DE102008004254A1

DE102008004254A1 - Mastervorrichtung

Info

Publication number: DE102008004254A1
Application number: DE200810004254
Authority: DE
Inventors: Gunter Beulich; Petra Junker; Ekkehart Dr. Kändler; Wolfhart Dr. Bosien
Original assignee: Frank Maiworm & Dr Wolfhart Bosien Grundstuecks GbR (vertretungsberechtigter Gesellschafter Dr Wolfhart Bosien; Frank Maiworm & Dr Wolfhart Bo; Frank Maiworm & Dr Wolfhart Bosien Grundstuecks GbR (vertretungsberechtigter Gesellschafter Dr Wolfhart Bosien 01458 Ottendorf-Okrilla)
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 2008-01-14
Filing date: 2008-01-14
Publication date: 2009-07-16

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Mastervorrichtung, verwendbar im Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsmediums, wobei auf der Mastervorrichtung eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufende Hauptstruktur und wenigstens eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufende Nebenspurstruktur ausgebildet ist, wobei die Nebenspurstruktur wenigstens auf einer Seite der Hautpstruktur angeordnet ist und die Nebenspurstruktur Unterbrechungen aufweist, die eine optische erfassbare Oberflächenbschaffenheit des Aufzeichnungsmediums derart variieren, dass auf dem Aufzeichnungsmedium wenigstens eine erste Hilfsinformation abgebildet wird.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Mastervorrichtung, verwendbar im Verfahren zur Herstellung eines optischen Aufzeichnungsmediums, eine Vorrichtung zur Herstellung dieser Mastervorrichtung, ein Verfahren zur Herstellung dieser Mastervorrichtung, ein optisches Aufzeichnungsmedium, sowie ein Verfahren zur Herstellung des optischen Aufzeichnungsmediums.
Die Erfindung wird in Bezug auf die Abtastung eines optischen Aufzeichnungsmediums mit elektromagnetischer Strahlung mit einer Wellenlänge beschrieben, welche sichtbarem Licht entspricht. Es wird jedoch darauf hingewiesen, dass zur Abtastung eines Aufzeichnungsmediums elektromagnetische Strahlung auch deutlich kürzerer oder längerer Wellenlänge geeignet ist. Für diese Fälle können sich angegebene Maße ändern.
Optische Aufzeichnungsmedien werden durch einen mehrstufigen Prozess, unter Verwendung einer Mastervorrichtung, hergestellt. Auf der Mastervorrichtung werden Informationen in Form von Hauptspur- und Nebenspurstrukturen gespeichert, welche auf die Aufzeichnungsmedien als Haupt- und Nebenspuren, allgemein Spur genannt, übertragen werden.
Bei den optischen Aufzeichnungsmedien ist die vorgeformte Spur, entweder als eine Vertiefung oder eine Erhöhung gegenüber der umgebenden Fläche, dem sogenannten "Land", ausgebildet. Eine als Vertiefung ausgebildete Spur kann zumindest teilweise mit einem Material gefüllt sein, dessen Reflexions- und/oder Transmissionseigenschaften durch Lichteinstrahlung vorbestimmter Intensität und Wellenlänge, vorzugsweise Laserlicht, reversibel oder irreversibel, veränderbar sind.
Die vorgeformte Spur dient in erste Linie dazu, dass in ihr Daten mittels einer Informationsaufzeichnungsvorrichtung aufgezeichnet werden können. Dies erfolgt durch eine vorbestimmte Veränderung eines ersten Merkmals der Spur, wie bevorzugt des Reflexions- oder Transmissionsverhaltens bestimmter Bereiche der Spur. Diese Veränderungen sind von dieser Vorrichtung, und bevorzugt von jeder handelsüblichen optischen Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtung, optisch erfass- und damit lesbar. Die Bereiche der Spur, in denen eine vorbestimmte optische Veränderung vorgenommen ist, werden als Hauptdaten-Pits bezeichnet.
Die Erzielung einer möglichst hohen Speicherkapazität derartiger Aufzeichnungsmedien erfordert möglichst geringe Abmessungen der Hauptdaten-Pits und der dazwischen liegenden Flächen, die üblicherweise als "Land" bezeichnet werden. Um die Genauigkeitsanforderungen an die mechanischen Komponenten einer entsprechenden Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtung praktikabel zu halten, dient die Spur durch die Erfassung zweiter optisch erfassbarer Merkmale üblicherweise auch zur Nachführung des abtastenden Lichtstrahles der Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtung.
Auf diese Weise kann die geforderte Positionierungspräzision des Schreib- und Leselichtstrahls auch bei einer hohen Flächendichte der zu schreibenden Datenstrukturen erzielt werden.
Häufig wird die Spur mit dritten, optisch erfassbaren Merkmalen versehen, aus denen eine Information über die lineare Aufzeichnungsgeschwindigkeit abgeleitet werden kann, mit der die Datenstrukturen bevorzugt zu schreiben sind. So kann beispielsweise die Spur sinusförmig um die Spurmitte mit einer vorbestimmten Wellenlänge ausgelenkt sein. Über diese Wellenlänge kann für ein scheibenförmiges Aufzeichnungsmedium zum Beispiel die Drehzahl des Motors gesteuert werden, der dieses Aufzeichnungsmedium in Rotation versetzt.
In bestimmten Aufzeichnungsmedien des Standes der Technik ist die Spur mit vierten, optisch erfassbaren Merkmalen versehen. Zur Positionierung des Schreib- und Lesekopfes – insbesondere über einem unbeschriebenen Aufzeichnungsmedium – werden bei diesen Aufzeichnungsmedien Hilfsinformationen in der Spur voraufgezeichnet, die einen fortlaufenden Adressencode enthalten.
