DE102009000389A1 - Integrierter Schaltkreis und Herstellungsverfahren hierfür - Google Patents

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Abstract

Es wird ein integrierter Schaltkreis (1) mit einem Substrat (2) angegeben, welches auf einer ersten Oberfläche (A) metallische Kontaktflächen (3) und ein auf einer zweiten, der ersten Oberfläche gegenüberliegenden Oberfläche (B) angeordnetes Sensorelement/Aktorelement (4) aufweist. In ein Dielektrikum (5, 5a...5c) des Substrats (2) ist eine metallische Struktur (6) eingebettet, welche das Sensorelement/Aktorelement (4) mit den Kontaktflächen (3) verbindet. Die metallische Struktur (6) und das Dielektrikum (5, 5a...5c) sind dabei derart ausgebildet, dass durch die Federkonstante, welche durch die metallische Struktur (6) und das Dielektrikum (5, 5a...5c) gebildet wird, eine Übertragung von mechanischen Spannungen von den Kontaktflächen (3) zum Sensorelement (4) wirksam gemildert wird.

Description

  • Die Erfindung betrifft einen integrierten Schaltkreis mit einem Substrat, welches auf einer ersten Oberfläche metallische Kontaktflächen, ein auf einer zweiten, der ersten Oberfläche gegenüberliegenden Oberfläche angeordnetes Sensorelement/Aktorelement und eine in ein Dielektrikum des Substrats eingebettete metallische Struktur aufweist, welche das Sensorelement/Aktorelement mit den Kontaktflächen verbindet. Darüber hinaus betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen integrierten Schaltkreises.
  • Stand der Technik
  • Sensoren auf Basis integrierter Schaltkreise sind aus dem heutigen Leben nicht mehr wegzudenken. Die zunehmende Miniaturisierung eröffnet stetig ungeahnte Möglichkeiten. Die Sensoren decken praktisch alle wichtigen physikalischen Größen ab. Beispielsweise werden Drucksensoren, Beschleunigungssensoren, Mikrofone, Kraftsensoren, Hallsensoren, Lichtsensoren, Sensoren zur Messung chemischer Stoffe, Sensoren für medizinische Anwendungen usw. eingesetzt. Allein die Aufzählung aller denkbaren Sensoren würde den Rahmen hier sprengen und ist daher als rein plakativ zu betrachten. Die Erfindung bezieht sich selbstverständlich auch auf andere als die aufgezählten Sensoren.
  • Vielfach werden die Sensoren mittels Fotolithografie aus Silizium oder Galliumarsenid geätzt, neuerdings aber auch aus Kunststoffen hergestellt. Etwa kann ein Beschleunigungssensor mit der MEMS-Technologie (Micro Electro Mechanical Systems) hergestellt werden. Diese Art von Beschleunigungssensoren vereinen geringe Stückkosten, geringe Größe, hohe Robustheit und schnelles Ansprechverhalten. Sie werden daher zum Beispiel zur Auslösung von Airbags in Fahrzeugen eingesetzt. Sensoren können prinzipiell aber auch mit alternativen Technologien hergestellt sein. Eine Weiterentwicklung der MEMS-Technologie ist etwa die NEMS-Technologie (Nano Electro Mechanical Systems), welche die Herstellung noch kleinerer Bauteile ermöglicht.
  • Aber nicht nur Sensoren, sondern auch Aktoren mit winzigen Ausmaßen können heute mit denselben oder ähnlichen Verfahren wie die Sensoren hergestellt werden. Etwa wurden winzige Motoren, piezoelektrische Linearantriebe, usw. bereits realisiert. Auch diese Aufzählung ist selbstverständlich als rein plakativ zu sehen.
  • Im Rahme der Erfindung ist unter einem Sensorelement daher allgemein ein Element zur Umwandlung einer physikalischen Größe in eine elektrische Größe zu verstehen, beispielsweise Schalldruck in eine Spannung. Unter einem Aktorelement ist allgemein ein Element zur Umwandlung einer elektrischen Größe in eine physikalische Größe zu verstehen, etwa eine elektrische Spannung in eine Längenausdehnung.
