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Die
vorliegende Erfindung betrifft eine Mastervorrichtung, verwendbar
im Verfahren zur Herstellung eines optischen Aufzeichnungsmediums,
eine Vorrichtung zur Herstellung dieser Mastervorrichtung, ein Verfahren
zur Herstellung dieser Mastervorrichtung, ein optisches Aufzeichnungsmedium,
sowie ein Verfahren zur Herstellung des optischen Aufzeichnungsmediums.
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Die
Erfindung wird in Bezug auf die Abtastung eines optischen Aufzeichnungsmediums
mit elektromagnetischer Strahlung mit einer Wellenlänge beschrieben,
welche sichtbarem Licht entspricht. Es wird jedoch darauf hingewiesen,
dass zur Abtastung eines Aufzeichnungsmediums elektromagnetische Strahlung
auch deutlich kürzerer oder längerer Wellenlänge
geeignet ist. Für diese Fälle können
sich angegebene Maße ändern.
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Optische
Aufzeichnungsmedien werden durch einen mehrstufigen Prozess, unter
Verwendung einer Mastervorrichtung, hergestellt. Auf der Mastervorrichtung
werden Informationen in Form von Hauptspur- und Nebenspurstrukturen
gespeichert, welche auf die Aufzeichnungsmedien als Haupt- und Nebenspuren,
allgemein Spur genannt, übertragen werden.
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Bei
den optischen Aufzeichnungsmedien ist die vorgeformte Spur, entweder
als eine Vertiefung oder eine Erhöhung gegenüber
der umgebenden Fläche, dem sogenannten ”Land”,
ausgebildet. Eine als Vertiefung ausgebildete Spur kann zumindest
teilweise mit einem Material gefüllt sein, dessen Reflexions-
und/oder Transmissionseigenschaften durch Lichteinstrahlung vorbestimmter
Intensität und Wellenlänge, vorzugsweise Laserlicht,
reversibel oder irreversibel, veränderbar sind.
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Die
vorgeformte Spur dient in erste Linie dazu, dass in ihr Daten mittels
einer Informationsaufzeichnungsvorrichtung aufgezeichnet werden
können. Dies erfolgt durch eine vorbestimmte Veränderung
eines ersten Merkmals der Spur, wie bevorzugt des Reflexions- oder
Transmissionsverhaltens bestimmter Bereiche der Spur. Diese Veränderungen sind
von dieser Vorrichtung, und bevorzugt von jeder handelsüblichen
optischen Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtung,
optisch erfass- und damit lesbar. Die Bereiche der Spur, in denen
eine vorbestimmte optische Veränderung vorgenommen ist,
werden als Hauptdaten-Pits bezeichnet.
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Die
Erzielung einer möglichst hohen Speicherkapazität
derartiger Aufzeichnungsmedien erfordert möglichst geringe
Abmessungen der Hauptdaten-Pits und der dazwischen liegenden Flächen,
die üblicherweise als ”Land” bezeichnet
werden. Um die Genauigkeitsanforderungen an die mechanischen Komponenten
einer entsprechenden Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtung praktikabel
zu halten, dient die Spur durch die Erfassung zweiter optisch erfassbarer
Merkmale üblicherweise auch zur Nachführung des
abtastenden Lichtstrahles der Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtung.
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Auf
diese Weise kann die geforderte Positionierungspräzision
des Schreib- und Leselichtstrahls auch bei einer hohen Flächendichte
der zu schreibenden Datenstrukturen erzielt werden.
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Häufig
wird die Spur mit dritten, optisch erfassbaren Merkmalen versehen,
aus denen eine Information über die lineare Aufzeichnungsgeschwindigkeit
abgeleitet werden kann, mit der die Datenstrukturen bevorzugt zu
schreiben sind. So kann beispielsweise die Spur sinusförmig
um die Spurmitte mit einer vorbestimmten Wellenlänge ausgelenkt sein. Über
diese Wellenlänge kann für ein scheibenförmiges
Aufzeichnungsmedium zum Beispiel die Drehzahl des Motors gesteuert
werden, der dieses Aufzeichnungsmedium in Rotation versetzt.
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In
bestimmten Aufzeichnungsmedien des Standes der Technik ist die Spur
mit vierten, optisch erfassbaren Merkmalen versehen. Zur Positionierung
des Schreib- und Lesekopfes – insbesondere über
einem unbeschriebenen Aufzeichnungsmedium – werden bei
diesen Aufzeichnungsmedien Hilfsinformationen in der Spur voraufgezeichnet,
die einen fortlaufenden Adressencode enthalten.
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Die
Druckschriften
EP 0
265 695 B1 und
EP 0
325 330 B1 beschreiben Aufzeichnungsmedien, bei denen die
Wellenlänge der Spurschwingung in Abhängigkeit
der Hilfsinformation verändert wird.
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Bevorzugt
akzeptieren optische Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtungen
eine – stetig zunehmende – Zahl von unterschiedlichen
Aufzeichnungsmedien unterschiedlicher Aufzeichnungsmaterialen, die
mitunter verschiedene Aufzeichnungsverfahren und/oder Aufzeichnungsgeschwindigkeiten
erfordern. Daher sind zur Aufzeichnung entsprechend unterschiedliche,
für das jeweilige Aufzeichnungsmedium spezifische Schreibparameter
erforderlich. Aus diesem Grunde werden in bestimmten Formen bekannter
Aufzeichnungsmedien die vorabgespeicherten Hilfsinformationen der
Spur um Steuercodes erweitert, welche unter anderem die für
das jeweilige Aufzeichnungsmedium spezifizierten Schreibparameter
enthalten können.
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Das
europäische Patent
EP
0 397 238 B1 beansprucht beispielsweise einen Aufzeichnungsträger,
bei dem die Hilfsinformationen, bestehend aus Adressen- und Steuercodes,
in die vorgeformte Spur mittels einer vorgebildeten Spurmodulation,
die eine radiale, sinusförmige Modulation entweder durch Spurschwingung
(engl. track wobble) oder Spurbreitenveränderung beinhaltet,
aufgezeichnet ist.
