beabstandet ist.According to one aspect of the present invention, there is provided a cleaning apparatus including: a holding table for holding a plate-shaped workpiece; a motor for rotating the holding table; a cleaning nozzle for spraying a cleaning liquid onto the plate-shaped workpiece held on the holding table; and a cover for absorbing the cleaning liquid sprayed from the cleaning nozzle and dispersed by the holding table that holds the plate-shaped workpiece and rotates at a predetermined speed. The cover includes a top plate having an opening for exposing an upper surface of the holding table and a side plate connected to the top plate so as to extend downward therefrom. The upper plate is disposed above an upper surface of the plate-shaped workpiece held on the holding table. The side plate is provided with a net-like grid path spaced from an inner surface of the side plate.
Bei diesem Aufbau trifft die Reinigungsflüssigkeit, die während der Reinigung von dem Haltetisch verteilt wird, nicht auf die Seitenplatte der Abdeckung auf, sondern wird durch die Gitterbahn absorbiert, die von der inneren Oberfläche der Seitenplatte der Abdeckung beabstandet ist. Dementsprechend besteht keine Möglichkeit, dass durch ein Auftreffen der Reinigungsflüssigkeit auf die Seitenplatte Dunst erzeugt werden kann. Ferner kann, wenn die Reinigungsflüssigkeit durch die Gitterbahn absorbiert wird, die in der Gitterbahn gehaltene Reinigungsflüssigkeit entlang der Gitterbahn nach unten fließen. Da die durch die Gitterbahn absorbierte Reinigungsflüssigkeit durchgehend entlang der Gitterbahn nach unten absinken kann, wird die Gitterbahn nicht mit der Reinigungsflüssigkeit gesättigt, sondern kann immer in einem Zustand gehalten werden, in dem sie Reinigungsflüssigkeit absorbieren kann. Dementsprechend besteht keine Möglichkeit, dass die Reinigungsflüssigkeit, die auf die Gitterbahn auftrifft, zu Dunst werden kann.In this structure, the cleaning liquid that is dispersed from the holding table during cleaning does not impinge on the side plate of the cover, but is absorbed by the grid trajectory spaced from the inner surface of the side plate of the cover. Accordingly, there is no possibility that mist may be generated by hitting the cleaning liquid on the side plate. Further, when the cleaning liquid is absorbed by the grid sheet, the cleaning liquid held in the grid sheet can flow down along the grid sheet. Since the cleaning liquid absorbed by the grid sheet can continuously sink down along the grid sheet, the grid sheet is not saturated with the cleaning liquid, but can always be maintained in a state in which it can absorb cleaning liquid. Accordingly, there is no possibility that the cleaning liquid impinging on the grid sheet may become mist.
Gemäß der vorliegenden Erfindung kann die Erzeugung von Dunst durch den einfachen Aufbau, bei dem die Gitterbahn an der Innenseite der Seitenplatte der Abdeckung vorgesehen ist, effektiv verhindert werden.According to the present invention, the generation of mist can be effectively prevented by the simple structure in which the grid sheet is provided on the inside of the side plate of the cover.
Die obigen und weitere Ziele, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung und die Art und Weise, diese zu verwirklichen, werden offenkundiger werden und die Erfindung selbst wird am besten verstanden werden, indem die folgende Beschreibung und die angefügten Ansprüche mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen, die einige bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung zeigen, studiert werden.The above and other objects, features and advantages of the present invention and the manner in which these will be accomplished will become more apparent and the invention itself will best be understood by the following description and appended claims with reference to the accompanying drawings in which: some preferred Embodiments of the invention will be studied.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
1 ist eine schematische Draufsicht einer Reinigungsvorrichtung gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; 1 is a schematic plan view of a cleaning device according to a preferred embodiment of the present invention;
2 ist eine schematische Schnittdarstellung der Reinigungsvorrichtung entlang einer Linie A-A in 1; und 2 is a schematic sectional view of the cleaning device along a line AA in 1 ; and
3A bis 3C sind Ansichten zum Veranschaulichen eines Reinigungsvorgangs durch die Reinigungsvorrichtung. 3A to 3C are views for illustrating a cleaning operation by the cleaning device.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMDETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT
Eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nachfolgend im Einzelnen mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben. 1 ist eine schematische Draufsicht einer Reinigungsvorrichtung 1 gemäß dieser bevorzugten Ausführungsform. 2 ist eine schematische Schnittdarstellung der Reinigungsvorrichtung 1 entlang einer Linie A-A in 1. Ein Aufbau der in 1 gezeigten Reinigungsvorrichtung 1 dient nur der Veranschaulichung und kann geeignet abgewandelt werden. In 1 ist zur einfacheren Darstellung eine Reinigungsdüse nicht gezeigt.A preferred embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. 1 is a schematic plan view of a cleaning device 1 according to this preferred embodiment. 2 is a schematic sectional view of the cleaning device 1 along a line AA in 1 , A construction of in 1 shown cleaning device 1 is for illustrative purposes only and may be modified as appropriate. In 1 For simplicity, a cleaning nozzle is not shown.
Wie in den 1 und 2 gezeigt ist, beinhaltet die Reinigungsvorrichtung 1 einen Haltetisch 2 zum Halten eines plattenförmigen Werkstücks W, einen Motor 6 zum Drehen des Haltetischs 2 und eine Reinigungsdüse 5 zum Sprühen einer Reinigungsflüssigkeit auf das an dem Haltetisch 2 gehaltene plattenförmige Werkstück W während einer Drehung des Haltetischs 2. Die Reinigungsvorrichtung 1 wird zur Reinigung des plattenförmigen Werkstücks W nach der Durchführung unterschiedlicher Arten von Bearbeitungen, wie zum Beispiel Schleifen, Polieren, Kantenbeschneidung und teilweises Schleifen außer an einem Umfangsabschnitt des Werkstücks W, verwendet. Das plattenförmige Werkstück W kann ein Halbleiterwafer aus Silizium, Galliumarsenid, etc. oder ein Anorganikmaterialsubstrat aus Keramik, Glas, Saphir (Al2O3), etc. sein.As in the 1 and 2 is shown, includes the cleaning device 1 a holding table 2 for holding a plate-shaped workpiece W, a motor 6 for turning the holding table 2 and a cleaning nozzle 5 for spraying a cleaning liquid onto the holding table 2 held plate-shaped workpiece W during rotation of the holding table 2 , The cleaning device 1 is used for cleaning the plate-shaped workpiece W after performing various kinds of processing such as grinding, polishing, edge trimming and partial grinding except at a peripheral portion of the workpiece W. The plate-shaped workpiece W may be a semiconductor wafer of silicon, gallium arsenide, etc. or an inorganic material substrate of ceramics, glass, sapphire (Al 2 O 3 ), etc.
