DE102005052858A1

DE102005052858A1 - Reinigungssystem

Info

Publication number: DE102005052858A1
Application number: DE102005052858A
Authority: DE
Inventors: Josef Janzer; Klaus Hermann; Georg Dr. Kleiser; Wolfgang Mayer; Herbert Bosch; Thomas Gnann; Joachim Dr. Grabscheid
Original assignee: Voith Patent GmbH
Current assignee: Voith Patent GmbH
Priority date: 2005-11-07
Filing date: 2005-11-07
Publication date: 2007-05-10

Abstract

Bei einem Reinigungssystem für eine Zentralwalzenpresse mit einer von einem Zentralband umschlungenen Zentralwalze sind zur Reinigung des Zentralbandes Reinigungsmittel wie insbesondere Hochdruckreinigungsmittel, Niederdruckreinigungsmittel und/oder wenigstens ein Reinigungsschaber vorgesehen.

Description

Die Erfindung betrifft ein Reinigungssystem für eine Zentralwalzenpresse mit einer von einem Zentralband umschlungenen Zentralwalze.
In Zentralwalzenpressen werden sogenannte Zentralbänder eingesetzt, die die Zentralwalze umschlingen und als Transferbänder zur zugfreien Übergabe der zu behandelnden Materialbahn, insbesondere Papier- oder Kartonbahn, in die Trockenpartie dienen. Da ein solches Zentralband naturgemäß mit der Papierbahn in Kontakt kommt, ist es einer gewissen Verschmutzung aufgrund sich ablagernder Papierstoffe usw. ausgesetzt.
Eine solche Verschmutzung des Zentralbandes kann sich nun aber nachteilig insbesondere auf die Papierqualität, den Bahnlauf und die Standzeit des jeweiligen Zentralbandes auswirken. So besteht beispielsweise die Gefahr einer Beeinträchtigung der Papierqualität durch auftretende Oberflächendefekte, Verdrückungen, Dünnstellen und Schmutzstoffe. Der Bahnlauf kann unter anderem durch Einrisse und Löcher beeinträchtigt werden. Die Standzeit kann insbesondere durch lokale Überpressungen, Risse, Ausbrüche und Veränderungen der Oberflächenstruktur verkürzt werden, wobei es durch diese Defekte insbesondere auch zu einer Verschlechterung der Papierabgabe sowie der Papiereigenschaften kommen kann.

Es sind bereits Reinigungsvorrichtungen zur Filz-, Band- und Walzenreinigung bekannt. Entsprechende Reinigungselemente ergeben sich beispielsweise aus der EP 0 908 556 A2 . Die damit erzielte Reinigungswirkung ist allerdings unzureichend.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein verbessertes Reinigungssystem der eingangs genannten Art zu schaffen. Dabei soll insbesondere bei schnelleren Papiermaschinen, bei denen es unter anderem zu einer Nebelbildung kommen kann, eine höhere Reinigungseffizienz erzielt werden.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass zur Reinigung des Zentralbandes Reinigungsmittel wie insbesondere Hochdruckreinigungsmittel, Niederdruckreinigungsmittel und/oder wenigstens ein Reinigungsschaber vorgesehen sind.

Vorteilhafterweise umfassen die dem Zentralband zugeordneten Reinigungsmittel sowohl Hochdruckreinigungsmittel und/oder Niederdruckreinigungsmittel als auch wenigstens einen Reinigungsschaber, wobei bevorzugt das Hochdruck- bzw. Niederdruckreinigungsmittel in Bandlaufrichtung vor dem Reinigungsschaber angeordnet ist.

Umfassen die dem Zentralband zugeordneten Reinigungsmittel sowohl Hochdruckreinigungsmittel als auch Niederdruckreinigungsmittel, so sind zweckmäßigerweise die Hochdruckreinigungsmittel in Bandlaufrichtung vor den Niederdruckreinigungsmitteln angeordnet.