Die Druckschriften EP 0 265 695 B1 und EP 0 325 330 B1 beschreiben Aufzeichnungsmedien, bei denen die Wellenlänge der Spurschwingung in Abhängigkeit der Hilfsinformation verändert wird.
Bevorzugt akzeptieren optische Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtungen eine – stetig zunehmende – Zahl von unterschiedlichen Aufzeichnungsmedien unterschiedlicher Aufzeichnungsmaterialen, die mitunter verschiedene Aufzeichnungsverfahren und/oder Aufzeichnungsgeschwindigkeiten erfordern. Daher sind zur Aufzeichnung entsprechend unterschiedliche, für das jeweilige Aufzeichnungsmedium spezifische Schreibparameter erforderlich. Aus diesem Grunde werden in bestimmten Formen bekannter Aufzeichnungsmedien die vorabgespeicherten Hilfsinformationen der Spur um Steuercodes erweitert, welche unter anderem die für das jeweilige Aufzeichnungsmedium spezifizierten Schreibparameter enthalten können.
Das europäische Patent EP 0 397 238 B1 beansprucht beispielsweise einen Aufzeichnungsträger, bei dem die Hilfsinformationen, bestehend aus Adressen- und Steuercodes, in die vorgeformte Spur mittels einer vorgebildeten Spurmodulation, die eine radiale, sinusförmige Modulation entweder durch Spurschwingung (engl. track wobble) oder Spurbreitenveränderung beinhaltet, aufgezeichnet ist.
Nachteilig bei Aufzeichnungsträgern gemäß dem EP 0 397 238 B1 ist, dass die Datendichte der Hilfsinformation, die über eine derartige Modulation in die Spur eingebracht werden kann, durch die Forderung einer möglichst geringen Beeinflussung der fehlerfreien Erfassbarkeit der aufzuzeichnenden Datenstrukturen erheblich eingeschränkt wird.
Aus den Offenlegungsschriften DE 10 2005 027 222 A1 und DE 10 2005 018 089 A1 der Anmelderin ist ein Verfahren bekannt, bei dem die Hilfsinformationen mittels einer Auslenkung senkrecht zur jeweiligen Spurrichtung abgebildet wird.
Nachteilig bei Aufzeichnungsträgern gemäß der DE 10 2005 027 222 A1 und DE 10 2005 018 089 A1 ist, dass die Hilfsinformation in die Spur eingebracht wird, wodurch es zu einer Beeinflussung der aufzuzeichnenden Datenstrukturen kommen kann.
Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Mastervorrichtung zu schaffen, welche es ermöglicht ein Aufzeichnungsmedium zu schaffen, das die vorgenannten Nachteile bei größtmöglicher Kompatibilität zu bestehenden Aufzeichnungsmedien umgeht. Gelöst wird diese Aufgabe durch den Gegenstand des Anspruchs 1.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, eine Vorrichtung zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums zu schaffen. Diese Aufgabe wird durch den Gegenstand von Anspruch 7 gelöst.
Ferner stellt sich die Erfindung die Aufgabe, eine Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung zur Verfügung zu stellen. Diese Aufgabe wird durch den Gegenstand von Anspruch 17 gelöst.
Das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium, sowie die Vorrichtung zur Herstellung des Aufzeichnungsmediums und der Mastervorrichtung sind Gegenstand der Ansprüche 16, 27 beziehungsweise 28.
Bevorzugte Ausführungsformen und Weiterbildungen sowie Verfahrensergänzungen sind Gegenstand der Unteransprüche.
Die erfindungsgemäße Mastervorrichtung weist eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufende Hauptspurstruktur und wenigstens eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufende Nebenspurstruktur auf.
Im Sinne der Erfindung ist die Hauptspurstruktur eine Spurstruktur, mittels der auf einem erfindungsgemäß hergestellten optischen Aufzeichnungsmedium eine Hauptspur ausgebildet wird. Die Hauptspur dient zur Führung wenigstens eines Strahls einer Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtung. Entlang der Hauptspur sind wenigstens abschnittsweise Bereiche angeordnet, in denen eine Vielzahl von Hauptdaten-Pits ausgebildet werden können. Die Bereiche der Spur, in denen eine vorbestimmte optische Veränderung vorgenommen ist, werden im Rahmen der vorliegenden Erfindung als Hauptdaten-Pits bezeichnet.
Nebenspurstruktur im Sinne der Erfindung bezeichnet eine Spurstruktur mittels der auf einem erfindungsgemäß hergestellten optischen Aufzeichnungsmedium eine Nebenspur ausgebildet wird. Die Nebenspur hat dabei einen im Wesentlichen gleichbleibenden Abstand zur Mitte der Hauptspur. Insbesondere hat die geometrische Mitte der Nebenspur einen im Wesentlichen gleichbleibenden Abstand zur geometrischen Mitte der Hauptspur.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist die geometrische Mittellinie der Nebenspurstruktur einen radialen Abstand von TP/N von der geometrischen Mittellinie der Hauptspurstruktur auf, wobei TP den Spurabstand zwischen benachbarten Hauptspurstrukturen bezeichnet und N eine Zahl ist, die bevorzugt zwischen 8/3 und 12/3 liegt.
In einer bevorzugten Ausführungsform weist die Nebenspurstruktur eine geringere Breite als die Hauptspurstruktur auf.
In einer bevorzugten Ausführungsform weist die Nebenspurstruktur eine geringere Tiefe als die Hauptspurstruktur auf.
In einer bevorzugten Ausführungsform enthält die erste Hilfsinformation Anwendungs- und/oder Steuerungs- und/oder Sicherheitsdaten.
In einer bevorzugten Ausführungsform enthält die zweite Hilfsinformation Anwendungs- und/oder Steuerungs- und/oder Sicherheitsdaten.
