DE102008019202A1 - Beschichtungsverfahren , Werkstück oder Werkzeug und dessen Verwendung - Google Patents

Beschichtungsverfahren , Werkstück oder Werkzeug und dessen Verwendung Download PDF

Info

Publication number
DE102008019202A1
DE102008019202A1 DE102008019202A DE102008019202A DE102008019202A1 DE 102008019202 A1 DE102008019202 A1 DE 102008019202A1 DE 102008019202 A DE102008019202 A DE 102008019202A DE 102008019202 A DE102008019202 A DE 102008019202A DE 102008019202 A1 DE102008019202 A1 DE 102008019202A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
workpiece
layer
coating
tool
sputtering
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102008019202A
Other languages
English (en)
Inventor
Ralf Tabersky
Mirjam Dr. Arndt
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kennametal Inc
Original Assignee
Kennametal Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kennametal Inc filed Critical Kennametal Inc
Priority to DE102008019202A priority Critical patent/DE102008019202A1/de
Priority to KR1020107022904A priority patent/KR20100135806A/ko
Priority to CA2716619A priority patent/CA2716619A1/en
Priority to US12/866,276 priority patent/US8702912B2/en
Priority to MX2010011294A priority patent/MX2010011294A/es
Priority to PCT/EP2009/002537 priority patent/WO2009127344A1/de
Priority to BRPI0910657A priority patent/BRPI0910657A2/pt
Priority to CN2009801113875A priority patent/CN101981222A/zh
Priority to JP2011504350A priority patent/JP2011517733A/ja
Priority to RU2010146622/02A priority patent/RU2010146622A/ru
Priority to EP09731789A priority patent/EP2268843A1/de
Publication of DE102008019202A1 publication Critical patent/DE102008019202A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C23C30/005Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T407/00Cutters, for shaping
    • Y10T407/19Rotary cutting tool
    • Y10T407/1904Composite body of diverse material