Bei einer bevorzugten praktischen Ausführungsform des erfindungsgemäßen Reinigungssystems umfassen die Hochdruckreinigungsmittel wenigstens einen quer zur Laufrichtung des Zentralbandes traversierenden Hochdruckstrahlreiniger. Dabei können beispielsweise Hochdruckstrahlreiniger in der Art eines "DuoCleaner", oder dergleichen eingesetzt werden. Durch einen sol chen Hochdruckstrahlreiniger werden Verschmutzungen von der Bandoberfläche gelöst oder abgetragen sowie Verkrustungen aufgebrochen. Von Vorteil ist insbesondere, dass dadurch Problemzonen besonders intensiv gereinigt werden.

Eine besonders gute Reinigungswirkung ergibt sich, wenn der traversierende Hochdruckstrahlreiniger für einen Betrieb in einem Druckbereich bis zu 300 bar, vorzugsweise jedoch maximal 250 bar ausgelegt ist.

Von Vorteil ist insbesondere auch, wenn der durch den traversierenden Hochdruckstrahlreiniger erzeugte Fluidstrahl unter einem Winkel gegen die Bahnlaufrichtung auf das Zentralband auftrifft, der größer als etwa 30° und kleiner als 90° ist.

Insbesondere bei rotierenden Düsen ist es vorteilhaft, wenn der Fluidstrahl senkrecht auf das Zentralband auftrifft.

Der vom trasversierenden Hochdruckstrahlreiniger erzeugte Fluidstrahl kann zweckmäßigerweise Reinigungsstoffe enthalten.

Die Hochdruckreinigungsmittel können vorteilhafterweise insbesondere auch wenigstens ein Hochdruckspritzrohr umfassen. Dabei kann als Hochdruckspritzrohr insbesondere ein Nadelstrahlspritzrohr vorgesehen sein.

Das vorzugsweise oszilierende Hochdruckspritzrohr ist vorteilhafterweise für einen Betrieb in einem Druckbereich von etwa 5 bis etwa 70 bar und vorzugsweise für einen Betrieb in einem Druckbereich von etwa 10 bis etwa 30 bar ausgelegt.

Um eine möglichst sichere Ableitung der Schmutzpartikel zu gewährleisten, liegt die vom Hochdruckspritzrohr gelieferte Fluidmenge zweckmäßigerweise in einem Bereich von etwa 0,5, vorzugsweise von etwa 4 bis zumindest etwa 10 l/min m (Arbeitsbreite).

Bei einer bevorzugten praktischen Ausführungsform des erfindungsgemäßen Reinigungssystems umfassen die Hochdruckreinigungsmittel sowohl wenigstens einen traversierenden Hochdruckstrahlreiniger als auch wenigstens ein Hochdruckspritzrohr, vorzugsweise wenigstens ein Nadelstrahlspritzrohr. Bevorzugt ist hierbei der traversierende Hochdruckstrahlreiniger in Bandlaufrichtung vor dem Hochdruckspritzrohr angeordnet.

Die Niederdruckreinigungsmittel umfassen vorteilhafterweise wenigstens ein Niederdruckspritzrohr. Bevorzugt ist dabei als Niederdruckspritzrohr ein Niederdruckfächerspritzrohr vorgesehen, wobei ein solches Niederdruckfächerspritzrohr zweckmäßigerweise so ausgeführt ist, dass das Zentralband zumindest über eine der Breite der zu behandelnden Materialbahn entsprechende Breite hinweg flächendeckend beaufschlagt wird.

Ein solches Niederdruckfächerspritzrohr kann insbesondere auch die Schmierung und/oder Kühlung und/oder Schmutzabfuhr eines nachfolgenden, das Zentralband beaufschlagenden Reinigungsschabers unterstützen.

Um das Niederdruckspritzrohr freizuhalten, kann dieses vorteilhafterweise zusätzlich mit Spüldüsen versehen sein.

Bevorzugt beaufschlagt das Niederdruckspritzrohr das Zentralband in einem Bereich von etwa 0 bis etwa 20 cm vor einem in Bandlaufrichtung nachfolgenden Reinigungsschaber.

Die Niederdruckreinigungsmittel können vorteilhafterweise auch zwei Niederdruckspritzrohre umfassen, wobei diese das Zentralband vorzugsweise wieder in einem Bereich von etwa 0 bis etwa 20 cm vor einem in Bandlaufrichtung nachfolgenden Reinigungsschaber beaufschlagen.