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Nachteilig
bei Aufzeichnungsträgern gemäß dem
EP 0 397 238 B1 ist,
dass die Datendichte der Hilfsinformation, die über eine
derartige Modulation in die Spur eingebracht werden kann, durch
die Forderung einer möglichst geringen Beeinflussung der fehlerfreien
Erfassbarkeit der aufzuzeichnenden Datenstrukturen erheblich eingeschränkt
wird.
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Aus
den Offenlegungsschriften
DE 10 2005 027 222 A1 und
DE 10 2005 018 089 A1 der
Anmelderin ist ein Verfahren bekannt, bei dem die Hilfsinformationen
mittels einer Auslenkung senkrecht zur jeweiligen Spurrichtung abgebildet
wird.
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Nachteilig
bei Aufzeichnungsträgern gemäß der
DE 10 2005 027 222
A1 und
DE
10 2005 018 089 A1 ist, dass die Hilfsinformation in die
Spur eingebracht wird, wodurch es zu einer Beeinflussung der aufzuzeichnenden
Datenstrukturen kommen kann.
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Es
ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Mastervorrichtung
zu schaffen, welche es ermöglicht ein Aufzeichnungsmedium
zu schaffen, das die vorgenannten Nachteile bei größtmöglicher
Kompatibilität zu bestehenden Aufzeichnungsmedien umgeht.
Gelöst wird diese Aufgabe durch den Gegenstand des Anspruchs
1.
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Eine
weitere Aufgabe der Erfindung ist es, eine Vorrichtung zur Herstellung
eines erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums zu
schaffen. Diese Aufgabe wird durch den Gegenstand von Anspruch 7 gelöst.
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Ferner
stellt sich die Erfindung die Aufgabe, eine Vorrichtung zur Herstellung
einer Mastervorrichtung zur Verfügung zu stellen. Diese
Aufgabe wird durch den Gegenstand von Anspruch 17 gelöst.
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Das
erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium, sowie die
Vorrichtung zur Herstellung des Aufzeichnungsmediums und der Mastervorrichtung
sind Gegenstand der Ansprüche 16, 27 beziehungsweise 28.
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Bevorzugte
Ausführungsformen und Weiterbildungen sowie Verfahrensergänzungen
sind Gegenstand der Unteransprüche.
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Die
erfindungsgemäße Mastervorrichtung weist eine
im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufende
Hauptspurstruktur und wenigstens eine im Wesentlichen spiralförmig
oder konzentrisch verlaufende Nebenspurstruktur auf.
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Im
Sinne der Erfindung ist die Hauptspurstruktur eine Spurstruktur,
mittels der auf einem erfindungsgemäß hergestellten
optischen Aufzeichnungsmedium eine Hauptspur ausgebildet wird. Die Hauptspur
dient zur Führung wenigstens eines Strahls einer Informationsaufzeichnungs-
und/oder Wiedergabevorrichtung. Entlang der Hauptspur sind wenigstens
abschnittsweise Bereiche angeordnet, in denen eine Vielzahl von
Hauptdaten-Pits ausgebildet werden können. Die Bereiche
der Spur, in denen eine vorbestimmte optische Veränderung
vorgenommen ist, werden im Rahmen der vorliegenden Erfindung als
Hauptdaten-Pits bezeichnet.
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Nebenspurstruktur
im Sinne der Erfindung bezeichnet eine Spurstruktur mittels der
auf einem erfindungsgemäß hergestellten optischen
Aufzeichnungsmedium eine Nebenspur ausgebildet wird. Die Nebenspur
hat dabei einen im Wesentlichen gleichbleibenden Abstand zur Mitte
der Hauptspur. Insbesondere hat die geometrische Mitte der Nebenspur einen
im Wesentlichen gleichbleibenden Abstand zur geometrischen Mitte
der Hauptspur.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist die
geometrische Mittellinie der Nebenspurstruktur einen radialen Abstand
von TP/N von der geometrischen Mittellinie der Hauptspurstruktur
auf, wobei TP den Spurabstand zwischen benachbarten Hauptspurstrukturen
bezeichnet und N eine Zahl ist, die bevorzugt zwischen 8/3 und 12/3 liegt.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform weist die Nebenspurstruktur
eine geringere Breite als die Hauptspurstruktur auf.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform weist die Nebenspurstruktur
eine geringere Tiefe als die Hauptspurstruktur auf.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform enthält die
erste Hilfsinformation Anwendungs- und/oder Steuerungs- und/oder
Sicherheitsdaten.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform enthält die
zweite Hilfsinformation Anwendungs- und/oder Steuerungs- und/oder
Sicherheitsdaten.
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Erfindungsgemäß ist
die Nebenspurstruktur wenigstens auf einer Seite der Hauptspurstruktur
angeordnet, und kann Unterbrechungen aufweisen, die eine optisch
erfassbare Oberflächenbeschaffenheit des Aufzeichnungsmediums
derart variieren, dass auf dem Aufzeichnungsmedium wenigstens eine
erste Hilfsinformation abgebildet wird. Durch diese Anordnung ist
es einerseits möglich die Beeinflussung der Hauptspurstruktur
durch die Nebenspurstruktur zu reduzieren und andererseits wird
der Platzbedarf für die Spurstruktur reduziert, was wiederum
zu einer höheren Aufzeichnungsdichte führt.
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Die
optisch erfassbaren Oberflächenbeschaffenheiten im Sinne
der Erfindung sind Reflexions- und/oder Transmissionseigenschaften
des optischen Aufzeichnungsmediums, die durch eine Lichteinstrahlung
vorbestimmter Intensität, bevorzugt Laserlicht, reversibel
oder irreversibel, veränderbar sind.
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Im
Sinne der Erfindung ist ein optisches Aufzeichnungsmedium eine Scheibe
mit einem Durchmesser von 110 bis 130 mm, vorzugsweise 115–125 mm,
weiter vorzugsweise 120 mm. Aber auch kleinere Durchmesser von z.
