DE102007030820A1 - Walzen- oder zylinderförmige Kontaktiereinheit, Galvanisiervorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer dünnen Metall-Folie - Google Patents

Walzen- oder zylinderförmige Kontaktiereinheit, Galvanisiervorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer dünnen Metall-Folie Download PDF

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Abstract

Es wird eine walzen- oder zylinderförmige Kontaktiereinheit (1) zur Verwendung in einem Elektrolytbad (2) für die galvanische Herstellung einer elektrisch leitenden Folie beschrieben. Eine Mantelfläche (12) der Kontaktiereinheit (1) umfasst zumindest eine Schicht (13, 15) aus einem Material, an der sich in dem Elektrolytbad (2) gelöste Metallionen in Form von Metallpartikeln anlagern können. Das Material der Schicht (13, 15) umfasst ein insbesondere metallisches Nitrid. Die zumindest eine Schicht (13, 15) ist in Umfangsrichtung durchgängig bestrombar. Der Kontaktiereinheit (1) ist eine Abtragvorrichtung (30) zugeordnet, mit welcher ein vollständiges Abtragen der an der Mantelfläche (12) angelagerten Metallpartikel von der Mantelfläche (12) entlang einer Linie erfolgt, die sich zwischen den Grundflächen der Kontaktiereinheit (1) erstreckt.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine walzen- oder zylinderförmige Kontaktiereinheit zur Verwendung in einem Elektrolytbad für die galvanische Herstellung einer elektrisch leitenden Folie. Die Erfindung betrifft ferner eine Galvanisiervorrichtung sowie ein Galvanisiersystem zur galvanischen Herstellung einer elektrisch leitenden Folie. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur galvanischen Herstellung einer vollflächigen, elektrisch leitenden Folie sowie eine Metallfolie selbst.
  • Dünne, vollflächige Metallfolien ohne Trägerschicht werden beispielsweise für Batterien benötigt. Die Herstellung solcher Folien, die eine Dicke von ca. 10 μm aufweisen, erfolgt über mehrfache Walzprozesse und anschließende Klopfprozesse, um die gewünschte Foliendicke zu erzielen. Die mechanischen Verarbeitungsschritte erlauben es nicht, dünnere Folien als die oben genannten Werte herzustellen. Ferner zieht der Herstellungsprozess hohe Werkzeug- und Produktionskosten nach sich.
  • Bekannte Galvanisiervorrichtungen bzw. Galvanisiersysteme werden zum freien galvanischen Abschneiden einer strukturierten oder auch vollflächigen Schicht auf einem Substrat aus einem nicht leitfähigen Trägermaterial verwendet. Auf diese Weise ist es möglich, Leiterstrukturen oder vollflächige Leiterschichten herzustellen, die auf dem Trägermaterial aufgebracht sind. Beispielsweise werden Antennenspulen, Leiterplatten, Chipkartenmodule oder dergleichen mit solchen Einrichtungen gefertigt. Vollflächige Leiterschichten dienen in der Regel dazu, eine elektrische Abschirmung bereitzustellen. Ein Ablösen der galvanischen Schicht von dem Trägermaterial ist dabei nicht vorgesehen.
  • In einer bekannten Anwendung, die zur Herstellung spezifischer Leiterzugstrukturen verwendet wird, wird ein kontinuierlich als Kathode geschalteter Metallzylinder zumindest teilweise in ein Elektrolytbad eingetaucht und in Drehung versetzt. In dem Elektrolytbad befindet sich eine Anodenanordnung. An der sich langsam drehenden Kathode lagert sich eine Metallschicht ab, die außerhalb des Elektrolyten auf eine Folie auflaminiert wird, indem die Metallfolie von der Kathode abgeschält wird. Nachdem die Metallschicht auflaminiert ist, wird ein Resistlack aufgebracht, der anschließend fotolithographisch belichtet wird. Mit einem anschließenden Ätzschritt werden diejenigen Bereiche der ganzflächigen Metallschicht weggeätzt, die für eine Leiterzugstrukturierung nicht mehr benötigt werden. Nach dem Entfernen des auf der strukturierten Metallschicht verbleibenden Ätzresistlacks ist eine gewünschte Leiterstruktur fertig gestellt. Das Verfahren weist zum einen den Nachteil auf, dass lediglich geringe Durchsatzraten erzielbar sind und in regelmäßigen Abständen eine anodische oder mechanische Abreinigung der zylinderförmigen Kathode erfolgen muss, was Produktions- und Durchsatzzeiten nachteilig beeinflusst. Zum anderen erlaubt es das Verfahren nicht, eine vollflächige Metallfolie ohne Trägermaterial herzustellen. Dies resultiert daraus, dass die von der Kathode abgeschälte Metallfolie eine solche Dicke aufweist, welche ohne die sie stabilisierende Folie nicht dauerstabil wäre. Würde die Anordnung andererseits derart betrieben, dass sich an der langsam drehenden Kathode eine dickere Metallschicht ablagert, so kann beim Abschälen der Metallfolie von der Kathode nicht sichergestellt werden, dass dies beschädigungsfrei geschieht.
  • Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Kontaktiereinheit, eine Galvanisiervorrichtung sowie ein Galvanisierungssystem bereitzustellen, mit welchen die kontinuierliche Fertigung einer in ihrer Dicke variabel einstellbaren, vollflächigen Metallfolie ohne Trägermaterial möglich ist, wobei die Herstellung der Metallfolie zu wirtschaftlich günstigeren Konditionen erfolgen soll. Es ist ferner Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Herstellen einer in ihrer Dicke einstellbaren Metallfolie anzugeben.
  • Diese Aufgaben werden erfindungsgemäß mit den Merkmalen der unabhängigen Patentansprüche gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich jeweils aus den abhängigen Patentansprüchen.
  • Eine erfindungsgemäße walzen- oder zylinderförmige Kontaktiereinheit zur Verwendung in einem Elektrolytbad für die galvanische Herstellung einer elektrisch leitenden Folie zeichnet sich dadurch aus, dass eine Mantelfläche der Kontaktiereinheit zumindest eine Schicht aus einem Material, umfassend ein insbesondere metallisches Nitrid, umfasst, an der sich in dem Elektrolytbad gelöste Metallionen in Form von Metallpartikeln anlagern können. Die Kontaktiereinheit ist derart ausgestaltet, dass die zumindest eine Schicht in Umfangsrichtung durchgängig bestrombar ist. Der Kontaktiereinheit ist eine Abtragvorrichtung zugeordnet, mit welcher ein vollständiges Abtragen der an der Mantelfläche angelagerten Metallpartikel von der Mantelfläche entlang einer Linie erfolgt, die sich zwischen den Grundflächen der Kontaktiereinheit erstreckt.
  • Die an der Kontaktiereinheit vorgesehene Schicht aus einem, insbesondere metallischen Nitrid, ermöglicht einerseits die Anlagerung der in dem Elektrolytbad gelösten Metallionen. Andererseits können die an der Schicht angelagerten Metallpartikel bei prinzipiell beliebiger Schichtdicke der Metallfolie unter Aufwendung lediglich ge ringer Kräfte vollständig von der Mantelfläche der Kontaktiereinheit abgetragen bzw. abgelöst werden. Der Vorteil besteht darin, dass eine mechanische Abreinigung der Kontaktiereinheit nicht notwendig ist und die erfindungsgemäße Kontaktiereinheit deshalb kontinuierlich zur Herstellung einer Metallfolie konstanter Eigenschaften, d. h. konstanter Dicke, betrieben werden kann. Es ist ferner nicht notwendig, die von der Kontaktiereinheit abgetragene oder abgelöste Metallfolie auf ein Trägermaterial aufzukaschieren, da es die auf der Kontaktiereinheit aufgebrachte Schicht erlaubt, eine hinreichend dünne Schichtdicke der Metallfolie zu erzeugen, so dass diese eine ausreichend große Eigenstabilität aufweist. Das Abtragen könnte z. B. durch ein Ablösen oder Abziehen erfolgen. Die durch die erfindungsgemäße Kontaktiereinheit hergestellte Metallfolie lässt sich dabei dünner herstellen im Vergleich zu gewalzten und geklopften Metallfolien. Derartige Metallfolien mit einer Dicke zwischen 2 und 10 μm können beispielsweise als Batteriefolie verwendet werden. Hierbei ist die galvanische Herstellung der Folie kostengünstiger als dies unter Verwendung mechanischer Verarbeitungswerkzeuge im Stand der Technik möglich ist. Ein weiterer Vorteil ist der natürliche Aufbau der Metallfolie, bei der – im Gegensatz zu herkömmlichen Metallfolien – das Knick- und Biegeverhalten nicht von der Walzrichtung abhängig ist. Eine erfindungsgemäße Metallfolie ist auf einer Seite glatt und weist auf der anderen Seite eine Struktur auf, wie sie beispielsweise bei Batteriefolie gewünscht ist. Insbesondere ist auch nicht – wie im Stand der Technik – ein Zwischenglühen notwendig. Dieser Schritt wird bei herkömmlichen Verfahren benötigt, um das Gefüge des Metalls walzbar zu machen, um dann eine weitere Dickenreduzierung erzielen zu können.
  • Es hat sich als besonders vorteilhaft herausgestellt, wenn die Schicht der Mantelfläche Chrom-Nitrid und/oder Titan-Nitrid umfasst. Hierbei lässt sich ein optimaler Kompromiss zwischen dem Anlagern der in dem Elektrolytbad gelösten Metallionen an der Mantelfläche und einem vollständigen Abtragen von der Mantelfläche erzielen, ohne dass eine spätere mechanische Abreinigung zwingend notwendig wäre.
  • Die Kontaktiereinheit umfasst gemäß einer Ausgestaltung einen walzen- oder zylinderförmigen Grundkörper, auf den die zumindest eine Schicht, insbesondere durch Bedampfen aufgebracht ist. Der Grundkörper ist z. B. aus Titan oder aus VA-Stahl gebildet. Es ist ausreichend, wenn lediglich eine Schicht auf dem Grundkörper aufgebracht ist. Denkbar ist jedoch auch, eine Schichtfolge, umfassend eine Mehrzahl an Schichten, auf den Grundkörper aufzubringen. Dabei kann das Material der Mehrzahl an Schichten wahlweise eines der oben genannten sein. Zweckmäßigerweise weist jede Schicht der zumindest einen Schicht jeweils eine Schichtdicke von 1 bis 5 μm auf. Weiter bevorzugt ist es, wenn jede Schicht der zumindest einen Schicht jeweils eine Schichtdicke von etwa 3 μm aufweist.
