DE102009038452A1 - Einzelkavitätsakustikresonatoren und elektrische Filter enthaltend Einzelkavitätsakustikresonatoren - Google Patents
Einzelkavitätsakustikresonatoren und elektrische Filter enthaltend Einzelkavitätsakustikresonatoren Download PDFInfo
- Publication number
- DE102009038452A1 DE102009038452A1 DE102009038452A DE102009038452A DE102009038452A1 DE 102009038452 A1 DE102009038452 A1 DE 102009038452A1 DE 102009038452 A DE102009038452 A DE 102009038452A DE 102009038452 A DE102009038452 A DE 102009038452A DE 102009038452 A1 DE102009038452 A1 DE 102009038452A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrode
- single cavity
- cavity acoustic
- acoustic resonator
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 26
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 claims abstract description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 2
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 1
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/54—Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
- H03H9/58—Multiple crystal filters
- H03H9/582—Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques
- H03H9/583—Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques comprising a plurality of piezoelectric layers acoustically coupled
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/54—Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
- H03H9/58—Multiple crystal filters
- H03H9/582—Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques
- H03H9/583—Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques comprising a plurality of piezoelectric layers acoustically coupled
- H03H9/585—Stacked Crystal Filters [SCF]
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/54—Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
- H03H9/58—Multiple crystal filters
- H03H9/60—Electric coupling means therefor
- H03H9/605—Electric coupling means therefor consisting of a ladder configuration
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
Description
- Hintergrund
- Akustikresonatoren, welche auf den piezoelektrischen Eigenschaften von bestimmten Materialien basieren, sind in vielen technischen Gebieten allgegenwärtig. Zum Beispiel werden Filmvolumenakustikresonatoren (Film Bulk Acoustic Resonators, FBARs) in Kommunikationsvorrichtungen für elektrische Filter und in elektrischen Vorrichtungen für Spannungswandler verwendet, um nur einige Anwendungen zu nennen. FBAR-Vorrichtungen erzeugen sowohl longitudinale Wellen und laterale (oder transversale) Wellen, wenn sie durch ein angelegtes zeitlich variierendes elektrisches Feld stimuliert werden. Zusätzlich können harmonische Mischprodukte höherer Ordnung erzeugt werden. Wie bekannt ist, sind die lateralen Moden und die harmonischen Mischprodukte höherer Ordnung oft nicht erwünscht und können einen schädlichen Einfluss auf die Funktionalität der FBAR-basierten Vorrichtung haben.
- Ein Typ von elektrischer Filteranwendung für FBARs ist ein Durchlassbandfilter, welcher in Duplex-Kommunikationen verwendet wird. Wie es einem Fachmann bekannt ist, werden Duplex-Filter verwendet zum Bereitstellen einer Isolation zwischen einer Sendefunktion eines Duplexers und einer Empfangsfunktion des Duplexers. Folglich werden zwei Filter bereitgestellt, und jeder ist ausgebildet zum Arbeiten innerhalb bestimmter Spezifikationen, welche die beschriebene Durchlassbandübertragung, Außerbanddämpfung und Rolloff enthalten, um einige allgemeine Spezifikationen zu nennen.
- Eine bestimmte Spezifikation ist die sogenannte „3rd Generation” (3G) Spezifikation, die unter dem universellen mobilen Telekommunikationssystem (UMTS) angeboten wird. Die 3G-Spezifikation enthält ein Quadbanderfordernis, welches mobilen Kommunikationsvorrichtungen (zum Beispiel Zellulartelefonen, persönlichen digitalen Assistenten (PDAs) und tragbaren Computern) erlaubt, leichter zwischen verschiedenen Ländern, welche die erlaubte Übertragungsfrequenz bei verschiedenen Werten unterstützen, zu roamen oder um eine bessere Abdeckung in demselben Land zu erlauben.
- Eine Schwierigkeit in dem sich widmen der Signalfilterung (zum Beispiel Duplex-Filterung) in der 3D-Spezifikation sind Harmonische höherer Ordnung, die in dem piezoelektrischen Material aufgrund von nicht-linearen Eigenschaften des piezoelektrischen Materials erzeugt werden. Diese Harmonische höherer Ordnung erzeugen Modenmischprodukte höherer Ordnung, welche sowohl von Mischprodukten von longitudinalen Moden- und lateralen Modenmischprodukten resultieren können. Leider erzeugen bekannte akustische Filter diese Mischprodukte bei Frequenzen und Leistungspegeln, die durch die 3G-Spezifikation nicht erlaubt sind.
- Bestimmte Versuche wurden unternommen zum Reduzieren der Mischprodukte. Ein Versuch liefert separate FBARs, welche verbunden sind in einem Bemühen, bestimmte Moden höherer Ordnung auszulöschen. Jedoch gibt es für diesen bekannten Versuch Nachteile. Vor allem ist die Auslöschung schlecht bei bestimmten Frequenzbereichen, wo parasitäre laterale Moden gefunden werden. Darüber hinaus ist der Qualitäts(Q)-Faktor in diesen separaten FBAR-Konfigurationen verglichen mit bekannten FBARs verschlechtert. Die Verschlechterung in dem Q-Faktor ist manifestiert in einer Verschlechterung in dem Einfügeverlust in dem Durchlassband der separaten FBAR-Vorrichtungen.
- Folglich ist die Performance eines Filters, welcher auf solch einer Vorrichtung basiert, oft inakzeptabel. Darüber hinaus resultieren die mehrfachen separaten FBAR-Vorrichtungen in einer vergrößerten Chipfläche für den Filter. Dies erhöht nicht nur die Größe des Filters, sondern resultiert auch in einer Erhöhung der Kosten der Herstellung des Filters. Beide, erhöhte Chipflächengröße und erhöhte Herstellungskosten sind unerwünscht.
- Es gibt daher ein Bedürfnis für einen Akustikresonator und einen Filter, welcher mindestens den Nachteil von bekannten Resonatoren und Filtern, wie er oben beschrieben ist, beseitigt.
- Zusammenfassung
- In einer repräsentativen Ausführungsform umfasst ein Einzelkavitätsakustikresonator: eine erste Elektrode; eine zweite Elektrode; eine dritte Elektrode, welche zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode angeordnet ist. Der Einzelkavitätsakustikresonator umfasst auch: eine erste piezoelektrische Schicht, welche zwischen der dritten Elektrode und der ersten Elektrode angeordnet ist und eine erste C-Achse mit einer Orientierung aufweist; und eine zweite piezoelektrische Schicht, welche zwischen der dritten Elektrode und der zweiten Elektrode angeordnet ist und eine zweite C-Achse aufweist mit einer Orientierung parallel zu der ersten C-Achse. Die Anwendung eines zeitlich variierenden elektrischen Signals bei einer Antriebsfrequenz an entweder die dritte Elektrode und an die erste und zweite Elektrode resultiert in einer Resonanz des Einzelkavitätsakustikresonators beim Zweifachen einer Grundresonanzfrequenz und einer Auslöschung von im Wesentlichen allen Mischprodukten gerader Ordnung in dem Einzelkavitätsakustikresonator.