B. 80 mm sind möglich. Das optische Aufzeichnungsmedium
weist ferner auf einer Seite und/oder beiden Seiten ein vorgegebenes Oberflächenniveau
auf, das im Wesentlichen auf der gesamten Fläche einer
Seite gleich ist.
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Die
Nebenspurstruktur kann auf dem Aufzeichnungsmedium Pilotmarkierungsbereiche
mit Pilotmarkierungen erstellen in denen Hilfsinformationen hinterlegt
sind.
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Bei
Pilotmarkierung handelt es sich im Sinne der Erfindung um Bereiche
in der Nebenspur, in denen vorbestimmte optische/optisch erfassbare
Veränderungen vorgenommen werden, die als Hilfsinformationen
dienen können.
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Beispielsweise
können diese Nebenspurstrukturen mit enthaltenen Pilotmarkierungen
in Leserichtung sowohl auf beiden Seiten einer Hauptspurstruktur,
oder auch nur auf einer Seite der Hauptspurstruktur angeordnet sein.
Eine herkömmlich Anordnung von Photodioden ist so ausgebildet,
dass die Positionen der Photodioden symmetrisch zu einer Mittellinie
in Verlaufsrichtung der Spuren sind. 4 Zentraldioden sind zum Detektieren
der Hauptspurstruktur bestimmt. Weiter außen sind zwei
Gruppen zu je zwei Photodioden angeordnet, nachfolgend Nebenspurdioden,
welche zum Detektieren der Nebenspurstrukturen dienen. Die Signale
dieser Nebenspurdioden sind von der Steuerung des Detektors so verknüpft,
daß auch bei Vorliegen einer nur einseitigen Nebenspurstruktur
die Pilotmarkierungen sinnhaft detektiert werden.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
ist die Nebenspurstruktur nur auf einer Seite der Hauptspurstruktur
ausgebildet.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
ist die bei dem Aufzeichnungsmedium optisch erfassbare Eigenschaft
eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Vertiefung der Oberfläche
zwischen zwei Unterbrechungen.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
hat eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Vertiefung
der Oberfläche zwischen zwei Unterbrechungen, welche beim
Aufzeichnungsmedium optisch erfasst werden kann, eine variable Tiefe
und/oder Breite, welche somit nicht über die gesamte Länge
der Vertiefung konstant ist.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
ist eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Vertiefung
der Oberfläche zwischen zwei Unterbrechungen, welche beim
Aufzeichnungsmedium optisch erfasst werden kann, nicht klar begrenzt
sondern geht im Wesentlichen fließend in mindestens eine
(nicht vertiefte) Unterbrechung über.
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Dabei
bedeutet fließend im Sinne der Erfindung, dass das Höhenprofil
der Nebenspurstruktur im Wesentlichen stetig ist. In einer bevorzugten
Ausführungsform der erfindungsgemäßen
Mastervorrichtung ist die Höhen- und/oder Tiefen-Variation
der Nebenspurstruktur derart ausgestaltet, dass die Lichtintensität
des reflektierten Nebenstrahls in den Nebenstrahl Photodioden einen
bevorzugt sinusförmigen Spannungsverlauf erzeugt, welcher
der Spurführung dient.
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In
einer weiteren Ausführungsform der erfindungsgemäßen
Mastervorrichtung erzeugt eine Spurbreitenvariation der Nebenspur
(analog zur Höhen- und/oder Tiefen-Variation der Nebenspur)
einen bevorzugt sinusförmigen Spannungsverlauf in den Nebenstrahl
Photodioden.
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Ein
im Wesentlichen sinusförmiger Spannungsverlauf bietet,
im Gegensatz zu einem rechteckförmigen oder trapezförmigen
Spannungsverlauf den Vorteil von möglichst Oberschwingungsfreien Spurführungssignalen.
Dadurch verringert sich, wie eine Fourier Transformation belegt,
die benötigte Bandbreite des Spurführungssignals.
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Eine
Mastervorrichtung bezeichnet im Sinne der Erfindung einen Master
für Aufzeichnungsmedien, vorzugsweise aus Glas, auf welchen
die Hauptspurstruktur und die Nebenspurstruktur ausgebildet werden.
Unter Verwendung dieser Mastervorrichtung werden in nachfolgenden
Schritten optische Aufzeichnungsmedien hergestellt.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
ist die bei dem Aufzeichnungsmedium optisch erfassbare Eigenschaft
eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete im Wesentlichen punktförmige
Oberflächenbeschaffenheit zwischen zwei Unterbrechungen.
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Punktförmig
bedeutet im Sinne der Erfindung eine Ausdehnung im Spurrichtung
von 1–20 μm, vorzugsweise 3–15 μm,
weiter vorzugsweise 5–10 μm.
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Dabei
bedeutet Spurrichtung im Sinne der Erfindung die Richtung in der
auf das bzw. von dem optischen Aufzeichnungsmedium geschrieben bzw. gelesen
wird.
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Im
Sinne der Erfindung ist eine Unterbrechung ein Wechsel der Oberflächenbeschaffenheit
in Spurrichtung.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
ist die Hauptspurstruktur wenigstens abschnittsweise insbesondere
aber vollständig als in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit
ausgebildet.
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Als
homogen wird im Sinne der Erfindung ein Bereich bezeichnet, der
im Wesentlichen in Spurrichtung keine Änderung der Oberflächenbeschaffenheit aufweist.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
ist die Hauptspurstruktur wenigstens abschnittsweise als in Spurrichtung
im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit
ausgebildet.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
ist die Nebenspurstruktur wenigstens abschnittsweise als in Spurrichtung
homogene Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
ist die Nebenspurstruktur wenigstens abschnittsweise als in Spurrichtung
im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit
ausgebildet.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
weist die Nebenspurstruktur eine Oberflächenbeschaffenheit
auf, die eine optisch erfassbare Oberflächenbeschaffenheit
einer Nebenspurstruktur des Aufzeichnungsmediums derart variiert,
dass auf dem Aufzeichnungsmedium eine zweite Hilfsinformation abgebildet
wird.
