DE102009019254A1 - Justagevorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Justage von optischen Komponenten in einem optischen Bauteil sowie ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils (152, 154) mit mindestens einer optischen Komponente (110, 120), die in dem Bauteil angeordnet wird, wobei mindestens ein Abstandsmesssystem (100) bereitgestellt wird, welches mindestens einen Abstand zu der optischen Komponente (110) ermitteln kann, wobei das Abstandsmesssystem in mindestens einer definierten Position eines Koordinatensystems des Bauteils angeordnet wird, so dass aus der relativen Position der Komponente zum Abstandsmesssystem die Position der optischen Komponente im Koordinatensystem des optischen Bauteils bestimmbar ist, und wobei das Abstandsmesssystem den Abstand nach dem Prinzip der Triangulation bestimmt.

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • GEBIET DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Justage von optischen Komponenten in einem optischen Bauteil, sowie ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils mit mindestens einer optischen Komponente, die in dem optischen Bauteil angeordnet wird.
  • STAND DER TECHNIK
  • In optischen Bauteilen, wie beispielsweise Objektiven und dergleichen, müssen die entsprechenden optischen Komponenten, wie beispielsweise Linsen, exakt angeordnet werden, um ihre Funktion erfüllen zu können und die gewünschten Eigenschaften des optischen Bauteils zu erzielen. Dies gilt umso mehr für hochpräzise Anlagen, wie Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie, mittels denen feinste Strukturen im Nanometerbereich erzeugt werden sollen, indem Strukturen eines Retikels auf eine Fotoschicht eines Substrats in verkleinerter Weise abgebildet werden. Um die erforderlichen Auflösungen im Nanometerbereich erzielen zu können, werden immer kleinere Lichtwellenlängen für das Arbeitslicht der Projektionsbelichtungsanlagen verwendet. So werden bereits EUV-Projektionsbelichtungsanlagen konstruiert, welche Licht im extrem ultravioletten Bereich (EUV) mit Wellenlängen von 1 nm bis 50 nm, beispielsweise mit einer Wellenlänge von 13,5 nm verwenden.
  • Derartige EUV-Projektionsbelichtungsanlagen verwenden als optische Komponenten im Beleuchtungssystem zur Ausleuchtung eines Retikels bzw. in einem Projektionsobjektiv zur Abbildung des Retikels auf das Substrat unter anderem Spiegel die exakt angeordnet werden müssen. Insbesondere können im Beleuchtungssystem auch Mehrfachspiegelanordnungen mit einer Vielzahl einzelner Spiegel bzw. Spiegelfacetten vorgesehen werden.
  • Zur Herstellung eines derartigen, optischen Bauteils, wie beispielsweise eines Beleuchtungssystems oder eines Projektionsobjektivs, müssen die darin enthaltenen optischen Komponenten ex akt positioniert bzw. justiert werden. Die Justage, bei der die optischen Komponenten, wie beispielsweise Spiegel oder Spiegelanordnungen, an exakt einer vordefinierten Position angeordnet werden, ist sehr aufwendig, da eine hohe Positionsgenauigkeit erzielt werden muss. Entsprechend besteht ein ständiges Bedürfnis die entgegengesetzten Anforderungen an exakte Positionierung und Verringerung des Justageaufwands zu erfüllen.
  • OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
  • AUFGABE DER ERFINDUNG
  • Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zur Justage einer optischen Komponente in einem optischen Bauteil bzw. ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils mit mindestens einer optischen Komponente bereitzustellen, die in dem optischen Bauteil angeordnet wird. Darüber hinaus ist es Aufgabe der Erfindung eine Vorrichtung zur Justage von optischen Komponenten in einem optischen Bauteil anzugeben, wobei sowohl die entsprechenden Verfahren als auch die Vorrichtung eine Verbesserung der Positioniergenauigkeit und/oder Verbesserung des Justageaufwands ermöglichen.
  • TECHNISCHE LÖSUNG
  • Die Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 bzw. eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 12. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird zur Justage bzw. Anordnung einer optischen Komponente in einem optischen Bauteil ein Abstandsmesssystem verwendet, welches nach dem Prinzip der Triangulation den Abstand zwischen dem Abstandsmesssystem bzw. einem entsprechenden Abstandsmessgerät und der anzuordnenden optischen Komponente ermittelt. Da gemäß der Erfindung die Position des Abstandsmesssystems bzw. eines entsprechenden Geräts exakt ermittelt bzw. durch eine Positioniervorrichtung eingestellt werden kann, kann aufgrund der relativen Position der optischen Komponente zu dem Abstandsmesssystem die exakte Position der optischen Komponente in einem Koordinatensystem des Bauteils ermittelt werden. Das Koordinatensystem des Bauteils kann durch eine Lagereinrichtung zur Lagerung des Bauteils während der Justage vorgegeben sein oder an dieses gekoppelt sein.
