DE102005035165A1 - Magnetischer Speicher mit statischem magnetischen Verschiebungsfeld - Google Patents
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Abstract
Description
- Gebiet der Erfindung
- Die Erfindung befindet sich auf dem Gebiet nichtflüchtiger Halbleiterspeicherchips, und spezieller betrifft sie magnetoresistive Speicherelemente und einen Chip eines magnetischen Direktzugriffsspeichers (MRAM) mit diesen Speicherelementen zur Verwendung in einem integrierten Halbleiterschaltkreis, sowie ein Verfahren zur Herstellung derartiger magnetoresistiver Speicherelemente.
- Hintergrund
- Ein magnetischer (oder magnetoresistiver) Direktzugriffsspeicher (MRAM) bildet eine Technologie für nichtflüchtige Zugriffsspeicher, die den dynamischen Direktzugriffsspeicher (DRAM) als Standardspeicher für Computereinrichtungen ersetzen könnte. Insbesondere wird die Verwendung von MRAMs als nichtflüchtigen RAMs schließlich "direkteinschaltende" Systeme ermöglichen, die aktiv werden, sobald ein Computersystem eingeschaltet wird, um so die Zeitspanne einzusparen, die ein herkömmlicher Computer dazu benötigt, während des Hochfahrens des Systems Bootdaten von einem Festplattenlaufwerk in einen flüchtigen DRAM zu übertragen.
- Ein magnetisches Speicherelement (auch als magnetoresistives Tunnelelement oder TMR-Element bezeichnet) verfügt über eine Struktur mit ferromagnetischen Schichten, die durch eine unmagnetische Schicht (Barriere) getrennt sind und in einem magnetischen Tunnelübergang (MTJ = magnetic tunnel junction) angeordnet sind. Digitale Information wird im magnetischen Speicherelement als Richtungen von Magnetisierungsvektoren in den ferromagnetischen Schichten gespeichert und repräsentiert. Genauer gesagt, wird das magnetische Moment einer ferromagnetischen Schicht magnetisch fixiert oder gepinnt (auch als "Referenzschicht" bezeichnet), während das magnetische Moment der anderen ferromagnetischen Schicht (auch als "freie Schicht" bezeichnet) frei zwischen derselben und der entgegengesetzten Richtung in Bezug auf die feste Magnetisierungsrichtung der Referenzschicht geschaltet werden kann. Die Orientierungen des magnetischen Moments der freien Schicht sind auch als "paralleler" und "antiparalleler" Zustand bekannt, wobei der parallele Zustand dieselbe magnetische Ausrichtung der freien und der Referenzschicht bezeichnet, während der antiparallele Zustand entgegengesetzte magnetische Ausrichtungen derselben bezeichnet.
- Abhängig vom Magnetisierungszustand der freien Schicht (d.h. paralleler oder antiparalleler Zustand) zeigt das magnetische Speicherelement zwei verschiedene Widerstandswerte, wenn eine Spannung an die Barriere des magnetischen Tunnelübergangs angelegt wird. So spiegelt der spezielle Widerstand des TMR-Elements den Magnetisierungszustand der freien Schicht wider, wobei der Widerstand "niedrig" ist, wenn die Magnetisierung parallel ist, und er "hoch" ist, wenn die Magnetisierung antiparallel ist. Demgemäß ermöglicht es, dass durch Erfassen von Änderungen des Widerstands eines MRAM im magnetischen Speicherelement gespeicherte Information erfasst wird, d.h. Information aus dem magnetischen Speicherelement ausgelesen wird. Außerdem wird durch Anlegen eines bidirektionalen Stroms in einer speziellen Richtung in ein magnetisches Speicherelement geschrieben, um die freie Schicht in einem parallelen oder einem antiparallelen Zustand magnetisch auszurichten.
- In einem MRAM ist eine Anzahl magnetischer Speicherelemente und anderer Schaltkreise integriert, wie eine Steuerschal tung für magnetische Speicherelemente, Komparatoren zum Erfassen von Zuständen in einem magnetischen Speicherelement, Eingangs/Ausgangs-Schaltungen sowie verschiedene Unterstützungsschaltungen. Infolgedessen sind bestimmte Mikroherstell-Prozessschwierigkeiten zu überwinden, bevor MRAMs hoher Kapazität/Dichte kommerziell verfügbar werden. Um z.B. den Energieverbrauch eines MRAM zu senken und für verschiedene Hilfsfunktionen zu sorgen, ist die CMOS-Technik verwendet. Es werden verschiedene CMOS-Prozessschritte bei relativ hohen Temperaturen ausgeführt, während bei der Herstellung von MRAMs verwendete ferromagnetische Materialien deutlich niedrigere Prozesstemperaturen benötigen. So werden die magnetischen Speicherelemente typischerweise so konzipiert, dass sie folgend auf die CMOS-Bearbeitung am Anfang der Fertigungslinie (FEOL = front-end-of-line) in die Hinterende-Leiterbahnstruktur bei der CMOS-Bearbeitung am Hinterende der Fertigungslinie (BEOL = back-end-of-line) integriert werden.