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Die
optisch erfassbaren Eigenschaften können den Bits eines
Leitungscodes, beispielsweise des Biphase-Mark-Code, zugeordnet
sein. Hierbei repräsentiert zum Beispiel eine vorangegangene
erfassbare Eigenschaft eine logische „1” und eine
Unterbrechung eine logische „0” des Leitungscodes. Dabei
wird eine logische „0” des digitalen Codes für die
Hilfsinformation entweder einer „00” oder einer „11” des
Biphase-Mark-Codes und eine logische „1” des digitalen
Codes für die Hilfsinformation entweder einer „01” oder
einer „10” des Biphase-Mark-Codes so zugeordnet,
das nicht mehr als zwei aufeinanderfolgende Nullen oder Einsen im
Biphase-Mark-Code auftreten.
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In
einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
wird die Hauptspurstruktur ohne Spurmodulation ausgebildet.
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Unter
Spurmodulation ist im Sinne der Erfindung eine Veränderung
der Spurbreite senkrecht zur Spurrichtung zu verstehen und/oder
eine Veränderung der Spurmitte um einen geometrischen Mittelwert.
Dabei kann die Spurbreite um einen festen Wert und/oder um einen
variablen Wert variiert werden.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
wird die Hauptspurstruktur mit Spurmodulation ausgebildet.
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Mastervorrichtung
nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Spurmodulation eine radiale, im Wesentlichen
sinusförmige Spurmodulation ist.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
ist die Spurmodulation eine monofrequente Spurmodulation.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
ist die Spurmodulation eine Spurbreitenmodulation.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
stellt die Spurmodulation eine weitere Hilfsinformation dar.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung
ist die Nebenspurstruktur im Wesentlichen im gleichbleibenden radialen
Abstand zur geometrischen Mitte der Hauptspurstruktur angeordnet.
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Die
erfindungsgemäße Vorrichtung zur Herstellung einer
Mastervorrichtung, weist zumindest eine erste optische Einrichtung
zur Aufzeichnung einer Hauptspurstruktur mittels eines ersten Lichtstrahls
auf einem Grundträger, einen elekt rooptischen Strahldeflektor,
der von dem ersten Lichtstrahl durchlaufen wird, und/oder eine zweite
optische Einrichtung zur Aufzeichnung einer Nebenspurstruktur mittels
eines zweiten Lichtstrahls auf dem Grundträger auf. Erfindungsgemäß durchläuft
der zweite Lichtstrahl einen zweiten elektrooptischen Strahldeflektor,
der einen im Wesentlichen gleichen radialen Abstand zwischen der
Mitte der Hauptspurstruktur und der Nebenspurstruktur mittels eines
zugeführten Steuersignals einstellt, und ein Nebenspurstrukturgenerator
steuert den zweiten Lichtstrahls wenigstens in Abhängigkeit
einer ersten und/oder zweiten Hilfsinformation an. Zum Ausgleich
eventueller Unebenheiten einer Mastervorrichtung durchlaufen beide
Lichtstrahlen eine Regeleinheit, welche dieser Lichtstrahlen zur
Erzielung eines gleichförmigen Lichtflecks auf dem Grundträger
fokussiert.
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Bei
einer weiteren erfindungsgemäßen Vorrichtung zur
Herstellung einer Mastervorrichtung wird ein erster Lichtstrahl
zur Aufzeichnung einer Hauptstrukturspur ohne Einrichtungen zur
Lenkung des Strahls auf den Grundträger gerichtet. Vor
Auftreffen auf diesen Grundträger durchläuft dieser
erste Lichtstrahl wie zuvor diese fokussierende Regeleinheit zum
Ausgleich etwaiger Unebenheiten dieser Mastervorrichtung. Ein zweiter
Lichtstrahl durchläuft, wie zuvor beschrieben, einen elektrooptischen Strahldeflektor
und wird mit nachfolgenden Strahllenkungseinrichtungen mit diesem
ersten Lichtstrahl vor dieser fokussierenden Regeleinheit zusammengebracht.
Somit kann auf einen elektrooptischem Strahldeflektor und eine Strahllenkungseinrichtung für
diesen ersten Lichtstrahl verzichtet werden.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
wird mittels des elektrooptischen Strahldeflektors eine Spurweitenmodulation des
ersten Lichtstrahls durchführt.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
wird die Energie des Lichtstahls zur Erzeugung der für
die Nebenspur benötigten Struktur variiert, wodurch eine
Variation der Höhe und/oder Tiefe und/oder Breite der Strukturen
erreicht wird. Eine Variation der Energie des Lichtstrahls wird
bei spielsweise erreicht, indem der Lichtstrahl mit einem geeignetem
Wechselsignal, das einer konstanten Leistung überlagert
ist, betrieben wird.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
wird mittels einer Bildverarbeitungseinheit die Position der Laserbrennpunkte
auf dem Master berechnet und die Positionsinformation mindestens
einem optischen Deflektor zugeführt.
