DE102008008580A1

DE102008008580A1 - Vorrichtung und Verfahren zur Strahlformung eines homogenisierten Lichtstrahls

Info

Publication number: DE102008008580A1
Application number: DE102008008580A
Authority: DE
Inventors: Rainer Pätzel; Ludwig Dr. Schwenger
Original assignee: Coherent GmbH
Current assignee: Coherent GmbH
Priority date: 2007-11-19
Filing date: 2008-02-12
Publication date: 2009-05-28
Anticipated expiration: 2028-02-13
Also published as: WO2009065386A1; US20100271704A1; KR101533130B1; JP5416707B2; DE102008008580B4; KR20100093050A; JP2011503885A

Abstract

Beschrieben wird eine Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Strahlformung eines homogenisierten Lichtstrahls, insbesondere eines Laserstrahls, mit einer den Lichtstrahl zumindest längs einer Querschnittsachse des Lichtstrahls homogenisierenden Einheit, einer im Strahlengang des Lichtstrahls nachfolgenden Maske, die für den Lichtstrahl blockierende und transparente Maskenbereiche aufweist, sowie einer im Strahlengang nachfolgenden optischen Abbildungseinheit. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass im Strahlengang zwischen der homogenisierenden Einheit und der Maske ein optisches Modul vorgesehen ist, das den gesamten Querschnitt des homogenisierten Lichtstrahls weitgehend verlustfrei auf einen transparenten Maskenbereich oder mehrere transparente Maskenbereiche abbildet.

Description

Technisches Gebiet
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Strahlformung eines homogenisierten oder eines sich homogenisierenden Lichtstrahls, insbesondere eines Laserstrahls, mit einer den Lichtstrahl zumindest längs einer Querschnittsachse des Lichtstrahls homogenisierenden Einheit, einer im Strahlengang des Lichtstrahls nachfolgenden Maske, die für den Lichtstrahl blockierende und transparente Maskenbereiche aufweist, sowie einer im Strahlengang nachfolgenden optischen Abbildungseinheit.
Stand der Technik
Gattungsgemäße Vorrichtungen zur Strahlformung homogenisierter Lichtstrahlen, werden in vielfachen industriellen Bereichen eingesetzt, so beispielsweise zu Zwecken einer strukturierten Belichtung von Substraten beliebiger Art, jeweils mit der Forderung die zu belichtenden Strukturbereiche mit homogen verteilter Lichtintensität zu beaufschlagen. Beispielsweise sei in diesem Zusammenhang auf die Technik der Photolitographie oder Photoablation verwiesen. Optische Homogenisierer werden unabhängig von der Wellenlänge der jeweils zu homogenisierenden Lichtstrahlen eingesetzt und es spielt auch keine Rolle, ob der Lichtstrahl kontinuierlich oder gepulst erzeugt und entsprechend einer weiteren technischen Nutzung zugeführt wird.
In den meisten technischen Anwendungsfällen, in denen optische Homogenisierer eingesetzt werden, sind im Strahlengang dem Homogenisierer mittel- oder unmittelbar eine Maskenanordnung nachgeordnet, die den homogenisierten Lichtstrahl zu Zwecken ihres nachfolgenden technischen Einsatzes im Strahlquerschnitt geometrisch begrenzt und somit eine Strahlformung vornimmt. Typischerweise trifft der gesamte Strahlquerschnitt des aus dem Homogenisierer austretenden homogenisierten Lichtstrahls auf eine Maske, die transparente Maskenbereiche sowie für den homogenisierten Lichtstrahl blockierende Maskenbereiche vorsieht, deren Form und Größe von einer von der weiteren technischen Anwendung abhängigen Geometrievorgabe bestimmt sind. Somit gelangen nur jene Strahlanteile des Lichtstrahls durch die Maske hindurch, die auf die transparenten Maskenbereiche, zumeist in Form von Aussparungen innerhalb der Maske, gelangen. Der übrige Anteil des homogenisierten Lichtstrahls bleibt technisch ungenutzt. In praktischen Anwendungsfällen, in denen die den Lichtstrahl blockierenden Maskenbereiche bis zu 99% des Querschnittes des Lichtstrahls ausmachen, wird es deutlich, dass lediglich 1% der Gesamtlichtenergie für eine technische Anwendung genutzt wird, der Rest hingegen geht verloren.
