DE102007006504A1

DE102007006504A1 - Ablenkvorrichtung für Gerät zur Elektronenstrahllithographie sowie Gerät zur Elektronenstrahllithographie

Info

Publication number: DE102007006504A1
Application number: DE102007006504A
Authority: DE
Inventors: Yoshimasa Numazu Sanmiya; Kenji Numazu Ohtoshi; Tetsuro Numazu Nishiyama
Original assignee: Nuflare Technology Inc
Current assignee: Nuflare Technology Inc
Priority date: 2006-02-09
Filing date: 2007-02-09
Publication date: 2007-08-30
Anticipated expiration: 2027-02-10
Also published as: US20070181819A1; JP2007214359A; JP4805686B2; US7521689B2; DE102007006504B4

Abstract

Eine Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie weist mehrere Steuerelektroden auf, die relativ zur Zentrumsachse eines abgestrahlten Elektronenstrahls angeordnet sind, wobei die Elektroden zum Steuern des Elektronenstrahls durch Anlegen von Spannungen ausgebildet sind, wobei mehrere Erdungselektroden vorgesehen sind, die entsprechend jeder Steuerelektrode angeordnet sind, und ist durch mehrere Formsubstrate gekennzeichnet, die relativ zur Zentrumsachse des Elektronenstrahls angeordnet sind, und so ausgebildet sind, dass sie Außenumfangsoberflächen der mehreren Steuerelektroden und der mehreren Erdungselektroden zugewandt sind, die jeweils an den mehreren Formsubstraten angeordnet sind. Die Ablenkvorrichtung kann das Erzeugen von Übersprechen bei verbesserter Genauigkeit des Steuerns eines Elektronenstrahls verhindern.

Description

Die vorliegende Anmeldung beruht auf der früheren Japanischen Patentanmeldung Nr. 2006-32660, eingereicht am 9. Februar 2006, deren Gesamtinhalt in die vorliegende Anmeldung durch Bezugnahme angeschlossen wird, und beansprucht deren Priorität.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Ablenkvorrichtung, die dazu eingesetzt wird, einen Elektronenstrahl zu steuern, der typischerweise zum Schreiben eines Musters bei Halbleitergeräten verwendet wird, und betrifft ein Gerät für die Elektronenstrahllithographie, das eine derartige Ablenkvorrichtung einsetzt.
Infolge der Verkleinerung von Halbleitergeräten in den vergangenen Jahren ist ein erhöhtes Ausmaß der Genauigkeit zur Maskenbearbeitung erforderlich. Es ist momentan ein Gerät für die Elektronenstrahllithographie verfügbar, das eine sehr genaue Maskenbearbeitung ermöglicht. Derartige Geräte für die Elektronenstrahllithographie sind dazu ausgebildet, einen Elektronenstrahl so zu steuern, dass er exakt einen gewünschten Punkt trifft. Eine elektrostatische Ablenkvorrichtung wird typischerweise zum Steuern eines Elektronenstrahls verwendet.

Bei der elektrostatischen Ablenkvorrichtung sind mehrere, einzeln isolierte, trapezförmige Elektrodenkörper symmetrisch in Bezug auf die Zentrumsachse des abgestrahlten Elektronenstrahls angeordnet, und wird der Elektronenstrahl in Bezug auf seine Position und andere Faktoren dadurch gesteuert, dass bei jeder der Elektroden vorbestimmte Potentialänderungen durchgeführt werden.

Wenn ein Ablenkpotential an eine vorbestimmte Elektrode angelegt wird, wird ein Mikropotential in den benachbarten Elektroden erzeugt, an welche kein Ablenkpotential angelegt ist, was zu dem Problem von Übersprechen führt. Die Japanische Patentanmeldungsoffenlegungsschrift Nr. 2002-198294 und andere Patentdokumente schlagen Vorgehensweisen vor, bei denen eine Erdungselektrode (Masseelektrode) zwischen benachbarten Elektroden angeordnet ist. Allerdings tritt das Übersprechen nicht nur zwischen Elektroden auf, sondern auch in anderen Bereichen, und ist es nicht ausreichend, das Potential zwischen benachbarten Elektroden zu steuern.

