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Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen optischen Spiegel für ein Großteleskop, das im Weltraum oder über der Erde verwendet wird.
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Ein Erdbeobachtungssatellit oder ein Weltraumbeobachtungssatellit, der auf einer Umlaufbahn eines Satelliten verwendet wird, unterliegt hinsichtlich der Zuführung und Abgabe von Wärme raschen und starken Veränderungen, die aus umgebungsmäßigen Änderungen bei Tag und Nacht aufgrund von Sonneneinstrahlung und Erdschatten unter Vakuumbedingungen resultieren.
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Ein an dem Satellit angebrachter optischer Spiegel ist damit ebenfalls den Veränderungen bei der Zuführung und Abgabe von Wärme ausgesetzt. Wenn der optische Spiegel aus einem Material mit einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten hergestellt ist, der nicht Null beträgt, wird der optische Spiegel aufgrund der Änderungen bei der Zuführung und Abgabe von Wärme thermischen Belastungen ausgesetzt.
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In diesem Fall wird nicht der gesamte optische Spiegel den Änderungen bei der Zuführung und Abgabe von Wärme ausgesetzt, sondern es gibt eine Verteilung bei den Änderungen dieser Zuführung und Abgabe von Wärme, und somit entsteht an dem optischen Spiegel zwangsläufig eine Temperaturverteilung (Temperaturgradient). Infolgedessen wird der optische Spiegel nicht gleichmäßig verformt, sondern es wird eine lokale thermische Belastung entsprechend der Temperaturverteilung verursacht. Die reflektierende Oberfläche des optischen Spiegels wird daher aufgrund der thermischen Belastungen verformt, so dass sich Beeinträchtigungen bei den optischen Eigenschaften, wie z. B. Unschärfen oder Verzeichnungen eines aufgenommenen Bildes, ergeben.
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In Anbetracht des vorstehend geschilderten Problems ist ein Verfahren vorgeschlagen worden, bei dem zwischen einem Spiegel und einer optischen Halterung, die den Spiegel über ein Abstützelement hält, ein wärmeleitendes Element unter Verwendung eines Klebstoffs mit hoher Wärmeleitfähigkeit angebracht ist, und von einer Spiegeloberfläche des Spiegels erzeugte Wärme durch das wärmeleitende Element direkt zu der optischen Halterung geleitet wird, um dadurch eine Temperaturverteilung des Spiegels zu vermindern (siehe z. B.
JP 2004-13010 A (Seite 3 und
1)).
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Es ist ein weiteres Verfahren vorgeschlagen worden, bei dem eine Temperaturverteilungs-Erfassungseinrichtung zum Detektieren einer Oberflächentemperaturverteilung an einer Oberfläche eines Spiegels und eine Temperatursteuereinrichtung, die eine mit einem heißen Draht arbeitende Heizeinrichtung und ein Gebläse zum partiellen Erwärmen und Kühlen einer Rückseite des Spiegels beinhaltet, vorgesehen sind und die Temperatursteuereinrichtung auf der Basis der detektierten Oberflächentemperaturverteilung betätigt wird, um dadurch die Oberflächentemperaturverteilung des Spiegels einzustellen (siehe z. B.
JP 10-284390 A (Seite 3 und
3)).
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Bei dem vorstehend genannten Verfahren, bei dem das wärmeleitende Element zwischen dem Spiegel und der optischen Halterung angeordnet ist und die an einer Spiegeloberfläche erzeugte Wärme durch das wärmeleitende Element direkt zu der optischen Halterung geleitet wird, um dadurch eine Temperaturverteilung des Spiegels zu vermindern, ist jedoch der Wärmeausdehnungskoeffizient des den Spiegel bildenden Elements verschieden von dem Wärmeausdehnungskoeffizienten des Klebstoffs mit hoher Wärmeleitfähigkeit oder des wärmeleitenden Elements.
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Somit werden unweigerlich thermische Belastungen in einem Bereich erzeugt, mit dem das wärmeleitende Element verbunden ist, so dass eine lokale Verformung des Spiegels in dem entsprechenden Bereich nicht verhindert werden kann.