Bevorzugt unterstützen die Niederdruckreinigungsmittel gleichzeitig die Schmierung und/oder Kühlung eines in Bandlaufrichtung nachfolgenden Reinigungsschabers. Dabei wird vorteilhafterweise im Bereich des Reinigungsschabers ein über die Breite zumindest im Wesentlichen gleichmäßiger Fluidfilm auf dem Zentralband erzeugt.

Es ist somit sichergestellt, dass ein gleichmäßiger Fluidfilm auf dem Zentralband für eine gleichmäßige Schmierung und Kühlung des Schabers sorgt, was für einen zuverlässigen Betrieb wesentlich ist. So wird mit einem solchen gleichmäßigen Fluidfilm die Gefahr eines vorzeitigen Verschleißes des Zentralbandes sowie des Schabers auf ein Minimum reduziert. Schäden wie Bänderrisse oder gar eine Havarie werden zuverlässig vermieden. Zudem kann problemlos ein jeweils gewünschtes Feuchtequerprofil eingehalten werden.

Das von dem Hochdruckreinigungs- bzw. Niederdruckreinigungsmittel gelieferte Fluid besitzt zweckmäßigerweise eine Temperatur im Bereich der Prozesstemperatur. Bevorzugt besitzt dieses Fluid eine Temperatur, die in einem Bereich von etwa 30 bis etwa 50°C liegt.

Bevorzugt ist der Reinigungsschaber einem Bereich des Zentralbandes zugeordnet, der auf der anderen Seite durch eine vorzugsweise umlaufende Gegenfläche abgestützt ist, wodurch die Reinigungswirkung weiter verbessert wird.

Dabei ist die Gegenfläche zweckmäßigerweise durch eine rotierende, vorzugsweise angetriebene Walze gebildet. Dabei ist insbesondere auch von Vorteil, wenn das Zentralband die Walze umschlingt und im Umschlingungsbereich vom Reinigungsschaber beaufschlagt ist. Hierbei ist der Umschlingungswinkel bevorzugt < 30°.

Gemäß einer bevorzugten praktischen Ausführungsform ist überdies zur Reinigung der umlaufenden Gegenfläche ein direkt die umlaufende Gegenfläche beaufschlagender Schaber vorgesehen. Durch diesen Schaber werden Fremdstoffe von der umlaufenden Gegenfläche entfernt, wodurch ausgeschlossen wird, dass Partikel und/oder Ablagerungen auf dieser Gegenfläche das Schaberergebnis auf der Materialbahnseite des Zentralbandes negativ beeinflussen oder gar zu einer Bandbeschädigung führen.

Indem der dem Zentralband zugeordnete Reinigungsschaber also gegen eine Gegenfläche, vorzugsweise eine rotierende Walze, arbeitet, wird eine saubere Abstreifwirkung über die gesamte Breite erreicht.

Vorteilhafterweise ist die umlaufende Gegenfläche in Laufrichtung vor dem diese Gegenfläche beaufschlagenden Schaber durch ein Spritzrohr oder dergleichen mit Fluid beaufschlagt, wodurch die Funktionssicherheit weiter erhöht wird. Damit ist insbesondere ausgeschlossen, dass Schmutzpartikel auf der Innenseite des Zentralbandes sich auf der vorzugsweise durch eine Walze gebildeten Gegenfläche ablagern und dadurch das Abstreifergebnis des dem Zentralband zugeordneten Schabers negativ beeinflussen.

Eine besonders wirksame Reinigung wird erreicht, wenn beispielsweise zunächst mittels eines traversierenden Hochdruckstrahlreinigers, zum Beispiel eines "DuoCleaners" oder dergleichen zunächst Verkrustungen gelöst werden und mittels eines nachfolgenden Fächerspritzrohres das Zentralband zumindest über eine der Materialbahnbreite entsprechende Breite gleichmäßig befeuchtet oder bespritzt wird. Bevorzugt ist der traversierende Hochdruckstrahlreiniger in Bandlaufrichtung vor dem dem Zentralband zugeordneten Schaber angeordnet, wobei er vorzugsweise auch vor einem ggf. vorgesehenen Niederdruckreinigungsmittel angeordnet ist. Der dem Zentralband zugeordnete Schaber nimmt die durch den traversierenden Hochdruckstrahlreiniger losgelösten und durch das darauffolgende Hochdruckspritzrohr aufgeschwemmten Partikel vom als Transferband dienenden Zentralband ab.