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung eines Grundkörpers aus Hartmetall, einem Cermet, aus Stahl oder aus Keramik mit mindestens einer Ti1-XAlXN-Schicht mittels eines Sputterverfahrens. Ferner betrifft die Erfindung ein Werkstück oder Werkzeug und dessen Verwendung, welches nach dem oben genannten Verfahren beschichtet ist. Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren anzugeben, mit dem Beschichtungen erzeugbar sind, die die Vorteile des Sputterverfahrens und des arc-Verfahrens gleichsam verbinden, also eine Beschichtung zu ermöglichen, die eine geringe Rauigkeit und eine vorteilhafte (200)-Textur aufweist. Es ist ferner Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Werkstück zu schaffen, welches eine Beschichtung mit den genannten Eigenschaften aufweist. Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, zur Metallbearbeitung besonders geeignete Werkzeuge zu verwenden. Die Aufgabe, die durch das Verfahren gelöst wird, zeichnet sich dadurch aus, dass zur Erhöhung der Plasmadichten Ionisationshilfen verwendet werden.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung eines Grundkörpers aus Hartmetall, einem Cermet, aus Stahl oder aus Keramik mit mindestens einer Ti1-xAlxN-Schicht mittels eines Sputterverfahrens. Ferner betrifft die Erfindung ein Werkstück oder Werkzeug und dessen Verwendung, welches nach dem oben genannten Verfahren beschichtet ist.
  • Die meisten derzeit hergestellten Schneidkörper aus Hartmetall zur Metallzerspanung werden beschichtet, um den Schneideinsatz härter und/oder verschleißfester zu machen. Als Beschichtung werden beispielsweise Hartstoffe aus dem System Ti-Al-N-C gewählt. Zur Beschichtung werden neben CVD-Verfahren auch PVD-Verfahren eingesetzt.
  • Ein besonderes PVD-Verfahren ist das sog. Lichtbogenverdampfen (arc-PVD). Zwischen einer Anode (z. B. Kammerwand) und einer Kathode, die aus dem (metallischen) Beschichtungsmaterial besteht, wird unter Zuhilfenahme einer Zündhilfe (Trigger) ein Lichtbogen gezündet. Dabei entsteht an der Kathode eine derart hohe Temperatur, dass das Material lokal aufschmilzt und verdampft. Der Lichtbogen bewegt sich dabei über die Kathode. Im Lichtbogen werden die verdampften Teilchen nahezu vollständig ionisiert. Mittels des arc-PVD-Verfahrens sind beispielsweise TiAlN-Schichten erzeugbar, die eine vorteilhafte (200)-Textur aufweisen.
  • Ein anderes PVD-Verfahren zur Verdampfung des Beschichtungsmaterials, wie es beispielsweise in der DE 10 2005 021 927 A1 allgemein beschrieben wird, ist das sog. Sputtern (Kathodenzerstäubung). Dabei wird ein aus dem Beschichtungsmaterial bestehendes Target mit energiereichen Ionen beschossen, so dass Atome aus dem Festkörper herausgelöst werden und in die Gasphase übergehen. Mittels des Sputterns sind hervorragende Oberflächenqualitäten erzeugbar, insbesondere Oberflächen mit einer geringen Rauigkeit.
  • Ein besonderes Sputter-Verfahren ist das High-Power-Impuls-Magnetron-Sputtering (HIPIMS), welches sich durch eine impulsförmige Zufuhr der elektrischen Leistung auf das als Kathode wirkende Target auszeichnet (vgl. dazu DE 10 2006 017 382 A1 , US 6,296,742 ). Die dabei zugeführte Leistungsdichte ist so groß, dass die auftretende Glimmentladung bereits Charakteristika einer Bogenentladung aufweist. Beim HIPIMS werden sehr hohe Spannungen verwendet. Da das Target als Kathode verwendet wird, ist dieses Verfahren mit einem erhöhten Resputtering-Effekt verbunden, was zu einer geringen Abscheidungsrate führt. Damit einhergehend ist die Wachstumsgeschwindigkeit vergleichsweise niedrig.
  • In der EP 10 178870 B1 wird ein Werkzeug mit einem schützenden Schichtsystem offenbart. Das Werkzeug weist ein MeX Beschichtung auf, wobei Me Titan und Aluminium umfasst und X mindestens eines von Stickstoff oder Kohlenstoff ist. Das Verhältnis Q1 der Beugungsintensitäten der (200)-Ebene zur (111)-Ebene ist größer als 1. Für die Druckspannung σ innerhalb der Schicht gilt 1 GPa ≤ σ ≤ 6 GPa. Als Beschichtungsverfahren wird eine Lichtbogenbedampfung oder die Bedampfung mittels reaktiven Sputterns gewählt.
  • Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren anzugeben, mit dem Beschichtungen erzeugbar sind, die die Vorteile des Sputterverfahrens und des arc-Verfahrens gleichsam verbinden, also eine Beschichtung zu ermöglichen, die eine geringe Rauhigkeit und eine vorteilhafte (200)-Textur aufweist.
  • Es ist ferner Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Werkstück zu schaffen, welches eine Beschichtung mit den genannten Eigenschaften aufweist.
  • Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, zur Metallbearbeitung besonders geeignete Werkzeuge zu verwenden.
  • Diese Aufgaben werden durch das Verfahren nach Anspruch 1, durch das hartstoffbeschichtete Werkstück nach Anspruch 4 und durch dessen Verwendung nach Anspruch 7 gelöst.
  • Bei dem Verfahren nach Anspruch 1 werden zur Erhöhung der Plasmadichten Ionisationshilfen verwendet.