Die Reinigungsvorrichtung 1 beinhaltet ferner ein unterhalb des Haltetischs 2 vorgesehenes Gehäuse 3 und eine Tischabdeckung 4 (Abdeckung), die vertikal bewegbar so in dem Gehäuse 3 vorgesehen ist, dass sie den Haltetisch 2 umgibt. Das Gehäuse 3 besteht aus einem äußeren Wandabschnitt 31 zum Umgeben einer äußeren Seitenoberfläche der Tischabdeckung 4, einem inneren Wandabschnitt 32, der innerhalb der Tischabdeckung 4 angeordnet ist, und einem unteren Wandabschnitt 33, der den äußeren Wandabschnitt 31 und den inneren Wandabschnitt 32 an deren unteren Enden verbindet. Dementsprechend ist ein ringförmiger Raum A1 durch den äußeren Wandabschnitt 31, den inneren Wandabschnitt 32 und den unteren Wandabschnitt 33 definiert. Dieser ringförmige Raum A1 ist zu einer oberen Seite geöffnet, so dass die Reinigungsflüssigkeit, die während der Reinigung von dem Haltetisch 2 verteilt wird, in den ringförmigen Raum A1 fließen kann. Der ringförmige Raum A1 wirkt außerdem als ein Aufnahmeraum zum Aufnehmen der Tischabdeckung 4 in einem Ruhezustand der Reinigungsvorrichtung 1. Der untere Wandabschnitt 33 des Gehäuses 3 ist durch mehrere Gummipuffer 11 an einer Basis 16 befestigt.The cleaning device 1 also includes a below the holding table 2 provided housing 3 and a table cover 4 (Cover), which is vertically movable so in the housing 3 provided is that they are the holding table 2 surrounds. The housing 3 consists of an outer wall section 31 for surrounding an outer side surface of the table cover 4 , an inner wall section 32 That's inside the table cover 4 is arranged, and a lower wall portion 33 that the outer wall section 31 and the inner wall section 32 connects at the lower ends. Accordingly, an annular space A1 is through the outer wall portion 31 , the inner wall section 32 and the lower wall section 33 Are defined. This annular space A1 is opened to an upper side, so that the cleaning liquid, which during the cleaning of the holding table 2 is distributed, can flow into the annular space A1. The annular space A1 also acts as a receiving space for receiving the table cover 4 in a resting state of the cleaning device 1 , The lower wall section 33 of the housing 3 is through several rubber buffers 11 at a base 16 attached.
Der innere Wandabschnitt 32 des Gehäuses 3 weist eine zylindrische Form auf und ein innerer Raum des inneren Wandabschnitts 32 wird als ein Anbringungsraum A2 für den Motor 6 zum Drehantrieb des Haltetischs 2 verwendet. Eine obere Öffnung des Anbringungsraums A2 für den Motor 6 ist durch einen oberen Deckel 7 geschlossen. Der obere Deckel 7 ist an einem oberen Ende des inneren Wandabschnitts 32 durch mehrere Bolzen 71 befestigt. Der obere Deckel 7 weist eine im Wesentlichen kegelstumpfartige Form mit einer leicht geneigten konischen Oberfläche auf. Der obere Deckel 7 weist eine mittlere Öffnung 72 zum Einführen eines Drehschafts 61 des Motors 6 auf. Ein oberes Ende des oberen Deckels 7 ist mit einem ringförmigen Vorsprung 73 ausgebildet, der in Richtung auf den Haltetisch 2 hervorsteht. Der Haltetisch 2 ist an dem ringförmigen Vorsprung 73 des oberen Deckels 7 drehbar gehalten. Der Motor 6 ist an einer Rückseite (unteren Oberfläche) des oberen Deckels 7 durch mehrere Bolzen 74 befestigt.The inner wall section 32 of the housing 3 has a cylindrical shape and an inner space of the inner wall portion 32 is used as an attachment space A2 for the engine 6 for the rotary drive of the holding table 2 used. An upper opening of the attachment space A2 for the engine 6 is through a top lid 7 closed. The upper lid 7 is at an upper end of the inner wall portion 32 through several bolts 71 attached. The upper lid 7 has a substantially frusto-conical shape with a slightly inclined conical surface. The upper lid 7 has a central opening 72 for introducing a rotation shaft 61 of the motor 6 on. An upper end of the upper lid 7 is with an annular projection 73 formed in the direction of the holding table 2 protrudes. The holding table 2 is on the annular projection 73 of the upper lid 7 rotatably held. The motor 6 is on a back (bottom surface) of the top lid 7 through several bolts 74 attached.