- In einer anderen repräsentativen Ausführungsform umfasst ein elektrischer Filter einen Einzelkavitätsakustikresonator. Der Einzelkavitätsakustikresonator umfasst: eine erste Elektrode; eine zweite Elektrode; eine dritte Elektrode, welche zwischen der ersten und der zweiten Elektrode angeordnet ist. Der Einzelkavitätsakustikresonator umfasst auch: eine erste piezoelektrische Schicht, welche angeordnet ist zwischen der dritten Elektrode und der ersten Elektrode und eine erste C-Achse mit einer Orientierung aufweist; und eine zweite piezoelektrische Schicht, welche zwischen der dritten Elektrode und der zweiten Elektrode angeordnet ist und eine zweite C-Achse aufweist mit einer Orientierung parallel zu der ersten C-Achse. Die Anwendung eines zeitlich variierenden elektrischen Signals bei einer Antriebsfrequenz an entweder die dritte Elektrode oder an die erste und zweite Elektrode resultiert in einer Resonanz des Einzelkavitätsakustikresonators beim Zweifachen einer Grundresonanzfrequenz und einer Auslöschung von im Wesentlichen allen Mischprodukten gerader Ordnung in dem Einzelkavitätsakustikresonator.
- In einer nochmals anderen repräsentativen Ausführungsform umfasst ein Duplexer einen Sendefilter; und einen Empfangsfilter. Der Sendefilter und der Empfangsfilter enthalten jeweils: einen Einzelkavitätsakustikresonator. Der Einzelkavitätsakustikresonator umfasst: eine erste Elektrode; eine zweite Elektrode; eine dritte Elektrode, welche zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode angeordnet ist. Der Einzelkavitätsakustikresonator umfasst auch: eine erste piezoelektrische Schicht, welche zwischen der dritten Elektrode und der ersten Elektrode angeordnet ist und eine erste C-Achse aufweist mit einer Orientierung; und eine zweite piezoelektrische Schicht, welche zwischen der dritten Elektrode und der zweiten Elektrode angeordnet ist, und eine zweite C-Achse aufweist mit einer Orientierung parallel zu der ersten C-Achse. Eine Anwendung eines zeitlich variierenden elektrischen Signals bei einer Antriebsfrequenz an entweder die dritte Elektrode oder die erste und zweite Elektrode resultiert in einer Resonanzfrequenz des Einzelkavitätsakustikresonators beim Zweifachen einer Grundresonanzfrequenz und einer Auslöschung von im Wesentlichen allen Mischprodukten gerader Ordnung in dem Einzelkavitätsakustikresonator.
- Kurze Beschreibung der Zeichnungen
- Die vorliegenden Lehren werden am besten verstanden von der folgenden detaillierten Beschreibung, wenn diese mit den begleitenden Zeichnungsfiguren gelesen wird. Die Merkmale sind nicht notwendigerweise maßstabsgerecht. Wo immer es praktikabel ist, beziehen sich ähnliche Bezugszahlen auf ähnliche Merkmale.
-
1 ist eine Querschnittsansicht eines Einzelkavitätsakustikresonators gemäß einer repräsentativen Ausführungsform. -
2A ist ein Graph von H2-Signalleistung (dBm) versus Antriebsfrequenz für einen Einzelkavitätsakustikresonator einer repräsentativen Ausführungsform und einen bekannten Akustikresonator über einen interessierenden Frequenzbereich. -
2B ist ein Graph von H2-Signalleistung (dBm) versus Antriebsfrequenz für zwei bekannte Akustikresonatoren über einen interessierenden Frequenzbereich. -
3A ist eine Querschnittsansicht der Reihenresonatoren eines Leiterfilters (dargestellt in vereinfachter schematischer Ansicht in3B ) enthaltend eine Vielzahl von Einzelkavitätsresonatoren gemäß einer repräsentativen Ausführungsform. -
3B ist eine vereinfachte schematische Ansicht eines Leiterfilters enthaltend eine Vielzahl von Einzelkavitätsresonatoren gemäß einer repräsentativen Ausführungsform. -
4 ist eine vereinfachte schematische Ansicht eines Duplexers enthaltend einen Sende(TX)-Filter und einen Empfangs(RX)-Filter, jeweils enthaltend einen Einzelkavitätsresonator gemäß einer repräsentativen Ausführungsform. -
5 ist eine graphische Darstellung von ausgewählten S-Parametern versus Frequenz eines Duplexers von denen jeder einen Sende(TX)-Filter und einen Empfangs(RX)-Filter aufweist, von denen jeder einen Einzelkavitätsresonator gemäß einer repräsentativen Ausführungsform aufweist. - Definierte Terminologie
- Wie hierin verwendet, definieren die Ausdrücke „ein” oder „eine” wie hierin verwendet ein oder mehr als ein.
- Zusätzlich zu ihrer üblichen Bedeutung bedeuten die Ausdrücke „wesentlich” oder „im Wesentlichen” innerhalb akzeptabler Grenzen oder Grade für einen Fachmann. Zum Beispiel bedeutet „im Wesentlichen ausgelöscht”, dass ein Fachmann die Auslöschung als akzeptabel betrachten würde.
- Zusätzlich zu ihren üblichen Bedeutungen bedeutet der Ausdruck „ungefähr” als innerhalb akzeptabler Grenzen oder Menge für einen Fachmann. Zum Beispiel bedeutet „ungefähr dasselbe”, dass der Fachmann die Gegenstände als dasselbe vergleichen würde.
- Detaillierte Beschreibung
- In der folgenden detaillierten Beschreibung werden zum Zwecke der Erläuterung und nicht der Beschränkung repräsentative Ausführungsformen, welche spezifische Details offenbaren, dargelegt, um ein gründliches Verständnis der vorliegenden Lehren zu liefern. Beschreibungen von bekannten Vorrichtungen, Materialien und Herstellungsverfahren werden weggelassen, um eine Verschleierung der Beschreibung der beispielhaften Ausführungsformen zu vermeiden. Nichtsdestoweniger können solche Vorrichtungen, Materialien und Verfahren, die innerhalb des Bereiches eines Fachmanns liegen, im Einklang mit den repräsentativen Ausführungsformen verwendet werden.
