DE102010043498A1 - Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives - Google Patents

Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives Download PDF

Info

Publication number
DE102010043498A1
DE102010043498A1 DE201010043498 DE102010043498A DE102010043498A1 DE 102010043498 A1 DE102010043498 A1 DE 102010043498A1 DE 201010043498 DE201010043498 DE 201010043498 DE 102010043498 A DE102010043498 A DE 102010043498A DE 102010043498 A1 DE102010043498 A1 DE 102010043498A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
mirror
arrangement
projection objective
segments
projection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE201010043498
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Hartmut Enkisch
Stephan Müllender
Hans-Jürgen Mann
Rolf Freimann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE201010043498 priority Critical patent/DE102010043498A1/de
Priority to EP11788392.6A priority patent/EP2635937B1/en
Priority to CN201180053146.7A priority patent/CN103189800B/zh
Priority to JP2013537130A priority patent/JP5950129B2/ja
Priority to PCT/EP2011/069308 priority patent/WO2012059537A1/en
Priority to KR1020137014144A priority patent/KR101909301B1/ko
Priority to TW100140286A priority patent/TWI579648B/zh
Publication of DE102010043498A1 publication Critical patent/DE102010043498A1/de
Priority to US13/858,199 priority patent/US20130242278A1/en
Priority to US15/070,757 priority patent/US9720329B2/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/702—Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors, e.g. extreme ultraviolet [EUV] illumination systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
    • G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
    • G02B7/198—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors with means for adjusting the mirror relative to its support
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70308—Optical correction elements, filters or phase plates for manipulating imaging light, e.g. intensity, wavelength, polarisation, phase or image shift

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
DE201010043498 2010-11-05 2010-11-05 Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives Withdrawn DE102010043498A1 (de)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE201010043498 DE102010043498A1 (de) 2010-11-05 2010-11-05 Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives
EP11788392.6A EP2635937B1 (en) 2010-11-05 2011-11-03 Projection objective of a microlithographic exposure apparatus
CN201180053146.7A CN103189800B (zh) 2010-11-05 2011-11-03 微光刻曝光设备的投射物镜
JP2013537130A JP5950129B2 (ja) 2010-11-05 2011-11-03 マイクロリソグラフィ露光装置の投影対物系
PCT/EP2011/069308 WO2012059537A1 (en) 2010-11-05 2011-11-03 Projection objective of a microlithographic exposure apparatus
KR1020137014144A KR101909301B1 (ko) 2010-11-05 2011-11-03 Euv용으로 설계된 마이크로리소그래피 노광 장치의 투영 오브젝티브 및 투영 오브젝티브를 광학적으로 조절하는 방법
TW100140286A TWI579648B (zh) 2010-11-05 2011-11-04 設計用於ｅｕｖ之微影投射曝光裝置之投射物鏡與光學調整投射物鏡之方法
US13/858,199 US20130242278A1 (en) 2010-11-05 2013-04-08 Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus designed for EUV and a method of optically adjusting a projection objective
US15/070,757 US9720329B2 (en) 2010-11-05 2016-03-15 Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE201010043498 DE102010043498A1 (de) 2010-11-05 2010-11-05 Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102010043498A1 true DE102010043498A1 (de) 2012-05-10

Family

ID=45970908

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE201010043498 Withdrawn DE102010043498A1 (de) 2010-11-05 2010-11-05 Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives

Country Status (8)

Country Link
US (2) US20130242278A1 (https=)
EP (1) EP2635937B1 (https=)
JP (1) JP5950129B2 (https=)
KR (1) KR101909301B1 (https=)
CN (1) CN103189800B (https=)
DE (1) DE102010043498A1 (https=)
TW (1) TWI579648B (https=)
WO (1) WO2012059537A1 (https=)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015150301A1 (de) * 2014-04-04 2015-10-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum justieren eines spiegels einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
US9250417B2 (en) 2011-05-26 2016-02-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical arrangement in a microlithographic projection exposure apparatus
DE102017215664A1 (de) * 2017-09-06 2019-03-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010041623A1 (de) * 2010-09-29 2012-03-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel
DE102010043498A1 (de) 2010-11-05 2012-05-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives
DE102012212064A1 (de) * 2012-07-11 2014-01-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Lithographianlage mit segmentiertem Spiegel
US9448343B2 (en) * 2013-03-15 2016-09-20 Kla-Tencor Corporation Segmented mirror apparatus for imaging and method of using the same
GB2513927A (en) * 2013-05-10 2014-11-12 Zeiss Carl Smt Gmbh Optical element arrangement with an optical element split into optical sub-elements
CN103488061B (zh) * 2013-10-09 2015-01-21 北京理工大学 极紫外光刻机中匹配多个物镜的照明系统调整与设计方法
DE102014220203A1 (de) 2013-11-21 2015-05-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102014210609A1 (de) 2014-06-04 2015-12-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102023209698A1 (de) 2023-10-04 2025-04-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Vorgabe einer Beleuchtungspupille