  • Eine vorteilhafte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens sieht vor, dass die Plasmadichte mittels des Hohlkathodeneffektes erhöht wird. Der Hohlkathodeneffekt ist unter bestimmten Voraussetzungen bei einer Glimmentladung zu beobachten. Bei der Glimmentladung bilden sich an der Oberfläche der Kathoden Zonen aus, die als Kathodenfall oder Glimmsaum bezeichnet wird. Werden die benachbarten Kathodenoberflächen so nahe zusammengeführt, dass sich diese Zonen überlappen, so wird die Quasineutralität des Plasmas aufgehoben und es entsteht eine starke Ionisierung der an diesen Flächen vorbeiströmenden Gasen.
  • Eine andere vorteilhafte Ausgestaltung des Verfahrens besteht darin, dass zur Erhöhung der Plasmadichte Magnetfelder verwendet werden, wobei vorzugsweise die Magnetfeldlinien senkrecht auf der zu beschichtenden Substratoberfläche stehen. Auf elektrisch geladene Teilchen, die sich mit einer Geschwindigkeit v relativ zu einem Magnetfeld bewegen, wirkt senkrecht zur Bewegungsrichtung die Lorentzkraft. Bei einem homogenen Magnetfeld bewegen sich die Teilchen auf Kreisbahnen, wodurch sich die Plasmadichte erhöht.
  • Eine vorteilhafte Ausgestaltung des Werkstückes, welches nach dem Verfahren nach Anspruch 1 hergestellt ist, besteht darin, dass in der Ti1-xAlxN-Schicht für x 0,5 ≤ x ≤ 0,7 gilt.
  • Eine weitere vorteilhafte Ausgestaltung besteht darin, dass die Dicke der Ti1-xAlxN-Schicht maximal 15 μm, vorzugsweise maximal 10 μm beträgt.
  • Werkstücke nach Anspruch 4, die nach dem Verfahren nach Anspruch 1 hergestellt sind, eignen sich besonders gut für die Herstellung von Zerspanungs-, Umform- oder Stanzwerkzeugen, vorzugsweise von Wendeschneidplatten, Schaftwerkzeugen, insbesondere von Bohrern oder Fräsern oder von Verschleißbauteilen.
  • Vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Verfahrens werden im Folgenden anhand der Figuren erläutert. Es zeigen:
  • 1a, b Entstehung des Hohlkathodeneffektes,
  • 1c Gasstrom durch Hohlkathode,
  • 2 Erhöhung der Plasmadichte durch zusätzliche Magnetfelder.
  • Bei einer Glimmentladung entsteht an der Kathode 1 ein Kathodenfall bzw. ein Glimmsaum 2. Werden den Kathoden 1 genügend weit in Pfeilrichtung 3 aufeinander zu bewegt, entsteht eine Zone 4, in der sich die Glimmsäume überlappen. In diesem Bereich wird die Quasineutralität des Plasmas aufgehoben. Wird ein Neutralgas 5 durch die Zone 4 geleitet, wird der Gasstrom 7 ionisiert und es entsteht das Plasma 6.
  • Eine andere Möglichkeit zur Erhöhung der Plasmadichte ist in 2 dargestellt. Das zu beschichtende Substrat 10 wird durch das senkrecht angeordnete Magnetfeld mit den Magnetfeldlinien 11 durchdrungen. Elektrisch geladene Teilchen 13 werden aufgrund der wirkenden Lorentzkraft auf Kreisbahnen 12 gezwungen, wodurch sich die Plasmadichte erhöht.
  • Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren bzw. mit Schneideinsätzen, die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren beschichtet wurden, konnten bei Vergleichsversuchen folgende Vorteile festgestellt werden.
  • Beispiel 1
    • Eckfräsen (Einzahntest) von 42Cr Mo 4V
    • Fräswerkzeugtyp: M680 D63 Z1
    • Wendeschneidplattenform: XPHT160412
    • Schnittgeschwindigkeit Vc = 220 m/min
    • Vorschub pro Zahn fz = 0,25 mm
    • Schnitttiefe ap = 2,5 mm
    • Eingriffsbreite ae = 38 mm
  • Die Standardbeschichtung mit einem Texturkoeffizienten von QI = 0,4 erreichte einen Standweg von 4000 mm. Demgegenüber erreichte eine erfindungsgemäße Ausführungsform mit einem Texturkoeffizienten QI = 1,8 und einer Druckeigenspannungen von –1,6 GPa einen Standweg von 7000 mm.
  • Beispiel 2
    • Eckfräsen(Einzahntest) von X 5CrNi 18–10
    • Fräswerkzeugtyp: M680 D63 Z1
    • Wendeschneidplattenform: XPHT160412
    • Anstellwinkel: 90°
    • Schnittgeschwindigkeit Vc = 100 m/min
    • Vorschub pro Zahn fz = 0,11 mm
    • Schnitttiefe ap = 2,5 mm
    • Eingriffsbreite ae = 35 mm
  • Die Standardbeschichtung mit einem Texturkoeffizienten von QI = 0,8 erreichte einen Standweg von 1700 mm. Mit einer erfindungsgemäßen Beschichtung, die einen Texturkoeffizienten QI = 2,67 sowie eine Druckeigenspannungen von –1,8 GPa aufweist, wurde ein Standweg von 2800 mm erreicht.
  • Beispiel 3
    • Eckfräsen(Einzahntest) von X 5CrNi 18–10
    • Fräswerkzeugtyp: M680 D80 Z1
    • Wendeschneidplattenform: XPHT160412
    • Anstellwinkel: 90°
    • Schnittgeschwindigkeit Vc = 250 m/min
    • Vorschub pro Zahn fz = 0,15 mm
    • Schnitttiefe ap = 2,5 mm
    • Eingriffsbreite ae = 24 mm
  • Die Standardbeschichtung mit einem Texturkoeffizienten von QI = 0,6 erreichte einen Standweg von 2400 mm. Eine erfindungsgemäße Ausführungsform mit einem Texturkoeffizienten QI = 2,5 und einer Druckeigenspannungen von –1,6 GPa erreichte einen Standweg von 3600 mm.
  • Beispiel 4
    • Eckfräsen(Einzahntest) von CK 45
    • Fräswerkzeugtyp: M680 D80 Z1
    • Wendeschneidplattenform: XPHT160412
    • Anstellwinkel: 90°
    • Schnittgeschwindigkeit Vc = 280 m/min
    • Vorschub pro Zahn fz = 0,25 mm
    • Schnitttiefe ap = 2,5 mm
    • Eingriffsbreite ae = 44 mm
  • Die Standardbeschichtung mit einem Texturkoeffizienten von QI = 0,6 erreichte einen Standweg von 5400 mm. Eine erfindungsgemäße Ausführungsform mit einem Texturkoeffizienten QI= 2,5 und einer Druckeigenspannungen von –1,5 GPa erreichte einen Standweg von 7400 mm.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • - DE 102005021927 A1 [0004]
    • - DE 102006017382 A1 [0005]
    • - US 6296742 [0005]
    • - EP 10178870 B1 [0006]