- Die vorliegenden Lehren sind primär gerichtet auf einen Einzelkavitätsakustikresonator, einen elektrischen Filter und einen Duplexer. Bestimmte Aspekte der vorliegenden Lehren bauen auf Komponenten von FBAR-Vorrichtungen, FBAR-basierten Filtern, ihren Materialien und Verfahren zur Herstellung auf. Viele Details von FBARs, Materialien davon und deren Methoden der Herstellung können gefunden werden in einem oder mehreren der folgenden US-Patente und Patentanmeldungen:
US Pat. No. 6,107,721 , von Lakin;US Patente 5,587,620 ,5,873,153 und6,507,983 von Ruby et al.; US-Patentanmeldung Nr. 11/443,954, betitelt mit „Piezoelectric resonator structures and electrical filters” von Richard C. Ruby et al.; US-Patentanmeldung 10/990,201, betitelt „Thin-film bulk acoustic resonator with mass loaded perimeter” von Hongjun Feng et al.; und US-Patentanmeldung 11/713,726, betitelt „Piezoelectric resonator structures and electrical filters having frame elements” von Jamneala et al.; und US-Patentanmeldung Nr. 11/159,753, betitelt „Acoustic resonator performance enhancing using alternating frame structure” von Richard C Ruby et al. Die Offenbarungen dieser Patente und Patentanmeldungen werden hierin spezifisch durch Bezugnahme eingeschlossen. Es wird hervorgehoben, dass Komponenten, Materialien und Herstellungsverfahren, die in diesen Patenten und Patentanmeldungen beschrieben sind, repräsentativ sind und andere Verfahren der Herstellung und Materialien innerhalb des Bereichs eines Fachmanns in Erwägung gezogen werden. -
1 ist eine Querschnittsansicht eines Einzelkavitätsakustikresonators („Resonator”)100 gemäß einer repräsentativen Ausführungsform. Der Resonator100 umfasst eine erste Elektrode101 , eine zweite Elektrode102 und eine dritte Elektrode103 . Eine erste piezoelektrische Schicht104 ist angeordnet zwischen der ersten Elektrode101 und der dritten Elektrode103 ; und eine zweite piezoelektrische Schicht105 ist angeordnet zwischen der zweiten Elektrode102 und der dritten Elektrode103 . Die erste Elektrode101 umfasst eine äußere Oberfläche106 und die zweite Elektrode102 umfasst eine äußere Oberfläche107 . Die Materialien und Dicken der Elektroden101 –103 und piezoelektrischen Schichten104 ,105 sind ausgewählt, so dass eine einzige akustische resonierende Kavität zwischen den äußeren Oberflächen106 ,107 bereitgestellt ist. - Wie hierin vollständiger beschrieben wird, sind die Materialien und Dicken des FBAR-Stapels, welche den Einzelkavitätsresonator bilden, ausgewählt, so dass eine gewünschte Grundlongitudinalmode durch den Einzelkavitätsresonator unterstützt wird. Zusätzlich wird angemerkt, dass in einer repräsentativen Ausführungsform die ersten und zweiten Elektroden
101 ,102 im Wesentlichen dieselbe Dicke haben und die dritte Elektrode103 ungefähr doppelt so dick ist wie jede der ersten oder zweiten Elektroden101 ,102 . Obwohl es nicht erforderlich ist, können Verbesserungen in dem Kopplungskoeffizient der dritten Elektrode103 realisiert werden durch Auswählen dieser Dicken. - Wie von den Fachleuten geschätzt werden sollte, erfordert der Resonator
100 der vorliegend beschriebenen Ausführungsformen und Filter und Vorrichtungen (zum Beispiel Duplexer), welche den Resonator100 aufweisen, weniger Fläche als viele bekannte Vorrichtungen. Im besonderen Maße sind viele FBARs bekannter Technologie oft verbunden oder kaskadiert über ein gemeinsames Substrat und erfordern folglich signifikant mehr Chip „Grundbesitz” als erforderlich ist für den Resonator100 der vorliegenden Lehren. Diese Reduktion in der Fläche überträgt sich auf Vorrichtungen, welche die Resonatoren100 aufnehmen. Eine Reduktion im Raumerfordernis ist allgemein in der Mikroelektronik ein klarer Vorteil. In einer repräsentativen Ausführungsform liefert der Resonator100 eine Flächenreduktion von ungefähr 50% und eine Reduktion in der Die-Größe von ungefähr 30% bis ungefähr 40%. Zusätzlich eine Kapazitätssteigerung von ungefähr 50% Kapazität (Anzahl von Chips) ohne Kapitalaufwendungen mit nur einem vergleichsweise kleinen (ungefähr 15%) Anstieg in variablen Waferkosten. - Elektrische Verbindungen zu dem Resonator
100 können auf zahlreiche Weise konfiguriert werden, jedoch sind die erste Elektrode101 und die zweite Elektrode102 mit einem gemeinsamen elektrischen Potential (Absolutwert V) verbunden, zum Bewirken von bestimmten gewünschten Ergebnissen, die hierin beschrieben sind. In einer repräsentativen Ausführungsform ist die dritte Elektrode verbunden mit einer zeitlich variierenden Spannungsquelle108 , wohingegen in anderen Ausführungsformen die ersten und dritten Elektroden verbunden sein können mit einer zeitlich veränderlichen Spannungsquelle und die dritte Elektrode kann mit einer anderen Spannung verbunden sein. Die piezoelektrischen Schichten104 ,105 sind anschaulich AIN und weisen eine beträchtliche kristalline Symmetrie auf. Besonders ist die kristalline Orientierung der ersten piezoelektrischen Schicht104 „vertikal” (zum Beispiel in der +y-Richtung in dem dargestellten Koordinatensystem), und die kristalline Orientierung der zweiten piezoelektrischen Schicht105 ist parallel (d. h. ebenfalls in der +y-Richtung) zu der der ersten piezoelektrischen Schicht104 . - Die C-Achsen der Schichten
104 ,105 sind zweckmäßigerweise parallel ausgerichtet (beide in der +y-Richtung (wie dargestellt) oder beide in der –y-Richtung), zum Bewirken einer Auslöschung von zweiten harmonischen Mischprodukten einer angelegten Antriebsspannung. Insbesondere die Anwendung einer Spannung auf die dritte Elektrode103 resultiert in einem elektrischen Feld, welches über die erste piezoelektrische Schicht104 und die zweite piezoelektrische Schicht105 erzeugt ist, und der inverse piezoelektrische Effekt wird in der Expansion oder Kontraktion des piezoelektrischen Materials der Schichten104 und105 resultieren. Wie bekannt ist, hängt die Expansion oder Kontraktion von der Orientierung des E-Feldes (oder richtiger des D-Feldes) und der Polarisation (C-Achse) des piezoelektrischen Materials ab. Ein zeitlich variierendes E-Feld verursacht alternierend Kompression und Expansion des piezoelektrischen Materials, was in longitudinalen akustischen Moden (repräsentiert konzeptuell als109 ) und lateralen (transversalen) akustischen Moden (repräsentiert konzeptuell als110 ) in der einzelnen akustischen resonierenden Kavität100 resultiert. Darüber hinaus resultiert, wie oben erwähnt, die Nichtlinearität des piezoelektrischen Materials der Schichten104 ,105 in Harmonischen höherer Ordnung und in harmonischen Mischprodukten höherer Ordnung davon. Die Stärke (und folglich die Leistung) dieser Mischprodukte höherer Ordnung verringert sich mit steigender Ordnungszahl. Als solche, wenn unkontrolliert belassen, haben die harmonischen Mischprodukte zweiter Ordnung die größte Leistung und potentiell den größten schädlichen Einfluss auf die Resonator- und Filterperformance, wohingegen die Mischprodukte dritter und höherer Ordnung einen unmerklichen Einfluss auf die Filterperformance haben. Wie vollständiger unten beschrieben ist, sind diese schädlichen Modenmischprodukte gerader Ordnung im Wesentlichen aufgehoben in Einzelkavitätsakustikresonatoren der repräsentativen Ausführungsformen und Filtern, welche solche Einzelkavitätsakustikresonatoren aufweisen. Es wird hervorgehoben, dass die Aufhebung dieser Mischprodukte zusätzlich ist zu der Unterdrückung von parasitären lateralen Moden, die durch andere Techniken realisiert wird, wie beispielsweise Apodisierung und Massebeladung von Elektroden. - Gemäß einer repräsentativen Ausführungsform wird ein zeitlich variierendes elektrisches Signal von der Spannungsquelle