Erfindungsgemäß ist die Nebenspurstruktur wenigstens auf einer Seite der Hauptspurstruktur angeordnet, und kann Unterbrechungen aufweisen, die eine optisch erfassbare Oberflächenbeschaffenheit des Aufzeichnungsmediums derart variieren, dass auf dem Aufzeichnungsmedium wenigstens eine erste Hilfsinformation abgebildet wird. Durch diese Anordnung ist es einerseits möglich die Beeinflussung der Hauptspurstruktur durch die Nebenspurstruktur zu reduzieren und andererseits wird der Platzbedarf für die Spurstruktur reduziert, was wiederum zu einer höheren Aufzeichnungsdichte führt.
Die optisch erfassbaren Oberflächenbeschaffenheiten im Sinne der Erfindung sind Reflexions- und/oder Transmissionseigenschaften des optischen Aufzeichnungsmediums, die durch eine Lichteinstrahlung vorbestimmter Intensität, bevorzugt Laserlicht, reversibel oder irreversibel, veränderbar sind.
Im Sinne der Erfindung ist ein optisches Aufzeichnungsmedium eine Scheibe mit einem Durchmesser von 110 bis 130 mm, vorzugsweise 115–125 mm, weiter vorzugsweise 120 mm. Aber auch kleinere Durchmesser von z. B. 80 mm sind möglich. Das optische Aufzeichnungsmedium weist ferner auf einer Seite und/oder beiden Seiten ein vorgegebenes Oberflächenniveau auf, das im Wesentlichen auf der gesamten Fläche einer Seite gleich ist.
Die Nebenspurstruktur kann auf dem Aufzeichnungsmedium Pilotmarkierungsbereiche mit Pilotmarkierungen erstellen in denen Hilfsinformationen hinterlegt sind.
Bei Pilotmarkierung handelt es sich im Sinne der Erfindung um Bereiche in der Nebenspur, in denen vorbestimmte optische/optisch erfassbare Veränderungen vorgenommen werden, die als Hilfsinformationen dienen können.
Beispielsweise können diese Nebenspurstrukturen mit enthaltenen Pilotmarkierungen in Leserichtung sowohl auf beiden Seiten einer Hauptspurstruktur, oder auch nur auf einer Seite der Hauptspurstruktur angeordnet sein. Eine herkömmlich Anordnung von Photodioden ist so ausgebildet, dass die Positionen der Photodioden symmetrisch zu einer Mittellinie in Verlaufsrichtung der Spuren sind. 4 Zentraldioden sind zum Detektieren der Hauptspurstruktur bestimmt. Weiter außen sind zwei Gruppen zu je zwei Photodioden angeordnet, nachfolgend Nebenspurdioden, welche zum Detektieren der Nebenspurstrukturen dienen. Die Signale dieser Nebenspurdioden sind von der Steuerung des Detektors so verknüpft, daß auch bei Vorliegen einer nur einseitigen Nebenspurstruktur die Pilotmarkierungen sinnhaft detektiert werden.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Nebenspurstruktur nur auf einer Seite der Hauptspurstruktur ausgebildet.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die bei dem Aufzeichnungsmedium optisch erfassbare Eigenschaft eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Vertiefung der Oberfläche zwischen zwei Unterbrechungen.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung hat eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Vertiefung der Oberfläche zwischen zwei Unterbrechungen, welche beim Aufzeichnungsmedium optisch erfasst werden kann, eine variable Tiefe.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Vertiefung der Oberfläche zwischen zwei Unterbrechungen, welche beim Aufzeichnungsmedium optisch erfasst werden kann, nicht klar begrenzt sondern geht im Wesentlichen stetig in mindestens eine (nicht vertiefte) Unterbrechung über.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist mindestens eine der im Wesentlichen senkrecht zur Spurrichtung angeordneten Flanken einer im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Vertiefung der Oberfläche zwischen zwei Unterbrechungen, welche beim Aufzeichnungsmedium optisch erfasst werden kann, bevorzugt weitgehend oder vollständig abgerundet
Eine Mastervorrichtung bezeichnet im Sinne der Erfindung einen Master für Aufzeichnungsmedien, vorzugsweise aus Glas, auf welchen die Hauptspurstruktur und die Nebenspurstruktur ausgebildet werden. Unter Verwendung dieser Mastervorrichtung werden in nachfolgenden Schritten optische Aufzeichnungsmedien hergestellt.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die bei dem Aufzeichnungsmedium optisch erfassbare Eigenschaft eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit zwischen zwei Unterbrechungen.
Punktförmig bedeutet im Sinne der Erfindung eine Ausdehnung im Spurrichtung von 1–20 μm, vorzugsweise 3–15 μm, weiter vorzugsweise 5–10 μm.
Dabei bedeutet Spurrichtung im Sinne der Erfindung die Richtung in der auf das bzw. von dem optischen Aufzeichnungsmedium geschrieben bzw. gelesen wird.
Im Sinne der Erfindung ist eine Unterbrechung ein Wechsel der Oberflächenbeschaffenheit in Spurrichtung.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Hauptspurstruktur wenigstens abschnittsweise insbesondere aber vollständig als in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet.
Als homogen wird im Sinne der Erfindung ein Bereich bezeichnet, der im Wesentlichen in Spurrichtung keine Änderung der Oberflächenbeschaffenheit aufweist.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Hauptspurstruktur wenigstens abschnittsweise als in Spurrichtung im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Nebenspurstruktur wenigstens abschnittsweise als in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Nebenspurstruktur wenigstens abschnittsweise als in Spurrichtung im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung weist die Nebenspurstruktur eine Oberflächenbeschaffenheit auf, die eine optisch erfassbare Oberflächenbeschaffenheit einer Nebenspurstruktur des Aufzeichnungsmediums derart variiert, dass auf dem Aufzeichnungsmedium eine zweite Hilfsinformation abgebildet wird.