Claims (7)

  1. Verfahren zur Beschichtung eines Grundkörpers aus Hartmetall, einem Cermet, aus Stahl oder aus Keramik mit mindestens einer Ti1-xAlxN-Schicht mittels eines Sputterverfahrens, dadurch gekennzeichnet, dass zur Erhöhung der Plasmadichten Ionisationshilfen verwendet werden.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Plasmadichte mittels des Hohlkathodeneffektes erhöht wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zur Erhöhung der Plasmadichte Magnetfelder verwendet werden, wobei vorzugsweise die Magnetfeldlinien senkrecht auf der zu beschichtenden Substratoberfläche stehen.
  4. Hartstoffbeschichtetes Werkstück oder Werkzeug mit einem Grundkörper aus einem Hartmetall, einem Cermet, aus Stahl oder aus Keramik und mindestens einer Ti1-xAlxN-Schicht, die einen Q1-Quotient > 1 aufweist, wobei Q1 das Verhältnis der Beugungsintensitäten von I (200) zu I (111) definiert, welche den (200)-Gitterebenen bzw. den (111)-Gitterebenen bei der Röntgenbeugung des Materials unter Benutzung der δ-28-Methode zuzuordnen sind, dadurch gekennzeichnet, dass diese durch Sputtern hergestellte Schicht eine Druckeigenspannung von –1 GPa bis –2 GPa besitzt.
  5. Werkstück oder Werkzeug nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in der Ti1-xAlxN-Schicht 0,5 < x < 0,7 beträgt.
  6. Werkstück oder Werkzeug nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Dicke der Ti1-xAlxN-Schicht maximal 15 μm, vorzugsweise maximal 10 μm beträgt.
  7. Verwendung des Werkstückes oder Werkzeuges nach einem der Ansprüche 4 bis 6 für die Herstellung von Zerspanungs-, Umform- oder Stanzwerkzeugen, vorzugsweise von Wendeschneidplatten, Schaftwerkzeugen, dabei insbesondere von Bohrern oder Fräsern oder von Verschleißbauteilen.
DE102008019202A 2008-04-17 2008-04-17 Beschichtungsverfahren , Werkstück oder Werkzeug und dessen Verwendung Withdrawn DE102008019202A1 (de)