Die verschiedenen Reinigungselemente sind also bevorzugt in einer definierten Reihenfolge angeordnet, so dass deren Funktion in einem die Reinigungseffizienz erhöhenden Wirkungszusammenhang stehen. Bevorzugt ist hierbei die folgende in Bandlaufrichtung aufeinanderfolgende Anordnung von Reinigungsmitteln: traversierender Hochdruckstrahlreiniger, Hochdruckspritzrohr, insbesondere Nadelstrahlspritzrohr, Niederdruckspritzrohr, insbesondere Niederdruckfächerspritzrohr, mit oder ohne Sprühdüsen, ggf. ein zweites Niederdruckspritzrohr, ein dem Zentralband zugeordneter Schaber. Gegebenenfalls können auch einzelne Reinigungselemente weggelassen werden.

Vorteilhafterweise ist zur Entfernung von Nebel und/oder Schmutz wenigstens eine Absaugung vorgesehen. Dabei umfasst der Absaugbereich dieser Absaugung bevorzugt zumindest den Umgebungsbereich der Hochdruckreinigungsmittel, den Umgebungsbereich der Niederdruckreinigungsmittel und/oder den Umgebungsbereich des dem Zentralband zugeordneten Reinigungsschabers.

Dabei ist es vorteilhaft, wenn die Absaugvorrichtung in Bandlaufrichtung nach dem Reinigungsmittel und/oder im Bereich einer Bandumlenkung angeordnet ist. Hierdurch wird gewährleistet, dass der bei der Reinigung entste hende Luft-Fluid-Nebel infolge der Bewegung des Zentralbandes zur Absaugvorrichtung geführt wird.

Von Vorteil ist insbesondere auch, wenn die Absaugung ein Gehäuse umfasst, das mit einer Klappe versehen ist, über die ein zum Pulper führender Bereich verschließbar ist bzw. freigegeben werden kann. Dabei kann die Klappe beispielsweise beim Überführen zur Papierableitung in den Pulper geöffnet werden. Während des Betriebs ist diese Klappe dagegen geschlossen, um Fluid bzw. Wasser separat ableiten zu können, so dass es nicht zu einer Verdünnung der Wasser/Stoff-Konzentration im Pulper kommt.

Bei einer zweckmäßigen praktischen Ausführungsform des erfindungsgemäßen Reinigungssystems ist wenigstens ein weiterer der Reinigung des Zentralbandes dienender Reinigungsschaber vorgesehen, der das Zentralband in einem Bereich beaufschlagt, in dem es durch eine weitere vorzugsweise umlaufende Gegenfläche abgestützt ist. Diese weitere Gegenfläche kann in einem Abstand von der ersten Gegenfläche vorgesehen sein. Vorteilhafterweise ist das Zentralband vor dem zweiten Reinigungsschaber wieder mittels eines Spritzrohres beaufschlagt, wobei das Spritzrohr in Bandlaufrichtung vorzugsweise 0 bis etwa 20 cm vor dem zweiten Reinigungsschaber angeordnet ist.

Auch die weitere Gegenfläche kann wieder durch eine rotierende, vorzugsweise angetriebene Walze gebildet sein. Zweckmäßigerweise umschlingt das Zentralband die Walze, wobei das Zentralband im Umschlingungsbereich vom zweiten Reinigungsschaber beaufschlagt ist.

Auch zur Reinigung der weiteren Gegenfläche kann überdies vorteilhafterweise wieder ein direkt diese weitere Gegenfläche beaufschlagender Schaber vorgesehen sein. Dabei ist bevorzugt auch die weitere Gegenfläche in Laufrich tung vorteilhafterweise vor dem zugeordneten Schaber wieder durch ein Spritzrohr oder dergleichen mit Fluid beaufschlagt.