Darstellung der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung sowie ein Verfahren zur Strahlformung eines homogenisierten oder eines sich homogenisierenden Lichtstrahls, insbesondere eines Laserstrahls, mit einer den Lichtstrahl zumindest längs einer Querschnittsachse des Laserstrahls homogenisierenden Einheit, einer im Strahlengang des Lichtstrahls nachfolgenden Maske, die für den Lichtstrahl blockierende und transparente Maskenbereiche aufweist, sowie eine im Strahlengang nachfolgenden optischen Abbildungseinheit, derart weiterzubilden, dass der Anteil der Lichtenergie, die von der Maske ungenutzt für eine weitere technische Anwendung blockiert wird, reduziert werden soll, ohne dabei die gestalterischen Freiheiten der Maskengeometrie zu beeinträchtigen. Es soll insbesondere erreicht werden, dass möglichst die gesamte im homogenisierten Lichtstrahl enthaltende Lichtleistung auch nach Durchtritt durch die Maske erhalten bleibt.
Die Lösung der der Erfindung zugrunde liegenden Aufgabe ist im Anspruch 1 angegeben. Eine alternative, lösungsgemäß ausgebildete Vorrichtung ist in Anspruch 12 beschrieben. Ein lösungsgemäßes Verfahren ist Gegenstand des Anspruches 18. Den lösungsgemäßen Gedanken vorteilhaft weiterbildende Merkmale sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der weiteren Beschreibung unter Bezugnahme auf die Ausführungsbeispiele zu entnehmen.
Die lösungsgemäße Vorrichtung zur Strahlformung eines homogenisierten Lichtstrahls mit den Merkmalen des Oberbegriffes des Anspruches 1 zeichnet sich dadurch aus, dass im Strahlengang zwischen der homogenisierenden Einheit und der Maske ein optisches Modul vorgesehen ist, das den gesamten Querschnitt des homogenisierten Lichtstrahls weitgehend verlustfrei auf einen transparenten Maskenbereich oder mehrere transparente Maskenbereiche abbildet. Vorzugsweise vermag das optische Modul den homogenisierten Lichtstrahl gesamtheitlich weitgehend ohne Verluste und ausschließlich auf sämtliche transparente Maskenbereiche gleichmäßig verteilt abzubilden, um hierdurch zu gewährleisten, dass der durch die Maskengeometrie strahlgeformte, homogenisierte Lichtstrahl flächig gleich verteilte Lichtintensitäten aufweist.
Durch die lösungsgemäße Ausbildung des optischen Moduls, das den homogenisierten Lichtstrahl ausschließlich auf jene Bereiche der Maske abbildet, die für den Lichtstrahl transparent durchgängig sind, können die mit dem bisherigen Einsatz von Masken verbundene Lichtenergieverluste deutlich minimiert werden, so dass infolge dessen homogenisierte Lichtstrahlen mit weit weniger Gesamtenergie zur Verfügung gestellt werden brauchen, um verglichen zur bisherigen Maskentechnik vergleichbare Belichtungs- bzw. Beleuchtungsintensitäten am Ort der technischen Anwendung bereitzustellen. Mit dem lösungsgemäßen Konzept können daher die an die Lichtquellen gestellten Anforderungen reduziert werden, so dass mit der lösungsgemäßen Nutzung der gesamtheitlichen, innerhalb des homogenisierten Lichtstrahls enthaltenen Lichtenergie auch nach Maskendurchtritt eine Verbesserung der Lichtenergienutzung um wenigstens den Faktor 10 verglichen zur bisherigen Maskentechnik erzielt werden kann.
Eine weitere lösungsgemäße Vorrichtungsalternative sieht anstelle der Strahlformung in einem im Strahlengang der homogenisierenden Einheit nachgeordneten optischen Modul die Strahlformung bereits innerhalb der homogenisierenden Einheit vor.