Priority Applications (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008019202A DE102008019202A1 (de) 2008-04-17 2008-04-17 Beschichtungsverfahren , Werkstück oder Werkzeug und dessen Verwendung
KR1020107022904A KR20100135806A (ko) 2008-04-17 2009-04-07 코팅 공정, 공작물 또는 공구 및 그의 용도
CA2716619A CA2716619A1 (en) 2008-04-17 2009-04-07 Coating process, workpiece or tool and its use
US12/866,276 US8702912B2 (en) 2008-04-17 2009-04-07 Coating process, workpiece or tool and its use
MX2010011294A MX2010011294A (es) 2008-04-17 2009-04-07 Procedimiento de revestimiento, pieza de trabajo o herramienta y su utilizacion.
PCT/EP2009/002537 WO2009127344A1 (de) 2008-04-17 2009-04-07 Beschichtungsverfahren, werkstück oder werkzeug und dessen verwendung
BRPI0910657A BRPI0910657A2 (pt) 2008-04-17 2009-04-07 método de revestimento, peça de trebelho ou ferramenta e sua utilização
CN2009801113875A CN101981222A (zh) 2008-04-17 2009-04-07 涂覆方法、工件或工具及其用途
JP2011504350A JP2011517733A (ja) 2008-04-17 2009-04-07 被覆方法、工作物または工具、ならびにその使用
RU2010146622/02A RU2010146622A (ru) 2008-04-17 2009-04-07 Способ покрытия, заготовка или инструмент и их использование
EP09731789A EP2268843A1 (de) 2008-04-17 2009-04-07 Beschichtungsverfahren, werkstück oder werkzeug und dessen verwendung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008019202A DE102008019202A1 (de) 2008-04-17 2008-04-17 Beschichtungsverfahren , Werkstück oder Werkzeug und dessen Verwendung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102008019202A1 true DE102008019202A1 (de) 2009-10-22

Family

ID=40718798

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102008019202A Withdrawn DE102008019202A1 (de) 2008-04-17 2008-04-17 Beschichtungsverfahren , Werkstück oder Werkzeug und dessen Verwendung

Country Status (11)