Die optisch erfassbaren Eigenschaften können den Bits eines Leitungscodes, beispielsweise des Biphase-Mark-Code, zugeordnet sein. Hierbei repräsentiert zum Beispiel eine vorangegangene erfassbare Eigenschaft eine logische „1" und eine Unterbrechung eine logische „0" des Leitungscodes. Dabei wird eine logische „0" des digitalen Codes für die Hilfsinformation entweder einer „00" oder einer „11" des Biphase-Mark-Codes und eine logische „1" des digitalen Codes für die Hilfsinformation entweder einer „01" oder einer „10" des Biphase-Mark-Codes so zugeordnet, das nicht mehr als zwei aufeinanderfolgende Nullen oder Einsen im Biphase-Mark-Code auftreten.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung wird die Hauptspurstruktur ohne Spurmodulation ausgebildet.
Unter Spurmodulation ist im Sinne der Erfindung eine Veränderung der Spurbreite senkrecht zur Spurrichtung zu verstehen und/oder eine Veränderung der Spurmitte um einen geometrischen Mittelwert. Dabei kann die Spurbreite um einen festen Wert und/oder um einen variablen Wert variiert werden.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung wird die Hauptspurstruktur mit Spurmodulation ausgebildet.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spurmodulation eine radiale, im Wesentlichen sinusförmige Spurmodulation ist.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Spurmodulation eine monofrequenten Spurmodulation.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Spurmodulation eine Spurbreitenmodulation.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung stellt die Spurmodulation eine weitere Hilfsinformation dar.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Nebenspurstruktur im Wesentlichen im gleichbleibenden radialen Abstand zur geometrischen Mitte der Hauptspurstruktur angeordnet.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung, weist zumindest eine erste optische Einrichtung zur Aufzeichnung einer Hauptspurstruktur mittels eines ersten Lichtstrahls auf einem Grundträger, einen elektrooptischen Strahldeflektor, der von dem ersten Lichtstrahl durchlaufen wird, und/oder eine zweite optische Einrichtung zur Aufzeichnung einer Nebenspurstruktur mittels eines zweiten Lichtstrahls auf dem Grundträger auf. Erfindungsgemäß durchläuft der zweite Lichtstrahl einen zweiten elektrooptischen Strahldeflektor, der einen im Wesentlichen gleichen radialen Abstand zwischen der Mitte der Hauptspurstruktur und der Nebenspurstruktur mittels eines zugeführten Steuersignals einstellt, und ein Nebenspurstrukturgenerator steuert den zweiten Lichtstrahls wenigstens in Abhängigkeit einer ersten und/oder zweiten Hilfsinformation an. Zum Ausgleich eventueller Unebenheiten einer Mastervorrichtung durchlaufen beide Lichtstrahlen eine Regeleinheit, welche dieser Lichtstrahlen zur Erzielung eines gleichförmigen Lichtflecks auf dem Grundträger fokussiert.
Bei einer weiteren erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung wird ein erster Lichtstrahl zur Aufzeichnung einer Hauptstrukturspur ohne Einrichtungen zur Lenkung des Strahls auf den Grundträger gerichtet. Vor Auftreffen auf diesen Grundträger durchläuft dieser erste Lichtstrahl wie zuvor diese fokussierende Regeleinheit zum Ausgleich etwaiger Unebenheiten dieser Mastervorrichtung. Ein zweiter Lichtstrahl durchläuft, wie zuvor beschrieben, einen elektrooptischen Strahldeflektor und wird mit nachfolgenden Strahllenkungseinrichtungen mit diesem ersten Lichtstrahl vor dieser fokussierenden Regeleinheit zusammengebracht. Somit kann auf einen elektrooptischem Strahldeflektor und eine Strahllenkungseinrichtung für diesen ersten Lichtstrahl verzichtet werden.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung wird mittels des elektrooptischen Strahldeflektors eine Spurweitenmodulation des ersten Lichtstrahls durchführt.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung wird der erste Lichtstrahl mittels eines Hauptspurgenerators angesteuert.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung gibt der Hauptspurgenerator zur Ansteuerung des ersten Lichtstrahls ein Gleichsignal und ein Wechselsignal aus.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung gibt der Hauptspurgenerator zur Ansteuerung des elektrooptischen Strahldeflektors ein Analogsignal aus.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung wird der zweite Lichtstrahl mittels eines Nebenspurgenerators angesteuert.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung gibt der Nebenspurgenerators zur Ansteuerung des zweiten Lichtstrahls ein Gleichsignal und ein Wechselsignal aus.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung gibt der Nebenspurgenerators zur Ansteuerung des zweiten elektrooptischen Strahldeflektors ein Gleichspannungs- und/oder Wechselspannungssignal aus.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung ist das dem zweiten Strahldeflektor zugeführte Steuersignal ein Spannungssignal mit Gleichanteil.
In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung wird das von dem Hauptspurgenerator zur Ansteuerung des elektrooptischen Strahldeflektors ausgegebene Analogsignal dem elektrooptischen Strahldeflektor zugeführt.
Das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium wird durch ein Herstellungsverfahren bzw. durch eine Vorrichtung zur Herstellung eines Aufzeichnungsmediums unter Verwendung einer der oben beschriebenen Mastervorrichtungen erhalten.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer Mastervorrichtung weist wenigstens einen der folgenden Schritte auf: Belichten eines Grundträgers mit einer Hauptspurstruktur mittels eines ersten Lichtstrahls, wobei die Oberfläche des Grundträgers mit einem Photolack versehen ist, Belichten des Grundträgers mit einer Nebenspurstruktur mittels eines zweiten Lichtstrahls, Entwickeln des belichteten Photolacks, Entfernen des belichteten oder nicht belichteten Photolacks von dem Grundträger, Aufbringen einer ersten metallischen Schicht auf den Grundträger, und/oder Aufbringen einer zweiten metallischen Schicht auf den Grundträger.