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Ferner ist bei dem vorstehend beschriebenen Verfahren, bei dem die mit einem heißen Draht arbeitende Heizeinrichtung und das Gebläse auf der Basis der Oberflächentemperaturverteilung des Spiegels betrieben werden, um dadurch die Oberflächentemperaturverteilung des Spiegels einzustellen, der Wärmeausdehnungskoeffizient des den Spiegel bildenden Elements verschieden von dem Wärmeausdehnungskoeffizienten der Heizeinrichtung mit dem heißen Draht.
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Daher können thermische Belastungen in einem Bereich, in dem die mit einem heißen Draht arbeitende Heizeinrichtung haftend angebracht ist, nicht verhindert werden, so dass somit auch eine lokale Verformung des Spiegels in dem entsprechenden Bereich nicht verhindert werden kann.
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Aus der
US 5 920 289 A ist ein Reflektor für Radiowellen und/oder Mikrowellen bekannt, der Folgendes aufweist: einen Spiegelkörper mit einer reflektierenden Oberfläche, eine Waffelstruktur, die mit einer Oberfläche gegenüber von der reflektierenden Oberfläche des Spiegelkörpers verbunden ist, wobei die Waffelstruktur Trennwände aufweist und der Spiegelkörper einen Wärmeerzeugungsbereich beinhaltet. Ferner ist eine Stromversorgungseinrichtung vorgesehen, um dem Wärmeerzeugungsbereich Strom zuzuführen, wobei die Trennwände und der Spiegelkörper aus dem gleichen Material hergestellt sind. Der Spiegelkörper ist dabei als Schichtenkörper mit einer Vielzahl von parallel zueinander angeordneten Schichten ausgebildet, die unter der reflektierenden Oberfläche ausgebildet sind. Dabei ist zwischen einem Paar von Glasfasergeweben ein Heizdraht eingearbeitet, der zickzackförmig in dieser Verbundstruktur parallel zu der reflektierenden Oberfläche verläuft und an die Stromversorgungseinrichtung angeschlossen ist. Damit treten ähnliche Probleme auf, wie sie vorstehend erläutert sind.
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Aus der
JP 2004-301 969 A ist ein optischer Spiegel bekannt, der Folgendes aufweist: einen Spiegelkörper mit einer reflektierenden Oberfläche, eine Struktur, die mit einer Oberfläche gegenüber von der reflektierenden Oberfläche des Spiegelkörpers verbunden ist, wobei die Struktur Wände aufweist und die Wände einen Wärmeerzeugungsbereich besitzen. Ferner ist eine Stromversorgungseinrichtung vorgesehen, die dem Wärmeerzeugungsbereich Strom zuführt, wobei die Trennwände und der Spiegelkörper aus unterschiedlichen Materialien hergestellt sind. Bei diesem herkömmlichen optischen Spiegel ist der Spiegelkörper mit seiner reflektierenden Oberfläche auf einer Struktur angeordnet, die mit einer Vielzahl von senkrecht dazu verlaufenden Säulen abgestützt ist, die aus einem hitzebeständigen Polymer bestehen und an eine Schaltungsmatrix angeschlossen sind, die einen Wärmeerzeugungsbereich bilden und an die Stromversorgungseinrichtung angeschlossen sind.
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Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht somit darin, lokale thermische Belastung bei einem solchen Spiegel zu vermeiden und dadurch Beeinträchtigungen bei den optischen Eigenschaften, wie z. B. Unschärfen und Verzeichnungen, eines aufgenommenen Bildes zu verhindern.
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Gelöst wird diese Aufgabe erfindungsgemäß mit einem optischen Spiegel, wie er im Anspruch 1 angegeben ist.
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Gemäß einem Aspekt schafft die vorliegende Erfindung einen optischen Spiegel, der Folgendes aufweist: einen Spiegelkörper mit einer reflektierenden Oberfläche, eine Waffelstruktur, die mit einer Oberfläche gegenüber von der reflektierenden Oberfläche des Spiegelkörpers verbunden ist, wobei die Waffelstruktur Trennwände aufweist und mindestens eine der Trennwände einen Wärmeerzeugungsbereich beinhaltet, und eine Stromversorgungseinrichtung, die dafür konfiguriert ist, dem Wärmeerzeugungsbereich Strom zuzuführen, wobei die Trennwände und der Spiegelkörper aus dem gleichen Material hergestellt sind.