Die Erfindung wird im Folgenden anhand eines Ausführungsbeispiels unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher beschrieben.
Die einzige Figur dieser Zeichnung zeigt in schematischer Darstellung eine beispielhafte Ausführungsform eines Reinigungssystems 10 für eine hier nur teilweise dargestellte Zentralwalzenpresse mit einer von einem Zentralband 14 umschlungenen Zentralwalze 16.
Die zu behandelnde Materialbahn, hier zum Beispiel Papier- oder Kartonbahn, wird im Anschluss an die Zentralwalze 16 im Bereich einer Pickup-Saugwalze 18 durch ein Trockensieb 20 von dem Zentralband 14 abgenommen.
Das Zentralband 14 wird im Anschluss an die Pickup-Saugwalze 18 zu einer Umlenkwalze 22, im Anschluss daran zumindest im Wesentlichen vertikal nach unten einer vorzugsweise angetriebenen Walze 24, daraufhin schräg weiter nach unten zu einer unteren Umlenkwalze 26 und im Anschluss daran über eine weitere vorzugsweise angetriebene Walze 28 zurück zur Zentralwalze 16 geführt.
Zur Reinigung des Zentralbandes 14 sind unter anderem Hochdruckreinigungsmittel 30, 32, Niederdruckreinigungsmittel 34 und ein Reinigungsschaber 36 vorgesehen.
Dabei sind die Hochdruckreinigungsmittel 30, 32 in Bandlaufrichtung L vor den Niederdruckreinigungsmitteln 34 und die Niederdruckreinigungsmittel 34 in Bandlaufrichtung L vor dem Reinigungsschaber 36 angeordnet.
Die Hochdruckreinigungsmittel 30, 32 umfassen einen quer zur Laufrichtung L des Zentralbandes 14 traversierenden Hochdruckstrahlreiniger 30. Beim vorliegenden Ausführungsbeispiel trifft der durch den traversierenden Hochdruckstrahlreiniger 30 erzeugte Fluidstrahl unter einem Winkel α gegen die Bandlaufrichtung L auf das Zentralband 14 auf, der vorzugsweise größer als etwa 30° und kleiner als 90° ist.
Die Hochdruckreinigungsmittel 30, 32 können überdies optional ein Hochdruckspritzrohr 32 umfassen, bei dem es sich insbesondere um ein oszillierendes Nadelstrahlspritzrohr handeln kann.
Der traversierende Hochdruckstrahlreiniger 30 ist in Bandlaufrichtung L vor dem Hochdruckspritzrohr 32 angeordnet.
Die in Bandlaufrichtung L nach den Hochdruckreinigungsmitteln 30, 32 angeordneten Niederdruckreinigungsmittel 34 umfassen wenigstens ein Niederdruckspritzrohr 34'. Dabei ist als Niederdruckspritzrohr 34' bevorzugt ein Niederdruckflächenspritzrohr vorgesehen, das so ausgeführt ist, dass das Zentralband 14 zumindest über eine der Breite der zu behandelnden Materialbahn entsprechende Breite hinweg flächendeckend beaufschlagt wird.
Das Niederdruckspritzrohr 34' kann zusätzlich mit Spüldüsen versehen sein, um das Rohr freizuhalten.
Bevorzugt beaufschlagt das Niederdruckspritzrohr 34' das Zentralband 14 in einem Bereich von etwa 0 bis etwa 20 cm vor dem in Bandlaufrichtung L nachfolgenden Reinigungsschaber 36.
Optional können die Niederdruckreinigungsmittel 34 auch noch ein weiteres Niederdruckspritzrohr umfassen. Dabei wird das Zentralband 14 von beiden Niederdruckspritzrohren vorzugsweise wieder in einem Bereich von etwa 0 bis etwa 20 cm vor dem in Bandlaufrichtung L nachfolgenden Reinigungsschaber 36 beaufschlagt.