Ausführungsbeispiele
Weitere Vorteile und Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus den beiliegenden Zeichnungen. Darin zeigen:
1 zwei Beispiele für die Anordnung von Hauptspur- und Nebenspurstruktur auf der Mastervorrichtung,
2 zwei weitere Beispiele für die Anordnung von Hauptspur- und Nebenspurstruktur,
3–16 weitere Beispiele für die Anordnung von Hauptspur- und Nebenspurstruktur,
17 vier Beispiele für die Ausbildung der Hauptspurstruktur,
18 eine schematische Darstellung der Anordnung der Hauptspur- und Nebenspurstruktur und ein Spurstrukturprofil,
19 Beispiele für mögliche Strukturprofile der Nebenspurstruktur
20 eine schematische Darstellung der Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung.
21 eine schematische Darstellung einer weiteren Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung mit geradlinig geführtem erstem Lichtstrahl als kostengünstigere Variante der Vorrichtung aus 20
22 eine Darstellung der Anordnung der zentralen Photodioden A, B, C, D sowie der Photodioden der Nebenstrahlen E, F bzw. G, H eines herkömmlichen Lesegeräts/Detektors.
In 1 sind zwei Beispiele für die Anordnung von Hauptspurstruktur 1 und Nebenspurstruktur 2 auf der Mastervorrichtung gezeigt. In 1a) ist die Hauptspurstruktur 1 als im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet. Die Nebenspurstruktur 2 ist ebenfalls als eine im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet und auf einer Seite der Hauptspurstruktur 1 angeordnet, wobei die Nebenspurstruktur 2 Unterbrechungen aufweist. Die Nebenspurstruktur 2 kann auch auf der gegenüberliegenden Seite der Hauptspurstruktur 1 angeordnet sein.
Die in 1b) dargestellte Nebenspurstruktur 2 entspricht im Wesentlichen der in Nebenspurstruktur 2 in 1a), wobei die Unterbrechungen in der Nebenspurstruktur 2 in Spurrichtung größer sind als die im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit der Nebenspurstruktur 2.
Die Hauptspurstruktur 1 korrespondiert mit der Hauptspur auf einem optischen Aufzeichnungsmedium, und die Nebenspurstruktur 2 korrespondiert mit der Nebenspur bzw. Pilotspur auf einem optischen Aufzeichnungsmedium. Die Abstände zwischen den Hauptspurstrukturen 1 werden bevorzugt im Wesentlichen konstant gewählt, um die Positionierung des Schreib- und Lesekopfes über einem optischen Aufzeichnungsmedium zu vereinfachen.
Die Nebenspurstruktur 2 ist ferner im Wesentlichen im gleichen Abstand zur Mitte der Hauptspurstruktur 1 angeordnet. Besonders bevorzugt wird der Abstand zwischen den Hauptstrukturen 1, sowie zwischen Hauptspurstruktur 1 und Nebenspurstruktur 2 minimal gewählt, um die Informationsdichte auf dem resultierenden Aufzeichnungsmedium zu maximieren.
Die 2a) und 2b) entsprechen im Wesentlichen den 1a) und 1b) wobei die Nebenspurstruktur 2 symmetrisch auf beiden Seiten der Hauptspurstruktur 1 angeordnet ist. In 2a) ist ferner die Nebenspurstruktur 2 abschnittsweise abwechselnd auf der jeweils gegenüberliegenden Seite der Hauptspurstruktur 1 angeordnet.
Die Anordnung der Nebenspurstruktur 2 auf abwechselnd gegenüberliegenden Seiten der Hauptspurstruktur 1, ist insofern vorteilhaft, als insbesondere bei im Wesentlichen gleich verteilten Anzahlen von Nebenspurstrukturen 2 auf beiden Seiten der Hauptspurstruktur 1 ein gleichstromfreies Spurfolgesignal aus der optischen Erfassung der Nebenspur auf dem Aufzeichnungsmedium gewonnen werden kann.
In 3 ist die Nebenspurstruktur 3 als eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete, im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet und auf einer Seite der Hauptspurstruktur 1 angeordnet.
Die 4 zeigt die Nebenspurstruktur 3, die symmetrisch auf beiden Seiten der Hauptspurstruktur 1 angeordnet ist.
In den 5–8 ist die Hauptspurstruktur 4 als im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit mit Unterbrechungen ausgebildet. Die Nebenspurstrukturen 2, 3 können dabei als im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit (5 und 6) oder als im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit (7 und 8) ausgebildet sein. In den 5 und 7 sind die Nebenspurstrukturen 2, 3 auf einer Seite der Hauptspurstruktur 4 angeordnet. In den 6 und 8 sind die Nebenspurstrukturen 2, 3 symmetrisch auf beiden Seiten der Hauptspurstruktur 4 angeordnet.
Die Unterbrechungen in der Hauptspurstruktur 4 können regelmäßig oder unregelmäßig sein, bzw. periodische Muster aufweisen. Durch die Unterbrechungen in der Hauptspurstruktur 4 ist es mögliche Hilfsinformationen in die Hauptspurstruktur zu integrieren und somit die Informationsdichte auf dem Aufzeichnungsmedium weiter zu erhöhen.
Die 9 und 10 entsprechen im Wesentlichen den 1 und 2, wobei die Hauptspurstruktur 5 als eine im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit, die monofrequent moduliert ist, ausgebildet ist.
Die 11 und 12 entsprechen im Wesentlichen den 9 und 10, wobei die Hauptspurstruktur 6 als eine im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit, die monofrequent moduliert ist, ausgebildet ist, wobei die Hauptspurstruktur 6 Unterbrechungen aufweist.
Die 13–16 entsprechen im Wesentlichen den 9–12, mit dem Unterschied, dass die Nebenspurstruktur 3 als eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete, im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet ist.