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Die Waffelstruktur, die aus dem gleichen Material wie der Spiegelkörper hergestellt ist, sorgt somit für die Beibehaltung der Form des Spiegelkörpers, und die mindestens eine Trennwand der Waffelstruktur beinhaltet einen Wärmeerzeugungsbereich. Dadurch können lokale thermische Belastungen des Spiegels unterdrückt werden, so dass wiederum eine Beeinträchtigung der optischen Eigenschaften, wie z. B. Unschärfen oder Verzeichnungen eines aufgenommenen Bildes, verhindert werden.
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Bevorzugte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben. Die Erfindung und Weiterbildungen der Erfindung werden im Folgenden anhand der zeichnerischen Darstellungen von Ausführungsbeispielen noch näher erläutert. In den Zeichnungen zeigen:
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1 eine schematische Darstellung eines optischen Spiegels gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung;
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2 eine schematische Darstellung des optischen Spiegels gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung;
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3 eine vergrößerte schematische Darstellung eines Wärmeerzeugungsbereichs des optischen Spiegels gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung; und
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4 eine schematische Darstellung eines Verfahrens zum Messen von Kenngrößen bei einem optischen Spiegel gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
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Erstes Ausführungsbeispiel
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Die Materialien, die zum Herstellen eines erfindungsgemäßen optischen Spiegels verwendet werden, erfüllen vorzugsweise folgende Bedingungen:
- (1) Die spezifische Festigkeit, die spezifische Steifigkeit und die Bruchzähigkeit sind hoch.
- (2) Leitfähigkeitseigenschaft als Widerstands-Heizelement.
- (3) Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient und hohe Wärmeleitfähigkeit.
- (4) Einfacher Herstellungsvorgang und hohe Formproduktivität.
- (5) Herstellbar mit allgemeiner Ausrüstung und guter Bearbeitbarkeit.
- (6) Alle Formen der Elemente können mit einem einzigen Material hergestellt werden, und die Elemente können vereinigt (kombiniert) werden.
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Bei dem ersten Ausführungsbeispiel wird zum Herstellen eines optischen Spiegels mit Carbonfasern verstärktes Siliziumcarbid-Verbundmaterial (das im folgenden als C/SiC abgekürzt wird) ausgewählt, das die vorstehend genannten Anforderungen erfüllt.
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1 veranschaulicht eine schematische Darstellung eines optischen Spiegels 1 gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
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Ein Spiegelkörper 2 besitzt eine konkave Spiegelformgebung mit einem Außendurchmesser von ca. 500 mm, einem Innendurchmesser von ca. 130 mm und einer Dicke von ca. 50 mm sowie eine Brennweite von ca. 1572,5 mm. Der Spiegelkörper 2 ist durch spanende Bearbeitung bzw. Schneiden eines Vollmaterials aus C/SiC in eine vorbestimmte Form gebracht. Eine reflektierende Oberfläche 3 des Spiegelkörpers 2 ist mit einer dünnen Aluminiumschicht ausgebildet. Die dünne Aluminiumschicht wird z. B. durch Sputtern oder Aufdampfen gebildet.
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2 zeigt eine schematische Darstellung des optischen Spiegels 1 gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung, betrachtet von einer Oberfläche gegenüber von einer Seite, auf der die reflektierende Oberfläche gebildet ist. Wie in 2 dargestellt, ist eine Rückseite des optischen Spiegels 1 durch spanende Bearbeitung mit Trennwänden 4 ausgebildet.
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Die Trennwände 4 besitzen eine Dicke von ca. 4 mm, sind unter Bildung von gleichschenkeligen Dreiecken mit einer Seitenlänge von ca. 75 mm angeordnet und bilden eine Waffelstruktur 5. Wie in 1 gezeigt, ist die Waffelstruktur 5 durch Abstützelemente 6 an einer optischen Fassung bzw. Halterung 7 befestigt.
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3 zeigt eine vergrößerte schematische Darstellung der Trennwand 4 des ersten Ausführungsbeispiels. Die Trennwand 4 beinhaltet einen Wärmeerzeugungsbereich 8 mit einer Querschnittsfläche, die kleiner ist als eine Querschnittsfläche der übrigen Bereiche derselben Trennwand 4. Der Wärmeerzeugungsbereich ist durch Einarbeiten einer Schlitzform in die Trennwand 4 gebildet.