Der Motor 6 ist so an dem oberen Deckel 7 angebracht, dass er von diesem herabhängt. Der Drehschaft 61 des Motors 6 steht von dem oberen Ende des Motors 6 so nach oben hervor, dass er durch die mittlere Öffnung 72 des oberen Deckels 7 eingeführt ist. Der obere Abschnitt des Drehschafts 61 steht von der mittleren Öffnung 72 hervor und ist an einem unteren Abschnitt des Haltetischs 2 angebracht, wodurch eine Drehkraft des Motors 6 auf den Haltetisch 2 übertragen wird. Ferner ist der Drehschafts 61 des Motors 6 mit einem Ansaugdurchlass (nicht gezeigt) ausgebildet, der durch ein Abdichtelement 14 mit einer Vakuumquelle 15 verbunden ist. Das Abdichtelement 14 ist zum Beispiel als eine magnetische Abdichtung vorgesehen. Das Abdichtelement 14 wirkt so, dass es den Drehschaft 61 drehbar hält und den in dem Drehschaft 61 ausgebildeten Ansaugdurchlass mit der Vakuumquelle 15 verbindet. Ein Halteelement 21 aus porösem Keramikmaterial ist an einer oberen Oberfläche des Haltetischs 2 ausgebildet. Ein Vakuum wird durch die Vakuumquelle 15 an dem Halteelement 21 erzeugt, um dadurch das plattenförmige Werkstück W an dem Halteelement 21 unter Ansaugen zu halten.The motor 6 is like that on the top lid 7 appropriate that he depends on this. The rotation shaft 61 of the motor 6 is from the top of the engine 6 so it protrudes upward through the middle opening 72 of the upper lid 7 is introduced. The upper section of the rotary shaft 61 stands from the middle opening 72 and is at a lower portion of the holding table 2 attached, creating a torque of the engine 6 on the holding table 2 is transmitted. Further, the rotation shaft 61 of the motor 6 formed with a suction passage (not shown) passing through a sealing member 14 with a vacuum source 15 connected is. The sealing element 14 is intended for example as a magnetic seal. The sealing element 14 works so that it's the turning shaft 61 rotates and holds in the rotation shaft 61 formed intake passage with the vacuum source 15 combines. A holding element 21 of porous ceramic material is on an upper surface of the holding table 2 educated. A vacuum is created by the vacuum source 15 on the holding element 21 generated to thereby the plate-shaped workpiece W on the holding element 21 to keep under suction.
Der äußere Wandabschnitt 31 des Gehäuses 3 weist eine Polygonprismenform auf. Der äußere Wandabschnitt 31 weist eine äußere Seitenoberfläche 34 auf, an der ein Zylinder 8 zum vertikalen Bewegen der Tischabdeckung 4 angebracht ist. Der Zylinder 8 enthält eine Stange 81. Ein oberes Ende der Stange 81 steht von dem Zylinder 8 hervor und ist an der Tischabdeckung 4 befestigt. Die Stange 81 ist mit einem Kolben 82 versehen, der den inneren Raum des Zylinders 8 in einen oberen Raum und einen unteren Raum aufteilt. Eine Kommunikationsöffnung 83 zum Einführen von Luft in den unteren Raum unterhalb des Kolbens 82 ist an einem unteren Endabschnitt des Zylinders 8 ausgebildet. In ähnlicher Weise ist eine Kommunikationsöffnung 84 zum Einführen von Luft in den oberen Raum oberhalb des Kolbens 82 an einem oberen Endabschnitt des Zylinders 8 ausgebildet. Indem Luft durch die Kommunikationsöffnungen 83 und 84 geführt wird, wird die Tischabdeckung 4 durch die Stange 81 vertikal bewegt.The outer wall section 31 of the housing 3 has a polygon prism shape. The outer wall section 31 has an outer side surface 34 on, on the one cylinder 8th for moving the table cover vertically 4 is appropriate. The cylinder 8th contains a pole 81 , An upper end of the rod 81 stands from the cylinder 8th and is at the table cover 4 attached. The pole 81 is with a piston 82 provided the inner space of the cylinder 8th divided into an upper room and a lower room. A communication opening 83 for introducing air into the lower space below the piston 82 is at a lower end portion of the cylinder 8th educated. Similarly, a communication opening 84 for introducing air into the upper space above the piston 82 at an upper end portion of the cylinder 8th educated. By passing air through the communication ports 83 and 84 is guided, the table cover 4 through the pole 81 moved vertically.
Die Tischabdeckung 4 weist eine kistenartige Form auf und beinhaltet eine obere Platte 41 zum Abdecken einer oberen Seite des Haltetischs 2 in einer angehobenen Position der Tischabdeckung 4 (siehe 3A und 3B), eine Seitenplatte 42, die sich von einem äußeren Umfang der oberen Platte 41 nach unten erstreckt, und eine untere Platte 43, die mit einem unteren Ende der Seitenplatte 42 verbunden ist, zum Abdecken einer unteren Seite des Haltetischs 2 in der angehobenen Position. Die obere Platte 41 liegt in der angehobenen Position der Tischabdeckung 4 auf einer höheren Ebene als eine obere Oberfläche des an dem Haltetisch 2 gehaltenen plattenförmigen Werkstücks W. Die obere Platte 41 weist eine Öffnung 44 auf, die es dem Haltetisch 2 ermöglicht, sich zu der oberen Seite derselben zu öffnen. Die Öffnung 44 ist durch einen Öffnungsvorsprung 45 ausgebildet, der an einem mittleren Abschnitt der oberen Platte 41 so ausgebildet ist, dass er in Richtung auf den Haltetisch 2 schräg nach oben hervorsteht. Durch diesen Aufbau der oberen Platte 41 wird die Reinigungsflüssigkeit, die während der Reinigung von dem Haltetisch 2 verteilt wird, nach unten geführt.The table cover 4 has a box-like shape and includes a top plate 41 for covering an upper side of the holding table 2 in a raised position of the table cover 4 (please refer 3A and 3B ), a side plate 42 extending from an outer perimeter of the top plate 41 extends downwards, and a lower plate 43 with a lower end of the side plate 42 connected to cover a lower side of the holding table 2 in the raised position. The top plate 41 lies in the raised position of the table cover 4 at a higher level than an upper surface of the holding table 2 held plate-shaped workpiece W. The upper plate 41 has an opening 44 on it's the holding table 2 allows to open to the upper side of the same. The opening 44 is through an opening projection 45 formed at a middle portion of the upper plate 41 is designed so that it is in the direction of the holding table 2 protrudes obliquely upwards. By this construction of the upper plate 41 is the cleaning fluid, which during cleaning of the holding table 2 is distributed, led down.