  • Mit der ermittelten Ist-Position der optischen Komponente und einem Vergleich mit einer Soll-Position der optischen Komponente im Bauteil kann der Justagebedarf bzw. die erforderliche Positionsänderung, z. B. mit einer Auswerteeinheit, bestimmt und die erforderliche Veränderung durchgeführt werden, wobei entsprechende Justagemittel zur Positionsveränderung der optischen Komponente vorgesehen sein können. Diese Justagemittel können entweder durch die Justagevorrichtung selbst bereitgestellt werden oder in dem entsprechenden optischen Bauteil und/oder der optischen Komponente vorgesehen sein, wie beispielsweise Aktoren zur Positionsveränderung der optischen Komponente in Form von Translationsbewegungen, Dreh-, Kipp- oder Schwenkbewegungen. Darüber hinaus lassen sich auch zusätzliche Bauteile vorsehen, wie beispielsweise Abstandshalter und dergleichen.
  • Obwohl die Abstandsmessung nach dem Prinzip der Triangulation auf der Basis unterschiedlicher Lichtquellen durchgeführt werden kann, kann bevorzugt die Verwendung der Lasertriangulation gewählt werden, da damit eine sehr hohe Genauigkeit der Positionsbestimmung erzielbar ist.
  • Die Abstandsmessung gemäß dem Prinzip der Triangulation kann auf Basis einer diffusen und/oder gerichteten Reflexion eines Primärlichtstrahls, wie beispielsweise eines Laserlichtstrahls, erfolgen.
  • Bei der gerichteten Reflexion, die auch als spiegelnde Reflexion bezeichnet werden kann, wird der Laserstrahl unter einem bestimmten Winkel auf eine Fläche eingestrahlt, deren Abstand zu dem Abstandsmesssystem bzw. Abstandsmessgerät bestimmt werden soll. Da nach dem Reflexionsgesetz mit Einfallswinkel gleich Reflexionswinkel die maximale Lichtintensität unter einem bestimmten Reflexionswinkel abgestrahlt wird, kann bei Kenntnis der Position der Lichtquelle und eines entsprechenden Detektors für den reflektierten Strahl unter Anwendung der trigonometrischen Funktionen der Abstand zu der Reflexionsfläche bestimmt werden. Die Lichtquelle und der Detektor können bei der entsprechenden Vorrichtung in einem Abstandsmessgerät beanstandet zueinander angeordnet sein, so dass die Lage von Lichtquelle und Detektor genau bekannt sind. Durch eine Variation des Einfallswinkels des auf die zu messende Fläche abgestrahlten Lichtstrahls und/oder Variation der Detektorposition und Feststellung der Winkel- und Ortsverhältnisse von Lichtquelle, Detektor sowie einfallendem und reflektiertem Lichtstrahl bei maximaler reflektierter Intensität kann der entsprechende Abstand ermittelt werden.
  • Neben der gerichteten bzw. gespiegelten Reflexion kann auch die diffuse Reflexion eingesetzt werden, bei welcher man sich die Eigenschaft zu Nutze macht, dass reale Oberflächen eine gewisse Rauigkeit aufweisen, die dazu führt, dass auch senkrecht auf eine reflektierende Fläche eingestrahlte Lichtstrahlen in einem gewissen Umfang in andere Richtungen als die Oberflächennormale zurück reflektiert werden. Unter Berücksichtigung des Lambertschen Gesetzes, welches die Verteilung der Lichtintensität in Abhängigkeit vom Reflexionswinkel für die diffuse Reflexion beschreibt, kann wiederum aus der ermittelten reflektierten Lichtintensität mit einem von der Lichtquelle beabstandet angeordneten Detektor über die trigonometrischen Funktionen der Abstand einer entsprechenden Reflexionsfläche bestimmt werden.