Andererseits sind eine Signalleitung zum Zuführen eines Ablenkpotentials und eine Erdungsleitung (Masseleitung) an jede Elektrode angeschlossen. Normalerweise ist die Erdungsleitung zur Außenumfangsseite der Elektrode herausgeführt, und gibt es für den Verlauf der Erdungsleitung keine spezielle Festlegung. Da sich die Impedanz der Elektrode in Abhängigkeit von dem Wegverlauf der Erdungsleitung ändert, kann jedoch das Ablenkpotential schwanken, was die Exaktheit der Steuerung des Elektronenstrahls beeinträchtigt.

Ein Ziel der vorliegenden Erfindung besteht in der Bereitstellung einer Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie, welche die Erzeugung von Übersprechen verringern kann, und die Genauigkeit der Steuerung eines Elektronenstrahls verbessern kann.

Bei einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie zur Verfügung gestellt, die mehrere Steuerelektroden aufweist, die symmetrisch in Bezug auf die Zentrumsachse eines abgestrahlten Elektronenstrahls angeordnet sind, wobei die Elektroden so ausgebildet sind, dass sie durch jeweiliges Anlegen von Spannungen den Elektronenstrahl steuern, sowie mehrere Erdungselektroden (Masseelektroden), die entsprechend jeder Steuerelektrode angeordnet sind, und dadurch gekennzeichnet ist, dass mehrere Formsubstrate symmetrisch relativ zur Zentrumsachse des Elektronenstrahls vorgesehen sind, und so angeordnet sind, dass die Außenumfangsoberflächen der mehreren Steuerelektroden zugewandt sind, wobei die mehreren Erdungselektroden jeweils an den mehreren Formsubstraten angeordnet sind.
Bei einem anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Gerät für die Elektronenstrahllithographie zur Verfügung gestellt, das eine zur Abstrahlung eines Elektronenstrahls ausgebildete Elektronenkanone aufweist,
eine Bühne, die zum Anbringen einer Maske ausgebildet ist, und eine Ablenkvorrichtung, die zwischen der Elektronenkanone und der Bühne angeordnet ist, und dazu ausgebildet ist, den von der Elektronenkanone abgestrahlten Elektronenstrahl für die Maskenbearbeitung zu steuern, und mehrere Steuerelektroden aufweist, die symmetrisch in Bezug auf die Zentrumsachse des Elektronenstrahls angeordnet sind, wobei die Elektroden dazu ausgebildet sind, den Elektronenstrahl durch jeweiliges Anlegen von Spannungen zu steuern, und durch mehrere Formsubstrate gekennzeichnet ist, die symmetrisch relativ zur Zentrumsachse des Elektronenstrahls angeordnet sind, und dazu ausgebildet sind, Außenumfangsoberflächen der mehreren Steuerelektroden zugewandt zu sein; und jeweils Erdungselektroden aufweisen, die jeweils im Zentrum eines Formsubstrats angeordnet sind.
Bei einem anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie zur Verfügung gestellt, die mehrere Steuerelektroden aufweist, die symmetrisch in Bezug auf die Zentrumsachse eines abgestrahlten Elektronenstrahls angeordnet sind, und so ausgebildet sind, dass sie den Elektronenstrahl durch jeweiliges Anlegen einer Spannung steuern, und durch eine einstückig oder vereinigt ausgebildete Erdungselektrode gekennzeichnet ist, die im Außenumfangsbereich der mehreren Steuerelektroden und zwischen den benachbarten Steuerelektroden angeordnet ist.
Bei einem anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Gerät für die Elektronenstrahllithographie zur Verfügung gestellt, das eine zum Abstrahlen eines Elektronenstrahls ausgebildete Elektronenkanode aufweist, eine Bühne, die zur Anbringung einer Maske ausgebildet ist, und eine zwischen der Elektronenkanone und der Bühne angebrachte Ablenkvorrichtung, die dazu ausgebildet ist, den von der Elektronenkanone abgestrahlten Elektronenstrahl für die Maskenbearbeitung zu steuern, und mehrere Steuerelektroden aufweist, die symmetrisch in Bezug auf die Zentrumsachse des Elektronenstrahls angeordnet sind, wobei die Elektroden so ausgebildet sind, dass sie den Elektronenstrahl durch jeweiliges Anlegen einer Spannung steuern, und durch eine einstückig oder vereinigt ausgebildete Erdungselektrode gekennzeichnet ist, die in dem Außenumfangsbereich der mehreren Steuerelektroden und zwischen den benachbarten Steuerelektroden vorgesehen ist.