  • Problematisch an den genannten Sensoren/Aktoren ist, dass sie aufgrund der kleinen Dimensionen mitunter empfindlich gegenüber Beschädigungen sind, welche durch äußere mechanische Spannungen oder Vibrationen verursacht werden. Problematisch ist es aber auch, wenn „nur” die Messung an sich durch äußere mechanische Spannungen oder Vibrationen beeinflusst wird. Wird zum Beispiel ein Beschleunigungssensor in einem Kraftfahrzeug zur Messung von Längs- und/oder Querbeschleunigung eingesetzt, so können Vibrationen des Fahrzeugs (beispielsweise vom Antrieb hervorgerufen) dem eigentlichen Meßsignal eine unerwünschte Schwingung überlagern. Besonders unangenehm ist die Situation, wenn die störenden Vibrationen Beschleunigungen hervorrufen, die höher sind, als jene, die eigentlich gemessen werden sollen. Beispielsweise würde – wenngleich sich diese Applikation eigentlich von selbst verbietet – ein Beschleunigungssensor, welcher direkt auf einem heftig vibrierenden Dieselmotor montiert ist, kaum in der Lage sein, ein vernünftiges Signal für die (makroskopische) Längs- und/oder Querbeschleunigung des Fahrzeugs zu liefern.
  • Da die bekannten Chip-Technologien keine hinreichende Entkopplung von mechanischen Spannungen oder Vibrationen gewährleisten, werden oft eigens angefertigte Dämpferelemente zur Entkopplung verwendet. Ein Beispiel für einen solchen Chip-Herstellungsprozeß ist die US 6,987,319 , welche ein Wafer-Level-Chip-Scale Bauteil mit einem Halbleiterplättchen mit einer ebenen oberen und unteren Oberfläche offenbart. Auf der oberen Oberfläche sind eine Vielzahl von metallischen Kontaktflächen angeordnet. Auf der oberen Oberfläche des Halbleiterplättchens ist eine erste Schutzschicht mit einer Vielzahl von Öffnungen für die Kontaktierung der Kontaktflächen angeordnet. Auf der ersten Schutzschicht ist eine zweite Schutzschicht mit etwas größeren Öffnungen angeordnet. Schließlich befinden sich Lot-Kugeln auf den metallischen Kontaktflächen.
  • Offenbarung der Erfindung
  • Die Aufgabe der Erfindung wird mit einem Beschleunigungssensor nach Anspruch 1 und einem Herstellungsverfahren nach Anspruch 8 gelöst.
  • Demgemäß wird ein integrierter Schaltkreis vorgesehen, umfassend:
    • – ein Substrat, welches auf einer ersten Oberfläche metallische Kontaktflächen aufweist,
    • – ein auf einer zweiten, der ersten Oberfläche gegenüberliegenden Oberfläche angeordnetes Sensorelement/Aktorelement,
    • – eine in ein Dielektrikum des Substrats eingebettete metallische Struktur, welche das Sensorelement/Aktorelement mit den Kontaktflächen verbindet, wobei die metallische Struktur und das Dielektrikum derart ausgebildet sind, dass durch die Federkonstante, welche durch die metallische Struktur und das Dielektrikum gebildet wird, eine Übertragung von mechanischen Spannungen von den Kontaktflächen zum Sensorelement/Aktorelement wirksam gemildert wird.
  • Demgemäß wird auch ein Verfahren zur Herstellung eines integrierten Schaltkreises vorgesehen, umfassend die Schritte:
    • – Herstellen einer in einem Dielektrikum eines Substrats eingebetteten metallischen Struktur,
    • – Aufbringen von metallischen Kontaktflächen auf eine erste Oberfläche eines Substrats, welche mit der metallischen Struktur verbunden sind,
    • – Anbringen einer Vielzahl von Sensorelementen/Aktorelementen auf einer zweiten, der ersten Oberfläche gegenüberliegenden Oberfläche des Substrats, welche mit der metallischen Struktur verbunden sind, wobei
    • – die metallische Struktur und das Dielektrikum derart ausgebildet sind, dass durch die Federkonstante, welche durch die metallische Struktur und das Dielektrikum gebildet wird, eine Übertragung von mechanischen Spannungen von den Kontaktflächen zu einem Sensorelement/Aktorelement wirksam gemildert wird.