Die Niederdruckreinigungsmittel 34 unterstützen gleichzeitig die Schmierung und/oder Kühlung des in Bandlaufrichtung L nachfolgenden Reinigungsschabers 36. Dabei wird im Bereich des Reinigungsschabers 36 ein über die Breite zumindest im Wesentlichen gleichmäßiger Fluidfilm auf dem Zentralband 14 erzeugt.
Wie anhand der einzigen Figur zu erkennen ist, beaufschlagt der Reinigungsschaber 36 das Zentralband 14 in einem Bereich, der auf der anderen Seite durch eine umlaufende Gegenfläche 38 abgestützt ist, die im vorliegenden Fall durch die rotierende, vorzugsweise angetriebene Walze 24 gebildet ist.
Das Zentralband 14 umschlingt die Walze 24 vorzugsweise über einen Winkel < 30° und wird im Umschlingungsbereich vom Reinigungsschaber 36 beaufschlagt.
Zudem ist zur Reinigung der die umlaufende Gegenfläche 38 bildenden Walze 24 ein direkt diese Walze 24 beaufschlagender Schaber 40 vorgesehen.
Wie anhand der einzigen Figur zu erkennen ist, wird die die Gegenfläche 38 bildende Walze 24 in Laufrichtung vor dem Schaber 40 durch ein Spritzrohr 42 oder dergleichen mit Fluid beaufschlagt.
Zur Entfernung von Nebel und/oder Schmutz ist eine vorzugsweise maschinenbreite Absaugung 44 vorgesehen.
Dabei umfasst der Absaugbereich dieser Absaugung 44 vorzugsweise zumindest den Umgebungsbereich der Hochdruckreinigungsmittel 30, 32, den Umgebungsbereich der Niederdruckreinigungsmittel 34 und/oder den Umgebungsbereich des dem Zentralband 14 zugeordneten Reinigungsschabers 36.
Wie anhand der einzigen Figur zu erkennen ist, ist das Gehäuse 46 der Absaugung 44 im unteren Bereich mit einer Klappe 48 versehen, über die ein zum Pulper führender Bereich verschließbar ist bzw. freigegeben werden kann. Diese Klappe 48 kann beim Überführen zur Papierableitung 50 in den Pulper geöffnet werden. Während des Betriebs ist diese Klappe 48 normalerweise geschlossen.
In vorliegenden Fall ist ein weiterer der Reinigung der Bandinnenseite des Zentralbandes 14 dienender Reinigungsschaber 52 vorgesehen, der das Zentralband 14 in einen Bereich beaufschlagt, in dem es durch eine weitere umlaufende Gegenfläche 54 abgestützt ist. Dabei wird das Zentralband 14 in Bandlaufrichtung L vorzugsweise 0 bis etwa 20 cm vor dem weiteren Reinigungsschaber 52 wieder mittels eines Spritzrohres 56 beaufschlagt.
Die weitere Gegenfläche 54 ist im vorliegenden Fall durch die vorzugsweise angetriebene Walze 28 gebildet.
Das Zentralband 14 umschlingt auch diese weitere Walze 28. Dabei wird das Zentralband 14 wieder im Umschlingungsbereich von dem Spritzrohr 56 und dem weiteren Reinigungsschaber 52 beaufschlagt.
Überdies ist zur Reinigung der die weitere Gegenfläche 54 bildenden Walze 28 auch wieder ein direkt die Walze beaufschlagender Schaber 58 vorgesehen.
Die weitere Walze 28 kann in Laufrichtung vor dem zugeordneten Schaber 58 wieder durch ein hier nicht gezeigtes Spritzrohr oder dergleichen mit Fluid beaufschlagt sein.
In der Figur ist überdies ein im Bereich der Walze 24 vorgesehenes Schutzblech 60 zu erkennen.