  • Obwohl insgesamt bei Spiegel bzw. Spiegelelementen die entsprechend optisch wirksamen Flächen selbst zur Abstandsmessung eingesetzt werden können, können für andere optische Elemente, die eine entsprechende Reflexion nicht in idealer Weise zeigen, oder als sonstige Referenzfläche separate zusätzliche Messflächen in Form von Marker vorgesehen werden. So können beispielsweise Marker auch eine oder mehrere Referenzflächen bei Mehrfachspiegelanordnungen bereitstellen. Alternativ könnte ein Spiegel der Mehrfachspiegelanordnung als Referenzspiegel eingesetzt werden, wobei durch die Verwendung von Marker als Referenzflächen bzw. durch die Verwendung eines Referenzspiegels die Abstandsmessung lediglich zu einer oder wenigen Flächen der Mehrfachspiegelanordnung vorgenommen werden muss und nicht für jedes einzelne Spiegelelement, so dass sich für eine Mehrfachspiegelanordnung der Messaufwand verringert. In diesem Fall muss lediglich für die anderen Spiegelelemente die Ausrichtung bzw. Positionierung bzgl. der Referenzfläche des Markers bzw. der Referenzfläche eines Spiegelelements bekannt sein oder definiert einstellbar sein.
  • Vorzugsweise können drei Marker an einer entsprechenden optischen Komponente, wie beispielsweise einer Linse, einer Spiegelanordnung mit mehreren Spiegelfacetten und dergleichen vorgesehen sein, um über die drei Marker die dreidimensionale Ausrichtung der optischen Komponente zu bestimmen.
  • Die Marker selbst können wiederum mehrere, insbesondere senkrecht zueinander ausgerichtete Flächen zur Abstandsmessung bereitstellen. Beispielsweise kann ein entsprechender Marker als quaderförmiger Körper ausgebildet sein.
  • Das Verfahren mit der entsprechenden Positionsbestimmung lässt sich für mehrere optische Komponenten eines optischen Bauteils, wie beispielsweise eines Beleuchtungssystems oder ei nes Projektionsobjektivs einer Projektionsbelichtungsanlage durchführen und beliebig wiederholen, bis die entsprechende Genauigkeit der Positionsbestimmung bzw. Positionseinstellung erreicht ist.
  • Insbesondere kann die Erfindung für Projektionsbelichtungsanlagen, die im extrem ultravioletten Wellenlängenbereich arbeiten, eingesetzt werden und hierfür wiederum vorzugsweise für die Anordnung von Spiegelmodulen im Beleuchtungssystem.
  • KURZBESCHREIBUNG DER FIGUREN
  • Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden, detaillierten Beschreibung eines Ausführungsbeispiels anhand der beigefügten Zeichnung deutlich. Die Zeichnungen zeigen hierbei in rein schematischer Weise in
  • 1 eine Darstellung einer Projektionsbelichtungsanlage, für welche die Erfindung Verwendung findet; und in
  • 2 in den Teilbildern a) und b) die Positionsbestimmung für ein Spiegelmodul gemäß der vorliegenden Erfindung
  • Die 1 zeigt eine Projektionsbelichtungsanlage 150, bei der die vorliegende Erfindung eingesetzt werden kann.
  • Die Projektionsbelichtungsanlage 150 in der Ausgestaltung einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage umfasst eine Lichtformungseinheit 151, ein Beleuchtungssystem 152 und ein Projektionsobjektiv 154. Das Licht aus der Lichtformungseinheit 151, welches teilweise schematisch in der 1 als Strahlengang dargestellt ist, wird beispielsweise im Beleuchtungssystem 152 auf Feldfacetten einer Mehrfachspiegelanordnung 110 gelenkt, die das Licht auf Pupillenfacetten einer Mehrfachspiegelanordnung 120 reflektieren. Am Ende des Beleuchtungssystems 152 wird ein Retikel 153 beleuchtet und das reflektierte Licht wird im Projektionsobjektiv 154 auf das Substrat 155 gelenkt, so dass die in dem Retikel 153 enthaltene Struktur verkleinert auf dem Substrat 155 abgebildet wird.
  • Die Spiegelanordnungen 110 und 120 müssen neben anderen Bestandteilen in dem Beleuchtungssystem 152 exakt positioniert werden, wozu die vorliegende Erfindung eingesetzt wird. Entsprechend ist z. B. die Spiegelanordnung 110 in 2 in Bezug zum Abstandsmessgerät 100 gezeigt, mit dem der Abstand des Spiegelmoduls bzw. der Spiegelanordnung 110 zu dem Abstandsmessgerät 100 ermittelt werden kann.