Die obere Platte 41 ist mit einer netzartigen Gitterbahn 46 versehen, die von einer gesamten unteren Oberfläche der oberen Platte 41 beabstandet ist. Die Gitterbahn 46 wirkt so, dass sie eine Reinigungsflüssigkeit, die von dem Haltetisch 2 verteilt wird, und einen Dunst, der von einer unteren Seite des Haltetischs 2 aufsteigt, absorbiert. Ein Raum zwischen der Gitterbahn 46 und der unteren Oberfläche der oberen Platte 41 ist als ein ausreichender Raum eingestellt, so dass keine Möglichkeit besteht, dass die Reinigungsflüssigkeit in dem Raum zwischen der Gitterbahn 46 und der unteren Oberfläche der oberen Platte 41 gehalten werden kann. Dementsprechend wird die durch die Gitterbahn 46 absorbierte Reinigungsflüssigkeit nicht in der Gitterbahn 46 gehalten, sondern sinkt diese schnell nach unten ab.The top plate 41 is with a net-like grid rail 46 provided by an entire lower surface of the upper plate 41 is spaced. The grid rail 46 acts so that they have a cleaning fluid coming from the holding table 2 is distributed, and a haze coming from a lower side of the holding table 2 rises, absorbs. A space between the grid rail 46 and the lower surface of the upper plate 41 is set as a sufficient space, so that there is no possibility that the cleaning liquid in the space between the grid rail 46 and the lower surface of the upper plate 41 can be held. Accordingly, the through the grid rail 46 absorbed cleaning liquid not in the grid path 46 but it sinks down quickly.
Die Seitenplatte 42 weist eine Polygonprismenform ähnlich zu der Form des äußeren Wandabschnitts 31 des Gehäuses 3 auf. Die Seitenplatte 42 ist auch mit einer netzartigen Gitterbahn 47 versehen, die von einer gesamten inneren Oberfläche der Seitenplatte 42 beabstandet ist. Die Gitterbahn 47 wirkt so, dass sie eine Reinigungsflüssigkeit, die von dem Haltetisch 2 verteilt wird, absorbiert. Ähnlich zu der Gitterbahn 46 ist ein Raum zwischen der Gitterbahn 47 und der inneren Oberfläche der Seitenplatte 42 als ein ausreichender Raum eingestellt, so dass keine Möglichkeit besteht, dass die Reinigungsflüssigkeit in dem Raum zwischen der Gitterbahn 47 und der inneren Oberfläche der Seitenplatte 42 gehalten werden kann. Dementsprechend wird die durch die Gitterbahn 47 absorbierte Reinigungsflüssigkeit nicht in der Gitterbahn 47 gehalten, sondern sinkt diese schnell nach unten ab.The side plate 42 has a polygonal prism shape similar to the shape of the outer wall portion 31 of the housing 3 on. The side plate 42 is also with a net-like grid rail 47 provided by an entire inner surface of the side plate 42 is spaced. The grid rail 47 acts so that they have a cleaning fluid coming from the holding table 2 is distributed, absorbed. Similar to the grid rail 46 is a space between the grid rail 47 and the inner surface of the side plate 42 set as a sufficient space, so that there is no possibility that the cleaning liquid in the space between the grid rail 47 and the inner surface of the side plate 42 can be held. Accordingly, the through the grid rail 47 absorbed cleaning liquid not in the grid path 47 but it sinks down quickly.
Die untere Platte 43 ist unterhalb des an dem Haltetisch 2 gehaltenen plattenförmigen Werkstücks W angeordnet. In der angehobenen Position der Tischabdeckung 4 ist die untere Platte 43 so angeordnet, dass sie die obere Öffnung des ringförmigen Raums A1 des Gehäuses 3 abdeckt. Die untere Platte 43 der Tischabdeckung 4 ist vollständig mit mehreren Öffnungen 48 ausgebildet, die voneinander gleich beabstandet sind. Die Reinigungsflüssigkeit, die durch die innerhalb der oberen Platte 41 und der Seitenplatte 42 vorgesehenen Gitterbahnen 46 und 47 absorbiert wird, kann durch die Öffnungen 48 der unteren Platte 43 in den ringförmigen Raum A1 absinken. Jede der Gitterbahnen 46 und 47 weist eine solche Maschengröße auf, dass die von dem Haltetisch 2 verteilte Reinigungsflüssigkeit leicht durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbiert (aufgefangen) wird und die absorbierte Reinigungsflüssigkeit schnell von den Gitterbahnen 46 und 47 abgeführt wird.The bottom plate 43 is below the on the holding table 2 held plate-shaped workpiece W arranged. In the raised position of the table cover 4 is the bottom plate 43 arranged to be the upper opening of the annular space A1 of the housing 3 covers. The bottom plate 43 the table cover 4 is complete with multiple openings 48 formed, which are equally spaced from each other. The cleaning fluid passing through the inside of the top plate 41 and the side plate 42 provided grid railways 46 and 47 can be absorbed through the openings 48 the lower plate 43 sink into the annular space A1. Each of the grid tracks 46 and 47 has such a mesh size, that of the holding table 2 distributed cleaning fluid easily through the grid tracks 46 and 47 absorbed (caught) and the absorbed cleaning liquid quickly from the grid tracks 46 and 47 is dissipated.
Die von dem Zylinder 8 hervorstehende Stange 81 ist an einem oberen Endabschnitt der äußeren Seitenoberfläche 34 der Seitenplatte 42 befestigt. Im Ruhezustand der Reinigungsvorrichtung 1 ist die Tischabdeckung 4 abgesenkt, so dass die obere Platte 41, die Seitenplatte 42 und die untere Platte 43 in dem Gehäuse 3 aufgenommen sind, wie in 2 gezeigt ist. In dem Betriebszustand der Reinigungsvorrichtung 1 ist die Tischabdeckung 4 angehoben, so dass ein Umfang des Haltetischs 2 von der oberen Platte 41 und der Seitenplatte 42 umgeben wird und der untere Abschnitt des Haltetischs 2 durch die untere Platte 43 abgedeckt ist, wie in 3A und 3B gezeigt ist. Demensprechend ist der Haltetisch 2 in dem Ruhezustand der Reinigungsvorrichtung 1 von der Tischabdeckung 4 freigelegt, wie in 2 gezeigt ist, während in dem Betriebszustand der Reinigungsvorrichtung 1 der Haltetisch 2 von dem Haltetisch 2 umgeben wird, um eine Reinigungskammer A3 zu definieren, wie in 3A und 3B gezeigt ist.The from the cylinder 8th protruding rod 81 is at an upper end portion of the outer side surface 34 the side plate 42 attached. At rest of the cleaning device 1 is the table cover 4 lowered, leaving the top plate 41 , the side plate 42 and the bottom plate 43 in the case 3 are included, as in 2 is shown. In the operating state of the cleaning device 1 is the table cover 4 raised, leaving a perimeter of the holding table 2 from the top plate 41 and the side plate 42 is surrounded and the lower portion of the holding table 2 through the bottom plate 43 is covered, as in 3A and 3B is shown. Demensprechend is the holding table 2 in the resting state of the cleaning device 1 from the table cover 4 exposed, as in 2 is shown while in the operating state of the cleaning device 1 the holding table 2 from the holding table 2 is surrounded to define a cleaning chamber A3, as in 3A and 3B is shown.