Hierzu ist die homogenisierende Einheit in Form eines optischen Integrators ausgebildet, der über eine Eintrittsapertur sowie über eine Austrittsapertur verfügt, wobei die Austrittsapertur unter Massgabe der transparenten Maskenbereiche ausgebildet ist und den gesamten Querschnitt des homogenisierten Lichtstrahls weitgehend verlustfrei auf einen transparenten Maskenbereich oder mehrere transparente Maskenbereiche abbildet. Der optische Integrator ist in Art eines Lichtleiters ausgebildet ist, beispielsweise in Form eines innenseitig verspiegelten Rohrs, über dessen ein Rohrende der Lichtstrahl über eine Eintrittsapertur eintritt und sich im Wege von Vielfach-Reflexionen an der Rohrinnenwand in Ausbreitungsrichtung längs des Rohrs homogenisiert. Am anderen Rohrende ist eine Austrittsapertur vorgesehen, die beispielsweise in Form einer Blende mit transparenten und blockierenden im Sinne von reflektierenden Blendenbereichen ausgebildet ist. Die transparenten Blendenbereiche sind in Form und Anordnung an die transparenten Maskenbereiche angepasst. Neben der Rohrinnenwand sind auch die Eintritts- und Austrittsaperturen innenseitig verspiegelt ausgeführt, so dass jene Lichtanteile, die am freien Austritt an der Austrittapertur erstmalig gehindert werden, an dieser innenseitig reflektiert werden und im Wege erneuter Vielfach-Reflexionen letztlich durch die transparenten Lichtaustrittbereiche der Austrittsapertur gelangen.
Neben der Verwendung innenverspiegelter Rohre ist auch der Einsatz von stabförmigen, aus transparentem Vollmaterial bestehenden Lichtleiter denkbar, deren Umfangsmantelfläche verspiegelt ist und/oder deren Lichtleitereigenschaften auf geeignet gewählten Brechungsindexgradienten beruht. Auch bei einer derartigen Ausbildungsvariante sind an der Stabeintritts- und Stabaustrittsfläche geeignet designte Aperturformen angebracht, die dem vorstehend beschriebenen Effekt dienen.
Zur Beschreibung von möglichen technischen Ausführungsbeispielen für das lösungsgemäß ausgebildete optische Modul wird auf die nachfolgenden Figuren im einzelnen Bezug genommen.
Kurze Beschreibung der Erfindung
Die Erfindung wird nachstehend ohne Beschränkung des allgemeinen Erfindungsgedankens anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen exemplarisch beschrieben. Es zeigen:
1 schematisierte Darstellung eines einen Homogenisierer enthaltenen Lichtstrahlenganges mit Maskenabbildung auf eine Substratoberfläche,
2a, b Darstellung eines Homogenisierers mit nachfolgendem Optikmodul zur Fokussierung des Lichtstrahls auf transparente Maskenbereiche,
3 Darstellung eines Homogenisierers in Art eines optischen Integrators zur Ausbildung eines an die transparenten Maskenbereiche angepassten Lichtstrahls, sowie
4 Darstellung eines Homogenisierers mit nachfolgendem optischen Abbildungssystem.
Wege zur Ausführung der Erfindung, gewerbliche Verwendbarkeit
In 1 ist schematisiert der gesamte Strahlengang eines Laserstrahls L, ausgehend von einer Laserstrahlenquelle, vorzugsweise Excimer-Laser (nicht dargestellt) bis hin zur Abbildung des Laserstrahls in eine Abbildungsebene A, in der eine bestimmte technische Nutzung des Laserstrahls L erfolgt.
Der Laserstrahl L passiert zur Strahlanpassung an die Eintrittsapertur des Homogenisierers H eine Teleskoplinsenanordnung T, auf die im Weiteren nicht weiter einzugehen ist. Im Strahlengang des Homogenisierers H nachfolgend ist ein lösungsgemäß ausgebildetes optisches Modul O vorgesehen, das den homogenisierten Laserstrahl im Strahlquerschnitt derart zu formen vermag, so dass der gesamte Querschnitt des homogenisierten Lichtstrahls weitgehend verlustfrei ausschließlich auf die transparenten Maskenbereiche eine im Strahlengang nachgeordneten Maske M abgebildet wird. Zur Anpassung der Pupillenlage der im Strahlengang der Maske M vorgeordneten Optik an die Eintrittspupille einer der Maske M im Strahlengang nachfolgenden Abbildungsoptik AO, über die das Maskenabbild auf eine Abbildungsebene A abgebildet wird, in der für gewöhnlich ein zu bearbeitendes Substrat platziert ist, dient eine der Maske M im Strahlengang vor gelagerte Feldlinse F.
Das lösungsgemäß ausgebildete, optische Modul ist vorzugsweise im Bereich der homogenen Bildebene B angebracht, in die die homogenisierende Einheit H, in der zudem eine Kondensorlinse K vorgesehen ist, den sich homogenisierend ausbildenden Laserstrahl abbildet.