108 an die dritte Elektrode103 geliefert. Das elektrische Signal hat eine Frequenz (fr), die doppelt so hoch ist wie die Frequenz der Grundresonanzmode des Einzelkavitätsakustikresonators100 . Folglich wird in der in der1 dargestellten Ausführungsform aufgrund der Orientierungen der entsprechenden C-Achsen der ersten und zweiten piezoelektrischen Schicht und des zeitlich veränderlichen E-Feldes an dem in der Zeit eingefangenen Zeitpunkt die erste piezoelektrische Schicht104 expandieren und die zweite piezoelektrische Schicht komprimieren; und zu einer Zeit T = λ/2 fr später, wird die erste piezoelektrische Schicht104 komprimieren, wohingegen die zweite piezoelektrische Schicht expandieren wird. Folglich, aufgrund der selektiven Orientierung der elektrischen Signale und der Orientierung der C-Achsen der ersten und zweiten piezoelektrischen Schichten104 ,105 ist der Einzelkavitätsakustikresonator100 in einer Resonanzbedingung bei dem Zweifachen der Frequenz der Grundmode, wobei die dritte Elektrode103 stets in einer Richtung entgegengesetzt zu der Richtung der Oszillation der ersten und dritten Elektroden oszilliert, wie dargestellt. Als solche existiert eine antisymmetrische akustische Resonanzbedingung über eine (imaginäre) Symmetrieebene111 durch die dritte Elektrode103 bei der Antriebs (Oszillations) Frequenz fr. - Durch ähnliche Analyse werden bei geraden Harmonischen der Antriebsfrequenz fr gleiche und entgegengesetzte akustische Oszillationen in den ersten und zweiten piezoelektrischen Schichten
104 ,105 erzeugt; und bei einem bestimmten Punkt in einem Abstand von der Ebene111 in der ersten piezoelektrischen Schicht104 und in einem bestimmten Punkt in der Zeit kann das piezoelektrische Material in Kompression sein, während in einem Punkt äquidistant von der Ebene111 in der zweiten piezoelektrischen Schicht105 das piezoelektrische Material in Expansion sein wird. Folglich sind die harmonischen Mischprodukte gerader Ordnung in der ersten piezoelektrischen Schicht104 stets um π Radian außer Phase relativ zu den geraden harmonischen Mischprodukten in der zweiten piezoelektrischen Schicht105 . Als ein Ergebnis werden die nicht-linearen piezoelektrischen zweiten harmonischen Mischprodukte von beiden, den longitudinalen und lateralen Moden, im Wesentlichen ausgelöscht. Wie von den Fachleuten verstanden werden sollte, werden harmonische Moden gerader Ordnung mit höherer Modenzahl (z. B. 4. Harmonische, 6. Harmonische, etc.) auf ähnliche Weise im Wesentlichen ausgelöscht; und ungerade harmonische Moden höherer Ordnung (z. B. 3 Harmonische, 5. Harmonische, etc.) haben geringen Einfluss auf die Performance des Einzelkavitätsakustikresonators aufgrund ihrer vergleichsweise niedrigen Amplitude/akustischen Intensität. - Die Verbindung der Spannungsquelle
108 mit der dritten Elektrode103 ist lediglich veranschaulichend und die Verbindung der Spannungsquelle108 mit der ersten und zweiten Elektrode101 ,102 ist in Erwägung gezogen ohne Modifikation des Resonators100 . Insbesondere wird die Verbindung der Spannungsquelle108 mit Elektroden101 ,102 in der Anwendung eines elektrischen Feldvektors parallel zu der C-Achse in einer der piezoelektrischen Schichten104 ,105 und in einem elektrischen Feldvektor antiparallel zu der C-Achse in der anderen der Schichten104 ,105 resultieren (zu einem bestimmten Moment in der Zeit). Ein Eingangssignal von der Spannungsquelle108 bei der Oszillationsfrequenz fr wird in der gewünschten Resonanzbedingung und der im Wesentlichen Auslöschung durch destruktive Interferenz der harmonischen Mischprodukte zweiter Ordnung sowie der Modenmischprodukte höherer gerade Ordnung resultieren aufgrund derselben physikalischen Mechanismen wie oben beschrieben. In solch einer Ausführungsform kann die dritte Elektrode103 der Ausgang des Resonators100 sein. - Wie vorher angemerkt, ist die wesentliche Auslöschung von schädlichen Mischprodukten gerader Ordnung in 3G-Applikationen gewünscht. Die Anwendung des Resonators
100 der anschaulichen Ausführungsformen ist folglich für die Verwendung in 3G-Applikationen in Erwägung gezogen. In solchen Anwendungen ist der Resonator100 konfiguriert, um eine Grundlongitudinalmodenresonanz bei ungefähr 400 MHz zu haben. Im Zuge der vorliegenden Lehren ist die Oszillationsfrequenz fr folglich ungefähr 800 MHz; und die Mischprodukte zweiter harmonischer Ordnung bei ungefähr 1.600 MHz sind im Wesentlichen ausgelöscht.2A veranschaulicht die wesentliche Auslöschung der Mischprodukte der zweiten harmonischen Ordnung (H2) in dem Einzelkavitätsakustikresonator100 gegenüber der Frequenz in dem Bereich von ungefähr 850 MHz bis ungefähr 1,1 GHz. Insbesondere ist2A ein Graph, welcher die H2-Mischproduktsignalleistung (dBm) gegenüber der Frequenz für einen Einzelkavitätsakustikresonator einer repräsentativen Ausführungsform und für einen bekannten Akustikresonator über einen interessierenden Frequenzbereich vergleicht. Der bekannte Akustikresonator ist anschaulich ein bekannter FBAR. - Für eine Eingangsleistung von ungefähr +24 dBm bei einer Antriebsfrequenz fr zeigt der Graph
201 die H2-Mischprodukte gegen die H2-Frequenz des bekannten FBAR; und Graph202 zeigt die H2-Mischprodukte gegenüber der H2-Frequenz bei der Antriebsfrequenz für einen Einzelkavitätsakustikresonator gemäß einer repräsentativen Ausführungsform. Ein Vergleich der Graphen201 ,202 enthüllt eine minimale Reduktion von H2-Mischprodukten von ungefähr 30 dBm über den dargestellten Frequenzbereich. - Für Vergleichszwecke zeigt
26 das Leistungsspektrum von Mischprodukten zweiter harmonischer Ordnung (H2) über einen Frequenzbereich von ungefähr 1,8 GHz bis ungefähr 2,1 GHz für einen bekannten FBAR und bekannte separate FBARs, wie oben beschrieben. Insbesondere zeigt Kurve203 die H2-Mischprodukte für den bekannten FBAR und Kurve204 zeigt die H2- Mischprodukte für die bekannten separaten FBARs. Während die separaten FBARs einige Kompensation in ausgewählten Teilen des Spektrums zeigen, bei ungefähr 1,92 GHz bis ungefähr 2,2 GHz, wird wenig, wenn überhaupt, ein Vorteil abgeleitet von dieser Raum konsumierenden und vergleichsweise teuren Konfiguration. Folglich liefern der Einzelkavitätsakustikresonator100 und Vorrichtungen enthaltend die Resonatorkavität100 nicht nur eine reduzierte in Chip-Fläche und Kosten, sondern auch eine vergleichsweise signifikante Verbesserung in der H2-Mischproduktauslöschung. -