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Die Querschnittsfläche des Wärmeerzeugungsbereichs 8 ist kleiner ausgebildet als die Querschnittsfläche der übrigen Bereiche der Trennwand 4, um dadurch den elektrischen Widerstand des Wärmeerzeugungsbereichs zu erhöhen. Eine Stromversorgungseinrichtung (nicht gezeigt) ist zwischen einem vorderen Endbereich 8a des Schlitzbereichs und einem Basisbereich 8b des Schlitzbereichs angeschlossen. Durch Zuführen von Strom von der Stromversorgungseinrichtung ist es möglich, Wärme mit dem Wärmeerzeugungsbereich 8 zu erzeugen.
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Bei dem optischen Spiegel mit der vorstehend beschriebenen Konfiguration sind die reflektierende Oberfläche des Spiegelkörpers und die auf der Rückseite des Spiegelkörpers gebildete Waffelstruktur aus C/SiC hergestellt. Ferner sind auch die an den Trennwänden der Waffelstruktur ausgebildeten Wärmeerzeugungsbereiche aus C/SiC hergestellt. Wenn der optische Spiegel auf der Umlaufbahn eines Satelliten verwendet wird, befindet sich der optische Spiegel stets in einem Zustand der Wärmeabgabe, mit Ausnahme einer Wärmezufuhr durch die Einstrahlung von Sonnenlicht.
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Wenn Sonnenlicht auf die reflektierende Oberfläche des optischen Spiegels einstrahlt, so strahlt das Sonnenlicht nicht gleichmäßig auf die gesamte reflektierende Oberfläche ein, sondern die Sonneneinstrahlung erfolgt typischerweise ungleichmäßig. Zwar ist zu diesem Zeitpunkt die Wärmezuführung an der reflektierenden Oberfläche des optischen Spiegels nicht gleichmäßig, jedoch werden die Wärmeerzeugungsbereiche, die Stellen der reflektierenden Oberfläche mit einem geringeren Wärmeeingang entsprechen, zum Erzeugen von Wärme veranlasst. Dadurch ist es möglich, die Temperatur des optischen Spiegels insgesamt mit einer Temperatur in demjenigen Bereich in Übereinstimmung zu bringen, an dem am meisten Wärme von der Sonne eingeht.
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Da ferner die Abstützelemente die reflektierende Oberfläche des Spiegelkörpers nicht direkt abstützen, sondern diese über die Waffelstruktur abstützen, und da die reflektierende Oberfläche des Spiegelkörpers und die an der Rückseite von diesem gebildete Waffelstruktur beide aus C/SiC gebildet sind, lassen sich die lokalen thermischen Belastungen des optischen Spiegels vermindern.
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Bei dem optischen Spiegel gemäß dem dargestellten Ausführungsbeispiel kann dadurch, dass die reflektierende Oberfläche des Spiegelkörpers, die auf der Rückseite von diesem gebildete Waffelstruktur sowie die an den Trennwänden der Waffelstruktur gebildeten Wärmeerzeugungsbereiche aus C/SiC gebildet sind, sowie dadurch, dass die Wärmeerzeugungsbereiche, die Positionen der reflektierenden Oberfläche mit einer geringeren Wärmezuführung entsprechen, zum Erzeugen von Wärme veranlasst werden, die Temperatur des optischen Spiegels insgesamt mit der Temperatur in demjenigen Bereich in Übereinstimmung gebracht werden, in dem die Wärmezuführung von der Sonne am stärksten ist.
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Somit kann eine lokale thermische Belastung des Spiegels vermieden werden, so dass solche Beeinträchtigungen der optischen Eigenschaften, wie z. B. Unscharfen oder Verzeichnungen eines aufgenommenen Bildes, verhindert werden.
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Bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel ist die Waffelstruktur durch das Anordnen der Trennwände mit der Ausbildung einer regelmäßigen oder gleichseitigen Dreiecksform vorgesehen. Jedoch kann die Waffelstruktur auch durch Anordnen von Trennwänden in Form von Vierecken oder Sechsecken gebildet werden. Wie ferner in 2 gezeigt ist, besitzen bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel alle Trennwände jeweils einen Wärmeerzeugungsbereich. In Abhängigkeit von der Beabstandung der Trennwände oder einem zulässigen Ausmaß einer Wärmeverteilung kann jedoch auch eine Trennwand ohne einen Wärmerzeugungsbereich vorgesehen sein.