Untere Bezugnahme auf 2a und b wird eine konkrete Ausführungsform zur Ausbildung des optischen Moduls näher erläutert. In 2a sei angenommen, dass der von links kommende Laserstrahl L eine homogenisierende Einheit H passiert, die sich aus einem ersten Zylinderlinsenarray 1, einem zweiten Zylinderlinsenarray 2 sowie zwei Abbildungslinsen 3, 4 zusammensetzt. Die vier optischen Komponenten 1, 2, 3, 4 bilden einen an sich bekannten Homogenisierer nach dem Stand der Technik. Die weitere Beschreibung bezieht sich auf die in 2b gezeigte Detaildarstellung, die den Bereich gemäß 2a entspricht, der von dem strichliierten Kreisring umgeben ist. Der Homogenisierer H vermag den Laserstrahl L in eine homogenisierte Bildfeldebene B abzubilden. Unmittelbar im Strahlengang dieser nachgeordnet ist eine Linsenanordnung 5 vorgesehen, die den gesamten homogenisierten Laserstrahlquerschnitt weiter abzubilden vermag. Im gezeigten Ausführungsbeispiel sei angenommen, dass die Linsenanordnung 5 aus einem 4×4-Linsenarray besteht, wobei jede einzelne Linse des Linsenarrays eine rechteckigförmige Eintrittsapertur aufweist. Die 4×4-Rechteckslinsenanordnung weist eine entsprechend rechtecksförmige Gesamtapertur auf, die dem Strahlquerschnitt des homogenisierten Lichtstrahls angepasst ist. Aufgrund der nahtlosen Aneinandersetzung der einzelnen Linsen innerhalb des Linsenarrays wird somit der gesamte Strahlquerschnitt des homogenisierten Laserstrahls durch die 4×4-Linsenanorndung auf die Maskenebene abgebildet, in der die Maske M angeordnet ist. Die Abbildungsbereiche, der einzelnen Linsen fallen mit den transparenten Maskenbereichen der Maske M zusammen.
Vorzugsweise weisen sämtliche Linsen in der Linsenanordnung 5 einen identischen Querschnitt auf, so dass die einzelnen Fokuspunkte in der Maskenebene mit jeweils identischer Lichtintensität beleuchtet werden. Hierdurch kann ein regelmäßiges Maskenmuster, das vorzugsweise Punktöffnungen oder kleine Rechtecköffnungen in der ansonsten nichttransparenten Maskenumgebung vorsieht, mit erhöhter Lichtintensität gegenüber bisherigen Maskenbeleuchtungen gewonnen werden, wobei lösungsgemäß kein Lichtverlust durch blockierende Maskenbereiche auftritt.
Bei Verwendung rechteckiger und nicht quadratischer Eintrittsaperturen bei den einzelnen Linsen in der Linsenanordnung 5 können Beleuchtungsmuster in der Maskenebene mit unterschiedlichen „Pitch" für die beiden orthogonalen Strahlquerschnittsrichtungen auf der Maske erzeugt werden, die in unterschiedlichen technischen Anwendungsbereichen vorteilhaft genutzt werden können.
Eine weitere Möglichkeit zur selektiven Abbildung eines homogenisierten Lichtstrahls auf lokale Bereiche in der Maskenebene ist in 3 dargestellt. So sei zunächst angenommen, dass ein Lichtstrahl L in bereits homogenisierter Form von links auf die stab- bzw. röhrförmige Anordnung 6 auftrifft. Beispielsweise sei angenommen, dass die röhrförmige Anordnung als Hohlrohr ausgebildet ist, dessen Rohrinnenwand über eine reflektierende Beschichtung verfügt. Die Eintrittsapertur des Rohres 6 ist an den Querschnitt des einfallenden homogenisierten Laserstrahls L angepasst und gleichfalls Innenseitig verspiegelt. Dies ist in 3 mit der Lochblendenanordnung 61 illustriert. Der sich längs des Rohres 6 ausbreitende Laserstrahl unterliegt einer weiteren Homogenisierung durch Vielfachreflexionen an der Rohrinnenwand. Die Austrittsapertur des Rohrs 6 ist durch eine Austrittsmaske 62 bestimmt, die über eine Vielzahl einzelner Austrittsöffnungen 63 verfügt, die an die transparenten Maskenbereiche einer nicht in 3 dargestellten und im Strahlengang nachgeordnete Maske angepasst sind. Die Detaildarstellung in 3 verdeutlicht den Strahlenaustritt an der Austrittsapertur 62 des Rohres 6 und zeigt einen Austritt einer Vielzahl vereinzelter Lichtstrahlen 7.