Die Reinigungsdüse 5 zum Sprühen einer Reinigungsflüssigkeit auf das plattenförmige Werkstück W ist oberhalb des Haltetischs 2 angeordnet. Die Reinigungsdüse 5 wird durch einen Arm 53 an einem Drehschaft 52 eines Reinigungsdüsenbewegungsmotors 51 gehalten. Die Reinigungsdüse 5 ist dafür ausgelegt, sich um eine Achse des Drehschafts 52 zu drehen, indem der Reinigungsdüsenbewegungsmotor 51 in einer solchen Weise betrieben wird, dass die Reinigungsdüse 5 zwischen der Mitte des plattenförmigen Werkstücks W und dessen äußerem Umfang hin und her bewegt wird. Das heißt, die Reinigungsdüse 5 arbeitet so, dass sie die Reinigungsflüssigkeit in dem Zustand auf das plattenförmige Werkstück W, das an dem Haltetisch 2, der gedreht wird, gehalten wird, sprüht, in dem die Reinigungsdüse 5 durch den Reinigungsdüsenbewegungsmotor 51 hin und her bewegt wird. Demensprechend wird die Reinigungsflüssigkeit auf die gesamte obere Oberfläche des plattenförmigen Werkstücks W gesprüht, um dadurch eine Verschmutzung, die an der oberen Oberfläche des plattenförmigen Werkstücks W anhaftet, zu entfernen.The cleaning nozzle 5 for spraying a cleaning liquid onto the plate-shaped workpiece W is above the holding table 2 arranged. The cleaning nozzle 5 is by an arm 53 on a rotating shaft 52 a cleaning nozzle moving motor 51 held. The cleaning nozzle 5 is designed to be an axis of rotation 52 to turn by the cleaning nozzle motor 51 is operated in such a way that the cleaning nozzle 5 between the center of the plate-shaped workpiece W and the outer periphery thereof is reciprocated. That is, the cleaning nozzle 5 operates to apply the cleaning liquid in the state on the plate-shaped workpiece W, which on the holding table 2 The rotated, held, sprayed, in which the cleaning nozzle 5 through the cleaning nozzle moving motor 51 is moved back and forth. Accordingly, the cleaning liquid is sprayed on the entire upper surface of the plate-shaped workpiece W, thereby removing a dirt adhering to the upper surface of the plate-shaped workpiece W.
Bei der oben beschriebenen Reinigungsvorrichtung 1 wird die Reinigungsflüssigkeit, die während der Reinigung des plattenförmigen Werkstücks W von dem Haltetisch 2 verteilt wird, durch die innerhalb der oberen Platte 41 und der Seitenplatte 42 der Tischabdeckung 4 angeordneten Gitterbahnen 46 und 47 absorbiert. Das heißt, die Reinigungsflüssigkeit wird durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbiert, bevor sie die Seitenplatte 42 und die obere Platte 41 erreicht, so dass keine Möglichkeit besteht, dass die Reinigungsflüssigkeit auf die obere Platte 41 und die Seitenplatte 42 auftreffen kann, so dass Dunst erzeugt wird. Ferner kann die durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbierte Reinigungsflüssigkeit durchgehend entlang der Gitterbahnen 46 und 47 fließen und anschließend durch die Öffnungen 48 der unteren Platte 43 in den ringförmigen Raum A1 absinken. Dementsprechend werden die Gitterbahnen 46 und 47 nicht mit der absorbierten Reinigungsflüssigkeit gesättigt, sondern können diese immer in einem Zustand gehalten werden, in dem sie Reinigungsflüssigkeit absorbieren können. Als Folge dessen kann, sogar wenn die von dem Haltetisch 2 verteilte Reinigungsflüssigkeit auf die Gitterbahnen 46 und 47 auftrifft, die Reinigungsflüssigkeit durch die Gitterbahnen 46 und 47 ohne die Erzeugung von Dunst absorbiert werden, so dass ein Dunstaufkommen in der Reinigungskammer A3 unterdrückt werden kann.In the above-described cleaning device 1 becomes the cleaning liquid, which during the cleaning of the plate-shaped workpiece W from the holding table 2 is distributed by the inside of the upper plate 41 and the side plate 42 the table cover 4 arranged grid tracks 46 and 47 absorbed. That is, the cleaning liquid is passed through the grid sheets 46 and 47 absorbed before leaving the side plate 42 and the top plate 41 achieved, so there is no possibility that the cleaning fluid on the top plate 41 and the side plate 42 can strike, so that haze is generated. Furthermore, the through the grid tracks 46 and 47 absorbed cleaning fluid throughout the grid paths 46 and 47 flow and then through the openings 48 the lower plate 43 sink into the annular space A1. Accordingly, the grid sheets 46 and 47 not saturated with the absorbed cleaning liquid, but they can always be kept in a state in which they can absorb cleaning liquid. As a result, even if that of the holding table 2 distributed cleaning liquid on the grid tracks 46 and 47 impinges, the cleaning fluid through the grid tracks 46 and 47 be absorbed without the production of haze, so that a mist in the cleaning chamber A3 can be suppressed.
Der Reinigungsvorgang durch die Reinigungsvorrichtung 1 gemäß dieser bevorzugten Ausführungsform wird nachfolgend mit Bezug auf die 3A bis 3C beschrieben. 3A bis 3C sind Ansichten zum Veranschaulichen des Reinigungsvorgangs durch die Reinigungsvorrichtung 1. Der in den 3A bis 3C gezeigte Reinigungsvorgang dient lediglich der Veranschaulichung und kann geeignet abgewandelt werden.The cleaning process by the cleaning device 1 According to this preferred embodiment will be described below with reference to the 3A to 3C described. 3A to 3C are views for illustrating the cleaning operation by the cleaning device 1 , The in the 3A to 3C The cleaning process shown is merely illustrative and can be suitably modified.