  • Erfindungsgemäß erfüllt ein Substrat nun einen Doppelzweck. Einerseits soll das Substrat elektrische Verbindungen zwischen Bauteilen und Kontaktflächen ermöglichen, andererseits soll das Substrat nun aber auch eine mechanische Funktion ausführen. Bei der Herstellung des integrierten Schaltkreises an sich oder aber auch bei dessen Montage auf eine Leiterplatte entstehen mechanische Spannungen, welche die Funktion des Sensorele ments/Aktorelements stören können. Erfindungsgemäß weist das Substrat, bestehend aus einer metallischen Struktur und einem Dielektrikum, in das die Struktur eingebettet ist, eine Federkonstante auf, welche eine Übertragung von mechanischen Spannungen von den Kontaktflächen zu einem Sensorelement/Aktorelement wirksam mildert. Durch entsprechende konstruktive Maßnahmen, das heißt Formgebung und Materialauswahl, kann die Federkonstante in weiten Bereichen gesteuert werden.
  • Denkbar sind hierzu prinzipiell zwei Ansätze:
    • a) die Federkonstante wird sehr groß gewählt: In diesem Fall ist das Substrat also relativ starr und reagiert auf äußere Kräfte, welche über die Kontaktflächen eingeleitet werden, nur mit sehr geringen Verformungen. Das Sensorelement/Aktorelement bleibt also von diesen Kräften weitgehend unbeeinflusst.
    • b) die Federkonstante wird sehr klein gewählt: Hier ist das Substrat relativ weich. Zwar reagiert das Substrat auf Kräfte mit relativ großen Deformationen, allerdings können diese durch den geringen inneren Zusammenhalt des Materials auch gut ausgeglichen werden. „Sehr klein” und „sehr groß” bezieht sich dabei jeweils auf die Federkonstante beziehungsweise den Elastizitätsmodul des Sensorelements/Aktorelements. Zwischen der Federkonstante des Sensorelements/Aktorelements und dem Substrat sollte also ein hinreichend großer Abstand gegeben sein.
  • Unter einer wirksamen Milderung des Einflusses mechanischer Spannungen wird im Sinne der Erfindung vor allem die gezielte Vermeidung desselben verstanden. Während sich nach dem Stand der Technik – nachdem alle Materialien und Strukturen irgendeine Federkonstante aufweisen – sich ein Ausgleich mechanischer Spannungen zufällig ergibt, wird die Federkonstante erfindungsgemäß ingenieurmäßig, also zielgerichtet gewählt.
  • Da es sich bei Substraten um relativ komplexe Gebilde handelt, kann eine allgemein gültige Regel im Sinne einer Formel für die Wahl einer geeigneten Federkonstante an dieser Stelle nicht angegeben werden. Hier wird deshalb der Einsatz der Finiten Elemente Methode (FEM) vorteilhaft sein. Mit dieser lässt sich ein integrierter Schaltkreis hinsichtlich seiner Mechanik simulieren und ein geeignetes Maß der Minderung der Übertragung von mechanischen Spannungen durch Variieren der Form und des Materials iterativ einstellen. Unter wirksamer Milderung kann auch eine Reduktion der Übertragung mechanischer Spannungen um mindestens 50% gegenüber einer Bauart, bei der die metallische Struktur in einem herkömmlichen Dielektrikum auf kürzestem Weg von der ersten Oberfläche zur zweiten Oberfläche verläuft, verstanden werden.