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In
einer weitern bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
wird der auf dem Master eingestellte Laserfokus beider Strahlen
auf eine erste Messkamera abgebildet. Die daraus abgeleiteten Bildinformationen
werden mindestens einem Steuerrechner und/oder mindestens einer
Bildverarbeitungseinheit zugeführt. Dadurch kann die Position der
Laserbrennpunkte auf dem Master berechnet und/oder eingestellt und/oder
nachjustiert werden. Im Wesentlichen wird dadurch ein Maß für
den Abstand des Nebenstrahls zum Hauptstrahl ermittelt das zur Ansteuerung
eines optischen Deflektors und/oder eines Steuerrechners verwendet
wird. Der ermittelte Ist-Wert des Abstandes wird mit einem Soll-Wert
verglichen und im Bedarfsfall exakt in-line nachgeregelt.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
werden zwei Messkameras verwendet auf die der auf den Master eingestellte
Laserfokus beider Strahlen abgebildet wird. Dadurch werden die für
den Steuerrechner und die Bildverarbeitungseinheit benötigten
Bildinformationen unabhängig voneinander ermittelt und
mindestens einem Steuerrechner sowie mindestens einer Bildverarbeitungseinheit
getrennt zugeführt.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
wird der erste Lichtstrahl mittels eines Hauptspurgenerators angesteuert.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
gibt der Hauptspurgenerator zur Ansteuerung des ersten Lichtstrahls
ein Gleichsignal und ein Wechselsignal aus.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
gibt der Hauptspurgenerator zur Ansteuerung des elektrooptischen
Strahldeflektors ein Analogsignal aus.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
wird der zweite Lichtstrahl mittels eines Nebenspurgenerators angesteuert.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
gibt der Nebenspurgenerators zur Ansteuerung des zweiten Lichtstrahls
ein Gleichsignal und ein Wechselsignal aus.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
gibt der Nebenspurgenerators zur Ansteuerung des zweiten elektrooptischen Strahldeflektors
ein Gleichspannungs- und/oder Wechselspannungssignal aus.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
ist das dem zweiten Strahldeflektor zugeführte Steuersignal
ein Spannungssignal mit Gleichanteil.
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In
einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung
wird das von dem Hauptspurgenerator zur Ansteuerung des elektrooptischen
Strahldeflektors ausgegebene Analogsignal dem elektrooptischen Strahldeflektor
zugeführt.
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Das
erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium wird durch
ein Herstellungsverfahren bzw. durch eine Vorrichtung zur Herstellung
eines Aufzeichnungsmediums unter Verwendung einer der oben beschriebenen
Mastervorrichtungen erhalten.
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Das
erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer
Mastervorrichtung weist wenigstens einen der folgenden Schritte
auf: Belichten eines Grundträgers mit einer Hauptspurstruktur
mittels eines ersten Lichtstrahls, wobei die Oberfläche
des Grundträgers mit einem Photolack versehen ist, Belichten
des Grundträgers mit einer Nebenspurstruktur mittels eines
zweiten Lichtstrahls, Entwickeln des belichteten Photolacks, Entfernen
des belichteten oder nicht belichteten Photolacks von dem Grundträger, Aufbringen
einer ersten metallischen Schicht auf den Grundträger,
und/oder Aufbringen einer zweiten metallischen Schicht auf den Grundträger.
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Ausführungsbeispiele
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Weitere
Vorteile und Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung
ergeben sich aus den beiliegenden Zeichnungen. Darin zeigen:
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1 zwei
Beispiele für die Anordnung von Hauptspur- und Nebenspurstruktur
auf der Mastervorrichtung,
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2 zwei
weitere Beispiele für die Anordnung von Hauptspur- und
Nebenspurstruktur,
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3–16 weitere
Beispiele für die Anordnung von Hauptspur- und Nebenspurstruktur,
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17 vier
Beispiele für die Ausbildung der Hauptspurstruktur,
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18 eine
schematische Darstellung der Anordnung der Hauptspur- und Nebenspurstruktur und
ein Spurstrukturprofil,
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19 Beispiele
für mögliche Strukturprofile der Nebenspurstruktur
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20 eine
schematische Darstellung der Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung.
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21 eine
schematische Darstellung einer weiteren Vorrichtung zur Herstellung
einer Mastervorrichtung mit geradlinig geführtem erstem
Lichtstrahl als kostengünstigere Variante der Vorrichtung aus 20
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22 eine
Darstellung der Anordnung der zentralen Photodioden A, B, C, D sowie
der Photodioden der Nebenstrahlen E, F bzw. G, H eines herkömmlichen
Lesegeräts/Detektors.
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In 1 sind
zwei Beispiele für die Anordnung von Hauptspurstruktur 1 und
Nebenspurstruktur 2 auf der Mastervorrichtung gezeigt.
In 1a) ist die Hauptspurstruktur 1 als
im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit
ausgebildet. Die Nebenspurstruktur 2 ist ebenfalls als eine
im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit
ausgebildet und auf einer Seite der Hauptspurstruktur 1 angeordnet,
wobei die Nebenspurstruktur 2 Unterbrechungen aufweist.
Die Nebenspurstruktur 2 kann auch auf der gegenüberliegenden
Seite der Hauptspurstruktur 1 angeordnet sein.
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Die
in 1b) dargestellte Nebenspurstruktur 2 entspricht
im Wesentlichen der in Nebenspurstruktur 2 in 1a), wobei die Unterbrechungen in der
Nebenspurstruktur 2 in Spurrichtung größer
sind als die im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit
der Nebenspurstruktur 2.
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Die
Hauptspurstruktur 1 korrespondiert mit der Hauptspur auf
einem optischen Aufzeichnungsmedium, und die Nebenspurstruktur 2 korrespondiert mit
der Nebenspur bzw. Pilotspur auf einem optischen Aufzeichnungsmedium.
Die Abstände zwischen den Hauptspurstrukturen 1 werden
bevorzugt im Wesentlichen konstant gewählt, um die Positionierung
des Schreib- und Lesekopfes über einem optischen Aufzeichnungsmedium
zu vereinfachen.
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Die
Nebenspurstruktur 2 ist ferner im Wesentlichen im gleichen
Abstand zur Mitte der Hauptspurstruktur 1 angeordnet. Besonders
bevorzugt wird der Abstand zwischen den Hauptstrukturen 1,
sowie zwischen Hauptspurstruktur 1 und Nebenspurstruktur 2 minimal
gewählt, um die Informationsdichte auf dem resultierenden
Aufzeichnungsmedium zu maximieren.
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Die 2a) und 2b)
entsprechen im Wesentlichen den 1a) und 1b) wobei die Nebenspurstruktur 2 symmetrisch
auf beiden Seiten der Hauptspurstruktur 1 angeordnet ist.
In 2a) ist ferner die Nebenspurstruktur 2 abschnittsweise
abwechselnd auf der jeweils gegenüberliegenden Seite der
Hauptspurstruktur 1 angeordnet.