- Um in elektronischen Einrichtungen von Nutzen zu sein, werden in magnetischen Direktzugriffsspeichern Arrays sehr hoher Dichte magnetischer Speicherelemente verwendet. In diesen Arrays hoher Dichte sind die magnetischen Zellen im Allgemeinen in Zeilen und Spalten angeordnet, wobei einzelne Zellen für Lese- und Schreiboperationen durch die Auswahl der geeigneten Zeile und Spalte, die die gewünschte Zelle enthalten, adressierbar ist. Auch sind herkömmlicherweise orthogonale Stromleitungen vorhanden, eine für jede Zeile und eine für jede Spalte, so dass in eine ausgewählte Zelle dadurch geschrieben wird, dass ein Strom an die geeignete Zeilen-Stromleitung und die geeignete Spalten-Stromleitung geliefert wird.
- In jüngerer Zeit hat, insbesondere angesichts moderner tragbarer Einrichtungen, wie tragbarer Computer, digitaler Steh bildkameras und dergleichen, die Nachfrage nach billigen Massenspeichern hoher Dichte drastisch zugenommen. Daher besteht einer der wichtigsten Punkte hinsichtlich billiger MRAMs hoher Dichte in einer Verringerung der Größe der MRAM-Zelle. Jedoch erfordert ein maßstäbliches Verkleinern von MRAM-Zellen immer kleinere magnetische Tunnelübergänge, so dass viele schwerwiegende Probleme auftreten. Für ein vorgegebenes Seitenverhältnis und eine vorgegebene Dicke der freien Schicht wird die vom Volumen derselben abhängige Aktivierungsenergie entsprechend w herunterskaliert, wobei w die Weite der magnetischen Zelle ist. Andererseits nehmen die Schaltfelder grob entsprechend 1/w zu. So wird beim maßstäblichen Verkleinern einer MRAM-Zelle ein Feld-induzierter Auswähl-Schaltvorgang noch schwieriger, und gleichzeitig verliert die magnetische Zelle aufgrund thermischer Aktivierung ihre Information immer schneller. Ein Hauptproblem bei kleiner Aktivierungsenergie (Energiebarriere) besteht darin, dass es extrem schwierig wird, eine MRAM-Zelle in einem Array selektiv zu schalten. Selektivität erlaubt ein Schalten ohne unbeabsichtigtes Schalten anderer MRAM-Zellen.
- Im Allgemeinen wird, wenn ein Magnetfeld in der Richtung umgekehrt zur Magnetisierungsrichtung der freien Schicht in der Richtung der Achse leichter Magnetisierung angelegt wird, die Magnetisierungsrichtung bei einem kritischen Magnetfeldwert, was auch als Umkehrmagnetfeld bezeichnet wird, in die Richtung des angelegten Magnetfelds umgekehrt. Der Wert des Umkehrmagnetfelds kann aus einer Minimalenergiebedingung bestimmt werden. Wenn ein Magnetfeld nicht in der Richtung der Achse leichter Magnetisierung sondern in der Richtung der Achse harter Magnetisierung angelegt wird, nimmt der Absolutwert des Umkehrmagnetfelds ab. Insbesondere dann, wenn das in der Richtung der Achse harter Magnetisierung angelegte Magnetfeld durch Hx repräsentiert wird und das in der Richtung der Achse leichter Magnetisierung ange legte Magnetfeld durch Hy repräsentiert wird, gilt die Beziehung Hx (2/3) + Hy (2/3) = Hc (2/3), wobei Hc das anisotrope Magnetfeld der freien Schicht repräsentiert. Da diese Kurve in der Hx-Hy-Ebene einen Asteroiden bildet, wird sie als Asteroidkurve bezeichnet. Wie es aus der obigen Beziehung ersichtlich ist, ermöglicht es ein zusammengesetztes Magnetfeld, eine einzelne MRAM-Zelle auszuwählen, die an der Schnittstelle zwischen einer Wort- und einer Bitleitung an einer Position angeordnet ist, an der sich nur die Summe der beiden Magnetfelder zumindest auf das Umkehrmagnetfeld beläuft.