  • Ein wesentlicher Vorteil des erfindungsgemäßen integrierten Schaltkreises ist, dass aufgrund der Eigenschaften des Substrats gegebenenfalls auf weitere Maßnahmen zur Reduktion einer Spannungsübertragung verzichtet werden kann, oder das Substrat weitere Maßnahmen zumindest unterstützt oder ergänzt.
  • An dieser Stelle wird darauf hingewiesen, dass sich die Erfindung gleichermaßen auf integrierte Schaltkreise bezieht, bei denen ein Sensorelement/Aktorelement über Bondingdrähte elektrisch mit dem Substrat verbunden wird, als auch auf Schaltkreise, bei denen ein Sensorelement/Aktorelement mittels Flip-Chip-Technologie mit dem Substrat verbunden wird. Bei der Bonding-Technologie bildet die metallische Struktur allerdings bloß einen Teil der Verbindung zwischen Sensorelement/Aktorelement und den Kontaktflächen, der übrige Teil wird über weitere Kontaktflächen an der Oberseite des Substrats und Bonding-Drähte gebildet. Selbstverständlich sind auch bei der Flip-Chip-Technologie Kontaktflächen an der Oberseite des Substrats möglich, welche die Kontaktierung mit dem Sensorelement/Aktorelement erleichtern.
  • Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen sowie aus der Beschreibung in Zusammenschau mit den Figuren der Zeichnung.
  • Vorteilhaft ist es, wenn ein durch die metallische Struktur und das Dielektrikum gebildetes Feder-Dämpfer-System derart ausgestaltet ist, dass eine Schwingungsübertragung von den Kontaktflächen zum Sensorelement wirksam gemildert wird. Analog zur Minderung mechanischer Spannungen kann auch eine Schwingungsübertragung gemildert werden. In diesem Fall können Federkonstante und Dämpfungskonstante der Schwingungsgleichung durch Wahl von Form und Material der metallischen Struktur und des Dielektrikums in weiten Grenzen eingestellt werden. Auch hier gilt, dass jedes bereits bekannte Substrat irgendeine Federkonstante und Dämpfungskonstante aufweist. Zur wirksamen Milderung von Schwingungen bedarf es aber der gezielten Gestaltung des Substrats. Ist also die schwingfähige Masse sowie die Anregungsfrequenz bekannt, so ergeben sich unmittelbar geeignete Werte für Federkonstante und Dämpfungskonstante. Aufgrund der Komplexität eines Substrats wird auch hier der Einsatz der Finiten Elemente Methode vorteilhaft sein. Im Wesentlichen wird hier die Federkonstante durch die metallische Struktur und das Dielektrikum, das heißt dessen Elastizitätsmodul, bestimmt sein, während die Dämpfungskonstante vorwiegend durch das Dielektrikum bestimmt wird. Unter wirksamer Milderung kann bei dieser Variante auch eine Reduktion der Schwingungsübertragung bei einer gegebenen Frequenz, etwa der Re sonanzfrequenz des integrierten Schaltkreises, um mindestens 50% gegenüber einer Bauart, bei der die metallische Struktur in einem herkömmlichen Dielektrikum auf kürzestem Weg von der ersten Oberfläche zur zweiten Oberfläche verläuft, verstanden werden.
  • Vorteilhaft ist es auch, wenn das Substrat aus mehreren dielektrischen Schichten aufgebaut ist und eine dielektrische Schicht eine zumindest 50% höhere Dämpfungskonstante als die anderen Schichten aufweist. Bei dieser Variante der Erfindung wird eine spezielle Schicht vorgesehen, welche einen Großteil der Dämpfung übernimmt. Dazu ist vorgesehen, dass diese Schicht eine um 50% höhere Dämpfungskonstante als die anderen Schichten aufweist. Beispielsweise kann eine solche Schicht aus Polyimid gefertigt sein, welches sehr gute Dämpfungseigenschaften aufweist.