Die Erfindung wird nachstehend anhand zeichnerisch dargestellter Ausführungsbeispiele näher erläutert, aus welchen weitere Vorteile und Merkmale hervorgehen. Die beigefügten Zeichnungen, die zur Beschreibung gehören, und einen Teil von dieser bilden, erläutern Ausführungsformen der Erfindung, und dienen zusammen mit der allgemeinen, voranstehenden Beschreibung und der nachstehenden, detaillierten Beschreibung der Ausführungsformen zur Erläuterung der Grundlagen der Erfindung. Es zeigt:
1 eine schematische Darstellung eines Geräts für die Elektronenstrahllithographie, bei welchem eine Ausführungsform einer Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie gemäß der vorliegenden Erfindung eingesetzt wird;
2 eine schematische Aufsicht auf ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
3 eine schematische Darstellung des Aufbaus des Formsubstrats gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
4 eine schematische Darstellung des Aufbaus des Formsubstrats gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
5 eine schematische Aufsicht auf die Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; und
6 eine schematische Aufsicht auf die Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie gemäß der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
(Ausführungsform 1)
1 ist eine schematische Darstellung eines Geräts zur Elektronenstrahllithographie, bei welcher die vorliegende Ausführungsform einer Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie gemäß der vorliegenden Erfindung eingesetzt wird. In 1 ist eine Ablenkvorrichtung 5 zum Steuern der Position eines Elektronenstrahls zwischen einer Bühne 3, die eine auf ihr angebrachte Maske 2 trägt, und einer Elektronenkanone 4 zum Abstrahlen eines Elektronenstrahls zur Maske 2 in einer Säule 1 angeordnet. Jede Ablenkvorrichtung 5 ist einzeln an eine Steuerschaltung 6 angeschlossen, um die Ablenkvorrichtung zu steuern.
2 ist eine schematische Aufsicht auf die Ablenkvorrichtung, die bei einem derartigen Gerät zur Elektronenstrahllithographie verwendet wird. Wie aus 2 hervorgeht, sind insgesamt acht Elektrodenkörper 11, die elektrisch gegeneinander isoliert sind, symmetrisch in Bezug auf die Zentrumsachse des abzustrahlenden Elektronenstrahls angeordnet. Jeder der Elektrodenkörper 11 ist ein trapezförmiges Prisma. Formsubstrate 12, typischerweise flexible Leiterplatten mit gedruckten Schaltungen, sind entlang den Außenumfangsoberflächen der Elektroden jeweils mit einem vorbestimmten Spalt dazwischen angeordnet. Wie in 3 gezeigt, ist eine Erdungsleitung (Masseleitung) 13 auf der Oberfläche der Formsubstrate 12 vorgesehen, welche der Elektrode 11 zugewandt ist, während Signalleitungen 14 auf der entgegengesetzten Oberfläche vorgesehen sind.
Durch Verwendung der Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie mit einer derartig geschilderten Konstruktion wird ermöglicht, den Elektronenstrahl so zu steuern, dass er auf die Maske auf der Bühne an einer vorbestimmten Position auftrifft, und mit einer vorbestimmten Form, durch Abstrahlen eines Elektronenstrahls zu der Maske auf der Bühne hin von der Elektronenkanone, mit einer vorbestimmten Potentialänderung von den Signalleitungen 14, die an die Steuerschaltung angeschlossen sind, und zu jeder der Elektroden 11 hinführen. Da jede der Erdungsleitungen 13 nahe an der entsprechenden Elektrode 11 befestigt ist, wird ihre Impedanz auf einem konstanten Wert gehalten, sodass ermöglicht wird, äußerst exakt den Elektronenstrahl zu steuern, und die Erzeugung von Übersprechen zu unterdrücken.
(Ausführungsform 2)
Die Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie bei der vorliegenden Ausführungsform weist eine ähnliche Konstruktion der Elektroden wie bei der Ausführungsform 1 auf, unterscheidet sich jedoch von der Ausführungsform 1 in Bezug auf die Konstruktion der Formsubstrate, die an der Seite der Außenumfangsoberflächen der Elektroden angeordnet sind.