  • Zweckmäßigerweise ist der Grundkörper hohl ausgebildet. Dies ermöglicht eine elektrische Kontaktierung der zumindest einen Schicht auf der Mantelfläche vom Inneren des Grundkörpers her. Hierdurch lässt sich ein besonders einfacher mechanischer Aufbau der Galvanisiereinrichtung sowie des Galvanisiersystems bewirken.
  • Gemäß einer weiteren Ausbildung weist die Kontaktiereinheit in axialer Richtung ein oder mehrere Segmente auf, wobei jedes Segment in Umfangsrichtung der Kontaktiereinheit eine durchgängige und unabhängig voneinander bestrombare Oberfläche mit der zumindest einen Schicht aufweist. Hierdurch lassen sich beispielsweise unterschiedliche Schichtbreiten der Metallfolie herstellen. Insbesondere können hierdurch mehrere, entsprechend der Breite der jeweiligen Segmente breite, Metallfolien gleichzeitig gefertigt werden. Die zwei benachbarten Segmente sind durch einen Isolator (z. B. aus Kunststoff) elektrisch voneinander getrennt. Dies bedeutet, dass eine elektrische Isolation nicht nur im Bereich der Mantelfläche, d. h. der Schicht folgt, sondern auch im Bereich des Grundkörpers, der aus einem leitenden Material besteht. Somit soll eine komplette elektrische Entkopplung zwischen jeweiligen Segmenten vorgesehen sein.
  • Es ist ferner zweckmäßig, wenn jedem der Segmente jeweils zumindest eine Stromeinspeisung, insbesondere aus Kupfer, zugeordnet ist. Hierdurch ist es möglich, be stimmte Segmente stromlos zu schalten, so dass im Bereich dieser Segmente keine Metallfolie erstellt wird.
  • Gemäß einer weiteren Ausbildung ist vorgesehen, dass die Stromeinspeisung in dem Grundkörper über den Innenumfang des Grundkörpers verteilt ausgebildet ist. Hierdurch ergibt sich über den Umfang der Kontaktiereinheit eine im Wesentlichen gleichförmige Stromverteilung, so dass die mit der erfindungsgemäßen Kontaktiereinheit hergestellte Metallfolie eine gleichförmig homogene Dicke aufweist.
  • Die Abtragvorrichtung erstreckt sich axial oder in einem spitzen Winkel zu einer Drehachse der Kontaktiereinheit zu der Kontaktiereinheit, wobei die Abtragvorrichtung eine Abtragkante umfasst, die an der Kontaktiereinheit anliegt. Hierdurch kann ein zerstörungsfreies Ablösen, insbesondere Abschaben, der sich an der Kontaktiereinheit anlagernden Metallpartikel erfolgen, wobei letztendlich eine Metallfolie abgetragen wird. Die Abtragvorrichtung ist hierbei zumindest größtenteils zumindest außerhalb des Elektrolytbads angeordnet, wenn die Kontaktiereinheit in dem Elektrolytbad angeordnet ist. Insbesondere die Abtragskante kann in das Elektrolytbad eintauchen, um sicherzustellen, dass die Kontaktiereinheit im Wesentlichen vollständig in dem Elektrolytbad angeordnet ist.
  • Um ein zerstörungsfreies und kontinuierliches Ablösen der Folie von der Kontaktiereinheit zu ermöglichen, ist vorgesehen, die Abtragskante tangential oder in einem Winkel von maximal ±20° gegenüber der Tangentialen zu der Kontaktiereinheit anzuordnen. Die Anordnung der Abtragsvorrichtung relativ zu der Kontaktiereinheit hängt im Wesentlichen von der Ausgestaltung der Abtragskante ab. Ein wesentliches zu erzielendes Kriterium bei der relativen Anordnung zueinander ist, dass durch das Ablösen eine Beschädigung der Metallfolie vermieden ist, da diese auch im Weiteren nicht durch einen Träger stabilisiert wird.
  • Es hat sich bei Versuchen im Weiteren herausgestellt, dass es zweckmäßig ist, den Durchmesser der Kontaktiereinheit gegenüber bislang verwendeten Kontaktierein heiten zu vergrößern. Zweckmäßigerweise ist der Durchmesser der Kontaktiereinheit größer als 100 mm, bevorzugt größer als 150 mm und am meisten bevorzugt größer als 300 mm. Hierdurch wird einerseits die Herstellung einer ausreichenden Dicke der Metallfolie begünstigt, da die Verweilzeit in dem Elektrolytbad aufgrund des Durchmessers gegenüber herkömmlichen Kontaktiereinheiten größer ist. Andererseits hat sich herausgestellt, dass der vergrößerte Durchmesser das Abtragen der Metallfolie positiv beeinflusst und es hierbei zu keinen Beschädigungen kommt.