  • Vorteilhaft ist es weiterhin, wenn Anfangspunkt und Endpunkt der metallischen Struktur bezogen auf eine Längsausdehnung des Substrats voneinander beabstandet angeordnet sind und wenn die metallische Struktur diese beiden Punkte auf einer Linie ohne Kehren verbindet. In einer einfachen Ausführungsform ist die metallische Struktur, also jener Leiter, der Kontaktfläche mit dem Sensorelement/Aktorelement verbindet, im Wesentlichen flach im Substrat angeordnet und wirkt daher im Wesentlichen als Blattfeder.
  • Vorteilhaft ist es auch, wenn die die metallische Struktur deren Anfangspunkt und Endpunkt auf einer Linie mit Kehren verbindet. Hier sind also Biegungen im elektrischen Leiter vorgesehen, das heißt der Leiter ist mäanderförmig ausgestaltet. Auf diese Weise lassen sich relativ weiche Federn realisieren. Gegenüber der direkten Verbindung von übereinanderliegenden Kontakten, das heißt der Verbindung mit sogenannten „Vias”, ist diese metallische Struktur deutlich weicher und blockt sowohl mechanische Spannungen als auch Schwingungen wirksam ab.
  • Besonders vorteilhaft ist es dabei, wenn Anfangspunkt und Endpunkt der metallischen Struktur bezogen auf eine Längsausdehnung des Substrats übereinander angeordnet sind. Häufig werden übereinander angeordnete Kontakte, zumeist aus schaltungstechnischen Gründen, bevorzugt. Diese Variante der Erfindung ermöglicht einerseits übereinanderliegende Kontakte, andererseits aber auch weiche Federn.
  • Günstig ist es, wenn das Substrat für ein Land Grid Array (LGA) vorgesehen ist. LGA-Substrate werden häufig für die genannten Sensorelemente und Aktorelemente eingesetzt, weswegen die Erfindung vorteilhaft auf diese Substrate angewandt werden kann.
  • Günstig ist es auch, wenn das Substrat und das Sensorelement/Aktorelement einstückig ausgeführt sind. Diese Variante der Erfindung eignet sich insbesondere für das Wafer Level Packaging (WLP), bei dem es kein Substrat und einen darauf angebrachten (angeklebten, gelöteten) Schaltkreis als solche gibt. Vielmehr werden bei dieser Variante die metallische Struktur und die dielektrischen Schichten im Zuge des Schichtaufbaus des Wafers hergestellt. Die dielektrischen Materialien müssen wiederum – da sie den Hauptteil der Dämpfung übernehmen – entsprechend gewählt werden.
  • Vorteilhaft ist es schließlich, wenn im Substrat Verstärkungselemente zur mechanischen Stabilisierung des Substrats angeordnet werden, welche bei einem Vereinzeln einer Vielzahl der Sensorelemente von diesen getrennt werden. Wenn die Federkonstante aus konstruktiver Gründen sehr weich gewählt werden muss, kann es vorkommen, dass das Substrat keine hinreichend hohe Stabilität mehr aufweist, um es während der Herstellung vernünftig handhaben zu können. Aus diesem Grund können Verstärkungselemente im Substrat vorgesehen werden, damit dieser ausreichend stabil wird. Diese Verstärkungen werden dann beim Vereinzeln (z. B. mittels Säge oder Laserschneiden) vom Sensorelement/Aktorelement getrennt, sodass das Substrat im Betrieb die gewünschten Eigenschaften aufweist. Beispielsweise können Verstärkungsstege entlang der späteren Sägebahnen auf dem Substrat verteilt werden.
  • Die obigen Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung lassen sich auf beliebige Art und Weise kombinieren. An dieser Stelle wird auch angemerkt, dass sich die vorgestellten Varianten der Erfindung sowie Vorteile derselben sowohl auf den integrierten Schaltkreis an sich als auch auf das Verfahren zu seiner Herstellung beziehen.
  • Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend anhand der in den schematischen Figuren der Zeichnung angegebenen Ausführungsbeispiele näher erläutert. Es zeigen dabei:
  • 1 einen Querschnitt durch einen vereinfacht dargestellten integrierten Schaltkreis;
  • 2 eine weitere Ausführungsform eines erfindungsgemäßen integrierten Schaltkreises;
  • 3 ein Substrat mit einer Vielzahl darauf angeordneter Sensorelemente/Aktorelemente in Flip-Chip-Technologie;
  • 4 ein Substrat mit einer Vielzahl darauf angeordneter Sensorelemente/Aktorelemente in Bonding-Technologie.
  • In den Figuren der Zeichnung sind gleiche und funktionsgleiche Elemente und Merkmale – sofern nichts Anderes ausgeführt ist – mit denselben Bezugszeichen versehen.
  • 1 zeigt einen Querschnitt durch einen vereinfacht dargestellten integrierten Schaltkreis 1, welcher aus einem Substrat 2, auf einer ersten Oberfläche A des Substrats 2 angeordneten, metallischen Kontaktflächen 3 und einem auf einer gegenüberliegenden zweiten Oberfläche B des Substrats 2 angebrachten Sensorelement/Aktorelement 4 besteht. Das Substrat 2 enthält eine metallische Struktur 6, welche die Kontaktflächen 3 mit dem Sensorelement/Aktorelement 4 verbindet und in ein Dielektrikum 5 eingebettet ist. Im vorliegenden Beispiel sind die Anfangs- und Endpunkte der metallischen Struktur 6 in Längsrichtung des Substrats 2 voneinander beabstandet, das heißt liegen nicht übereinander. Deswegen verlaufen die Verbindungen mehr oder minder parallel oder abschnittsweise parallel zu den Oberflächen A und B des Substrats 2. In der 1 sind die Anschlüsse der besseren Darstellbarkeit wegen leicht versetzt dargestellt. Selbstverständlich ist aber auch möglich, dass die Leiter in Blickrichtung übereinanderliegen und in der Tiefe gesehen versetzt angeordnet sind. Durch die Biegungen und dem horizontalen Abschnitt ergibt sich eine vergleichsweise weiche Feder, die deutlich weicher ist als die häufig üblichen direkten Verbindungen (Vias), wenngleich auch letztere im Rahmen der Erfindung eingesetzt werden können. Durch geeignete Wahl von Form und Material der metallischen Struktur 6 sowie des Dielektrikums 5 kann eine Federkonstante beziehungsweise auch die Dämpfungskonstante zwischen den Kontaktflächen 3 und dem Sensorelement/Aktorelement 4 in weiten Bereichen eingestellt werden. Selbstverständlich muss beachtet werden, dass die Ausgestaltung des Substrats 2 auch elektrischen und funktionalen Anforderungen genügt. Der Entwickler ist hier also nicht völlig wahlfrei. Vorteilhaft wird durch diese Gestaltung des Substrats 2 die Übertragung von mechanischen Spannungen und/oder Schwingungen von den Kontaktelementen 3 zum Sensorelement/Aktorelement 4 wirksam vermieden.
  • 2 zeigt eine zweite Ausführungsform eines erfindungsgemäßen integrierten Schaltkreises 1. Im Unterschied zu 1 sind in 2 unterschiedliche, dielektrische Schichten 5a...5c des Substrats 2 dargestellt. Selbstverständlich kann ein Substrat 2 auch mehr als drei dielektrische Schichten aufweisen und selbstverständlich kann auch eine Anordnung wie in 1 dargestellt eine Vielzahl dielektrischer Schichten aufweisen, auch wenn dies dort nicht explizit dargestellt ist. Das Substrat 2 wird in an sich bekannter Weise schichtweise aufge baut, das heißt abwechselnd eine dielektrische Schicht 5a...5c und eine metallische Schicht in gewünschter Weise aufgebracht. Im vorliegenden Beispiel ist die Schicht 5b aus einem anderen Material aufgebaut als die Schichten 5a und 5c. Beispielsweise ist die Schicht 5b aus Polyimid oder einem anderen Kunststoff mit guten Dämpfungseigenschaften hergestellt. Die äußeren Schichten 5a und 5c sind dagegen aus „herkömmlichen” Substrat-Materialien aufgebaut. Es ergibt sich somit eine Sandwich-Struktur. Selbstverständlich ist es aber auch möglich, die dämpfende Schicht außen anzuordnen. Ein weiterer Unterschied zu 1 besteht darin, dass die metallische Struktur 6 Kehren aufweist, also die Kontaktflächen 3 mit dem Sensorelement/Aktorelement 4 „auf Umwegen” verbindet. Durch diese Anordnung können besonders weiche Federn gestaltet werden, insbesondere wenn die metallische Struktur 6 in einem Substrat 2 mit einer hohen Anzahl von Schichten 5a...5c mehrmals hin und hergeführt wird. Analog zu der Anordnung aus 1 ergibt sich wiederum eine starke Unterdrückung mechanischer Spannungen und/oder Schwingungen.