Wie in 4 gezeigt, sind zwei Erdungsleitungen (Masseleitungen) 23 auf der Oberfläche des Formsubstrats 22 an der Seite der Außenumfangsoberfläche der Elektrode 21 bzw. auf dessen anderer Oberfläche vorgesehen, während eine Signalleitung 24 innerhalb des Formsubstrats 22 vorgesehen ist.
Durch Verwendung der Ablenkvorrichtung für das Gerät zur Elektronenstrahllithographie mit einer derartigen Konstruktion wird ermöglicht, den Elektronenstrahl so zu steuern, dass er auf die Maske auf der Bühne an einer vorbestimmten Position und mit einer vorbestimmten Form auftrifft, durch Abstrahlen eines Elektronenstrahls zu der Maske auf der Bühne hin von der Elektronenkanone aus, mit einer vorbestimmten Potentialänderung von den Signalleitungen 24, die an die Steuerschaltung angeschlossen sind, und an jede der Elektroden 21, wie bei der Ausführungsform 1. Da jede der Erdungsleitungen 23 nahe an der zugehörigen Elektrode 21 befestigt ist, wird ihre Impedanz auf einem konstanten Wert gehalten, sodass ermöglicht wird, äußerst exakt den Elektronenstrahl zu steuern, und die Erzeugung von Übersprechen zu unterdrücken, wie bei der Ausführungsform 1.
Die Elektroden sind elektrisch gegeneinander mit vorbestimmten Spalten bei den Ausführungsformen 1 und 2 isoliert, und es wird ermöglicht, das Auftreten von Übersprechen wirksamer dadurch zu unterdrücken, dass eine Erdungselektrode zwischen benachbart angeordneten Elektroden eingeführt ist.
(Ausführungsform 3)
5 zeigt eine weitere Ausführungsform einer Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie. Wie aus 5 hervorgeht, sind acht Elektrodenkörper 31 symmetrisch in Bezug auf die Zentrumsachse eines abzustrahlenden Elektronenstrahls angeordnet. Jeder der Elektrodenkörper 31 weist die Form eines trapezartigen Prismas auf, wie bei den Ausführungsformen 1 und 2, und ist teilweise von der Außenumfangsseite aus ausgeschnitten, um den Spalt zwischen den benachbarten Elektroden der Außenumfangsseite breiter auszubilden als jenen an der Zentrumsachsenseite. Eine einstückig oder vereinigt ausgebildete Erdungsleitung 33 ist entlang den Außenumfängen und in den verbreiterten Teilen an den Außenumfangsseiten der Spalte angeordnet. Signalleitungen 34 sind entlang dem Außenumfang der Erdungsleitung 33 angeordnet.
Durch Verwendung der Ablenkvorrichtung für das Gerät zur Elektronenstrahllithographie mit einer derartigen Konstruktion wird ermöglicht, den Elektronenstrahl so zu steuern, dass er auf die Maske auf der Bühne an einer vorbestimmten Position und mit einer vorbestimmten Form auftrifft, durch Abstrahlen eines Elektronenstrahls zur Maske auf der Bühne von der Elektronenkanone mit einer vorbestimmten Potentialänderung von den Signalleitungen 34, die an die Steuerschaltung und an jede der Elektroden 31 angeschlossen sind, ebenso wie bei der Ausführungsform 1. Da jede der Erdungsleitungen 33 nahe an der zugehörigen Elektrode 31 befestigt ist, wird ihre Impedanz auf einem konstanten Wert gehalten, sodass ermöglicht wird, äußerst exakt den Elektronenstrahl zu steuern, und die Erzeugung von Übersprechen zu unterdrücken, wie bei der Ausführungsform 1.
Während eine einstückig oder vereinigt ausgebildete Erdungsleitung entlang den Außenumfängen und in den verbreiterten Teilen an den Außenumfangsseiten der Spalte bei der vorliegenden Ausführungsform vorgesehen ist, kann sie auch mit Isolierabschnitten 35 versehen sein, die aus einem Isoliermaterial wie beispielsweise Keramik bestehen, an ihren jeweiligen Teilen, die sich zur Zentrumsachse hin erstrecken, wie dies in 6 gezeigt ist.
Zusätzliche Vorteile und Abänderungen werden Fachleuten auf diesem Gebiet leicht einfallen. Daher ist die Erfindung in ihren weiteren Aspekten nicht auf die spezifischen Einzelheiten und repräsentativen Ausführungsformen beschränkt, die hier dargestellt und beschrieben wurden. Daher können verschiedene Abänderungen vorgenommen werden, ohne vom Wesen oder Umfang des allgemeinen, erfindungsgemäßen Konzepts abzuweichen, die sich aus der Gesamtheit der vorliegenden Anmeldeunterlagen ergeben, und von den beigefügten Patentansprüchen umfasst sein sollen.