  • Eine erfindungsgemäße Galvanisiervorrichtung zur galvanischen Herstellung einer elektrisch leitenden Folie umfasst ein Elektrolytbad, in dem zumindest eine Anodeneinrichtung und zumindest eine Kontaktiereinheit angeordnet sind. Die zumindest eine Kontaktiereinheit ist hierbei in der oben beschriebenen Art ausgebildet. Eine erfindungsgemäße Galvanisiervorrichtung weist die gleichen Vorteile auf, wie sie vorstehend in Verbindung mit der Kontaktiereinheit beschrieben wurden.
  • Gemäß einer Ausbildung ist die zumindest eine Kontaktiereinheit vollständig oder nahezu vollständig in dem Elektrolytbad drehbar gelagert, wobei die Drehgeschwindigkeit der Kontaktiereinheit, insbesondere in Abhängigkeit des Durchmessers der Kontaktiereinheit, zur Herstellung einer gewünschten Dicke der Folie vorgebbar einstellbar ist. Bei gegebenem Durchmesser der Kontaktiereinheit kann damit durch Variation der Drehgeschwindigkeit die am Ende erhaltene Dicke der Metallfolie in gewünschter Weise beeinflusst werden.
  • Die zumindest eine Kontaktiereinheit ist gemäß einer weiteren Ausbildung ohne eine diese umgebende Abschirmung in dem Elektrolytbad gelagert. Dies bedeutet, dass es erwünscht ist, dass sich Metallionen über den gesamten Umfang der Kontaktiereinheit an die Mantelfläche anlagern.
  • Optional kann ein mechanisch wirkendes Reinigungsmittel zur Abreinigung einer jeweiligen Kontaktiereinheit vorgesehen sein, welches insbesondere außerhalb des Elektrolytbads gelagert ist. Hierbei kann das Reinigungsmittel als, insbesondere drehbar gelagerte, Bürste ausgebildet sein, die mit der zumindest einen Kontaktiereinheit in ständigem mechanischem Kontakt steht. Das Reinigungsmittel ist vorzugsweise abgeschirmt angeordnet und wird mit gering-konzentrierter Schwefelsäure gespült, welche dann abgeleitet wird, um das Elektrolytbad nicht zu verunreinigen.
  • Ein erfindungsgemäßes Galvanisiersystem umfasst zumindest eine Aufnahmevorrichtung, die die von der Kontaktiereinheit abgetragene Metallfolie aufnimmt. Die Galvanisiervorrichtung ist dabei in der oben beschriebenen Art ausgebildet.
  • Ein erfindungsgemäßes Galvanisiersystem kann zumindest zwei Galvanisiervorrichtungen aufweisen, die in dem gleichen Elektrolytbad betreibbar sind. Eine Mehrzahl an Galvanisiervorrichtungen arbeitet hier parallel, d. h. es wird zumindest eine der Anzahl der Galvanisiervorrichtungen entsprechende Anzahl an Metallfolien erstellt.
  • Ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung einer vollflächigen, elektrisch leitenden Folie mit einer Dicke von 2 μm bis 1000 μm, bevorzugt von 2 μm bis 25 μm, und weiter bevorzugt von 2 μm bis 10 μm, umfasst die folgenden Schritte: Eine walzen- oder zylinderförmige Kontaktiereinheit wird in einer Galvanisiervorrichtung, die ein Elektrolytbad und eine Anodeneinrichtung umfasst, gemäß einer vorgegebenen Geschwindigkeitsfunktion in dem Elektrolytbad gedreht, wobei die Kontaktiereinheit eine Mantelfläche mit zumindest einer Schicht aus einem Material, umfassend ein insbesondere metallisches Nitrid, umfasst, die in Umfangsrichtung durchgängig bestromt wird, so dass sich an der zumindest einen Schicht der Kontaktiereinheit in dem Elektrolytbad gelöste Metallionen in Form von Metallpartikeln anlagern. Mittels einer der Kontaktiereinheit zugeordneten Abtragvorrichtung werden die an der Mantelfläche angelagerten Metallpartikel von der Mantelfläche entlang einer Linie flächig zum Erhalt der Folie abgetragen, welche Linie sich zwischen den Grundflächen der Kontaktiereinheit erstreckt. Die Drehung der Kontaktiereinheit erfolgt hierbei kontinuierlich. Zweckmäßigerweise erfolgt die Drehung der Kontaktiereinheit mit gleicher, d. h. konstanter Geschwindigkeit.
  • Die Erfindung umfasst weiterhin eine Metallfolie, welche nach einem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt ist. Die Metallfolie zeichnet sich durch eine Dicke von 2 μm bis 1000 μm, bevorzugt 2 μm bis 25 μm und am meisten bevorzugt 2 μm bis 10 μm, aus. Die Metallfolie ist ferner dadurch gekennzeichnet, dass diese als Endlosfolie vorliegt.
  • Die Metallfolie kann z. B. mit einer isolierenden Umhüllung versehen werden zur Ausbildung eines Flachkabels. Die Umhüllung kann z. B. durch einen Lack oder eine Kunststoffumhüllung gebildet sein. Die Breite eines solchen Flachkabels hängt von der Breite eines Segments der Kontaktiereinheit ab. Eine Kontaktiereinheit zur Herstellung von Flachkabeln weist z. B. 10 bis 20 voneinander isolierte Segmente auf. Die Dicke des Flachkabels kann dabei bis zu 1000 μm betragen.