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Die
Anordnung der Nebenspurstruktur 2 auf abwechselnd gegenüberliegenden
Seiten der Hauptspurstruktur 1, ist insofern vorteilhaft,
als insbesondere bei im Wesentlichen gleich verteilten Anzahlen von
Nebenspurstrukturen 2 auf beiden Seiten der Hauptspurstruktur 1 ein
gleichstromfreies Spurfolgesignal aus der optischen Erfassung der
Nebenspur auf dem Aufzeichnungsmedium gewonnen werden kann.
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In 3 ist
die Nebenspurstruktur 3 als eine im Wesentlichen in Spurrichtung
angeordnete, im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit
ausgebildet und auf einer Seite der Hauptspurstruktur 1 angeordnet.
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Die 4 zeigt
die Nebenspurstruktur 3, die symmetrisch auf beiden Seiten
der Hauptspurstruktur 1 angeordnet ist.
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In
den 5–8 ist die
Hauptspurstruktur 4 als im Wesentlichen in Spurrichtung
homogene Oberflächenbeschaffenheit mit Unterbrechungen ausgebildet.
Die Nebenspurstrukturen 2, 3 können dabei
als im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit
(5 und 6) oder als im Wesentlichen
punktförmige Oberflächenbeschaffenheit (7 und 8)
ausgebildet sein. In den 5 und 7 sind die
Nebenspurstrukturen 2, 3 auf einer Seite der Hauptspurstruktur 4 angeordnet.
In den 6 und 8 sind die Nebenspurstrukturen 2, 3 symmetrisch
auf beiden Seiten der Hauptspurstruktur 4 angeordnet.
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Die
Unterbrechungen in der Hauptspurstruktur 4 können
regelmäßig oder unregelmäßig
sein, bzw. periodische Muster aufweisen. Durch die Unterbrechungen
in der Hauptspurstruktur 4 ist es mögliche Hilfsinformationen
in die Hauptspurstruktur zu integrieren und somit die Informationsdichte
auf dem Aufzeichnungsmedium weiter zu erhöhen.
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Die 9 und 10 entsprechen
im Wesentlichen den 1 und 2, wobei
die Hauptspurstruktur 5 als eine im Wesentlichen in Spurrichtung
homogene Oberflächenbeschaffenheit, die monofrequent moduliert
ist, ausgebildet ist.
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Die 11 und 12 entsprechen
im Wesentlichen den 9 und 10, wobei
die Hauptspurstruktur 6 als eine im Wesentlichen in Spurrichtung
homogene Oberflächenbeschaffenheit, die monofrequent moduliert
ist, ausgebildet ist, wobei die Hauptspurstruktur 6 Unterbrechungen
aufweist.
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Die 13–16 entsprechen
im Wesentlichen den 9–12,
mit dem Unterschied, dass die Nebenspurstruktur 3 als eine
im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete, im Wesentlichen punktförmige
Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet ist.
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17 zeigt
nochmals vier verschiedene mögliche Ausführungsbeispiele
für die Form der Hauptspurstrukturen 1, 4, 5 und 7.
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18 stellt
eine schematische Darstellung der Anordnung der Hauptspur- und Nebenspurstruktur
als Draufsicht (18a) sowie einen Querschnitt der
Spurstruktur (18b) der Mastervorrichtung dar.
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Die
Hauptspurstruktur 1 hat vorzugsweise eine Breite W von
200–800 nm, weiter vorzugsweise von 400–600 nm,
noch weiter vorzugsweise 550 nm. Die effektive Tiefe TH der Hauptspurstruktur
liegt vorzugsweise zwischen 80 und 130 nm, weiter vorzugsweise zwischen
90 und 120 nm, noch weiter vorzugsweise bei 105 nm. Der Abstand
TP zwischen benachbarten Hauptspurstrukturen 1 beträgt
vorzugsweise 1000–2000 nm, weiter vorzugsweise 1600 nm.
Ferner weist die Hauptspurstruktur 1 einen Flankenwinkel
zwischen einer Normalen zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche
der Mastervorrichtung und der Flanke der Hauptspurstruktur 1 von
vorzugsweise 30–50°, weiter vorzugsweise 40° auf.
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Die
Nebenspurstruktur 2 hat vorzugsweise eine Breite Wn von
100–400 nm, weiter vorzugsweise von 200–300 nm,
noch weiter vorzugsweise 250 nm. Die effektive Tiefe TN der Nebenspurstruktur liegt
vorzugsweise zwischen 25 und 75 nm, weiter vorzugsweise zwischen
40 und 60 nm, noch weiter vorzugsweise bei 50 nm. Der Abstand S
zwischen Hauptspurstruktur 1 und Nebenspurstruktur 2 beträgt vorzugsweise
350–600 nm, weiter vorzugsweise von 450–550 nm,
noch weiter vorzugsweise 500 nm.
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Ferner
liegt die Länge L der Nebenspurstruktur 2 in Spurrichtung
vorzugsweise zwischen 10 und 60 μm.
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Der
radiale Abstand S (bevorzugt ca. 400–600 nm) der Hauptspurstruktur 1 und
der Nebenspurstruktur 2 wird bevorzugt so gewählt,
dass weder eine erhebliche Überlappung mit der Spur noch
ein störendes Übersprechen durch die benachbarten
Spuren entsteht. Die Länge der Pilotmarkierungen d. h.
der innerhalb der Nebenspurstruktur angebrachten Vertiefungen ist
variabel und entspricht annähernd der Hälfte der
Wellenlänge, die zu der üblichen Spurschwingungsfrequenz
in Höhe von 22,05 kHz gehört. Bei einer Lineargeschwindigkeit
der Abtasteinrichtung gegenüber des Aufzeichnungsmediums
in Höhe von ca. 1,2 m/s ergibt sich eine bevorzugte mittlere
Länge L der Pilotmarkierungen von 54, 4/2 μm =
27 μm. Der übliche Frequenzhub von ±1 kHz
der modulierten Spurschwingungsfre quenz wird durch geeignete Längenveränderung
(±ΔL = 1,22 μm) der Pilotmarkierungen
realisiert.