Claims

Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie, wobei die Ablenkvorrichtung (5) mehrere Steuerelektroden (11) aufweist, die symmetrisch in Bezug auf eine Zentrumsachse eines abgestrahlten Elektronenstrahls angeordnet sind, die Elektroden (11) so ausgebildet sind, dass sie den Elektronenstrahl durch jeweiliges Anlegen einer Spannung steuern, und mehrere Erdungselektroden (13) entsprechend den Steuerelektroden vorgesehen sind, gekennzeichnet durch mehrere Formsubstrate (12), die symmetrisch in Bezug zur Zentrumsachse des Elektronenstrahls angeordnet sind, und so ausgebildet sind, dass sie Außenumfangsoberflächen der mehreren Steuerelektroden (11) und der mehreren Erdungselektroden (13) zugewandt sind, die jeweils an einem der mehreren Formsubstrate (12) vorgesehen sind.
Ablenkvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Erdungselektroden (13) auf der Oberfläche jeweils eines der Formsubstrate (12) vorgesehen ist, welche jeweils einer der Steuerelektroden (11) zugewandt ist.
Ablenkvorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Signalleitung (14), die auf jedem der Formsubstrate (12) angeordnet ist, und dazu ausgebildet ist, ein Steuersignal jeder der Steuerelektroden (11) zuzuführen.
Ablenkvorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Signalleitung (14) an der entgegengesetzten Seite jeder Oberfläche der Formsubstrate (12) vorgesehen ist, wobei die Oberfläche jeweils einer der Steuerelektroden (11) zugewandt ist.
Ablenkvorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Signalleitung (14) im Inneren jedes der Formsubstrate (12) vorgesehen ist.
Ablenkvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass jedes der Formsubstrate (12) eine flexible Leiterplatte ist.
Ablenkvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Steuerelektroden (11) die Form eines trapezartigen Prismas aufweist.
Ablenkvorrichtung für ein Gerät zur Elektronenstrahllithographie, wobei die Ablenkvorrichtung (5) mehrere Steuerelektroden (31) aufweist, die symmetrisch in Bezug auf eine Zentrumsachse eines abgestrahlten Elektronenstrahls angeordnet sind, und so ausgebildet sind, dass sie den Elektronenstrahl durch jeweiliges Anlegen einer Spannung steuern, gekennzeichnet durch eine einstückig ausgebildete Erdungselektrode (33), die im Außenumfangsbereich der mehreren Steuerelektroden (31) und zwischen den benachbarten Steuerelektroden (31) vorgesehen ist.
Ablenkvorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Steuerelektroden (31) die Form eines trapezartigen Prismas aufweist, teilweise ausgeschnitten von der Außenumfangsseite.