  • Die Erfindung wird nachfolgend näher anhand der Figuren beschrieben. Es zeigen:
  • 1 eine schematische Querschnittsdarstellung einer erfindungsgemäßen Galvanisiervorrichtung,
  • 2 eine teilweise vergrößerte Darstellung einer in der Galvanisiervorrichtung verwendeten Kontaktiereinheit,
  • 3 eine Draufsicht auf die Kontaktiereinheit und eine Abtragvorrichtung, welche der Kontaktiereinheit zugeordnet ist, und
  • 4 eine perspektivische Darstellung einer segmentierten Kontaktiereinheit.
  • 1 zeigt einen Querschnitt durch eine erfindungsgemäße Galvanisiervorrichtung. In einer Wanne 3 zur Aufnahme eines Elektrolyten (sog. Elektrolytbad 2) ist eine Kontaktiereinheit 1 drehbar gelagert. Die Kontaktiereinheit 1 ist beispielsweise mit ihrem einen Ende im Inneren der Wanne 3 drehbar gelagert und mit ihrem anderen Ende durch eine Durchgangsöffnung der Wanne 3 nach außen geführt (nicht darge stellt). Ein Antrieb, der die Kontaktiereinheit 1 in Drehung versetzt, ist in 1 ebenfalls nicht dargestellt. Die Kontaktiereinheit 1 weist eine im Querschnitt walzen- oder zylinderförmige Gestalt auf.
  • Die Kontaktiereinheit 1 ist derart in dem Elektrolytbad 2 angeordnet, dass diese vollständig oder nahezu vollständig von Elektrolytflüssigkeit umgeben ist. Oberhalb der Kontaktiereinheit 1 und im Wesentlichen außerhalb des Elektrolytbads 2 ist eine Abtragvorrichtung 30 angeordnet, welche mit einer Abtragskante 31 an der Kontaktiereinheit anliegt. Wie aus der Draufsicht aus 3 besser hervorgeht, erstreckt sich die Abtragvorrichtung 30 in axialer Richtung der Kontaktiereinheit 1 über die gesamte Ballenlänge. In 3 sind ferner mit dem Bezugszeichen 12 eine Mantelfläche der Kontaktiereinheit und mit dem Bezugszeichen 11 ein Durchmesser der Kontaktiereinheit 1 dargestellt. Bezugszeichen 20 bezeichnet die Drehachse der Kontaktiereinheit.
  • Wie aus der Querschnittsdarstellung der 1 besser zu erkennen ist, erstreckt sich die Abtragvorrichtung 30, d. h. genauer eine Fläche 32 der Abtragvorrichtung 30, in etwa tangential zu der Kontaktiereinheit 1. In der von der Kontaktiereinheit 1 entfernt angeordneten Richtung ist eine Aufnahmevorrichtung 5 außerhalb der Wanne 3 der Galvanisiervorrichtung angeordnet, welche von der Abtragvorrichtung 30 abgetragene Metallfolie aufnimmt.
  • In der Wanne 3 sind beispielhaft drei Anodeneinrichtungen 4 angeordnet, die bevorzugt aus einem nicht leitenden Material gebildet sind. Jede der Anodeneinrichtungen 4 kann in Form von einem oder mehreren Körben ausgestaltet sein, welche gut von dem in der Wanne 3 befindlichen Elektrolyten durchströmbar sind. In jeder der Anodeneinrichtungen 4 befindet sich jeweils Anodenmaterial, z. B. Kupfer in Form von Kugeln.
  • Zur Herstellung von Metallfolie ist es ausreichend, wenn die Galvanisiervorrichtung, wie im Ausführungsbeispiel der 1 gezeigt, über eine einzige Kontaktiereinheit 1 verfügt. Die Kontaktiereinheit 1 umfasst einen hohlen, walzen- oder zylinderförmigen Grundkörper 10, auf welchen zumindest eine Schicht aus Chrom-Nitrid und/oder Titan-Nitrid aufgebracht ist. Die Aufbringung der zumindest einen Schicht erfolgt auf die Mantelfläche 12 des Grundkörpers 10, z. B. durch Bedampfen. Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens, das nachfolgend näher beschrieben wird, ist es ausreichend, wenn die Mantelfläche 12 des Grundkörpers 10 mit lediglich einer einzigen Schicht versehen ist. Prinzipiell kann jedoch auch, wie dies beispielhaft in 2 dargestellt ist, eine Schichtfolge aus mehreren Schichten 13, 15 auf die Mantelfläche 12 aufgebracht werden, wobei jede der Schichten 13, 15 eine Schichtdicke 14 bzw. 16 aufweist. Die Schichtdicke einer jeweiligen Schicht beträgt zwischen 1 und 5 μm und ist bevorzugt in etwa 3 μm.