3A ist eine Querschnittsansicht von Reihenresonatoren eines Leiterfilters300 , welcher in vereinfachter schematischer Ansicht in3B dargestellt ist. Der Leiterfilter umfasst eine Vielzahl von Einzelkavitätsresonatoren, welche in Reihe verbunden sind mit entsprechenden Einzelkavitätsresonatoren, die hiermit parallel verbunden sind, gemäß einer repräsentativen Ausführungsform. Viele der Details der Einzelkavitätsresonatoren100 , die vorher beschrieben wurden, sind dem Leiterfilter300 gemeinsam und werden nicht wiederholt, um eine Verschleierung der Beschreibung der vorliegenden repräsentativen Ausführungsformen zu vermeiden. - Ein zeitlich variierendes elektrisches Eingangssignal
301 bei der Antriebsfrequenz fr wird an den ersten und zweiten Elektroden einer ersten Filterstufe303 geliefert, welche einen Einzelkavitätsresonator100 aufweist. Wie verstanden werden sollte, liefert die dritte Elektrode103 der ersten Stufe303 das zeitlich variierende Eingangssignal bei fr an die erste und zweite Elektrode101 ,102 einer zweiten Stufe. Als solches erzielt die erste Stufe303 Resonanz durch Anregung der ersten und zweiten Elektroden101 ,102 und die zweite Stufe304 erzielt Resonanz durch die Anregung der dritten Elektrode103 . Diese Sequenz fährt fort mit den ersten und zweiten Elektroden101 ,102 einer dritten Stufe305 , welche ein elektrisches Signal bei der Antriebsfrequenz fr liefert. Ein Ausgangssignal302 wird von der dritten Elektrode103 der dritten Stufe geliefert, wie dargestellt. Vorteilhaft sind die H2-Mischprodukte an jeder Stufe im Wesentlichen ausgelöscht in einer Weise wie vorstehend beschrieben. Ferner wird ein wesentlicher Vorteil von der Konfiguration der Einzelkavitätsresonatoren jeder Stufe von Filter300 abgeleitet, da verbindende Durchgangslöcher nicht benötigt werden, um die Verbindung zwischen den verschiedenen Elektroden101 –103 sowohl innerhalb einer Stufe und von einer Stufe zu der nächsten zu bewirken. -
4 ist eine vereinfachte schematische Darstellung eines Duplexers400 , enthaltend einen Empfangs-(RX)Filter401 und einen Sende-(TX)Filter402 , jeweils enthaltend einen Einzelkavitätsresonator gemäß einer repräsentativen Ausführungsform. Die Filter401 ,402 können jeweils einen Leiterfilter300 oder andere Filterkonfigurationen enthalten. Allen in Erwägung gezogenen Filterkonfigurationen des Duplexers400 gemein ist ein Einzelkavitätsakustikresonator100 repräsentativer Ausführungsformen. - Ein Signal von einem Sender (nicht dargestellt) wird einem Impedanzwandler (z. B. einem Viertelwellenstutzen)
403 zugeführt und wird dem TX-Filter402 zugeführt. Nach der Filterung wird das Signal schließlich an eine Antenne404 übertragen. - Ein empfangenes Signal von der Antenne
404 wird einem Impedanzwandler405 (dargestellt als Viertelwellenübertragungsleitung) dem RX-Filter401 zugeführt und wird nach Filterung einem anderen Impedanzwandler404 und dann zu einem Empfänger (nicht dargestellt) zugeführt. -
5 ist eine graphische Darstellung von ausgewählten S-Parametern über der Frequenz eines Duplexers, von denen jeder einen Sende-(TX)Filter und einen Empfangs-(RX)Filter aufweist, von denen jeder einen Einzelkavitätsresonator gemäß einer repräsentativen Ausführungsform aufweist. Der Duplexer kann der Duplexer400 sein, enthaltend Filter wie beschrieben in Verbindung mit dieser und anderen Ausführungsformen. Die Kurve501 zeigt die Bandpass-Charakteristik der Sendeseite des Duplexers mit Zurückweisung, Außerbanddämpfung und Rolloff innerhalb akzeptabler Grenzen (z. B. innerhalb der 3G-Spezifikation). In ähnlicher Weise zeigt die Kurve502 die Empfangsseite des Duplexers, wieder mit akzeptabler Zurückweisung, Außerbanddämpfung und Rolloff innerhalb akzeptabler Grenzen. - Angesichts dieser Offenbarung wird angemerkt, dass die hierin beschriebenen zahlreichen Einzelkavitätsakustikresonatoren und Filter, welche diese Resonatoren enthalten, implementiert werden können in einer Vielzahl von Materialien, verschiedenen Strukturen, Konfigurationen und Topologien. Darüber hinaus können andere Anwendungen als Resonatorfilter von den vorliegenden Lehren profitieren. Ferner sind die verschiedenen Materialien, Strukturen und Parameter nur als Beispiel und nicht in irgendeinem limitierenden Sinne hierin aufgenommen. Angesichts dieser Offenbarung können Fachleute die vorliegenden Lehren implementieren durch Bestimmen ihrer eigenen Anwendungen und benötigten Materialien und Ausrüstung zum Implementieren dieser Anwendungen, während sie innerhalb des Umfangs der anhängenden Ansprüche bleiben.
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- - US 6107721 [0023]
- - US 5587620 [0023]
- - US 5873153 [0023]
- - US 6507983 [0023]
Claims (19)
- Einzelkavitätsakustikresonator, enthaltend: eine erste Elektrode; eine zweite Elektrode; eine dritte Elektrode, welche zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode angeordnet ist; eine erste piezoelektrische Schicht, angeordnet zwischen der dritten Elektrode und der ersten Elektrode und enthaltend eine erste C-Achse mit einer Orientierung; und eine zweite piezoelektrische Schicht, angeordnet zwischen der dritten Elektrode und der zweiten Elektrode und enthaltend eine zweite C-Achse mit einer Orientierung parallel zu der ersten C-Achse, wobei ein Anwenden eines zeitlich variierenden elektrischen Signals bei einer Antriebsfrequenz an entweder die dritte Elektrode oder an die erste und zweite Elektrode in einer Resonanz des Einzelkavitätsakustikresonators bei ungefähr zwei Mal einer Grundresonanzfrequenz und einer wesentlichen Auslöschung von im Wesentlichen allen Mischprodukten gerader Ordnung in dem Einzelkavitätsresonator resultiert.
- Einzelkavitätsakustikresonator nach Anspruch 1, wobei eine einzelne resonierende Kavität zwischen einer äußeren Oberfläche der ersten Elektrode und einer äußeren Oberfläche der zweiten Elektrode ist.
- Einzelkavitätsakustikresonator nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Mischprodukte gerader Ordnung Longitudinalmoden-Mischprodukte und Lateralmoden-Mischprodukte aufweisen.
- Einzelkavitätsakustikresonator nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die erste und zweite Elektrode eine im Wesentlichen identische Dicke aufweisen und die dritte Elektrode eine Dicke aufweist, die ungefähr zweimal so groß ist wie die Dicke der ersten und zweiten Elektrode.
- Einzelkavitätsakustikresonator nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Grundfrequenz ungefähr 400 MHz ist.
- Einzelkavitätsakustikresonator nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das elektrische Signal bei der Antriebsfrequenz an die erste und zweite Elektrode angelegt ist und die dritte Elektrode mit einem anderen elektrischen Potential verbunden ist.
- Einzelkavitätsakustikresonator nach Anspruch 6, wobei das zweite elektrische Potential ein im Wesentlichen konstantes elektrisches Potential ist.