17 zeigt nochmals vier verschiedene mögliche Ausführungsbeispiele für die Form der Hauptspurstrukturen 1, 4, 5 und 7.
18 stellt eine schematische Darstellung der Anordnung der Hauptspur- und Nebenspurstruktur als Draufsicht (18a) sowie einen Querschnitt der Spurstruktur (18b) der Mastervorrichtung dar.
Die Hauptspurstruktur 1 hat vorzugsweise eine Breite W von 200–800 nm, weiter vorzugsweise von 400–600 nm, noch weiter vorzugsweise 550 nm. Die effektive Tiefe TH der Hauptspurstruktur liegt vorzugsweise zwischen 80 und 130 nm, weiter vorzugsweise zwischen 90 und 120 nm, noch weiter vorzugsweise bei 105 nm. Der Abstand TP zwischen benachbarten Hauptspurstrukturen 1 beträgt vorzugsweise 1000–2000 nm, weiter vorzugsweise 1600 nm. Ferner weist die Hauptspurstruktur 1 einen Flankenwinkel zwischen einer Normalen zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche der Mastervorrichtung und der Flanke der Hauptspurstruktur 1 von vorzugsweise 30–50°, weiter vorzugsweise 40° auf.
Die Nebenspurstruktur 2 hat vorzugsweise eine Breite Wn von 100–400 nm, weiter vorzugsweise von 200–300 nm, noch weiter vorzugsweise 250 nm. Die effektive Tiefe TN der Nebenspurstruktur liegt vorzugsweise zwischen 25 und 75 nm, weiter vorzugsweise zwischen 40 und 60 nm, noch weiter vorzugsweise bei 50 nm. Der Abstand S zwischen Hauptspurstruktur 1 und Nebenspurstruktur 2 beträgt vorzugsweise 350–600 nm, weiter vorzugsweise von 450–550 nm, noch weiter vorzugsweise 500 nm.
Ferner liegt die Länge L der Nebenspurstruktur 2 in Spurrichtung vorzugsweise zwischen 10 und 60 μm.
Der radiale Abstand S (bevorzugt ca. 400–600 nm) der Hauptspurstruktur 1 und der Nebenspurstruktur 2 wird bevorzugt so gewählt, dass weder eine erhebliche Überlappung mit der Spur noch ein störendes Übersprechen durch die benachbarten Spuren entsteht. Die Länge der Pilotmarkierungen d. h. der innerhalb der Nebenspurstruktur angebrachten Vertiefungen ist variabel und entspricht annähernd der Hälfte der Wellenlänge, die zu der üblichen Spurschwingungsfrequenz in Höhe von 22,05 kHz gehört. Bei einer Lineargeschwindigkeit der Abtasteinrichtung gegenüber des Aufzeichnungsmediums in Höhe von ca. 1,2 m/s ergibt sich eine bevorzugte mittlere Länge L der Pilotmarkierungen von 54,4/2 μm = 27 μm. Der übliche Frequenzhub von ±1 kHz der modulierten Spurschwingungsfrequenz wird durch geeignete Längenveränderung (±ΔL = 1,22 μm) der Pilotmarkierungen realisiert.
Ferner weist die Nebenspurstruktur 2 einen Flankenwinkel zwischen einer Normalen zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche der Mastervorrichtung und der im Wesentlichen parallel zur Spurrichtung verlaufenden Flanke der Nebenspurstruktur von vorzugsweise 10–40°, weiter vorzugsweise 25° auf.
Wie in 18 dargestellt, kann die Nebenspurstruktur auch nur einseitig der Hauptspurstruktur ausgebildet sein.
19 stellt eine schematische Darstellung der Nebenspurstruktur 2 als Draufsicht (19a) sowie vier Beispiele eines Längsschnitt der Spurstruktur der Mastervorrichtung (Strukturprofile 19b, 19c, 19d, 19e) dar.
19b zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils einer Nebenspurstruktur 2 in der drei Pilotmarkierungen d. h. Vertiefungen eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen in Spurrichtung begrenzenden Flanken 8 stehen senkrecht zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche der Mastervorrichtung.
19c zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils einer Nebenspurstruktur in der drei Pilotmarkierungen d. h. Vertiefungen eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen in Spurrichtung begrenzenden geradlinig verlaufenden Flanken 8 schließen mit einer Normalen zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche der Mastervorrichtung einen Flankenwinkel vorzugsweise zwischen 10°–40°, weiter vorzugsweise zwischen 20°–30° ein.
19d zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils einer Nebenspurstruktur in der drei Pilotmarkierungen d. h. Vertiefungen eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen in Spurrichtung begrenzenden Flanken 8 verlaufen dabei nicht geradlinig sondern sind wie dargestellt konkav. In einer alternativen Ausgestaltung können die Flanken aber auch konvex ausgestaltet sein.
19e zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils einer Nebenspurstruktur in der drei Pilotmarkierungen d. h. Vertiefungen eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen in Spurrichtung begrenzenden Flanken 8 verbinden dabei stetig ein erstes Oberflächenelement 5 der Mastervorrichtung mit einem zweiten Oberflächenelement 6 der Mastervorrichtung.
In 20 ist ein Ausführungsbeispiel für eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Erzeugung der Hauptspurstruktur 1 und der Nebenspurstruktur 2 auf der Mastervorrichtung 16 dargestellt. Eine erste monochromatische Lichtquelle 11, die beispielsweise einen Laser aufweist, erzeugt einen ersten Lichtstrahl mit einer ersten Wellenlänge, die ungefähr der Breite der Hauptspurstruktur 1 entspricht. Mit Hilfe eines Hauptspurgenerators 18 kann die Intensität des ersten Lichtstrahls so eingestellt werden, dass ein auf der Oberfläche der Mastervorrichtung 16 vorgesehener Photolack zur Erzeugung der vorbestimmten Geometrie der Hauptspurstruktur 1 geeignet belichtet wird.