10: Reinigungssystem
12: Zentralwalzenpresse
14: Zentralband
16: Zentralwalze
18: Pickup-Saugwalze
20: Trockensieb
22: Umlenkwalze
24: Walze
26: untere Umlenkwalze
28: Walze
30: Hochdruckreinigungsmittel, traversierender Hochdruckstrahlreiniger
32: Hochdruckreinigungsmittel, Hochdruckspritzrohr
34: Niederdruckreinigungsmittel
34': Niederdruckspritzrohr
36: Reinigungsschaber
38: Gegenfläche
40: Schaber
42: Spritzrohr
44: Absaugung
46: Gehäuse
48: Klappe
50: Papierableitung
52: Reinigungsschaber
54: Gegenfläche
56: Spritzrohr
58: Schaber
60: Schutzblech
L: Bandlaufrichtung
α: Winkel

Claims

Reinigungssystem (10) für eine Zentralwalzenpresse (12) mit einer von einem Zentralband (14) umschlungenen Zentralwalze (16), dadurch gekennzeichnet, dass zur Reinigung des Zentralbandes (14) Reinigungsmittel wie insbesondere Hochdruckreinigungsmittel (30, 32), Niederdruckreinigungsmittel und/oder wenigstens ein Reinigungsschaber (36) vorgesehen sind.
Reinigungssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die dem Zentralband (14) zugeordneten Reinigungsmittel sowohl Hochdruckreinigungsmittel (30, 32) und/oder Niederdruckreinigungsmittel (34) als auch wenigstens einen Reinigungsschaber (36) umfassen, wobei bevorzugt das Hochdruck- bzw. Niederdruckreinigungsmittel (30, 32; 34) in Bandlaufrichtung (L) vor dem Reinigungsschaber (36) angeordnet ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die dem Zentralband (14) zugeordneten Reinigungsmittel sowohl Hochdruckreinigungsmittel (30, 32) als auch Niederdruckreinigungsmittel (34) umfassen und dass die Hochdruckreinigungsmittel (30, 32) in Bandlaufrichtung (L) vor den Niederdruckreinigungsmitteln (34) angeordnet sind.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hochdruckreinigungsmittel (30, 32) wenigstens einen quer zur Laufrichtung (L) des Zentralbandes (14) traversierenden Hochdruckstrahlreiniger umfassen.
Reinigungssystem nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass der traversierende Hochdruckstrahlreiniger (30) für einen Betrieb in einem Druckbereich bis zu 300 bar ausgelegt ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass der durch den traversierenden Hochdruckstrahlreiniger (30) erzeugte Fluidstrahl unter einem Winkel (α) gegen die Bandlaufrichtung (L) auf das Zentralband (14) auftrifft, der größer als etwa 30° und kleiner als 90° ist.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der vom traversierenden Hochdruckstrahlreiniger (30) erzeugte Fluidstrahl Reinigungsstoffe enthält.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hochdruckreinigungsmittel (30, 32) wenigstens ein Hochdruckspritzrohr (32) umfassen.
Reinigungssystem nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass als Hochdruckspritzrohr (32) ein Nadelstrahlspritzrohr vorgesehen ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Hochdruckspritzrohr (32) für einen Betrieb in einem Druckbereich von etwa 5 bis etwa 70 bar ausgelegt ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Hochdruckspritzrohr (32) für einen Betrieb in einem Druckbereich von etwa 10 bis etwa 30 bar ausgelegt ist.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die vom Hochdruckspritzrohr (32) gelieferte Fluidmenge in einem Bereich von etwa 4 bis zumindest etwa 10 Um min liegt.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hochdruckreinigungsmittel (30, 32) sowohl wenigstens einen traversierenden Hochdruckstrahlreiniger (30) als auch wenigstens ein Hochdruckspritzrohr (32), vorzugsweise wenigstens ein Nadelstrahlspritzrohr, umfassen.
Reinigungssystem nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass der traversierende Hochdruckstrahlreiniger (30) in Bandlaufrichtung (L) vor dem Hochdruckspritzrohr (32) angeordnet ist.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Niederdruckreinigungsmittel (34) wenigstens ein Niederdruckspritzrohr (34') umfassen.
Reinigungssystem nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass als Niederdruckspritzrohr (34') ein Niederdruckfächerspritzrohr vorgesehen ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass das Niederdruckfächerspritzrohr so ausgeführt ist, dass das Zentralband (14) zumindest über eine der Breite der zu behandelnden Materialbahn entsprechende Breite hinweg flächendeckend beaufschlagbar ist.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Niederdruckspritzrohr (34') zusätzlich mit Spühldüsen versehen ist