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Weiterhin ist bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel der Wärmeerzeugungsbereich dadurch gebildet, dass eine Schlitzform in die Trennwand eingearbeitet ist. Jedoch muss der Wärmeerzeugungsbereich nicht unbedingt aus dem gleichen Material wie die Trennwand gebildet sein. Beispielsweise kann der Wärmeerzeugungsbereich aus einem Material gebildet sein, dessen Wärmeausdehnungskoeffizient ähnlich dem des Materials ist, aus dem die Trennwand gebildet ist, oder er kann aus einem weichen Material mit geringer Steifigkeit gebildet sein.
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Weiterhin ist bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel C/SiC als das Material ausgewählt, das die Anforderungen für die Herstellung des optischen Spiegels erfüllt. Jedoch kann auch ein solches Material, wie etwa Beryllium, verwendet werden.
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Obwohl die Waffelstruktur an der optischen Halterung mittels der Abstützelemente befestigt ist, kann ferner auch ein wärmeleitendes Element zwischen der Waffelstruktur und der optischen Halterung mittels eines Klebstoffs mit hoher Wärmeleitfähigkeit angebracht sein. Durch das Vorsehen eines solchen wärmeleitenden Elements kann ein Temperaturanstieg bei dem gesamten Spiegelkörper unterdrückt werden.
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Zweites Ausführungsbeispiel
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Das zweite Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung befasst sich mit der Messung der thermischen Belastung des optischen Spiegels, wie er gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel hergestellt ist.
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4 zeigt eine schematische Darstellung eines Messverfahrens zum Messen einer thermischen Belastung des optischen Spiegels gemäß dem dargestellten Ausführungsbeispiel. In 4 ist ein optisches Interferometer 10 gegenüber der reflektierenden Oberfläche 3 des optischen Spiegels 1 angeordnet. Das optische Interferometer 10 kann die Oberflächengenauigkeit der reflektierenden Oberfläche 3 messen. Außerdem ist eine Halogenlampe 11 schräg vor der reflektierenden Oberfläche 3 angeordnet.
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Weiterhin ist ein Halbspiegel bzw. halbdurchlässiger Spiegel 12 zwischen der reflektierenden Oberfläche 3 und dem optischen Interferometer 10 angeordnet, und es ist ein Temperaturmessinstrument 13 zum Messen der Temperaturverteilung der reflektierenden Oberfläche 3 durch den halbdurchlässigen Spiegel 12 vorgesehen. Als optisches Interferometer 10 kann ein GPI-XP-Laser-Interferometer-Formmessgerät verwendet werden, wie es von der Firma ZYGO Corporation erhältlich ist.
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Als erstes wurde eine Temperaturverteilung der reflektierenden Oberfläche 2 bei einer Raumtemperatur von 23,4°C gemessen. Gleichzeitig wurde eine Oberflächengenauigkeit (Wellenfront-Aberration) der reflektierenden Oberfläche 3 gemessen. Als Ergebnis lagen die Temperaturverteilung der reflektierenden Oberfläche 3 bei 23,4°C ± 0,1°C und die Wellenfront-Aberration bei 0,254 λ (quadratischer Mittelwert).
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Bei der Wellenfront-Aberration handelt es sich hierbei um die Turbulenz von konzentrischen sphärischen Wellenfronten, die das optische System passiert haben. Bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel ist die Wellenfront-Aberration als quadratischer Mittelwert (rms) einer Standardabeichung der Abweichung von in dem optischen Spiegel konvergierten konzentrischen sphärischen Wellenfronten und idealen Wellenfronten definiert.
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Ferner ist λ eine Wellenlänge einer Laserlichtquelle des optischen Interferometers 10. Wenn es sich bei einer Lichtquelle des optischen Interferometers 10 um He-Ne-Laserlicht handelt, so hat λ den Wert 632,8 nm. Wenn die Wellenfront-Aberration einer Oberfläche gleich der oder kleiner als die Rayleigh-Grenze (1/4 λ) ist, wird die Feststellung getroffen, dass zwischen der Oberflächengenauigkeit der reflektierenden Oberfläche und der Oberflächengenauigkeit einer idealen reflektierenden Oberfläche kein großer Unterschied ist.