Wie in 3A gezeigt ist, wird das plattenförmige Werkstück W an dem Halteelement 21 des Haltetischs 2 unter Ansaugen gehalten und wird die Tischabdeckung 4 angehoben. Dementsprechend wird der Haltetisch 2 von der Tischabdeckung 4 umgeben, um dadurch die Reinigungskammer A3 zu definieren. Zu diesem Zeitpunkt ist die obere Platte 41 der Tischabdeckung 4 oberhalb der oberen Oberfläche des an dem Haltetisch 2 gehaltenen plattenförmigen Werkstücks W angeordnet und die untere Platte 43 der Tischabdeckung 4 unterhalb des Haltetischs 2 so angeordnet, dass sie den ringförmigen Raum A1 abdeckt. In dieser angehobenen Position der Tischabdeckung 4 ist die Reinigungsdüse 5 innerhalb der Öffnung 44 der oberen Platte 41 angeordnet und wird der Haltetisch 2, der das plattenförmige Werkstück W hält, gedreht. In diesem Zustand wird die Reinigungsflüssigkeit aus der Reinigungsdüse 5 auf das plattenförmige Werkstück W gesprüht.As in 3A is shown, the plate-shaped workpiece W on the holding element 21 of the holding table 2 kept under suction and becomes the table cover 4 raised. Accordingly, the holding table 2 from the table cover 4 surrounded to thereby define the cleaning chamber A3. At this time, the top plate is 41 the table cover 4 above the upper surface of the holding table 2 held plate-shaped workpiece W and arranged the lower plate 43 the table cover 4 below the holding table 2 arranged so that it covers the annular space A1. In this raised position of the table cover 4 is the cleaning nozzle 5 inside the opening 44 the top plate 41 arranged and becomes the holding table 2 , which holds the plate-shaped workpiece W, rotated. In this state, the cleaning liquid from the cleaning nozzle 5 sprayed on the plate-shaped workpiece W.
Die auf das plattenförmige Werkstück W gesprühte Reinigungsflüssigkeit wird von dem Haltetisch 2 durch eine Zentrifugalkraft verteilt. Zu diesem Zeitpunkt wird die von dem Haltetisch 2 verteilte Reinigungsflüssigkeit durch die innerhalb der oberen Platte 41 und der Seitenplatte 42 angeordneten Gitterbahnen 46 und 47 absorbiert. Wie oben beschrieben wurde, ist die Gitterbahn 46 ausreichend von der unteren Oberfläche der oberen Platte 41 beabstandet und die Gitterbahn 47 ausreichend von der inneren Oberfläche der Seitenplatte 42 beabstandet. Demensprechend wird die durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbierte Reinigungsflüssigkeit ohne einen Effekt einer Oberflächenspannung zwischen der Gitterbahn 46 und der unteren Oberfläche der oberen Platte 41 und zwischen der Gitterbahn 47 und der inneren Oberfläche der Seitenplatte 42 leicht von diesen abgeführt.The cleaning liquid sprayed on the plate-shaped workpiece W is released from the holding table 2 distributed by a centrifugal force. At this time, the of the holding table 2 distributed cleaning fluid through the inside of the upper plate 41 and the side plate 42 arranged grid tracks 46 and 47 absorbed. As described above, the grid rail is 46 sufficiently from the lower surface of the upper plate 41 spaced and the grid rail 47 sufficiently from the inner surface of the side plate 42 spaced. Demensprechend is the through the grid railways 46 and 47 absorbed cleaning liquid without an effect of surface tension between the grid sheet 46 and the lower surface of the upper plate 41 and between the grid rail 47 and the inner surface of the side plate 42 easily dissipated from these.
Wie in 3B zeigt ist, kann die durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbierte Reinigungsflüssigkeit durchgehend entlang der Gitterbahnen 46 und 47 fließen und anschließend durch die Öffnungen 48 der unteren Platte 43 in den ringförmigen Raum A1 absinken. Wie in 3C gezeigt ist, besteht jede der Gitterbahnen 46 und 47 aus einer großen Anzahl vertikaler Stränge 56 und einer großen Anzahl horizontaler Stränge 57, um ein rasterförmiges Netzwerk mit einer großen Anzahl von Maschen auszubilden. Ein solches zweidimensionales Netzwerk kann die Reinigungsflüssigkeit halten. Dieses zweidimensionale Netzwerk weist eine Haltekraft für die Reinigungsflüssigkeit auf, die kleiner als die eines dreidimensionalen Netzwerks, wie zum Beispiel eines Schwamms, ist. Ferner kann in dem zweidimensionalen Netzwerk die Reinigungsflüssigkeit auf einer Ebene direkt nach unten fließen. Dementsprechend ist ein Abführweg der Reinigungsflüssigkeit in dem zweidimensionalen Netzwerk einfacher als in dem dreidimensionalen Netzwerk. Als Folge dessen kann die Reinigungsflüssigkeit, sobald sie durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbiert wurde, verglichen mit dem Fall der Verwendung eines Absorptionselements mit einer dreidimensionalen Netzwerkstruktur, wie zum Beispiel eines Schwamms, in einer kürzeren Zeit abgeführt werden.As in 3B shows, can through the grid tracks 46 and 47 absorbed cleaning fluid throughout the grid paths 46 and 47 flow and then through the openings 48 the lower plate 43 sink into the annular space A1. As in 3C is shown, each of the grid tracks 46 and 47 from a large number of vertical strands 56 and a large number of horizontal strands 57 to form a grid-like network with a large number of meshes. Such a two-dimensional network can hold the cleaning liquid. This two-dimensional network has a holding force for the cleaning liquid smaller than that of a three-dimensional network such as a sponge. Further, in the two-dimensional network, the cleaning liquid may flow directly down on a plane. Accordingly, a discharge path of the cleaning liquid in the two-dimensional network is easier than in the three-dimensional network. As a result, the cleaning fluid, as soon as it passes through the grid trays 46 and 47 is absorbed in a shorter time as compared with the case of using an absorbent member having a three-dimensional network structure such as a sponge.