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7019824B2 (en) 2002-03-08 2006-03-28 Carl Zeiss Smt Ag Moire method and measuring system for measuring the distortion of an optical imaging system
WO2007062808A1 (de) 2005-11-29 2007-06-07 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungssystem
US7333216B2 (en) 2000-02-23 2008-02-19 Carl Zeiss Smt Ag Apparatus for wavefront detection
WO2008020965A2 (en) 2006-08-16 2008-02-21 Cymer, Inc. Euv optics
US20080165415A1 (en) 2006-12-04 2008-07-10 Carl Zeiss Smt Ag Projection objectives having mirror elements with reflective coatings
DE102007051669A1 (de) * 2007-10-26 2009-04-30 Carl Zeiss Smt Ag Abbildende Optik, Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik sowie Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage
US7538856B2 (en) 2007-07-27 2009-05-26 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system and exposure apparatus including the same

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3934546A1 (de) * 1989-10-17 1991-04-18 Zeiss Carl Fa Verfahren zum verbinden von segmenten eines koerpers, vorrichtungen zur durchfuehrung des verfahrens sowie ein mittels des verfahrens hergestellter spiegel
US5136413A (en) * 1990-11-05 1992-08-04 Litel Instruments Imaging and illumination system with aspherization and aberration correction by phase steps
JPH09199390A (ja) * 1996-01-16 1997-07-31 Hitachi Ltd パターン形成方法、投影露光装置および半導体装置の製造方法
JP2003506881A (ja) 1999-07-30 2003-02-18 カール ツァイス シュティフトゥング トレイディング アズ カール ツァイス Ｅｕｖ照明光学系の射出瞳における照明分布の制御
US20020171922A1 (en) * 2000-10-20 2002-11-21 Nikon Corporation Multilayer reflective mirrors for EUV, wavefront-aberration-correction methods for same, and EUV optical systems comprising same
DE10208854A1 (de) * 2002-03-01 2003-09-04 Zeiss Carl Semiconductor Mfg Beleuchtungssystem mit genestetem Kollektor zur annularen Ausleuchtung einer Austrittspupille
DE10220324A1 (de) * 2002-04-29 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Projektionsverfahren mit Pupillenfilterung und Projektionsobjektiv hierfür
JP3919599B2 (ja) 2002-05-17 2007-05-30 キヤノン株式会社 光学素子、当該光学素子を有する光源装置及び露光装置
US6897940B2 (en) * 2002-06-21 2005-05-24 Nikon Corporation System for correcting aberrations and distortions in EUV lithography
FR2877104B1 (fr) * 2004-10-27 2006-12-29 Sagem Dispositif d'imagerie ou d'insolation, notamment pour la realisation d'un micro-circuit electronique
KR100604942B1 (ko) 2005-06-18 2006-07-31 삼성전자주식회사 비축상(ｏｆｆ-ａｘｉｓ) 프로젝션 광학계 및 이를 적용한극자외선 리소그래피 장치
EP2203787B1 (en) * 2007-10-26 2014-05-14 Carl Zeiss SMT GmbH Imaging optical system and projection exposure installation for micro-lithography with an imaging optical system of this type
DE102008041801A1 (de) * 2008-09-03 2010-03-04 Carl Zeiss Smt Ag Spektralfilter für die EUV-Mikrolithographie
JP2011108974A (ja) * 2009-11-20 2011-06-02 Nikon Corp 波面計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置
DE102010043498A1 (de) 2010-11-05 2012-05-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7333216B2 (en) 2000-02-23 2008-02-19 Carl Zeiss Smt Ag Apparatus for wavefront detection
US20080144043A1 (en) 2000-02-23 2008-06-19 Carl Zeiss Smt Ag Apparatus for wavefront detection
US7019824B2 (en) 2002-03-08 2006-03-28 Carl Zeiss Smt Ag Moire method and measuring system for measuring the distortion of an optical imaging system
WO2007062808A1 (de) 2005-11-29 2007-06-07 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungssystem
WO2008020965A2 (en) 2006-08-16 2008-02-21 Cymer, Inc. Euv optics
US20080165415A1 (en) 2006-12-04 2008-07-10 Carl Zeiss Smt Ag Projection objectives having mirror elements with reflective coatings
US7538856B2 (en) 2007-07-27 2009-05-26 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system and exposure apparatus including the same
DE102007051669A1 (de) * 2007-10-26 2009-04-30 Carl Zeiss Smt Ag Abbildende Optik, Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik sowie Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9250417B2 (en) 2011-05-26 2016-02-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical arrangement in a microlithographic projection exposure apparatus
WO2015150301A1 (de) * 2014-04-04 2015-10-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum justieren eines spiegels einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
US10101667B2 (en) 2014-04-04 2018-10-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Method for aligning a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus
US10359703B2 (en) 2014-04-04 2019-07-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Method for aligning a mirror of a microlithographic projection exposure apparatus
DE102017215664A1 (de) * 2017-09-06 2019-03-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage

Also Published As

Publication number Publication date
EP2635937B1 (en) 2015-08-19
JP5950129B2 (ja) 2016-07-13
JP2013543274A (ja) 2013-11-28
KR101909301B1 (ko) 2018-12-10
KR20130102093A (ko) 2013-09-16
CN103189800B (zh) 2016-08-10
TW201239542A (en) 2012-10-01
EP2635937A1 (en) 2013-09-11
US20160195817A1 (en) 2016-07-07
WO2012059537A1 (en) 2012-05-10
US20130242278A1 (en) 2013-09-19
TWI579648B (zh) 2017-04-21
US9720329B2 (en) 2017-08-01
CN103189800A (zh) 2013-07-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102010043498A1 (de) Projektionsobjektiv einer für EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum optischen Justieren eines Projektionsobjektives
EP3256835B1 (de) Prüfvorrichtung sowie verfahren zum prüfen eines spiegels
DE60209652T2 (de) Verfahren zur Messung der Aberration eines lithographischen Projektionssystems
DE60223102T2 (de) Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
WO2016012425A9 (de) Abbildende optik für ein metrologiesystem zur untersuchung einer lithographiemaske
DE102011006468A1 (de) Vermessung eines abbildenden optischen Systems durch Überlagerung von Mustern
DE102011076145A1 (de) Verfahren zum Zuordnen einer Pupillenfacette eines Pupillenfacettenspiegels einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage zu einer Feldfacette eines Feldfacettenspiegels der Beleuchtungsoptik
DE102012208793A1 (de) Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie mit einer derartigen abbildenden Optik
DE102014226269A1 (de) Wellenfrontmesseinrichtung, Projektionsobjektiv mit einer solchen Messeinrichtung und mit einer solchen Messeinrichtung zusammenwirkender optischer Wellenfrontmanipulator
DE102013204445A1 (de) Vergrößernde abbildende Optik sowie EUV-Maskeninspektionssystem mit einer derartigen abbildenden Optik
DE102010040108A1 (de) Obskurationsblende
DE102012207377A1 (de) Beleuchtungsoptik sowie optisches System für die EUV-Projektionslithographie
DE102010009022A1 (de) Beleuchtungssystem sowie Projektionsobjektiv einer Maskeninspektionsanlage
DE102010038748A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Spiegels mit wenigstens zwei Spiegelflächen, Spiegel einer Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie und Projektionsbelichtungsanlage
DE102018207277A1 (de) Lithografiemaske, optisches System zur Übertragung von Original Strukturabschnitten der Lithografiemaske sowie Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes, in dem mindestens ein Original-Strukturabschnitt einer Lithografiemaske anordenbar ist
DE102023205136A1 (de) Verfahren zum Nachbilden von Beleuchtungs- und Abbildungseigenschaften eines optischen Produktionssystems bei der Beleuchtung und Abbildung eines Objekts mittels eines optischen Messsystems
DE102007046419A1 (de) Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften eines optischen Systems sowie derartiges optisches System
DE102012202536A1 (de) Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
WO2012079723A1 (de) Verfahren zur maskeninspektion sowie maskeninspektionsanlage
WO2007045434A2 (de) Kollektor für beleuchtungssysteme mit einer wellenlänge ≤ 193 nm
DE102014206589A1 (de) Verfahren zum Justieren eines Spiegels einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102007051669A1 (de) Abbildende Optik, Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik sowie Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage
DE102008040058A1 (de) Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE10037870A1 (de) 6-Spiegel-Mikrolithographie-Projektionsobjektiv
DE102018214223A1 (de) Pupillenfacettenspiegel

Legal Events

Date Code Title Description
R120 Application withdrawn or ip right abandoned

Effective date: 20130219