  • Wenn im Rahmen der Beschreibung von der Mantelfläche 12 des Grundkörpers 10 die Rede ist, so ist hierunter sowohl die physikalische Oberfläche des Grundkörpers 10 als auch die dem Elektrolyten ausgesetzte Oberfläche der äußersten der zumindest einen Schicht zu verstehen. Dies resultiert daher, dass die Schichtdicken der Schichten 13, 15 im Vergleich zum Durchmesser des Grundkörpers 10 vernachlässigbar sind. Der aus Titan oder VA-Stahl bestehende, hohle Grundkörper 10 weist einen Durchmesser von mindestens 100 mm auf. Bevorzugt ist der Durchmesser des Grundkörpers bzw. der Kontaktiereinheit größer als 150 mm und am meisten bevorzugt größer als 300 mm.
  • Die hohle Ausbildung des Grundkörpers 10 ermöglicht eine elektrische Kontaktierung der zumindest einen Schicht auf der Mantelfläche vom Inneren des Grundkörpers her. Hierdurch vereinfacht sich der konstruktive Aufbau der Galvanisiervorrichtung. Die Stromeinspeisung in dem hohlen Grundkörper, welche insbesondere aus Kupfer gebildet ist, ist bevorzugt über den Innenumfang des Grundkörpers verteilt, um eine gleichmäßige Stromverteilung über der Mantelfläche der Kontaktiereinheit 1 zu gewährleisten.
  • In 1 ist schräg oberhalb der Kontaktiereinheit 1 ferner eine optionale, prinzipiell zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens nicht notwendige, Reinigungsbürste 40 außerhalb des Elektrolytbads 2 angeordnet. Diese ist in einem Gehäuse 41 gehaltert, wobei sich zwei Schenkel des Gehäuses 41 bis an die Mantelfläche der Kontaktiereinheit 1 erstrecken, so dass die Kontaktiereinheit 1 durch das Gehäuse 41 von dem Elektrolyten abgeschirmt ist.
  • Im Betrieb der Galvanisiervorrichtung wird die Kontaktiereinheit 1 durch den bereits erwähnten, nicht dargestellten Motor in eine Drehung versetzt, wobei die Drehgeschwindigkeit in Abhängigkeit des Durchmessers 11 der Kontaktiereinheit 1 gewählt wird. Die Drehrichtung der Kontaktiereinheit ist mit dem Bezugszeichen 21 gekennzeichnet. Gleichzeitig wird die Kontaktiereinheit 1, d. h. insbesondere die auf der Mantelfläche aufgebrachten Schichten, kathodisch geschaltet. Aufgrund dessen lagern sich die in dem Elektrolyten gelösten Metallionen an der Mantelfläche der Kontaktiereinheit 1 ab. Je nach gewählter Drehgeschwindigkeit der Kontaktiereinheit und Stromstärke auf die Mantelfläche kann sich an der Mantelfläche der Kontaktiereinheit 1 bei einer Umdrehung eine Metallschicht mit der gewünschten Dicke von z. B. 5 μm anlagern. Die Dicke der Metallschicht kann hierbei in Abhängigkeit der Elektrolytkonzentration, der Drehgeschwindigkeit der Kontaktiereinheit 1 sowie dem Durchmesser der Kontaktiereinheit 1 eingestellt werden. Durch die an der Kontaktiereinheit 1 anliegende Abtragskante 31 der Abtragvorrichtung 30 kann die Metallschicht zerstörungsfrei von der Oberfläche der Kontaktiereinheit 1 abgelöst werden. Diese wird über die Fläche 32 nach oben geschoben oder transportiert (ggf. unter Zuhilfenahme von Transportrollen oder dergleichen) und auf der Aufnahmevorrichtung 5 ohne Zwischenschaltung eines Zwischenträgers aufgewickelt.
  • Die Beschichtung der Kontaktiereinheit 1 ermöglicht es hierbei, die sich an der Kontaktiereinheit 1 aufbauende Metallfolie vollständig von der Mantelfläche 12 abzulösen, so dass eine Abreinigung der Kontaktiereinheit 1 prinzipiell nicht notwendig ist. Ferner wird das zerstörungsfreie Ablösen durch den Durchmesser der Kontaktiereinheit 1 begünstigt.
  • Gemäß einer weiteren Ausgestaltung kann die Kontaktiereinheit 1 in axialer Richtung mehrere Segmente 17, 18 aufweisen, wie dies in 4 perspektivisch dargestellt ist. Die Segmente 17, 18 weisen in Umfangsrichtung der Kontaktiereinheit 1 jeweils eine durchgängige und unabhängig voneinander bestrombare Oberfläche auf. Die Segmente 17, 18 sind durch einen Isolator 19 nicht nur im Bereich der Mantelfläche, sondern auch im Bereich des Grundkörpers der Kontaktiereinheit elektrisch voneinander getrennt. Nicht dargestellt, jedoch aus der vorangegangenen Erklärung bereits ersichtlich ist, dass jedes der Segmente jeweils zumindest eine Stromeinspeisung aufweist. Hierdurch wird es ermöglicht, die Menge an zu produzierender Metallfolie zu bestimmen. Wahlweise können das Segment 17 oder das Segment 18 oder beide Segmente 17 und 18 bestromt werden. Im ersten Fall kann eine Metallfolie nur vom Segment 17 abgelöst werden, im zweiten Fall nur vom Segment 18 und im letzten Fall von beiden Segmenten, wobei die Breite der Metallfolie jeweils von der Breite der Segmente 17 bzw. 18 abhängt.