- Einzelkavitätsakustikresonator nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei das elektrische Signal bei der Antriebsfrequenz an die dritte Elektrode angelegt ist.
- Einzelkavitätsakustikresonator nach Anspruch 8, wobei die erste und zweite Elektrode mit im Wesentlichen demselben elektrischen Potential verbunden sind.
- Elektrischer Filter, enthaltend: einen ersten Einzelkavitätsakustikresonator, enthaltend: eine erste Elektrode; eine zweite Elektrode; eine dritte Elektrode angeordnet zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode; eine erste piezoelektrische Schicht angeordnet zwischen der dritten Elektrode und der ersten Elektrode und enthaltend eine erste C-Achse mit einer Orientierung; und eine zweite piezoelektrische Schicht angeordnet zwischen der dritten Elektrode und der zweiten Elektrode und enthaltend eine zweite C-Achse mit einer Orientierung parallel zu der ersten C-Achse, wobei eine Anwendung eines zeitlich variierenden elektrischen Signals bei einer Antriebsfrequenz an entweder die dritte Elektrode oder an die erste und zweite Elektrode resultiert in einer Resonanz des Einzelkavitätsakustikresonators bei zweimal der Antriebsfrequenz und einer Auslöschung von im Wesentlichen allen Mischprodukten gerader Ordnung in dem Einzelkavitätsresonator.
- Elektrischer Filter nach Anspruch 10, ferner enthaltend eine Vielzahl von Einzelkavitätsakustikresonatoren, welche in einer Leiterstruktur angeordnet sind, wobei das zeitlich variierende elektrische Signal bei der Antriebsfrequenz angelegt ist bei den ersten und zweiten Elektroden eines ersten Einzelkavitätsakustikresonators der Vielzahl von Einzelkavitätsakustikresonatoren und ein Ausgangssignal abgerufen wird von einer dritten Elektrode von einem letzten Einzelkavitätsakustikresonator der Vielzahl von Einzelkavitätsakustikresonatoren.
- Elektrischer Filter nach Anspruch 10, ferner enthaltend eine Vielzahl der Einzelkavitätsakustikresonatoren, welche in einer Leiterstruktur angeordnet sind, wobei das zeitlich variierende elektrische Signal bei der Antriebsfrequenz an die dritte Elektrode eines ersten Einzelkavitätsakustikresonators der Vielzahl von Einzelkavitätsakustikresonatoren angelegt ist, und ein Ausgangssignal von einer ersten und zweiten Elektrode eines letzten Einzelkavitätsakustikresonators der Vielzahl von Einzelkavitätsakustikresonatoren abgerufen wird.
- Elektrischer Filter nach einem der Ansprüche 1 bis 12, wobei die Mischprodukte zweiter Ordnung um mindestens 30 dBm reduziert sind.
- Elektrischer Filter nach einem der Ansprüche 10 bis 13, wobei die Mischprodukte gerader Ordnung sowohl Longitudinalmoden-Mischprodukte und Lateralmoden-Mischprodukte aufweisen.
- Elektrischer Filter nach einem der Ansprüche 10 bis 14, wobei die ersten und zweiten Elektroden eine im Wesentlichen identische Dicke aufweisen und die dritte Elektrode eine Dicke aufweist, die ungefähr zweimal so groß ist wie die Dicke der ersten und zweiten Elektrode.
- Duplexer, enthaltend: einen Sendefilter; und einen Empfangsfilter, jeweils enthaltend: einen Einzelkavitätsakustikresonator, enthaltend: eine erste Elektrode; eine zweite Elektrode; eine dritte Elektrode, welche angeordnet ist zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode; eine piezoelektrische Schicht, angeordnet zwischen der dritten Elektrode und der ersten Elektrode und aufweisend eine erste C-Achse mit einer Orientierung; und eine zweite piezoelektrische Schicht, angeordnet zwischen der dritten Elektrode und der zweiten Elektrode und aufweisend eine zweite C-Achse mit einer Orientierung parallel zu der ersten C-Achse, wobei eine Anwendung eines zeitlich variierenden elektrischen Signals bei einer Antriebsfrequenz an entweder die dritte Elektrode oder an die erste und zweite Elektrode in einer Resonanz des Einzelkavitätsakustikresonators bei zweimal der Antriebsfrequenz und einer Auslöschung von im Wesentlichen allen Mischprodukten gerader Ordnung in dem Einzelkavitätsakustikresonator resultiert.
- Duplexer nach Anspruch 16, wobei eine einzelne resonierende Kavität zwischen einer äußeren Oberfläche der ersten Elektrode und einer äußeren Oberfläche der zweiten Elektrode ist und die Antriebsfrequenz das Zweifache einer Grundfrequenz der Einzelkavität ist.
- Duplexer nach Anspruch 16 oder 17, wobei die Mischprodukte gerader Ordnung Longitudinalmoden-Mischprodukte und Lateralmoden-Mischprodukte aufweisen.
- Duplexer nach einem der Ansprüche 16 bis 18, wobei die erste und zweite Elektrode eine im Wesentlichen identische Dicke aufweisen und die dritte Elektrode eine Dicke aufweist, die ungefähr zweimal so groß ist wie die Dicke der ersten und zweiten Elektrode.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/201,641 US7889024B2 (en) | 2008-08-29 | 2008-08-29 | Single cavity acoustic resonators and electrical filters comprising single cavity acoustic resonators |
US12/201,641 | 2008-08-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102009038452A1 true DE102009038452A1 (de) | 2010-03-04 |
DE102009038452B4 DE102009038452B4 (de) | 2023-06-29 |
Family
ID=41606375
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102009038452.9A Active DE102009038452B4 (de) | 2008-08-29 | 2009-08-21 | Einzelkavitätsakustikresonatoren und elektrische Filter enthaltend Einzelkavitätsakustikresonatoren |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7889024B2 (de) |
DE (1) | DE102009038452B4 (de) |
TW (1) | TWI394365B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102022203971A1 (de) | 2022-04-25 | 2023-10-26 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Volumenakustische Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer volumenakustischen Vorrichtung |
Families Citing this family (64)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8981876B2 (en) | 2004-11-15 | 2015-03-17 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Piezoelectric resonator structures and electrical filters having frame elements |
US7791434B2 (en) * | 2004-12-22 | 2010-09-07 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator performance enhancement using selective metal etch and having a trench in the piezoelectric |
US8248185B2 (en) * | 2009-06-24 | 2012-08-21 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator structure comprising a bridge |
US8902023B2 (en) * | 2009-06-24 | 2014-12-02 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator structure having an electrode with a cantilevered portion |
US9847768B2 (en) | 2009-11-23 | 2017-12-19 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Polarity determining seed layer and method of fabricating piezoelectric materials with specific C-axis |
US8193877B2 (en) * | 2009-11-30 | 2012-06-05 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Duplexer with negative phase shifting circuit |
US8673121B2 (en) | 2010-01-22 | 2014-03-18 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method of fabricating piezoelectric materials with opposite C-axis orientations |
US9243316B2 (en) * | 2010-01-22 | 2016-01-26 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method of fabricating piezoelectric material with selected c-axis orientation |
US8796904B2 (en) | 2011-10-31 | 2014-08-05 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator comprising piezoelectric layer and inverse piezoelectric layer |
US9679765B2 (en) * | 2010-01-22 | 2017-06-13 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Method of fabricating rare-earth doped piezoelectric material with various amounts of dopants and a selected C-axis orientation |