  • Da die Position des Abstandsmessgeräts in einem Bezugssystem bzw. globalen Koordinatensystem der Projektionsbelichtungsanlage 150 bzw. entsprechender Bauteile, wie beispielsweise des Beleuchtungssystems 152, genau bestimmbar ist bzw. durch eine entsprechende Positioniervorrichtung (nicht gezeigt) einstellbar ist, kann durch eine exakte Positionsbestimmung der Spiegelanordnung 110 in Bezug auf das Abstandsmessgerät 100 die Lage der Spiegelanordnung 110 bzw. der darauf angeordneten Spiegelfacetten 111 genau bestimmt werden. Entsprechend kann aus der Positionsbestimmung durch einen Vergleich der Ist-Position mit der Soll-Position der Spiegelanordnung 110 auch bestimmt werden, wie die Position der Spiegelanordnung 110 verändert werden muss, damit die Spiegelfacetten 111 die gewünschte Position und Ausrichtung aufweisen. Aus dem so ermittelten Justagebedarf, d. h. der Notwendigkeit die Position und Ausrichtung der Spiegelanordnung 110 zu verändern, können entsprechende Justagemaßnahmen getroffen werden. Hierzu können unterschiedlichste Justagemittel eingesetzt werden. Beispielsweise können Abstandshalter (nicht gezeigt) zusätzlich angeordnet werden oder es können entsprechende Aktoren betätigt werden, die in Bezug zu der Spiegelanordnung 110 vorgesehen sind, um durch translatorische Bewegungen oder Schwenk- bzw. Kippbewegungen die gewünschte Position der Spiegelanordnung 110 zu erreichen.
  • Obwohl eine Abstandsbestimmung mittels des Abstandsmessgeräts 100 auch im Bezug auf die einzelnen Spiegelfacetten 111, insbesondere zu einer vorher definierten Referenzspiegelfacette vorgenommen werden kann, ist bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel der 2 die Spiegelanordnung 110 mit entsprechenden Markern 112 versehen, die zum Zusammenwirken mit dem Abstandsmessgerät 100 bestimmt sind.
  • Wie sich aus der 2b) ergibt, sind bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel an der Grundplatte der Spiegelanordnung 110, auf welcher die Spiegelfacetten 111 montiert sind, drei Marker 112 im Form von quaderförmigen Körpern vorgesehen, welche entsprechende Referenzflächen für das Abstandsmessgerät 100 bereitstellen.
  • Wie sie sich aus den 2a) und b) ergibt, können sowohl die Flächen, die parallel zu den Spiegelflächen der Spiegelfacetten ausgerichtet sind, als auch die Flächen senkrecht hierzu als Referenzflächen für das Abstandsmessgerät 100 Verwendung finden.
  • Bei der Abstandsmessmethode, die bei der vorliegenden Erfindung eingesetzt, werden durch das Abstandsmessgerät 100 eine Lichtquelle, wie beispielsweise der Laserstrahl 101, sowie ein Detektor für das reflektierte Licht (nicht dargestellt) eingesetzt, wobei über trigonometrische Funktionen aus der Kenntnis der Position der Lichtquelle und der Position des Detektors der Abstand zwischen dem Abstandsmessgerät 100 und der zu vermessenden, optischen Komponente, beispielsweise der Spiegelanordnung 110, ermittelt werden kann.
  • Bei dem gezeigten Ausführungsbeispiel der 2 wird der Laserstrahl 101 möglichst senkrecht auf die Referenzoberfläche des Markers 112 eingestrahlt, so dass bei einer ideal glatten Oberfläche der Laserstrahl direkt in die Lichtquelle, also Laserquelle, zurück reflektiert wird. Da es sich bei den Referenzflächen des Markers 112 jedoch um reale Oberflächen mit Oberflächenrauigkeiten handelt, tritt diffuse Reflexion auf, so dass gemäß dem Lambertschen Gesetz im Ort des Detektors (nicht gezeigt) entsprechend der reflektierten Intensität ein Reflexionswinkel bestimmbar ist, so dass über die oben erwähnten trigonometrische Funktionen der Abstand des Abstandsmessgeräts von der Referenzfläche des Markers 112 bestimmbar ist.