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Anschließend wurde die Halogenlampe 11 eingeschaltet, um Licht auf die reflektierende Oberfläche 3 des optischen Spiegels 1 abzustrahlen und dadurch der reflektierenden Oberfläche 3 Wärme von außen zuzuführen. Nach anhaltender Bestrahlung mit Licht von der Halogenlampe 11 für eine Zeitdauer von 60 Minuten wurde eine Temperaturverteilung der reflektierenden Oberfläche 3 gemessen.
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Das Ergebnis ergab an dem oberen Teil der reflektierenden Fläche 3, der sich nahe bei der Halogenlampe 3 befindet, eine Temperatur von 28,9°C und an dem unteren Teil der reflektierenden Oberfläche 3, der von der Halogenlampe 3 weit entfernt ist, eine Temperatur von 24,6°C. Das bedeutet, eine Temperaturdifferenz zwischen dem oberen und dem unteren Teil der reflektierenden Oberfläche 3 betrug 4,3°C. Ferner lag die Wellenfront-Aberration bei 0,327 λ (quadratischer Mittelwert), und eine Veränderung bei den Wellenfront-Aberrationen betrug 0,073 λ (quadratischer Mittelwert).
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Auf der Basis des Messresultats der Temperaturverteilung der reflektierenden Oberfläche 3 durch die kontinuierliche Bestrahlung mit der Halogenlampe wurde dann die Temperatur des optischen Spiegels gesteuert, indem den Wärmeerzeugungsbereichen Strom von der Stromversorgungseinrichtung zugeführt wurde, so dass die Temperatur der reflektierenden Oberfläche insgesamt gleichmäßig wurde.
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Insbesondere wurde die Temperatursteuerung derart ausgeführt, dass die Gesamttemperatur der reflektierenden Oberfläche 3 des optischen Spiegels etwas höher war als die an dem oberen Teil der reflektierenden Oberfläche 3 nahe bei der Halogenlampe 11 gemessene Temperatur von 28,9°C.
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Infolgedessen hatte die Temperaturverteilung der reflektierenden Oberfläche 3 Werte von 29,2°C ± 0,2°C, die Wellenfront-Aberration betrug 0,254 λ (quadratischer Mittelwert), und die Veränderung bei den Wellenfront-Aberrationen war 0,000 λ (quadratischer Mittelwert). Das bedeutet es gab keine Veränderungen bei den Wellenfront-Aberrationen.
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Aus dem vorstehend beschriebenen Resultat ist ersichtlich, dass durch das Steuern der Wärmeerzeugungsbereiche zum Erzeugen von Wärme in einer derartigen Weise, dass die Gesamttemperatur der reflektierenden Oberfläche des optischen Spiegels gleichmäßig wird, die Spanne der Temperaturverteilung der reflektierenden Oberfläche im Vergleich zu einem Fall, in dem diese Steuerung nicht vorgenommen wird, von 4,3°C auf 0,4°C erheblich verbessert werden kann und die Veränderungen bei den Wellenfront-Aberrationen von 0,073 λ (quadratischer Mittelwert) auf 0,000 λ (quadratischer Mittelwert) ebenfalls stark verbessert werden können.
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Wie vorstehend beschrieben, werden beim Zuführen von Wärme zu dem optischen Spiegel von außen die Wärmeerzeugungsbereiche, die in den Trennwänden der auf der Rückseite der reflektierenden Oberfläche des optischen Spiegels angeordneten Waffelstruktur enthalten sind, zum Erzeugen von Wärme veranlasst.
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Dadurch ist es möglich, die Temperatur des gesamten optischen Spiegels mit der Temperatur von demjenigen Bereich in Übereinstimmung zu bringen, in dem die Wärmezuführung am stärksten ist. Infolgedessen lassen sich Beeinträchtigungen bei der Oberflächengenauigkeit aufgrund thermischer Belastungen verhindern, und es kann ein stabile optische Leistungsfähigkeit aufrechterhalten werden.
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Bezugszeichenliste
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- 1
- optischer Spiegel
- 2
- Spiegelkörper
- 3
- reflektierende Oberfläche
- 4
- Trennwand
- 5
- Waffelstruktur
- 6
- Abstützelement
- 7
- optische Halterung
- 8
- Wärmeerzeugungsbereich
- 8a
- vorderer Endbereich
- 8b
- Basisbereich
- 10
- optisches Interferometer
- 11
- Halogenlampe
- 12
- halbdurchlässiger Spiegel
- 13
- Temperaturmessinstrument