Die durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbierte Reinigungsflüssigkeit kann durchgehend nach unten fließen, so dass der Zustand, in dem die Reinigungsflüssigkeit durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbiert wurde, schnell in den Zustand zurückgeführt werden kann, in dem die Reinigungsflüssigkeit von den Gitterbahnen 46 und 47 abgeführt wurde. Auf diese Weise werden die Absorption und das Abführen der Reinigungsflüssigkeit durchgehend in den Gitterbahnen 46 und 47 wiederholt, so dass die Gitterbahnen 46 und 47 nicht mit der Reinigungsflüssigkeit gesättigt werden. Dementsprechend kann die von dem Haltetisch 2 verteilte Reinigungsflüssigkeit durchgehend durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbiert werden, so dass, sogar wenn die Reinigungsflüssigkeit auf die Gitterbahnen 46 und 47 auftrifft, kein Dunst erzeugt wird. Ferner wird die durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbierte Reinigungsflüssigkeit nicht zu Dunst, sondern sinkt durch die Öffnungen 48 der unteren Platte 43 in den ringförmigen Raum A1 nach unten ab. Danach wird die Reinigungsflüssigkeit aus einem Ablauf 35 (siehe 2) abgeführt, der an einem unteren Endabschnitt des äußeren Wandabschnitts 31 des Gehäuses 3 vorgesehen ist. Dementsprechend ist es nicht erforderlich, an dem Gehäuse 3 eine Sauglufteinrichtung vorzusehen. Daher kann die Erzeugung von Dunst durch den einfachen Aufbau, bei dem die Gitterbahnen 46 und 47 innerhalb der oberen Platte 41 und der Seitenplatte 42 der Tischabdeckung 4 vorgesehen sind, effektiv unterdrückt werden.The through the grid railways 46 and 47 absorbed cleaning fluid can flow down continuously, so that the state in which the cleaning fluid through the grid trays 46 and 47 was absorbed quickly, can be attributed to the state in which the cleaning fluid from the grid tracks 46 and 47 was dissipated. In this way, the absorption and the discharge of the cleaning liquid are continuously in the grid tracks 46 and 47 repeated, so the grid tracks 46 and 47 Do not saturate with the cleaning fluid. Accordingly, that of the holding table 2 distributed cleaning fluid through the grid paths 46 and 47 be absorbed, so that, even if the cleaning liquid on the grid sheets 46 and 47 hits, no haze is generated. Further, the through the grid tracks 46 and 47 absorbed cleaning liquid does not haze, but sinks through the openings 48 the lower plate 43 down into the annular space A1. Thereafter, the cleaning liquid from a drain 35 (please refer 2 ) discharged at a lower end portion of the outer wall portion 31 of the housing 3 is provided. Accordingly, it is not necessary on the housing 3 to provide a suction air device. Therefore, the generation of haze by the simple structure in which the grid trays 46 and 47 inside the top plate 41 and the side plate 42 the table cover 4 are intended to be effectively suppressed.
Gemäß der oben beschriebenen Reinigungsvorrichtung 1 trifft die während der Reinigung von dem Haltetisch 2 verteilte Reinigungsflüssigkeit nicht auf die obere Platte 41 und die Seitenplatte 42 der Tischabdeckung 4 auf, sondern wird diese durch die innerhalb der oberen Platte 41 und der Seitenplatte 42 der Tischabdeckung 4 vorgesehenen Gitterbahnen 46 und 47 absorbiert. Demensprechend besteht keine Möglichkeit, dass wegen des Auftreffens der Reinigungsflüssigkeit auf die obere Platte 41 und die Seitenplatte 42 Dunst erzeugt wird, wodurch die Erzeugung von Dunst in der Tischabdeckung 4 unterdrückt wird. Ferner kann, wenn die Reinigungsflüssigkeit durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbiert wird, die in dem Netzwerk der Gitterbahnen 46 und 47 gehaltene Reinigungsflüssigkeit entlang des Netzwerks nach unten fließen. Das heißt, die durch die Gitterbahnen 46 und 47 absorbierte Reinigungsflüssigkeit kann durchgehend entlang des Netzwerks nach unten absinken, so dass die Gitterbahnen 46 und 47 nicht mit der Reinigungsflüssigkeit gesättigt werden, sondern immer in einem Zustand gehalten werden können, in dem sie Reinigungsflüssigkeit absorbieren können. Demensprechend besteht keine Möglichkeit, dass die auf die Gitterbahnen 46 und 47 auftreffende Reinigungsflüssigkeit zu Dunst werden kann.According to the cleaning device described above 1 meets with the cleaning table during cleaning 2 do not spread the cleaning fluid on the top plate 41 and the side plate 42 the table cover 4 on, but this is through the inside of the top plate 41 and the side plate 42 the table cover 4 provided grid railways 46 and 47 absorbed. Demensprechend there is no possibility that because of the impact of the cleaning liquid on the top plate 41 and the side plate 42 Haze is generated, causing the generation of haze in the table cover 4 is suppressed. Further, when the cleaning fluid through the grid trays 46 and 47 is absorbed in the network of grid tracks 46 and 47 held cleaning liquid flow down the network. That is, through the grid railways 46 and 47 Absorbed cleaning liquid can sink down the network continuously, so that the grid tracks 46 and 47 can not be saturated with the cleaning liquid, but can always be kept in a state in which they can absorb cleaning liquid. Demensprechend there is no possibility that the on the grid railways 46 and 47 impinging cleaning liquid can be mist.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die obige bevorzugte Ausführungsform beschränkt, sondern es können verschiedene Abwandlungen vorgenommen werden. Die Größe, Form etc. jedes in den beigefügten Zeichnungen gezeigten Teils dienen lediglich der Veranschaulichung und können geeignet innerhalb des Umfangs geändert werden, in dem der Effekt der vorliegenden Erfindung geboten werden kann. Ferner kann die obige bevorzugte Ausführungsform geeignet abgewandelt werden, ohne von dem Umfang des Gegenstands der vorliegenden Erfindung abzuweichen.The present invention is not limited to the above preferred embodiment, but various modifications may be made. The size, shape, etc., of each part shown in the accompanying drawings are illustrative only and may be appropriately changed within the scope in which the effect of the present invention can be provided. Further, the above preferred embodiment may be appropriately modified without departing from the scope of the subject matter of the present invention.