Country Link
US (1) US8702912B2 (de)
EP (1) EP2268843A1 (de)
JP (1) JP2011517733A (de)
KR (1) KR20100135806A (de)
CN (1) CN101981222A (de)
BR (1) BRPI0910657A2 (de)
CA (1) CA2716619A1 (de)
DE (1) DE102008019202A1 (de)
MX (1) MX2010011294A (de)
RU (1) RU2010146622A (de)
WO (1) WO2009127344A1 (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012107163A1 (de) * 2012-08-03 2014-05-15 INI Coatings Ltd. Verfahren zur Beschichtung eines Substrats mittels Hochenergieimpulsmagnetronsputtern
DE102013210155A1 (de) 2013-05-31 2014-12-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Abscheiden einer transparenten, elektrisch leitfähigen Metalloxidschicht
WO2015158715A1 (de) * 2014-04-17 2015-10-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur ausbildung einer beschichtung auf einer substratoberfläche
DE102012000540B4 (de) * 2011-02-07 2017-08-17 Kennametal Inc. Beschichtetes Schneidwerkzeug und Verwendung

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102821897B (zh) * 2010-03-29 2015-08-05 京瓷株式会社 切削工具
IN2014DN03070A (de) * 2011-09-19 2015-05-15 Lamina Technologies S A
US9416440B2 (en) * 2011-09-30 2016-08-16 Cemecon Ag Coating of substrates using HIPIMS
US9103036B2 (en) 2013-03-15 2015-08-11 Kennametal Inc. Hard coatings comprising cubic phase forming compositions
DE102013104254A1 (de) 2013-04-26 2014-10-30 Walter Ag Werkzeug mit CVD-Beschichtung
US9168664B2 (en) 2013-08-16 2015-10-27 Kennametal Inc. Low stress hard coatings and applications thereof
US9896767B2 (en) 2013-08-16 2018-02-20 Kennametal Inc Low stress hard coatings and applications thereof
DE102014103220A1 (de) 2014-03-11 2015-09-17 Walter Ag TiAIN-Schichten mit Lamellenstruktur
US9994958B2 (en) * 2016-01-20 2018-06-12 Sumitomo Electric Hardmetal Corp. Coating, cutting tool, and method of manufacturing coating
KR102064172B1 (ko) * 2017-09-01 2020-01-09 한국야금 주식회사 내마모성과 인성이 우수한 경질피막
CN117548703B (zh) * 2024-01-12 2024-03-12 山东建筑大学 一种仿生圆鳞结构微织构刀具及加工方法

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4877505A (en) * 1987-08-26 1989-10-31 Balzers Aktiengesellschaft Method and apparatus for application of coatings on substrates
DE4228499C1 (de) * 1992-09-01 1993-10-07 Dresden Vakuumtech Gmbh Verfahren und Einrichtung zur plasmagestützten Beschichtung von Substraten
JPH09295204A (ja) * 1996-04-26 1997-11-18 Hitachi Tool Eng Ltd 表面被覆スローアウェイインサート
US6296742B1 (en) 1997-03-11 2001-10-02 Chemfilt R & D Aktiebolag Method and apparatus for magnetically enhanced sputtering
EP1017870B1 (de) 1997-09-12 2002-10-23 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Werkzeug mit einem schützenden schichten system
DE102004015230A1 (de) * 2004-03-29 2005-10-20 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Intensivieren einer gepulsten Magnetronentladung
EP1640089A1 (de) * 2003-06-27 2006-03-29 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Oberflächenbeschichtetes material mit grosser härte für werkzeug
DE102005021927A1 (de) 2005-05-12 2006-11-16 Fette Gmbh Legierter Körper als Target für das PVD-Verfahren, Verfahren zur Herstellung des legierten Körpers und PVD-Verfahren mit dem legierten Körper
DE102006017382A1 (de) 2005-11-14 2007-05-16 Itg Induktionsanlagen Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten und/oder zur Behandlung von Oberflächen
DE102006019000A1 (de) * 2006-04-25 2007-12-13 Vtd Vakuumtechnik Dresden Gmbh Einrichtung und Verfahren zur plasmagestützten Abscheidung von Hartstoffschichten