US8962443B2 (en) | 2011-01-31 | 2015-02-24 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Semiconductor device having an airbridge and method of fabricating the same |
US9048812B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-06-02 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic wave resonator comprising bridge formed within piezoelectric layer |
US9425764B2 (en) | 2012-10-25 | 2016-08-23 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Accoustic resonator having composite electrodes with integrated lateral features |
US9136818B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-09-15 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Stacked acoustic resonator comprising a bridge |
US9148117B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-09-29 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Coupled resonator filter comprising a bridge and frame elements |
US9083302B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-07-14 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Stacked bulk acoustic resonator comprising a bridge and an acoustic reflector along a perimeter of the resonator |
US9203374B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-12-01 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Film bulk acoustic resonator comprising a bridge |
US9154112B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-10-06 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Coupled resonator filter comprising a bridge |
US9490418B2 (en) | 2011-03-29 | 2016-11-08 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator comprising collar and acoustic reflector with temperature compensating layer |
US9490771B2 (en) | 2012-10-29 | 2016-11-08 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator comprising collar and frame |
US9525397B2 (en) | 2011-03-29 | 2016-12-20 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator comprising acoustic reflector, frame and collar |
US9401692B2 (en) | 2012-10-29 | 2016-07-26 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator having collar structure |
US9748918B2 (en) | 2013-02-14 | 2017-08-29 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator comprising integrated structures for improved performance |
US9444426B2 (en) | 2012-10-25 | 2016-09-13 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Accoustic resonator having integrated lateral feature and temperature compensation feature |
US9490770B2 (en) | 2011-03-29 | 2016-11-08 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator comprising temperature compensating layer and perimeter distributed bragg reflector |
US9246473B2 (en) | 2011-03-29 | 2016-01-26 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator comprising collar, frame and perimeter distributed bragg reflector |
US9590165B2 (en) | 2011-03-29 | 2017-03-07 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator comprising aluminum scandium nitride and temperature compensation feature |
US8575820B2 (en) | 2011-03-29 | 2013-11-05 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Stacked bulk acoustic resonator |
US8872604B2 (en) | 2011-05-05 | 2014-10-28 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Double film bulk acoustic resonators with electrode layer and piezo-electric layer thicknesses providing improved quality factor |
US9154111B2 (en) | 2011-05-20 | 2015-10-06 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Double bulk acoustic resonator comprising aluminum scandium nitride |
US9917567B2 (en) | 2011-05-20 | 2018-03-13 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator comprising aluminum scandium nitride |
US8350445B1 (en) | 2011-06-16 | 2013-01-08 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator comprising non-piezoelectric layer and bridge |
US8330325B1 (en) | 2011-06-16 | 2012-12-11 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Bulk acoustic resonator comprising non-piezoelectric layer |
US8922302B2 (en) | 2011-08-24 | 2014-12-30 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator formed on a pedestal |
US8797123B2 (en) | 2011-09-14 | 2014-08-05 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Double film bulk acoustic resonator having electrode edge alignments providing improved quality factor or electromechanical coupling coefficient |
US9525399B2 (en) | 2011-10-31 | 2016-12-20 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Planarized electrode for improved performance in bulk acoustic resonators |
US8692624B2 (en) | 2011-12-15 | 2014-04-08 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Tuning of MEMS oscillator |
US9154103B2 (en) | 2012-01-30 | 2015-10-06 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Temperature controlled acoustic resonator |
US9667218B2 (en) | 2012-01-30 | 2017-05-30 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Temperature controlled acoustic resonator comprising feedback circuit |
US9667220B2 (en) | 2012-01-30 | 2017-05-30 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Temperature controlled acoustic resonator comprising heater and sense resistors |
US9608592B2 (en) | 2014-01-21 | 2017-03-28 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Film bulk acoustic wave resonator (FBAR) having stress-relief |
US9065421B2 (en) * | 2012-01-31 | 2015-06-23 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Film bulk acoustic resonator with multi-layers of different piezoelectric materials and method of making |
US9093979B2 (en) | 2012-06-05 | 2015-07-28 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Laterally-coupled acoustic resonators |
US9385684B2 (en) | 2012-10-23 | 2016-07-05 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Acoustic resonator having guard ring |
US9793877B2 (en) | 2013-12-17 | 2017-10-17 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Encapsulated bulk acoustic wave (BAW) resonator device |
US10340885B2 (en) | 2014-05-08 | 2019-07-02 | Avago Technologies International Sales Pte. Limited | Bulk acoustic wave devices with temperature-compensating niobium alloy electrodes |
US9698756B2 (en) | 2014-12-24 | 2017-07-04 | Qorvo Us, Inc. | Acoustic RF resonator parallel capacitance compensation |
US10581403B2 (en) | 2016-07-11 | 2020-03-03 | Qorvo Us, Inc. | Device having a titanium-alloyed surface |
US11050412B2 (en) | 2016-09-09 | 2021-06-29 | Qorvo Us, Inc. | Acoustic filter using acoustic coupling |
US11165412B2 (en) | 2017-01-30 | 2021-11-02 | Qorvo Us, Inc. | Zero-output coupled resonator filter and related radio frequency filter circuit |
US11165413B2 (en) | 2017-01-30 | 2021-11-02 | Qorvo Us, Inc. | Coupled resonator structure |
US10873318B2 (en) | 2017-06-08 | 2020-12-22 | Qorvo Us, Inc. | Filter circuits having acoustic wave resonators in a transversal configuration |
US10901021B2 (en) * | 2018-02-27 | 2021-01-26 | Applied Materials, Inc. | Method for detecting wafer processing parameters with micro resonator array sensors |
US11152913B2 (en) * | 2018-03-28 | 2021-10-19 | Qorvo Us, Inc. | Bulk acoustic wave (BAW) resonator |
TWI711273B (zh) * | 2019-05-30 | 2020-11-21 | 國立清華大學 | 產生高階諧振頻率的方法及微機電共振子 |
US11146247B2 (en) | 2019-07-25 | 2021-10-12 | Qorvo Us, Inc. | Stacked crystal filter structures |
US11757430B2 (en) | 2020-01-07 | 2023-09-12 | Qorvo Us, Inc. | Acoustic filter circuit for noise suppression outside resonance frequency |
US11146246B2 (en) | 2020-01-13 | 2021-10-12 | Qorvo Us, Inc. | Phase shift structures for acoustic resonators |
US11146245B2 (en) | 2020-01-13 | 2021-10-12 | Qorvo Us, Inc. | Mode suppression in acoustic resonators |
US11632097B2 (en) | 2020-11-04 | 2023-04-18 | Qorvo Us, Inc. | Coupled resonator filter device |