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Ferner
weist die Nebenspurstruktur 2 einen Flankenwinkel zwischen
einer Normalen zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche
der Mastervorrichtung und der im Wesentlichen parallel zur Spurrichtung
verlaufenden Flanke der Nebenspurstruktur von vorzugsweise 10–40°,
weiter vorzugsweise 25° auf.
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Wie
in 18 dargestellt, kann die Nebenspurstruktur auch
nur einseitig der Hauptspurstruktur ausgebildet sein.
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19 stellt
eine schematische Darstellung der Nebenspurstruktur 2 als
Draufsicht (19a) sowie vier Beispiele
eines Längsschnitt der Spurstruktur der Mastervorrichtung
(Strukturprofile 19b, 19c, 19d, 19e)
dar.
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19b zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils
einer Nebenspurstruktur 2 in der drei Pilotmarkierungen
d. h. Vertiefungen eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen
in Spurrichtung begrenzenden Flanken 8 stehen senkrecht
zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche der Mastervorrichtung.
Der von diesen Pilotmarkierungen bei der Abtastung der Nebenspur
reflektierte Lichtstrahl erzeugt in den Nebenspur Photodioden E,
F bzw. G, H eine im Wesentlichen rechteckförmige Ausgangsspannung
die beispielsweise zur Spurführung weiter verarbeitet wird.
Nachteilig bei im Wesentlichen rechteckförmigen Signalen
ist die, im Vergleich zu sinusförmigen Signalen, erhöhte
Anzahl an Oberschwingungen wodurch sich die (frequenzabhängige)
Bandbreite des Signals erhöht.
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19c zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils
einer Nebenspurstruktur in der drei Pilotmarkierungen d. h. Vertiefungen
eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen in Spurrichtung begrenzenden
geradlinig verlaufenden Flanken 8 schließen mit
einer Normalen zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche
der Mastervorrichtung einen Flankenwinkel vorzugsweise zwischen
10°–40°, weiter vorzugsweise zwischen
20°–30° ein. Abgeschrägte Flanken
bieten bei der Detektion beispielsweise den Vorteil, dass die Ausgangssignale
der Nebenspur Photodioden E, F bzw. G, H ebenfalls flachere Signalflanken
aufweisen, wodurch (im Vergleich zu rechteckförmigen Ausgangssignalen
mit steilen Signalflanken) weniger Oberschwingungen entstehen was
eine geringere Bandbreite des Signals zur Folge hat.
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19d zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils
einer Nebenspurstruktur in der drei Pilotmarkierungen d. h. Vertiefungen
eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen in Spurrichtung begrenzenden
Flanken 8 verlaufen dabei nicht geradlinig sondern sind
wie dargestellt konkav. In einer alternativen Ausgestaltung können
die Flanken aber auch konvex ausgestaltet sein.
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19e zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils
einer Nebenspurstruktur in der drei Pilotmarkierungen d. h. Vertiefungen
eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen in Spurrichtung begrenzenden
Flanken 8 verbinden dabei stetig ein erstes Oberflächenelement 5 der
Mastervorrichtung mit einem zweiten Oberflächenelement 6 der
Mastervorrichtung. Bei geeigneter Ausgestaltung der Flanken werden
in den Nebenspur Photodioden E, F bzw. G, H im Wesentlichen sinusförmige
Ausgangssignale erzeugt, welche in möglichst oberschwingungsfreie Spurführungssignale
umgesetzt werden. Dadurch wird die für das Signal benötigte
Bandbreite weitestgehend minimiert.
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In 20 ist
ein Ausführungsbeispiel für eine erfindungsgemäße
Vorrichtung zur Erzeugung der Hauptspurstruktur 1 und der
Nebenspurstruktur 2 auf der Mastervorrichtung 16 dargestellt.
Eine erste monochromatische Lichtquelle 11, die beispielsweise
einen Laser aufweist, erzeugt einen ersten Lichtstrahl mit einer
ersten Wellenlänge, die ungefähr der Breite der
Hauptspurstruktur 1 entspricht. Mit Hilfe eines Hauptspurgenerators 18 kann
die Intensität des ersten Lichtstrahls so eingestellt werden,
dass ein auf der Oberfläche der Mastervorrichtung 16 vorgesehener
Photolack zur Erzeugung der vorbestimmten Geometrie der Hauptspurstruktur 1 geeignet
belichtet wird.
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Der
Hauptspurgenerator 18 kann auch durch direkte digitale
Laseransteuerung Pitstrukturen, d. h. im Wesentlichen punktförmige
Oberflächenveränderungen erzeugen und kann ein
Analogsignal zur Erzeugung einer Spurwobbelung mit dem elektrooptischen
Strahldeflektor 13 liefern.
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Die
Dicke des Photolacks entspricht vorzugsweise der Tiefe der zu erzeugenden
Hauptspurstruktur 1. Die erforderliche Strahlgeometrie
wird mittels eines Strahlformers 13 und einer beweglichen Objektiv-Linse
in der Weise erzeugt, dass die Breite des Lichtflecks des ersten
Lichtstrahls auf der Oberfläche der Mastervorrichtung 16 ungefähr
der Breite der Hauptspurstruktur 1 angepasst ist.
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Während
des Belichtungsvorgangs wird die Mastervorrichtung geeignet parallel
zur Fokusebene des ersten Lichtstrahls bewegt, so dass der Lichtfleck auf
dem Photolack die gewünschte spiralförmige oder
konzentrisch kreisförmige Hauptspurstruktur 1 beschreibt.
Um eventuelle Unebenheiten der Mastervorrichtung 16 zu
berücksichtigen wird die bewegliche Objektiv-Linse 15 mittels
der Fokussteuereinheit fortlaufend zur Erzielung eines gleichförmigen
Lichtflecks nachgeregelt.