  • Bei Inbetriebnahme der Galvanisiervorrichtung kann es erforderlich sein, die Abtragvorrichtung 30 erst nach einer gewissen Betriebsdauer bzw. einer Anzahl von Umdrehungen (zumindest eine) laufen zu lassen, bevor über die Abtragskante 31 Metallfolie von der Kontaktiereinheit 1 abgelöst wird.
  • Die Erfindung erlaubt eine besonders wirtschaftliche Herstellung von Metallfolien mit einer Dicke von 2 μm bis 1000 μm, insbesondere von 2 μm bis 25 μm, und bevorzugt von 2 μm bis 10 μm. In Abhängigkeit verschiedener Prozessparameter sowie des Durchmessers der Kontaktiereinheit können auch wesentlich dickere Metallfolien hergestellt werden.
  • 1
    Kontaktiereinheit
    2
    Elektrolytbad
    3
    Wanne
    4
    Anodeneinrichtung
    5
    Aufnahmevorrichtung
    10
    walzen- oder zylinderförmiger Grundkörper
    11
    Durchmesser der Kontaktiereinheit bzw. des Grundkörpers
    12
    Mantelfläche
    13
    erste Schicht
    14
    Schichtdicke der ersten Schicht
    15
    zweite Schicht
    16
    Schichtdicke der zweiten Schicht
    17
    Segment der Kontaktiereinheit
    18
    Segment der Kontaktiereinheit
    19
    Isolator
    20
    Drehachse der Kontaktiereinheit
    21
    Drehrichtung der Kontaktiereinheit
    22
    Innenumfang des hohlen Grundkörpers
    23
    Schaft
    30
    Abtragvorrichtung
    31
    Abtragskante
    32
    Ebene/Fläche
    40
    Reinigungsmittel bzw. Bürste
    41
    Gehäuse
    42
    Gehäuseöffnungen

Claims (28)

  1. Walzen- oder zylinderförmige Kontaktiereinheit (1) zur Verwendung in einem Elektrolytbad (2) für die galvanische Herstellung einer elektrisch leitenden Folie, wobei – eine Mantelfläche (12) der Kontaktiereinheit (1) zumindest eine Schicht (13, 15) aus einem Material, umfassend ein insbesondere metallisches Nitrid, umfasst, an der sich in dem Elektrolytbad (2) gelöste Metallionen in Form von Metallpartikeln anlagern können, – die zumindest eine Schicht (13, 15) in Umfangsrichtung durchgängig bestrombar ist, und – der Kontaktiereinheit (1) eine Abtragvorrichtung (30) zugeordnet ist, mit welcher ein vollständiges Abtragen der an der Mantelfläche (12) angelagerten Metallpartikel von der Mantelfläche (12) entlang einer Linie erfolgt, die sich zwischen den Grundflächen der Kontaktiereinheit (1) erstreckt.
  2. Kontaktiereinheit nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (13, 15) der Mantelfläche (12) Chrom-Nitrid und/oder Titan-Nitrid umfasst.
  3. Kontaktiereinheit nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass diese einen Walzen- oder Zylinderförmigen Grundköper (10) umfasst, auf den die zumindest eine Schicht (13, 15), insbesondere durch Bedampfen, aufgebracht ist.
  4. Kontaktiereinheit nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass jede Schicht (13, 15) der zumindest einen Schicht (13, 15) jeweils eine Schichtdicke von 1 bis 5 μm aufweist.
  5. Kontaktiereinheit nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass jede Schicht (13, 15) der zumindest einen Schicht (13, 15) jeweils eine Schichtdicke von etwa 3 μm aufweist.
  6. Kontaktiereinheit nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Grundkörper (10) aus Titan oder aus VA-Stahl gebildet ist.
  7. Kontaktiereinheit nach einem der Ansprüche 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Grundkörper (10) hohl ausgebildet ist und eine elektrische Kontaktierung der zumindest einen Schicht (13, 15) auf der Mantelfläche (12) vom Inneren des Grundkörpers (10) her erfolgt.
  8. Kontaktiereinheit nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Kontaktiereinheit (1) in axialer Richtung ein oder mehrere Segmente (17, 18) aufweist, wobei jedes Segment (17, 18) in Umfangsrichtung der Kontaktiereinheit (1) eine durchgängige und unabhängig voneinander bestrombare Oberfläche mit der zumindest einen Schicht (13, 15) aufweist.
  9. Kontaktiereinheit nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass zwei benachbarte Segmente (17, 18) durch einen Isolator (19) elektrisch voneinander getrennt sind.
  10. Kontaktiereinheit nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass jedem der Segmente (17, 18) jeweils zumindest eine Stromeinspeisung, insbesondere aus Kupfer, zugeordnet ist.
  11. Kontaktiereinheit nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Stromeinspeisung in dem hohlen Grundkörper (10) über den Innenumfang des Grundkörpers (10) verteilt ausgebildet ist.