  • 3 zeigt ein Zwischenprodukt 8 in Form eines Substrats 2 mit einer Vielzahl darauf angeordneter Sensorelemente/Aktorelemente 4 in Flip-Chip-Technologie. Wie bereits zu 1 und 2 ausgeführt, verbindet eine in ein Dielektrikum 5 eingebettete metallische Struktur 6 die Kontaktflächen 3 mit dem Sensorelement/Aktorelement 4. In diesem Fall wird angenommen, dass das Dielektrikum 5 vergleichsweise weich ist und das Substrat 2 daher während des Herstellungsprozesses ohne weitere Maßnahmen nur schwer zu handhaben wäre. Aus diesem Grund sind im Substrat 2 zwischen den Sensorelementen/Aktorelementen 4 Verstärkungselemente 7 angeordnet, die das Substrat 2 in sich stabilisieren. Beim Vereinzeln der Sensorelemente/Aktorelemente 4 werden diese Verstärkungselemente 7 durch eine Säge 9 von den Sensorelementen/Aktorelementen 4 getrennt, sodass der fertige integrierte Schaltkreis 1 die gewünschten mechanischen Eigenschaften für den Betrieb aufweist. Neben der Säge 9 sind natürlich auch andere an sich bekannte Methoden zum Trennen des Substrats 2 vorstellbar.
  • 4 zeigt schließlich ein Zwischenprodukt 8 wie in 3 dargestellt, nur dass hier die Sensorelemente/Aktorelemente 4 über Bonding-Drähte 11, weitere Kontaktflächen 10 auf der Oberseite des Substrats 2 und die metallische Struktur 6 mit den Kontaktflächen 3 elektrisch verbunden sind. An dieser Stelle wird darauf hingewiesen, dass selbstverständlich auch bei der Flip-Chip-Technologie weitere (jedoch in den 13 nicht dargestellte) Kontaktflächen auf der Oberseite des Substrats 2 zur elektrischen Verbindung mit den Sensorelemente/Aktorelementen 4 möglich und vorteilhaft sind.
  • Weiterhin wird darauf hingewiesen, dass in dien Figuren ein in aller Regel vorhandenes Gehäuse oder eine Verkapselung („Molding”) nicht dargestellt ist. Selbstverständlich bezieht sich die Erfindung jedoch auch auf alle Integrierte Schaltkreise, die in irgendeiner Weise mit einem Gehäuse ausgestattet sind.