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Eine
zweite monochromatische Lichtquelle 12, die ebenfalls einen
Laser aufweisen kann, erzeugt einen zweiten Lichtstrahl mit einer
zweiten Wellenlänge, die ungefähr der Breite der
Nebenspurstruktur 2 entspricht. Der zweite Lichtstrahl 12 kann mit
Hilfe eines Nebenspurstrukturformatierers 19 in der Intensität
so variiert werden, dass der Photolack auf der Oberfläche
der Mastervorrichtung 16 zur Erzeugung der vorbestimmten
Geometrie der Nebenspurstruktur 2 geeignet belichtet wird.
Durch An- und Ausschalten des Lasers mit einem Wechselsignal von
dem Nebenspurstrukturformatierer 19 werden Hilfsinformationen
in die Nebenspurstruktur 2 eingebracht.
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Dabei
kann die Tiefe der Nebenspurstruktur 2 gegenüber
der Tiefe der Hauptspurstruktur 1 verringert werden, indem
die Lichtintensität des zweiten Licht strahls 12 gegenüber
der Lichtintensität des ersten Lichtstrahls 11 geringer
gewählt wird.
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Die
Tiefe und/oder Breite der Nebenspur kann auch fortlaufend verändert
werden sodass sich ein Höhenprofil wie beispielsweise in 19e dargestellt. Dazu kann der Laser von
dem Nebenspurstrukturformatierer 19 mit einem geeigneten
Wechselsignal, das einer konstanten Leistung überlagert
ist, angesteuert werden.
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Mittels
Strahldeflektor 14 und der Abbildungsoptik 15 wird
der Lichtfleck des zweiten Lichtstrahls 12 auf der Oberfläche
der Mastervorrichtung 16 erzeugt, der in seinem Durchmesser
ungefähr der Breite der Nebenspurstruktur 2 entspricht.
Wird der Strahldeflektor 14 zusätzlich mit einem
Wechselsignal angesteuert, können zwei Nebenspurstrukturen 2 symmetrisch
zur Hauptspurstruktur 1 geschrieben werden.
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Eine
Spiegeleinheit ermöglicht eine zentrierte Überlagerung
der Lichtstrahlen 11 und 12. Der radiale Abstand
der Lichtflecken des zweiten Lichtstrahls 12 vom Lichtfleck
des ersten Lichtstrahls 11 auf der Oberfläche
der Mastervorrichtung entspricht dem radialen Abstand der Symmetrielinien
der Nebenspurstruktur 2 von der Symmetrielinie der Hauptspurstruktur 1.
Dieser Abstand kann durch Setzen eines Gleichspannungs-Offsets an
den elektrooptischen Strahldeflektor 14 eingestellt werden.
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Ferner
weist die Vorrichtung zur Erzeugung der Hauptspurstruktur 1 und
der Nebenspurstruktur 2 auf der Mastervorrichtung 16 noch
einen Steuerrechner 20 auf, der die den Hauptspurstrukturformatierer 18,
den Nebenspurstrukturformatierer 19 und mindestens einen
Drehteller 17 auf dem die Mastervorrichtung 16 aufliegt,
ansteuert.
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21 zeigt
eine weitere erfindungsgemäße Vorrichtung zur
Erzeugung der Hauptspurstruktur 1 und der Nebenspurstruktur 2 auf
der Mastervorrichtung 16. Zwei monochromatische Lichtquellen 11 und 12 erzeugen
je einen Lichtstrahl, welche mit Hilfe einer Strahlführungseinrichtung,
beispielsweise einen Spiegel und eine Strahlsammeleinrichtung aufweisend,
durch eine Optik 15 in Richtung der Oberfläche der
Mastervorrichtung gelenkt werden.
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22 stellt
eine Anordnung der zentralen Photodioden A, B, C, D sowie der Photodioden
E, F bzw. G, H für die Nebenspuren dar, wie sie bei einem handelsüblichen
Lesegerät vorgefunden werden können. Die Anordnung
der Photodioden ist symmetrisch zur Mittellinie M. Der enthaltene
Pfeil zeigt die Verlaufsrichtung der Spuren an. Die mathematische Verknüpfung
der Nebenspurdioden durch die Steuerung des Detektors oder des Brenngeräts
gestattet die Ausbildung der Nebenspurstruktur auch nur auf einer
Seite der Hauptstrukturspur.
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23 zeigt
eine weitere erfindungsgemäße Vorrichtung zur
Erzeugung der Hauptspurstruktur 1 und der Nebenspurstruktur 2 auf
der Mastervorrichtung. Als Ergänzung zu der ansonsten identischen Vorrichtung
aus 20 wird der auf dem Master eingestellte Laserfokus
beider Lichtstrahlen durch Auskopplung aus dem vorhandenen Strahlengang
auf eine erste Messkamera und eine zweite Messkamera abgebildet.
Die daraus abgeleiteten Bildinformationen der zweiten Messkamera
werden dem Steuerrechner 20 zugeführt. und der
Bildverarbeitungseinheit 30 zugeführt. In der
Bildverarbeitungseinheit 30 wird die Position der Laserbrennpunkte
auf dem Master berechnet. Damit ist ein Maß für
den Abstand ermittelt, das zur Ansteuerung des elektrooptischen Deflektors 14 verwendet
wird. Es wird dadurch möglich den Abstand der Nebenspur
zur Hauptspur in-line zu kontrollieren und fortlaufend im Bedarfsfall nachzuregeln.
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24 zeigt
eine weitere erfindungsgemäße Vorrichtung zur
Erzeugung der Hauptspurstruktur 1 und der Nebenspurstruktur 2 auf
der Mastervorrichtung. Im Vergleich zu der Vorrichtung aus 23 wird
lediglich eine Messkamera ver wendet, deren Bildinformationen sowohl
dem Steuerrechner 20 als auch der Bildverarbeitungseinheit 30 zur
weiteren Verarbeitung zugeführt werden.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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- - EP 0265695
B1 [0010]
- - EP 0325330 B1 [0010]
- - EP 0397238 B1 [0012, 0013]
- - DE 102005027222 A1 [0014, 0015]
- - DE 102005018089 A1 [0014, 0015]