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Niederdruckspritzrohr (34') das Zentralband (14) in einem Bereich von etwa 0 bis etwa 20 cm vor einem in Bandlaufrichtung (L) nachfolgenden Reinigungsschaber (36) beaufschlagt.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Niederdruckreinigungsmittel (34) zwei Niederdruckspritzrohre umfassen, die das Zentralband (14) vorzugsweise in einem Bereich von etwa 0 bis etwa 20 cm vor einem in Bandlaufrichtung (L) nachfolgenden Reinigungsschaber (36) beaufschlagen.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Niederdruckreinigungsmittel (34) gleichzeitig zur Schmierung und/oder Kühlung eines in Bandlaufrichtung (L) nachfolgenden Reinigungsschabers (36) vorgesehen sind.
Reinigungssystem nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass im Bereich des Reinigungsschabers (36) ein über die Breite zumindest im Wesentlichen gleichmäßiger Fluidfilm auf dem Zentralband (14) erzeugt ist.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das von den Hochdruckreinigungs- bzw. Niederdruckreinigungsmitteln (30, 32; 34) gelieferte Fluid eine Temperatur im Bereich der Prozesstemperatur besitzt.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das von den Hochdruckreinigungs- bzw. Niederdruckreinigungsmitteln (30, 32; 34) gelieferte Fluid eine Temperatur besitzt, die in einem Bereich von etwa 30 bis etwa 50°C liegt.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Reinigungsschaber (36) einem Bereich des Zentralbandes (14) zugeordnet ist, der auf der anderen Seite durch eine vorzugsweise umlaufende Gegenfläche (38) abgestützt ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, dass die Gegenfläche (38) durch eine rotierende, vorzugsweise angetriebene Walze (24) gebildet ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass das Zentralband (14) die Walze (24) vorzugsweise über einen Winkel < 30° umschlingt und im Umschlingungsbereich vom Reinigungsschaber (36) beaufschlagt ist.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass überdies zur Reinigung der umlaufenden Gegenfläche (38) ein direkt diese umlaufende Gegenfläche (38) beaufschlagender Schaber (40) vorgesehen ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, dass die umlaufende Gegenfläche (38) in Laufrichtung vor dem diese Gegenfläche beaufschlagenden Schaber (40) durch ein Spritzrohr (42) oder dergleichen mit Fluid beaufschlagt ist.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zur Entfernung von Nebel und/oder Schmutz wenigstens eine Absaugung (44) vorgesehen ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, dass der Absaugbereich der Absaugung (44) zumindest den Umgebungsbereich der Hochdruckreinigungsmittel (30, 32), den Umgebungsbereich der Niederdruckreinigungsmittel (34) und/oder den Umgebungsbereich des dem Zentralband (14) zugeordneten Reinigungsschabers (36) umfasst.
Reinigungssystem nach Anspruch 30 oder 31, dadurch gekennzeichnet, dass die Absaugung (44) ein Gehäuse (46) umfasst, das mit einer Klappe (48) versehen ist, über die ein zum Pulper führender Bereich verschließbar ist bzw. freigegeben werden kann.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstes ein weiterer der Reinigung des Zentralbandes (14) dienender Reinigungsschaber (52) vorgesehen ist, der das Zentralband (14) in einem Bereich beaufschlagt, in dem es durch eine weitere vorzugsweise umlaufende Gegenfläche (54) abgestützt ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, dass das Zentralband (14) in Bandlaufrichtung (L) vorzugsweise 0 bis etwa 20 cm vor dem weiteren Reinigungsschaber (52) mittels eines Spritzrohres (56) beaufschlagt ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 33 oder 34, dadurch gekennzeichnet, dass die weitere Gegenfläche (54) durch eine rotierende, vorzugsweise angetriebene Walze (28) gebildet ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 35, dadurch gekennzeichnet, dass das Zentralband (14) die Walze (38) umschlingt und im Umschlingungsbereich vom zweiten Reinigungsschaber (52) beaufschlagt ist.
Reinigungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass überdies zur Reinigung der weiteren Gegenfläche (54) ein direkt diese weitere Gegenfläche (54) beaufschlagender Schaber (58) vorgesehen ist.
Reinigungssystem nach Anspruch 37, dadurch gekennzeichnet, dass die weitere Gegenfläche (54) in Laufrichtung vor dem zugeordneten Schaber (58) durch ein Spritzrohr oder dergleichen mit Fluid beaufschlagt ist.