  12. Kontaktiereinheit nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sich die Abtragvorrichtung (30) axial oder in einem spitzen Winkel zu einer Drehachse der Kontaktiereinheit (1) zu der Kontaktiereinheit (1) erstreckt und die Abtragvorrichtung (30) eine Abtragskante umfasst, die an der Kontaktiereinheit (1) anliegt.
  13. Kontaktiereinheit nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Abtragvorrichtung (30) zumindest größtenteils außerhalb des Elektrolytbads angeordnet ist, wenn die Kontaktiereinheit (1) in dem Elektrolytbad (2) angeordnet ist.
  14. Kontaktiereinheit nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Abtragskante tangential oder in einem Winkel von maximal ±20° gegenüber der Tangentialen zu der Kontaktiereinheit (1) angeordnet ist.
  15. Kontaktiereinheit nach einem der Ansprüche 12 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass der Durchmesser der Kontaktiereinheit (1) größer als 100 mm, bevorzugt größer als 150 mm und am meisten bevorzugt größer als 300 mm ist.
  16. Galvanisiervorrichtung zur galvanischen Herstellung einer elektrisch leitenden Folie mit einem Elektrolytbad (2), in dem zumindest eine Anodeneinrichtung und zumindest eine Kontaktiereinheit (1) angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Kontaktiereinheit nach einem der vorherigen Ansprüche ausgestaltet ist.
  17. Galvanisiervorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Kontaktiereinheit (1) vollständig oder nahezu vollständig in dem Elektrolytbad (2) drehbar gelagert ist, wobei die Drehgeschwindigkeit der Kontaktiereinheit (1), insbesondere in Abhängigkeit des Durchmessers der Kontaktiereinheit (1), zur Herstellung einer gewünschten Dicke der Folie vorgebbar einstellbar ist.
  18. Galvanisiervorrichtung nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Kontaktiereinheit (1) ohne eine diese umgebende Abschirmung in dem Elektrolytbad (2) gelagert ist.
  19. Galvanisiervorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass ein mechanisch wirkendes Reinigungsmittel zur Abreinigung einer jeweiligen Kontaktiereinheit (1) vorgesehen ist, welches in dem Elektrolytbad (2) gelagert ist.
  20. Galvanisiervorrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass das Reinigungsmittel als, insbesondere drehbar gelagerte, Bürste ausgebildet ist, die mit der zumindest einen Kontaktiereinheit (1) in ständigem mechanischen Kontakt steht.
  21. Galvanisiersystem mit zumindest einer Aufnahmevorrichtung, die die von der Kontaktiereinheit (1) abgetragene Metallfolie aufnimmt, dadurch gekennzeichnet, dass die Galvanisiervorrichtung nach einem der Ansprüche 16 bis 20 ausgebildet ist.
  22. Galvanisiersystem nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass dieses zumindest zwei Galvanisiervorrichtungen aufweist, wobei die Galvanisiervorrichtungen in dem gleichen Elektrolytbad (2) betreibbar sind.
  23. Verfahren zur galvanischen Herstellung einer vollflächigen, elektrisch leitenden Folie mit einer Dicke von ca. 2 μm bis 1000 μm, bevorzugt 2 μm bis ca. 25 μm, weiter bevorzugt von 2 μm bis 10 μm, bei dem: – eine Walzen- oder Zylinderförmige Kontaktiereinheit (1) in einer Galvanisiervorrichtung, die ein Elektrolytbad (2) und eine Anodeneinrichtung umfasst, gemäß einer vorgegebenen Geschwindigkeitsfunktion in dem Elektrolytbad (2) gedreht wird, wobei die Kontaktiereinheit (1) eine Mantelfläche (12) mit zumindest einer Schicht (13, 15) aus einem Material, umfassend ein insbe sondere metallisches Nitrid, umfasst, die in Umfangsrichtung durchgängig bestromt wird, so dass sich an der zumindest einen Schicht (13, 15) der Kontaktiereinheit (1) in dem Elektrolytbad (2) gelöste Metallionen in Form von Metallpartikeln anlagern, und – mittels einer der Kontaktiereinheit (1) zugeordneten Abtragvorrichtung (30) die an der Mantelfläche (12) angelagerten Metallpartikel von der Mantelfläche (12) entlang einer Linie flächig zum Erhalt der Folie abgetragen werden, welche Linie sich zwischen den Grundflächen der Kontaktiereinheit (1) erstreckt.
  24. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Drehung der Kontaktiereinheit (1) kontinuierlich erfolgt.
  25. Verfahren nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, dass die Drehung der Kontaktiereinheit (1) mit gleicher Geschwindigkeit erfolgt.
  26. Metall-Folie, dadurch gekennzeichnet, dass diese nach einem Verfahren nach einem der Ansprüche 23 bis 25 hergestellt ist.
  27. Metall-Folie nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass diese eine Dicke von ca. 2 μm bis ca. 1000 μm, bevorzugt ca. 2 μm bis 25 μm und weiter bevorzugt 2 μm bis 10 μm aufweist.
  28. Metall-Folie nach Anspruch 26 oder 27, dadurch gekennzeichnet, dass diese als Endlosfolie vorliegt.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003328177A (ja) * 2002-05-14 2003-11-19 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd カソード電極材及びその製造方法並びにそのカソード電極材を用いた電解銅箔製造用の回転陰極ドラム

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