US11575363B2 (en) | 2021-01-19 | 2023-02-07 | Qorvo Us, Inc. | Hybrid bulk acoustic wave filter |
US20240030889A1 (en) | 2022-07-20 | 2024-01-25 | Avago Technologies International Sales Pte. Limited | Resonator with intrinsic second harmonic cancellation |
US20240039513A1 (en) | 2022-07-27 | 2024-02-01 | Avago Technologies International Sales Pte. Limited | Stacked resonator with variable density electrode |
CN115800952A (zh) * | 2023-02-07 | 2023-03-14 | 常州承芯半导体有限公司 | 滤波装置电路 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5587620A (en) | 1993-12-21 | 1996-12-24 | Hewlett-Packard Company | Tunable thin film acoustic resonators and method for making the same |
US6107721A (en) | 1999-07-27 | 2000-08-22 | Tfr Technologies, Inc. | Piezoelectric resonators on a differentially offset reflector |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000290068A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-17 | Murata Mfg Co Ltd | 高周波用誘電体磁器組成物、誘電体共振器、誘電体フィルタ、誘電体デュプレクサおよび通信機装置 |
DE60225795T2 (de) * | 2001-04-25 | 2009-04-16 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Anordnung mit zwei piezoelektrischen schichten und verfahren zum betreiben einer filtereinrichtung |
DE10147075A1 (de) * | 2001-09-25 | 2003-04-30 | Infineon Technologies Ag | Piezoelektrisches Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE10150253A1 (de) | 2001-10-11 | 2003-04-30 | Infineon Technologies Ag | Piezoelektrisches Bauelement |
DE10251876B4 (de) * | 2002-11-07 | 2008-08-21 | Infineon Technologies Ag | BAW-Resonator mit akustischem Reflektor und Filterschaltung |
JP2006019935A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Toshiba Corp | 薄膜圧電共振器及びその製造方法 |
US7388454B2 (en) | 2004-10-01 | 2008-06-17 | Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd | Acoustic resonator performance enhancement using alternating frame structure |
US7280007B2 (en) | 2004-11-15 | 2007-10-09 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Thin film bulk acoustic resonator with a mass loaded perimeter |
US8981876B2 (en) | 2004-11-15 | 2015-03-17 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Piezoelectric resonator structures and electrical filters having frame elements |
CN100581283C (zh) * | 2004-11-16 | 2010-01-13 | 北京三星通信技术研究有限公司 | 适用于多媒体广播与组播业务的密码管理方法 |
DE102005028927B4 (de) * | 2005-06-22 | 2007-02-15 | Infineon Technologies Ag | BAW-Vorrichtung |
US7629865B2 (en) | 2006-05-31 | 2009-12-08 | Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Piezoelectric resonator structures and electrical filters |
US7535323B2 (en) * | 2006-07-10 | 2009-05-19 | Skyworks Solutions, Inc. | Bulk acoustic wave filter with reduced nonlinear signal distortion |
US7515018B2 (en) * | 2006-08-31 | 2009-04-07 | Martin Handtmann | Acoustic resonator |
-
2008
- 2008-08-29 US US12/201,641 patent/US7889024B2/en active Active
-
2009
- 2009-06-23 TW TW098121070A patent/TWI394365B/zh not_active IP Right Cessation
- 2009-08-21 DE DE102009038452.9A patent/DE102009038452B4/de active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5587620A (en) | 1993-12-21 | 1996-12-24 | Hewlett-Packard Company | Tunable thin film acoustic resonators and method for making the same |
US5873153A (en) | 1993-12-21 | 1999-02-23 | Hewlett-Packard Company | Method of making tunable thin film acoustic resonators |
US6507983B1 (en) | 1993-12-21 | 2003-01-21 | Agilent Technologies, Inc. | Method of making tunable thin film acoustic resonators |
US6107721A (en) | 1999-07-27 | 2000-08-22 | Tfr Technologies, Inc. | Piezoelectric resonators on a differentially offset reflector |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102022203971A1 (de) | 2022-04-25 | 2023-10-26 | Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Volumenakustische Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer volumenakustischen Vorrichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI394365B (zh) | 2013-04-21 |
TW201025846A (en) | 2010-07-01 |
US20100052815A1 (en) | 2010-03-04 |
US7889024B2 (en) | 2011-02-15 |
DE102009038452B4 (de) | 2023-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102009038452B4 (de) | Einzelkavitätsakustikresonatoren und elektrische Filter enthaltend Einzelkavitätsakustikresonatoren | |
DE102015117953B4 (de) | Eine akustische Volumenwellen-Resonatoreinrichtung, die eine Temperaturkompensationsanordnung mit einer Schicht von niedriger akustischer Impedanz umfasst | |
DE68916308T2 (de) | Akustisches Oberflächenwellenfilter. | |
DE102015108508B4 (de) | Akustischer Resonator mit vertikal erweiterter akustischer Kavität | |
EP2293439B9 (de) | BAW-Filter mit Leiterstruktur mit BAW-Vorrichtung sowohl als Parallel- als auch als Serienelement | |
DE102019210587A1 (de) | FBAR-Filter mit integrierter Abbruchschaltung | |
DE102015122834A1 (de) | Akustische Volumenwellen (BAW)-Resonatoren mit aufgeteiltem Strom | |
DE102009030483A1 (de) | Duplexgerät | |
DE112016005218T5 (de) | Akustischer Wellenfilter mit verstärkter Unterdrückung | |
DE102012219838A1 (de) | Planarisierte Elektrode für verbesserte Performanz in Bulk-akustischen Resonatoren | |
DE112014000126T5 (de) | Verbessertes Design von Mikrowellenakustikwellenfiltern | |
DE19503358A1 (de) | Siebkettenfilter und entsprechendes Verfahren | |
DE60133135T2 (de) | Akustisches volumenwellenfilter | |
DE102011004553A1 (de) | Volumenakustikresonatorstrukturen enthaltend eine Einzelmaterialakustikkopplungsschicht, die eine inhomogene akustische Eigenschaft aufweist | |
DE102006032950B4 (de) | Schaltung mit BAW-Resonatoren | |
DE112010005279T5 (de) | Vorrichtung für elastische Wellen | |
DE102021120414A1 (de) | Transversal angeregter akustischer Filmvolumenresonator umfassend kleine Zellen | |
EP1407546B1 (de) | Reaktanzfilter mit verbesserter flankensteilheit | |
DE102021118340A1 (de) | Akustische Resonatoren und Filter mit reduziertem Temperaturkoeffizienten der Frequenz | |
DE112020004488B4 (de) | Transversal angeregte akustische filmvolumenresonatoren fürhochleistungsanwendungen | |
DE102014102707A1 (de) | Abstimmbares elektroakustisches HF-Filter mit verbesserten elektrischen Eigenschaften und Verfahren zum Betrieb eines solchen Filters | |
DE102022100739A1 (de) | Entkoppelte transversal angeregte akustische filmvolumenresonatoren | |
DE102008048454A1 (de) | Hybridakustikresonator-basierte Filter | |
DE19610806A1 (de) | Oberflächenwellen-Filter und Antennenweiche | |
DE102016114071B3 (de) | Elektroakustisches Filter mit reduzierten Plattenmoden |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
R012 | Request for examination validly filed |
Effective date: 20110204 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: DILG HAEUSLER SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESELL, DE |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE., SG Free format text: FORMER OWNER: AVAGO TECHNOLOGIES WIRELESS IP (SINGAPORE) PTE. LTD., SINGAPORE, SG Effective date: 20130605 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: DILG HAEUSLER SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESELL, DE Effective date: 20130605 |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: AVAGO TECHNOLOGIES INTERNATIONAL SALES PTE. LI, SG Free format text: FORMER OWNER: AVAGO TECHNOLOGIES GENERAL IP (SINGAPORE) PTE. LTD., SINGAPORE, SG |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: DILG, HAEUSLER, SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESE, DE Representative=s name: DILG HAEUSLER SCHINDELMANN PATENTANWALTSGESELL, DE |
|
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final |