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4007523A1 (de) * 1990-03-09 1991-09-12 Karl Marx Stadt Tech Hochschul Vorrichtung zur plasmagestuetzten abscheidung von hartstoffschichtsystemen
US5346600A (en) 1992-08-14 1994-09-13 Hughes Aircraft Company Plasma-enhanced magnetron-sputtered deposition of materials
JP3016703B2 (ja) * 1995-01-31 2000-03-06 日立ツール株式会社 被覆硬質部材
JP3382781B2 (ja) * 1996-06-05 2003-03-04 日立ツール株式会社 多層被覆硬質工具
EP1021584B1 (de) * 1997-09-12 2003-11-26 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Werkzeug mit einem schützenden schichtsystem
US6071560A (en) * 1997-09-12 2000-06-06 Balzers Aktiengesellschaft Tool with tool body and protective layer system
JPH11131215A (ja) * 1997-10-29 1999-05-18 Hitachi Tool Eng Ltd 被覆硬質工具
JP3476749B2 (ja) * 2000-06-14 2003-12-10 東芝タンガロイ株式会社 硬質膜被覆超高温高圧焼結体
EP1666630A4 (de) 2003-09-12 2012-06-27 Jx Nippon Mining & Metals Corp Sputtertarget und verfahren zur endbearbeitung der oberfläche eines derartigen targets
CN100482854C (zh) 2005-01-27 2009-04-29 中华映管股份有限公司 磁控溅射制造工艺
US8277958B2 (en) * 2009-10-02 2012-10-02 Kennametal Inc. Aluminum titanium nitride coating and method of making same

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4877505A (en) * 1987-08-26 1989-10-31 Balzers Aktiengesellschaft Method and apparatus for application of coatings on substrates
DE4228499C1 (de) * 1992-09-01 1993-10-07 Dresden Vakuumtech Gmbh Verfahren und Einrichtung zur plasmagestützten Beschichtung von Substraten
JPH09295204A (ja) * 1996-04-26 1997-11-18 Hitachi Tool Eng Ltd 表面被覆スローアウェイインサート
US6296742B1 (en) 1997-03-11 2001-10-02 Chemfilt R & D Aktiebolag Method and apparatus for magnetically enhanced sputtering
EP1017870B1 (de) 1997-09-12 2002-10-23 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Werkzeug mit einem schützenden schichten system
EP1640089A1 (de) * 2003-06-27 2006-03-29 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Oberflächenbeschichtetes material mit grosser härte für werkzeug
DE102004015230A1 (de) * 2004-03-29 2005-10-20 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Intensivieren einer gepulsten Magnetronentladung
DE102005021927A1 (de) 2005-05-12 2006-11-16 Fette Gmbh Legierter Körper als Target für das PVD-Verfahren, Verfahren zur Herstellung des legierten Körpers und PVD-Verfahren mit dem legierten Körper
DE102006017382A1 (de) 2005-11-14 2007-05-16 Itg Induktionsanlagen Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten und/oder zur Behandlung von Oberflächen
DE102006019000A1 (de) * 2006-04-25 2007-12-13 Vtd Vakuumtechnik Dresden Gmbh Einrichtung und Verfahren zur plasmagestützten Abscheidung von Hartstoffschichten

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012000540B4 (de) * 2011-02-07 2017-08-17 Kennametal Inc. Beschichtetes Schneidwerkzeug und Verwendung
DE102012107163A1 (de) * 2012-08-03 2014-05-15 INI Coatings Ltd. Verfahren zur Beschichtung eines Substrats mittels Hochenergieimpulsmagnetronsputtern
DE102013210155A1 (de) 2013-05-31 2014-12-04 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Abscheiden einer transparenten, elektrisch leitfähigen Metalloxidschicht
WO2015158715A1 (de) * 2014-04-17 2015-10-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur ausbildung einer beschichtung auf einer substratoberfläche
DE102014207454A1 (de) 2014-04-17 2015-11-05 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur Ausbildung einer Beschichtung auf einer Substratoberfläche
DE102014207454B4 (de) 2014-04-17 2018-07-26 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur Ausbildung einer Beschichtung auf einer Substratoberfläche