  • Letztlich wird angemerkt, dass – obwohl im Rahmen der Offenbarung nur die metallische Struktur 6 zwischen Kontaktflächen 3 und Sensorelementen/Aktorelementen 4 erwähnt wurde, natürlich auch anderer metallische Strukturen im Substrat 2, beispielsweise Verbindungen zwischen anderen, nicht dargestellten Elementen, die mechanischen Eigenschaften des Substrats 2 beeinflussen und somit günstigerweise berücksichtigt werden sollten.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • - US 6987319 [0007]

Claims (10)

  1. Integrierter Schaltkreis (1), umfassend: – ein Substrat (2), welches auf einer ersten Oberfläche (A) metallische Kontaktflächen (3) aufweist, – ein auf einer zweiten, der ersten Oberfläche gegenüberliegenden Oberfläche (B) angeordnetes Sensorelement/Aktorelement (4), – eine in ein Dielektrikum (5, 5a...5c) des Substrats (2) eingebettete metallische Struktur (6), welche das Sensorelement/Aktorelement (4) mit den Kontaktflächen (3) verbindet, wobei die metallische Struktur (6) und das Dielektrikum (5, 5a...5c) derart ausgebildet sind, dass durch die Federkonstante, welche durch die metallische Struktur (6) und das Dielektrikum (5, 5a...5c) gebildet wird, eine Übertragung von mechanischen Spannungen von den Kontaktflächen (3) zum Sensorelement/Aktorelement (4) wirksam gemildert wird.
  2. Integrierter Schaltkreis (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein durch die metallische Struktur (6) und das Dielektrikum (5, 5a...5c) gebildetes Feder-Dämpfer-System derart ausgestaltet ist, dass eine Schwingungsübertragung von den Kontaktflächen (3) zum Sensorelement/Aktorelement (4) wirksam gemildert wird.
  3. Integrierter Schaltkreis (1) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (2) aus mehreren dielektrischen Schichten (5a...5c) aufgebaut ist und eine dielektrische Schicht (5b) eine zumindest 50% höhere Dämpfungskonstante als die anderen Schichten (5a, 5c) aufweist.
  4. Integrierter Schaltkreis (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass Anfangspunkt und Endpunkt der metallischen Struktur (6) bezogen auf eine Längsausdehnung des Substrats (2) voneinander beabstandet angeordnet sind und dass die metallische Struktur (6) diese beiden Punkte auf einer Linie ohne Kehren verbindet.
  5. Integrierter Schaltkreis (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die metallischen Struktur (6) deren Anfangspunkt und Endpunkt auf einer Linie mit Kehren verbindet.
  6. Integrierter Schaltkreis (1) nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass Anfangspunkt und Endpunkt der metallischen Struktur (6) bezogen auf eine Längsausdehnung des Substrats (2) übereinander angeordnet sind.
  7. Integrierter Schaltkreis (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (2) für ein Land Grid Array vorgesehen ist.
  8. Verfahren zur Herstellung eines integrierten Schaltkreises (1), umfassend die Schritte: – Herstellen einer in einem Dielektrikum (5, 5a...5c) eines Substrats (2) eingebetteten metallischen Struktur (6), – Aufbringen von metallischen Kontaktflächen (3) auf eine erste Oberfläche (A) eines Substrats (2), welche mit der metallischen Struktur (6) verbunden sind, – Anbringen einer Vielzahl von Sensorelementen/Aktorelementen (4) auf einer zweiten, der ersten Oberfläche gegenüberliegenden Oberfläche (B) des Substrats (2), welche mit der metallischen Struktur (6) verbunden sind, wobei – die metallische Struktur (6) und das Dielektrikum (5, 5a...5c) derart ausgebildet sind, dass durch die Federkonstante, welche durch die metallische Struktur (6) und das Dielektrikum (5, 5a...5c) gebildet wird, eine Übertragung von mechanischen Spannungen von den Kontaktflächen (3) zu einem Sensorelement/Aktorelement (4) wirksam gemildert wird.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das durch die metallische Struktur (6) und das Dielektrikum (5, 5a...5c) gebildete Feder-Dämpfer-System derart ausgestaltet ist, dass eine Schwingungsübertragung von den Kontaktflächen (3) zu einem Sensorelement/Aktorelement (4) wirksam gemildert wird.
  10. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass im Substrat (2) Verstärkungselemente (7) zur mechanischen Stabilisierung des Substrats (2) angeordnet werden, welche bei einem Vereinzeln der Vielzahl der Sensorelemente/Aktorelemente (4) von diesen getrennt werden.
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