Zum Beispiel ist, obwohl bei der obigen bevorzugten Ausführungsform die Reinigungsdüse 5 in der Reinigungsvorrichtung 1 schwenkend so hin und her bewegt wird, dass sie die Reinigungsflüssigkeit auf die gesamte Oberfläche des plattenförmigen Werkstücks W sprüht, die vorliegende Erfindung nicht auf diesen Aufbau beschränkt, vorausgesetzt, dass die Reinigungsflüssigkeit auf das plattenförmige Werkstück W gesprüht wird, um dadurch das Werkstück W zu reinigen. Zum Beispiel kann, falls das plattenförmige Werkstück W ein durch Kantenbeschneidung bearbeitetes Werkstück ist, die Reinigungsflüssigkeit nur auf den äußeren Umfang des plattenförmigen Werkstücks W gesprüht werden.For example, although in the above preferred embodiment, the cleaning nozzle is 5 in the cleaning device 1 is pivotally reciprocated so as to spray the cleaning liquid on the entire surface of the plate-shaped workpiece W, the present invention is not limited to this structure, provided that the cleaning liquid is sprayed onto the plate-shaped workpiece W, thereby to the workpiece W to clean. For example, if the plate-shaped workpiece W is a workpiece machined by edge trimming, the cleaning liquid may be sprayed only on the outer periphery of the plate-shaped workpiece W.
Obwohl bei der obigen bevorzugten Ausführungsform die Tischabdeckung 4 vertikal bewegbar ist, kann die Tischabdeckung 4 in der angehobenen Position befestigt sein, so dass sie den Haltetisch 2 immer umgibt. Ferner ist es, obwohl bei der obigen bevorzugten Ausführungsform die Gitterbahnen 46 und 47 innerhalb der oberen Platte 41 und der Seitenplatte 42 der Tischabdeckung 4 vorgesehen sind, wesentlich, dass zumindest die Gitterbahnen 46 innerhalb der Seitenplatte 42 der Tischabdeckung 4 vorgesehen ist.Although in the above preferred embodiment, the table cover 4 is vertically movable, the table cover can 4 be secured in the raised position so that they hold the holding table 2 always surrounds. Further, although in the above preferred embodiment, the grid trays 46 and 47 inside the top plate 41 and the side plate 42 the table cover 4 are provided, it is essential that at least the grid tracks 46 inside the side plate 42 the table cover 4 is provided.
Ferner ist es, obwohl bei der obigen bevorzugten Ausführungsform die untere Platte 43 in der Tischabdeckung 4 beinhaltet ist, wesentlich, dass zumindest die obere Platte 41 und die Seitenplatte 42 in der Tischabdeckung 4 beinhaltet sind. Auch mit einem solchen Aufbau kann die Erzeugung von Dunst effektiv verhindert werden. Ferner ist, obwohl bei der obigen bevorzugten Ausführungsform jede der Gitterbahnen 46 und 47 ein rasterförmiges Netzwerk bildet, die Form des Netzwerks nicht besonders beschränkt, vorausgesetzt, dass jede der Gitterbahnen 46 und 47 eine zweidimensionale Netzwerkstruktur aufweist.Further, although in the above preferred embodiment, the lower plate is 43 in the table cover 4 is essential that much at least the top plate 41 and the side plate 42 in the table cover 4 are included. Even with such a structure, the generation of haze can be effectively prevented. Further, although in the above preferred embodiment, each of the grid trays 46 and 47 forming a grid-shaped network that does not particularly limit the shape of the network, provided that each of the grid tracks 46 and 47 has a two-dimensional network structure.
Bei der obigen bevorzugten Ausführungsform ist die einzelne Gitterbahn 46 innerhalb der oberen Platte 41 vorgesehen und die einzelne Gitterbahn 47 innerhalb der Seitenplatte 42 vorgesehen. Jedoch können mehrere Gitterbahnen 46, die um einen vorgegebenen Abstand voneinander beabstandet sind, innerhalb der oberen Platte 41 vorgesehen sein. In ähnlicher Weise können mehrere Gitterbahnen 47, die um einen vorgegebenen Abstand voneinander beabstandet sind, innerhalb der Seitenplatte 42 vorgesehen sein.In the above preferred embodiment, the single grid is web 46 inside the top plate 41 provided and the single grid rail 47 inside the side plate 42 intended. However, you can have several grid tracks 46 which are spaced a predetermined distance apart, within the upper plate 41 be provided. Similarly, multiple grid paths 47 which are spaced a predetermined distance apart, within the side plate 42 be provided.
Gemäß der vorliegenden Erfindung kann die Erzeugung von Dunst durch den einfachen Aufbau, bei dem die Gitterbahn innerhalb der Seitenplatte der Abdeckung vorgesehen ist, effektiv verhindert werden. Insbesondere kann die vorliegende Erfindung als Reinigungsvorrichtung zum Entfernen einer Verschmutzung an einer gesamten Oberfläche eines plattenförmigen Werkstücks verwendet werden.According to the present invention, the generation of haze can be effectively prevented by the simple structure in which the grid sheet is provided inside the side panel of the cover. In particular, the present invention can be used as a cleaning device for removing a stain on an entire surface of a plate-shaped workpiece.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die Einzelheiten der oben beschriebenen bevorzugten Ausführungsformen beschränkt.The present invention is not limited to the details of the preferred embodiments described above.
Der Umfang der Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert und alle Änderungen und Abwandlungen, die innerhalb der Äquivalenz des Umfangs der Ansprüche liegen, werden deshalb durch die Erfindung umfasst.The scope of the invention is defined by the appended claims, and all changes and modifications which come within the equivalence of the scope of the claims are therefore intended to be embraced by the invention.
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
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JP 2009-094247 [0002, 0002] JP 2009-094247 [0002, 0002]