Also Published As

Publication number Publication date
WO2009127344A1 (de) 2009-10-22
US20110020079A1 (en) 2011-01-27
JP2011517733A (ja) 2011-06-16
EP2268843A1 (de) 2011-01-05
RU2010146622A (ru) 2012-05-27
CN101981222A (zh) 2011-02-23
US8702912B2 (en) 2014-04-22
MX2010011294A (es) 2010-11-09
KR20100135806A (ko) 2010-12-27
BRPI0910657A2 (pt) 2015-09-22
CA2716619A1 (en) 2009-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102008019202A1 (de) Beschichtungsverfahren , Werkstück oder Werkzeug und dessen Verwendung
EP0925386B1 (de) Verschleissschutz-beschichtetes werkstück
DE3117299C2 (de)
EP1783245B1 (de) Werkzeug oder verschleissteil sowie ein pvd-beschichtungsverfahren zum aufbringen einer oberflächenschicht auf einem werkzeug oder verschleissteil
EP2566997B1 (de) Pvd-hybridverfahren zum abscheiden von mischkristallschichten
DE19518781C1 (de) Vakuumbeschichteter Verbundkörper und Verfahren zu seiner Herstellung
DE19522331B4 (de) Verfahren zum Beschichten mindestens eines Werkstückes, Anlage hierfür sowie Verfahren zum Betrieb einer kathodischen Bogenentladung und Verwendung desselben
EP2275585A1 (de) Wekstück mit ALCR-haltiger Hartstoffschicht und Verfahren zur Herstellung
DE102004005934B4 (de) Hartfilm, Herstellungsverfahren dafür und Target zur Hartfilmherstellung
DE102005004402A1 (de) Laminierter Hartfilm, Verfahren zu dessen Herstellung und Filmbildungsvorrichtung
DE102010053751A1 (de) Molybdänmonoxidschichten und deren Herstellung mittels PVD
DE19546357A1 (de) Harte Beschichtung mit ausgezeichneter Abriebsbeständigkeit und damit beschichtetes Element
EP3929325A1 (de) Verfahren zur herstellung einer beschichtungsquelle zur physikalischen gasphasenabscheidung von crtan, sowie dadurch hergestellte crta beschichtungsquelle
CH686767A5 (de) Beschichtetes Werkzeug und dessen Verwendung.
WO2014053209A1 (de) Verfahren zur herstellung einer metallborocarbidschicht auf einem substrat
EP2653583A1 (de) Beschichtungsverfahren zur Abscheidung eines Schichtsystems auf einem Substrat, sowie Substrat mit einem Schichtsystem
DE102012007796A1 (de) Beschichtung enthaltend Si-DLC, DLC und Me-DLC und Verfahren zur Herstellung von Beschichtungen
EP2802678A2 (de) Kolbenring
EP3056587A1 (de) VHM-Schaftfräser mit TiAlN-ZrN-Beschichtung
DE112014005504T5 (de) Kolbenring
DE102013213268A1 (de) Gebautes Hohlventil
EP3017079B2 (de) Verfahren zur herstellung von tixsi1-xn schichten
CH681083A5 (de)
DE102004028112B4 (de) Werkzeugsubstrat mit borhaltigem Schichtsystem, bestehend aus einer Borcarbid-, einer B-C-N und einer kohlenstoffmodifizierten kubischen Bornitridschicht sowie Verfahren zur Herstellung eines solchen Schichtsystems und Verwendung
EP1080248A1 (de) Werkzeugbeschichtung und verfahren zu deren herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
R005 Application deemed withdrawn due to failure to request examination