  • Anstelle der diffusen Reflexion kann selbstverständlich auch eine gerichtete Reflexion eines Lichtstrahls, beispielsweise eines Laserlichtstrahls 101 eingesetzt werden, wobei gemäß dem Reflexionsgesetz durch Einfallswinkel und Reflexionswinkel des einfallenden Lichts und des reflektierten Lichts, sowie unter Verwendung entsprechender trigonometrischer Funktionen wiederum der Abstand bestimmt werden kann.
  • Anstelle eines Lasers können auch andere Arten von Lichtquellen Verwendung finden.
  • Obwohl die vorliegende Erfindung anhand des beschriebenen Ausführungsbeispiels detailliert beschrieben worden ist, ist für den Fachmann selbstverständlich, dass Abwandlungen oder Änderungen möglich sind, ohne den Schutzbereich der beigefügten Ansprüche zu verlassen, insbesondere durch andersartige Kombination einzelner Merkmale oder das Weglassen bestimmter Merkmale. Insgesamt umfasst die vorliegende Erfindung sämtliche Kombinationen aller vorgestellten Merkmale.

Claims (15)

  1. Verfahren zur Herstellung eines optischen Bauteils (152, 154) mit mindestens einer optischen Komponente (110, 120), die in dem Bauteil angeordnet wird, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Abstandsmesssystem (100) bereit gestellt wird, welches mindestens einen Abstand zu der optischen Komponente (110) ermitteln kann, wobei das Abstandsmesssystem in mindestens einer definierten Position eines Koordinatensystems des Bauteils angeordnet wird, so dass aus der relativen Position der Komponente zum Abstandsmessystem die Position der optischen Komponente im Koordinatensystem des optischen Bauteils bestimmbar ist, und wobei das Abstandsmesssystem den Abstand nach dem Prinzip der Triangulation bestimmt.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass aus einem Vergleich zwischen ermittelter Position der optischen Komponente (110) im Koordinatensystem des Bauteils (152) und Sollposition der optischen Komponente im Bauteil eine Positionsveränderung bestimmt und durchgeführt wird.
  3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Abstandsmesssystem den Abstand durch Lasertriangulation bestimmt.
  4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Abstandsmesssystem nach dem Prinzip der diffusen und/oder gerichteten Reflexion arbeitet.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass an der Komponente mindestens ein Marker (112) zum Zusammenwirken mi dem Abstandsmesssystem vorgesehen wird.
  6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens drei Marker (112) zum Zusammenwirken mi dem Abstandsmesssystem vorgesehen werden.
  7. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Marker (112) mehrere, insbesondere senkrecht zueinander ausgerichtete Flächen zur Abstandsmessung bereit stellt.
  8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Komponente (110) mehrere optische Elemente (111) umfasst, wobei die Position der optischen Elemente zu einem Referenzelement und/oder einem Marker (112) zusätzlich zur Position der optischen Komponente (110) im Koordinatensystem des Bauteils (152) ermittelt wird.
  9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Komponente (110) ausgewählt ist aus der Gruppe, die optische Linsen, Spiegel, Facettenspiegelmodule, Mehrfachspiegelanordnungen und diffraktive optische Elemente umfasst.
  10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Bauteil ein Bauteil einer Projektionsbelichtungsanlage ist, insbesondere einer Projektionsbelichtungsanlage, die mit Licht im Wellenlängenbereich der extrem ultravioletten Strahlung arbeitet.
  11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, 1 dadurch gekennzeichnet, dass das optische Bauteil ein Beleuchtungssystem (152) und/oder ein Projektionsobjektiv (154) einer Projektionsbelichtungsanlage (150) ist.
  12. Vorrichtung zur Justage von optischen Komponenten in einem optischen Bauteil mit einer Lagereinrichtung für das optische Bauteil, dadurch gekennzeichnet, dass ein Abstandsmesssystem (100) nach dem Prinzip der Triangulation und eine Positioniervorrichtung für das Abstandsmesssystem vorgesehen sind, wobei die Positioniervorrichtung eine definierte Positionierung des Abstandsmesssystems zur Lagereinrichtung ermöglicht.
  13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass eine Auswerteeinheit zur Ermittlung der Ist-Position der optischen Komponente und/oder eines Justagebedarfs der optischen Komponente vorgesehen ist.
  14. Vorrichtung nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass Justagemittel zur Positionsveränderung der optischen Komponente vorgesehen sind.
  15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 11 hergerichtet ist.
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