Der Hauptspurgenerator 18 kann auch durch direkte digitale Laseransteuerung Pitstrukturen, d. h. im Wesentlichen punktförmige Oberflächenveränderungen erzeugen und kann ein Analogsignal zur Erzeugung einer Spurwobbelung mit dem elektrooptischen Strahldeflektor 13 liefern.
Die Dicke des Photolacks entspricht vorzugsweise der Tiefe der zu erzeugenden Hauptspurstruktur 1. Die erforderliche Strahlgeometrie wird mittels eines Strahlformers 13 und einer beweglichen Objektiv-Linse in der Weise erzeugt, dass die Breite des Lichtflecks des ersten Lichtstrahls auf der Oberfläche der Mastervorrichtung 16 ungefähr der Breite der Hauptspurstruktur 1 angepasst ist.
Während des Belichtungsvorgangs wird die Mastervorrichtung geeignet parallel zur Fokusebene des ersten Lichtstrahls bewegt, so dass der Lichtfleck auf dem Photolack die gewünschte spiralförmige oder konzentrisch kreisförmige Hauptspurstruktur 1 beschreibt. Um eventuelle Unebenheiten der Mastervorrichtung 16 zu berücksichtigen wird die bewegliche Objektiv-Linse 15 mittels der Fokussteuereinheit fortlaufend zur Erzielung eines gleichförmigen Lichtflecks nachgeregelt.
Eine zweite monochromatische Lichtquelle 12, die ebenfalls einen Laser aufweisen kann, erzeugt einen zweiten Lichtstrahl mit einer zweiten Wellenlänge, die ungefähr der Breite der Nebenspurstruktur 2 entspricht. Der zweite Lichtstrahl 12 kann mit Hilfe eines Nebenspurstrukturformatierers 19 in der Intensität so variiert werden, dass der Photolack auf der Oberfläche der Mastervorrichtung 16 zur Erzeugung der vorbestimmten Geometrie der Nebenspurstruktur 2 geeignet belichtet wird. Durch An- und Ausschalten des Lasers mit einem Wechselsignal von dem Nebenspurstrukturformatierer 19 werden Hilfsinformationen in die Nebenspurstruktur 2 eingebracht.
Dabei kann die Tiefe der Nebenspurstruktur 2 gegenüber der Tiefe der Hauptspurstruktur 1 verringert werden, indem die Lichtintensität des zweiten Lichtstrahls 12 gegenüber der Lichtintensität des ersten Lichtstrahls 11 geringer gewählt wird.
Mittels Strahldeflektor 14 und der Abbildungsoptik 15 wird der Lichtfleck des zweiten Lichtstrahls 12 auf der Oberfläche der Mastervorrichtung 16 erzeugt, der in seinem Durchmesser ungefähr der Breite der Nebenspurstruktur 2 entspricht. Wird der Strahldeflektor 14 zusätzlich mit einem Wechselsignal angesteuert, können zwei Nebenspurstrukturen 2 symmetrisch zur Hauptspurstruktur 1 geschrieben werden.
Eine Spiegeleinheit ermöglicht eine zentrierte Überlagerung der Lichtstrahlen 11 und 12. Der radiale Abstand der Lichtflecken des zweiten Lichtstrahls 12 vom Lichtfleck des ersten Lichtstrahls 11 auf der Oberfläche der Mastervorrichtung entspricht dem radialen Abstand der Symmetrielinien der Nebenspurstruktur 2 von der Symmetrielinie der Hauptspurstruktur 1. Dieser Abstand kann durch Setzen eines Gleichspannungs-Offsets an den elektrooptischen Strahldeflektor 14 eingestellt werden.
Ferner weist die Vorrichtung zur Erzeugung der Hauptspurstruktur 1 und der Nebenspurstruktur 2 auf der Mastervorrichtung 16 noch einen Steuerrechner 20 auf, der die den Hauptspurstrukturformatierer 18, den Nebenspurstrukturformatierer 19 und mindestens einen Drehteller 17 auf dem die Mastervorrichtung 16 aufliegt, ansteuert.
21 zeigt eine weitere erfindungsgemäße Vorrichtung zur Erzeugung der Hauptspurstruktur 1 und der Nebenspurstruktur 2 auf der Mastervorrichtung 16. Zwei monochromatische Lichtquellen 11 und 12 erzeugen je einen Lichtstrahl, welche mit Hilfe einer Strahlführungseinrichtung, beispielsweise einen Spiegel und eine Strahlsammeleinrichtung aufweisend, durch eine Optik 15 in Richtung der Oberfläche der Mastervorrichtung gelenkt werden.
22 stellt eine Anordnung der zentralen Photodioden A, B, C, D sowie der Photodioden E, F bzw. G, H für die Nebenspuren dar, wie sie bei einem handelsüblichen Lesegerät vorgefunden werden können. Die Anordnung der Photodioden ist symmetrisch zur Mittellinie M. Der enthaltene Pfeil zeigt die Verlaufsrichtung der Spuren an. Die mathematische Verknüpfung der Nebenspurdioden durch die Steuerung des Detektors oder des Brenngeräts gestattet die Ausbildung der Nebenspurstruktur auch nur auf einer Seite der Hauptstrukturspur.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

- EP 0265695 B1 [0010]
- EP 0325330 B1 [0010]
- EP 0397238 B1 [0012, 0013]
- DE 102005027222 A1 [0014, 0015]
- DE 102005018089 A1 [0014, 0015]

Claims

Mastervorrichtung, verwendbar im Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsmediums, wobei auf der Mastervorrichtung eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufenden Hauptspurstruktur und wenigstens eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufenden Nebenspurstruktur ausgebildet ist, wobei die Nebenspurstruktur wenigstens auf einer Seite der Hauptspurstruktur angeordnet ist, und die Nebenspurstruktur Unterbrechungen aufweist, die eine optische erfassbare Oberflächenbeschaffenheit des Aufzeichnungsmediums derart variieren, dass auf dem Aufzeichnungsmedium wenigstens eine erste Hilfsinformation abgebildet wird.
Mastervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Aufzeichnungsmedium ein vorgegebenes Oberflächenniveau aufweist und die optisch erfassbare Eigenschaft eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Abweichung von dem Oberflächenniveau zwischen zwei Unterbrechungen ist.
Mastervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die bei dem Aufzeichnungsmedium optisch erfassbare Eigenschaft eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete im We sentlichen punktförmige Abweichung von dem Oberflächenniveau zwischen zwei Unterbrechungen ist.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abweichung von dem Oberflächenniveau eine Vertiefung ist.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abweichung von dem Oberflächenniveau eine Erhöhung ist.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hauptspurstruktur wenigstens abschnittsweise insbesondere aber durchgehend in Spurrichtung als im Wesentlichen homogene Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet ist.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hauptspurstruktur Unterbrechungen aufweist.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nebenspurstruktur eine Oberflächenbeschaffenheit aufweist, die eine optisch erfassbare Oberflächenbeschaffenheit einer Nebenspurstruktur des Aufzeichnungsmediums derart variiert, dass auf dem Aufzeichnungsmedium eine zweite Hilfsinformation abgebildet wird.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hauptspurstruktur ohne Spurmodulation ausgebildet wird.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hauptspurstruktur mit Spurmodulation ausgebildet wird.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spurmodulation eine radiale, im Wesentlichen sinusförmige Spurmodulation ist.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spurmodulation eine monofrequente Spurmodulation ist.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spurmodulation eine Spurbreitenmodulation ist.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spurmodulation eine weitere Hilfsinformation darstellt.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nebenspurstruktur im Wesentlichen im gleichbleibenden radialen Abstand zur geometrischen Mitte der Hauptspurstruktur angeordnet ist.
Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nebenspurstruktur nur auf einer Seite der Hauptspurstruktur angeordnet ist.
Aufzeichnungsmedium erhalten durch ein Herstellungsverfahren unter Verwendung einer Mastervorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1–16.
Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung, insbesondere nach wenigstens einem der Ansprüche 1–16, mit – einer ersten optischen Einrichtung zur Aufzeichnung einer Hauptspurstruktur mittels eines ersten Lichtstrahls auf einem Grundträger, – einen elektrooptischen Strahldeflektor (3) der von dem ersten Lichtstrahl (1) durchlaufen wird, und – einer zweiten optischen Einrichtung zur Aufzeichnung einer Nebenspurstruktur mittels eines zweiten Lichtstrahls (2) auf dem Grundträger, wobei – der zweite Lichtstrahl (2) einen zweiten elektrooptischen Strahldeflektor (4) durchläuft, der einen im Wesentlichen gleichen radialen Abstand zwischen der Mitte der Hauptspurstruktur und der Nebenspurstruktur mittels eines zugeführten Steuersignals einstellt, und – ein Nebenspurstrukturgenerator (9), den zweiten Lichtstrahls (2) wenigstens in Abhängigkeit einer ersten und/oder zweiten Hilfsinformation ansteuert.
Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass mittels des elektrooptischen Strahldeflektors (3) eine Spurweitenmodulation des ersten Lichtstrahls (1) durchführt wird.
Vorrichtung nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Lichtstrahl (1) mittels eines Hauptspurgenerators (8) angesteuert wird.
Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–20, dadurch gekennzeichnet, dass der Hauptspurgenerator (8) zur Ansteuerung des ersten Lichtstrahls (1) ein Gleichsignal und ein Wechselsignal ausgibt.
Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–21, dadurch gekennzeichnet, dass der Hauptspurgenerator (8) zur Ansteuerung des elektrooptischen Strahldeflektors (3) ein Analogsignal ausgibt.
Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–22, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Lichtstrahl (2) mittels eines Nebenspurgenerators (9) angesteuert wird.
Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–23, dadurch gekennzeichnet, dass der Nebenspurgenerators (9) zur Ansteuerung des zweiten Lichtstrahls (2) ein Gleichsignal und ein Wechselsignal ausgibt.
Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–24, dadurch gekennzeichnet, dass der Nebenspurgenerators (9) zur Ansteuerung des zweiten elektrooptischen Strahldeflektor (4) ein Gleichspannungs- und/oder Wechselspannungssignal ausgibt.
Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–25, dadurch gekennzeichnet, dass das dem zweiten Strahldeflektor (4) zugeführte Steuersignal ein Spannungssignal mit Gleichanteil ist.
Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–26, dadurch gekennzeichnet, dass das von dem Hauptspurgenerator (8) zur Ansteuerung des elektrooptischen Strahldeflektors (3) ausgegebene Analogsignal dem elektrooptischen Strahldeflektor (4) zugeführt wird.
Vorrichtung zur Herstellung eines Aufzeichnungsmediums unter Verwendung einer Mastervorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1–16.
Verfahren zur Herstellung einer Mastervorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1–16 mit den Schritten: Belichten eines Grundträgers mit einer Hauptspurstruktur mittels eines ersten Lichtstrahls (1), wobei die Oberfläche des Grundträgers mit einem Photolack versehen ist, Belichten des Grundträgers mit einer Nebenspurstruktur mittels eines zweiten Lichtstrahls (2), Entwickeln des belichteten Photolacks, Entfernen des nicht belichteten Photolacks von dem Grundträger, Aufbringen einer ersten metallischen Schicht auf den Grundträger, und Aufbringen einer zweiten metallischen Schicht auf den Grundträger.