In 4 ist eine optische Zwischenabbildungseinheit 8 im Strahlengang der Austrittsapertur 62 des Rohres 6 nachgeordnet, durch die die Vielzahl der einzelnen Strahlen 7 auf transparente Maskenbereiche 9 fokussiert abgebildet werden.
Die in 3 abgebildete stab- oder rohrförmig ausgebildete Einheit 6 stellt jedoch für sich genommen bereits einen an sich bekannten Homogenisierer dar, der zur Homogenisierung von einfallendem Laserlicht L eingesetzt werden kann. Im weiteren wird daher unter nochmaliger Bezugnahme auf das Ausführungsbeispiel in 3 davon ausgegangen, dass der von links einfallende Laserstrahl L noch keine Homogenisierung erfuhr und lediglich über eine Abbildungsoptik 10 auf die Eintrittsapertur 61 der vorstehend bereits beschriebenen rohr- bzw. stabförmigen Einheit 6 abgebildet wird. Die Innenflächen der Eintritts- und Austrittsaperturen 61, 62 sowie auch der Innenwandfläche des Rohres 6 sind verspiegelt ausgebildet, so dass jene Lichtanteile, die nicht durch die Öffnungen 63 der Austrittsapertur 62 gelangen, innerhalb der rohrförmigen Einheit 6 zurückgespiegelt werden bis sie letztlich durch die entsprechenden Austrittsöffnungen 63 gelangen. Sofern innerhalb des Rohres 6 zurückreflektiertes Licht an der inneren Eintrittsfläche 61 wieder reflektiert wird, gelangt dieses erneut zur Austrittsfläche 62 und kann teilweise durch die Austrittsöffnungen 63 austreten. Somit vermag ein derart modifizierter Homogenisierer in jenen Bereichen des weiteren Strahlenganges Licht durchlassen, die mit den transparenten Maskenbereichen einer Strahlengang nachgeordneten Maske M zusammenfallen.

1: erste Zylinderlinsenanordnung
2: zweite Zylinderlinsenanordnung
3, 4: Abbildungslinsen
5: Linsenarrayanordnung
6: stab- bzw. rohrförmig ausgebildeter Homogenisierer
61: Eintrittsapertur
62: Austrittsapertur
63: Austrittsaperturöffnungen
7: vereinzelte Lichtstrahlen
8: nachgeordnete optische Abbildungseinheit
9: transparente Maskenbereiche
10: Abbildungsoptik
M: Maske
B: homogenisierte Bildfeldebene
H: Homogenisierer
L: Laserstrahl
T: Teleskopanordnung
O: Optisches Modul
AO: Abbildungsoptik
A: Abbildungsebene
F: Feldlinse
K: Kondensorlinse

Claims

Vorrichtung zur Strahlformung eines homogenisierten Lichtstrahls, insbesondere eines Laserstrahls, mit einer den Lichtstrahl zumindest längs einer Querschnittsachse des Lichtstrahls homogenisierenden Einheit, einer im Strahlengang des Lichtstrahls nachfolgenden Maske, die für den Lichtstrahl blockierende und transparente Maskenbereiche aufweist, sowie einer im Strahlengang nachfolgenden optischen Abbildungseinheit, dadurch gekennzeichnet, dass im Strahlengang zwischen der homogenisierenden Einheit und der Maske ein optisches Modul vorgesehen ist, das den gesamten Querschnitt des homogenisierten Lichtstrahls weitgehend verlustfrei auf einen transparenten Maskenbereich oder mehrere transparente Maskenbereiche abbildet.
Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Modul den homogenisierten Lichtstrahl gesamtheitlich weitgehend ohne Verluste und ausschließlich auf sämtliche transparente Maskenbereiche gleichmäßig verteilt abbildet.
Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Modul eine an den Strahlquerschnitt des homogenisierten Lichtstrahl angepasste Eintrittsapertur aufweist, oder dass im Strahlengang vor dem optischen Modul eine Teleskoplinsenanordnung vorgesehen ist, die den homogenisierten Lichtstrahl auf die Eintrittsapertur des optischen Moduls anpasst.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Modul wenigstens eine, vorzugsweise mehrere Abbildungslinsen aufweist, durch die der homogenisierte Lichtstrahl auf einen transparenten Maskenbereich oder auf mehrere transparente Maskenbereiche abgebildet wird.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Modul aus einer zeilen- oder arrayförmig angeordneten Linsenanordnung besteht, mit Abbildungslinsen, die über rechteckförmige Aperturen verfügen, und dass die Abbildungslinsen nahtlos nebeneinander angeordnet sind und eine flächig zusammenhängende Eintrittsapertur für das optische Modul bilden.
Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass sämtliche Abbildungslinsen der Linsenanordnung identisch ausgebildet sind.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die den Lichtstrahl homogenisierende Einheit über eine Kondensoroptik verfügt, die den sich ausbildenden homogenisierenden Strahlquerschnitt des Lichtstrahls in eine homogene Bildfeldebene abbildet, und dass das optische Modul am Ort der homogenen Bildfeldebene, in Strahlrichtung nahe davor oder nahe dahinter angeordnet ist.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Modul einen optischen Integrator in Art eines Lichtleiters aufweist, der über eine Eintrittsapertur sowie über eine Austrittsapertur verfügt, die unter Massgabe der transparenten Maskenbereiche ausgebildet ist.
Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass im Strahlengang dem optischen Integrator nachfolgend ein optisches Abbildungssystem vorgesehen ist, das den Lichtstrahl oder die durch die Austrittsapertur des Integrator erzeugten Lichtstrahlen auf die transparenten Maskenbereiche abbildet.
Vorrichtung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass der optische Integrator als Stab- oder Hohlintergrator ausgebildet ist, längs dem der Lichtstrahl durch Reflexion an einer den Integrator begrenzenden Grenzfläche in Strahlrichtung ausbreitet.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Austrittsapertur durch eine Austrittsmaske bestimmt ist, die der im Strahlengang nachfolgenden Maske skaliert nachgebildet ist.
Vorrichtung nach dem Oberbegriff des Anspruches 1, dadurch gekennzeichnet, dass die homogenisierende Einheit in Form eines optischen Integrators in Art eines Lichtleiters ausgebildet ist, der über eine Eintrittsapertur sowie über eine Austrittsapertur verfügt, dass die Austrittsapertur unter Massgabe der transparenten Maskenbereiche ausgebildet ist und den gesamten Querschnitt des homogenisierten Lichtstrahls weitgehend verlustfrei auf einen transparenten Maskenbereich oder mehrere transparente Maskenbereiche abbildet.
Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass der optische Integrator den Lichtstrahl gesamtheitlich weitgehend ohne Verluste und ausschließlich auf sämtliche transparente Maskenbereiche gleichmäßig verteilt abbildet.
Vorrichtung nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass im Strahlengang dem optischen Integrator nachfolgend ein optisches Abbildungssystem vorgesehen ist, das den Lichtstrahl oder die durch die Austrittsapertur des Integrator erzeugten Lichtstrahlen auf die transparenten Maskenbereiche abbildet.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass der optische Integrator als Stab- oder Hohlintergrator ausgebildet ist, längs dem der Lichtstrahl durch Reflexion an einer den Integrator begrenzenden Grenzfläche in Strahlrichtung ausbreitet.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Austrittsapertur durch eine Austrittsmaske bestimmt ist, die der im Strahlengang nachfolgenden Maske in skaliert nachgebildet ist.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass der Laserstrahl ein Excimer-Laserstrahl ist.
Verfahren zur Strahlformung eines homogenisierten Lichtstrahls, insbesondere eines Laserstrahls, bei dem der Lichtstrahl zumindest längs einer Querschnittsachse des Lichtstrahls homogenisiert und über eine im Strahlengang des Lichtstrahls nachfolgenden Maske, die für den Lichtstrahl blockierende und transparente Maskenbereiche aufweist, im Strahlquerschnitt geformt wird, dadurch gekennzeichnet, dass der homogenisierte Lichtstrahl vor Durchtritt durch die Maske derart geformt wird, dass der gesamte Querschnitt des homogenisierten Lichtstrahls weitgehend verlustfrei auf einen transparenten Maskenbereich oder auf mehrere transparente Maskenbereiche abgebildet wird.
Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass der homogenisierte Lichtstrahl gesamtheitlich weitgehend ohne Verluste und ausschließlich auf sämtliche transparente Maskenbereiche gleichmäßig verteilt abgebildet wird.