Gerät zur Elektronenstrahllithographie, das eine Elektronenkanone (4) aufweist, die zum Abstrahlen eines Elektronenstrahls ausgebildet ist, eine Bühne (3), die zum Anbringen einer Maske (2) ausgebildet ist, und eine Ablenkvorrichtung (5), die zwischen der Elektronenkanone (4) und der Bühne (3) vorgesehen ist, und dazu ausgebildet ist, den von der Elektronenkanone (4) abgestrahlten Elektronenstrahl für die Maskenbearbeitung zu steuern, wobei mehrere Steuerelektroden (11) symmetrisch in Bezug auf eine Zentrumsachse des Elektronenstrahls vorgesehen sind, und die Elektroden (11) dazu ausgebildet sind, den Elektronenstrahl durch jeweiliges Anlegen einer Spannung zu steuern, gekennzeichnet durch mehrere Formsubstrate (12), die symmetrisch in Bezug auf die Zentrumsachse des Elektronenstrahls angeordnet sind, und so ausgebildet sind, dass die Außenumfangsoberflächen der mehreren Steuerelektroden (11) zugewandt sind; und Erdungselektroden (13) aufweisen, die jeweils an den mehreren Formsubstraten angeordnet sind.
Gerät nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Erdungselektroden (13) auf der Oberfläche jedes der Formsubstrate (12) vorgesehen ist, welche jeder der Steuerelektroden (11) zugewandt ist.
Gerät nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch eine Signalleitung (14), die auf jeder der Formsubstrate (12) angeordnet ist, und dazu ausgebildet ist, ein Steuersignal jeder der Steuerelektroden (11) zuzuführen.
Gerät nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Signalleitung (14) auf der entgegengesetzten Seite der Oberfläche jedes der Formsubstrate (12) angeordnet ist, wobei die Oberfläche jeder der Steuerelektroden (11) zugewandt ist.
Gerät nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Signalleitung (14) im Inneren jedes der Formsubstrate (12) angeordnet ist.
Gerät nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass jedes der Formsubstrate (12) eine flexible Leiterplatte ist.
Gerät nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Steuerelektroden (11) die Form eines trapezartigen Prismas aufweist.
Gerät zur Elektronenstrahllithographie, das eine zum Abstrahlen eines Elektronenstrahls ausgebildete Elektronenkanone (4) aufweist, eine zum Anbringen einer Maske (2) ausgebildete Bühne (3), und eine Ablenkvorrichtung (5), die zwischen der Elektronenkanone (4) und der Bühne (3) angeordnet ist, und zum Steuern des von der Elektronenkanone (4) abgestrahlten Elektronenstrahls zur Maskenbearbeitung ausgebildet ist, und mehrere Steuerelektroden (11) aufweist, die symmetrisch in Bezug auf die Zentrumsachse des Elektronenstrahls angeordnet sind, wobei die Elektroden (11) so ausgebildet sind, dass sie den Elektronenstrahl durch jeweiliges Anlegen einer Spannung steuern, gekennzeichnet durch eine einstückig ausgebildete Erdungselektrode (13), die in dem Außenumfangsbereich der mehreren Steuerelektroden (11) und zwischen den benachbarten Steuerelektroden (11) angeordnet ist.
Gerät nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass jede der Steuerelektroden (11) die Form eines trapezartigen Prismas aufweist, die teilweise aus der Außenumfangsseite ausgeschnitten ist.