- Ein typischer Schaltmechanismus, wie er zum Schalten von MRAM-Zellen verwendet wird, ist das gut bekannte "Stoner-Wohlfahrt"-Schaltszenarium, bei dem die magnetische Anisotropie der freien Schicht so gewählt wird, dass sie ungefähr parallel zu einer Waferfläche verläuft. Insbesondere erfolgt das Schreiben in eine MRAM-Zelle durch Steuern der Magnetisierungsrichtung der freien Schicht unter Verwendung eines zusammengesetzten Magnetfelds, das dadurch erzeugt wird, dass sowohl einer Wortleitung als auch einer Bitleitung Strom zugeführt wird. Ein anderes Verfahren zum Schalten einer MRAM-Zelle ist das gut bekannte Szenarium mit "adiabatischem, rotierendem Schalten", bei dem die magnetische Anisotropie der freien Schicht so gewählt wird, dass sie unter einem Winkel von ungefähr 45° relativ zur Waferfläche geneigt ist. Der rotierende Schaltmechanismus ist z.B. im US-Patent Nr. 6,545,906 B1 für Savtchenko et al. offenbart, dessen Offenbarung hier durch Bezugnahme eingeschlossen wird. Ein Schlüsselunterschied zwischen dem Stoner-Wohlfahrth-Schalten und dem adiabatischen, rotierenden Schalten besteht darin, dass das Letztere nur unidirektionale Felder verwendet.
- Angesichts des Vorstehenden ist es eine Aufgabe der Erfin dung, ein magnetisches Speicherelement und einen magnetischen Direktzugriffsspeicher (MRAM) mit solchen magnetischen Speicherelementen bereitzustellen, die ein Herunterskalieren der Zellengröße ermöglichen, ohne dass es dadurch zu schwerwiegenden Problemen hinsichtlich einer Zunahme von Schaltfeldern und einer Verringerung der Aktivierungsenergie käme.
- Zusammenfassung
- Durch die Erfindung sind ein magnetoresistives oder magnetisches Speicherelement und ein magnetischer Direktzugriffsspeicher mit einem oder mehreren magnetischen Speicherelementen geschaffen. Bei einer Ausführungsform verfügt das Speicherelement über einen magnetischen Tunnelübergang mit einer ersten und einer zweiten magnetischen Schicht. Die erste magnetische Schicht weist freie Magnetisierung auf. Die freie Magnetisierung der ersten magnetischen Schicht ist magnetisch mit einer ersten Stromleitung und einer zweiten Stromleitung zum Schalten dieser freien Magnetisierung und einem Mechanismus zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds in der Richtung der ersten und/oder der zweiten Stromleitung gekoppelt.
- Kurze Beschreibung der Zeichnungen
- Die beigefügten Zeichnungen sind enthalten, um für ein weiteres Verständnis der Erfindung zu sorgen, und sie sind in diese Beschreibung eingeschlossen und bilden einen Teil derselben. Die Zeichnungen veranschaulichen die Ausführungsformen der Erfindung, und sie dienen gemeinsam mit der Beschreibung dazu, die Prinzipien der Erfindung zu erläutern. Andere Ausführungsformen der Erfindung und viele der vorgesehenen Vorteile der Erfindung werden leicht erkennbar werden, wenn sie unter Bezugnahme auf die folgende detaillierte Beschreibung besser verständlich werden. Die Elemente der Zeichnungen sind nicht notwendigerweise wechselseitig maßstabsgetreu. Gleiche Bezugszahlen kennzeichnen entsprechende, ähnliche Teile.
-
1 ist eine schematische Umkehransicht zum Veranschaulichen einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen magnetoresistiven Speicherelements; -
2 ist eine schematische Darstellung eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds bei einer anderen Ausführungsform der Erfindung. - Detaillierte Beschreibung
- In der folgenden detaillierten Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die einen Teil derselben bilden und in denen zur Veranschaulichung spezielle Ausführungsform dargestellt sind, gemäß denen die Erfindung realisiert werden kann. In dieser Hinsicht wird eine Richtungsterminologie, wie "oben", "unten", "vorne", "hinten", "vorderer", "hinterer" usw., unter Bezugnahme auf die Ausrichtung der Figur(en) verwendet. Da Komponenten der Ausführungsformen der Erfindung mit einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, wird die Richtungsterminologie zu Zwecken der Veranschaulichung verwendet, und sie ist in keiner Weise einschränkend. Es ist zu beachten, dass andere Ausführungsformen verwendet werden können und strukturmäßige oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne dass vom Schutzumfang der Erfindung abgewichen wird. Die folgende detaillierte Beschreibung ist daher nicht in beschränkendem Sinn zu verwenden, und der Schutzumfang der Erfindung ist durch die beigefügten Ansprüche definiert.
- Die
1 ist eine schematische Umkehransicht zum Veran schaulichen einer Ausführungsform eines erfindungsgemäßen magnetischen (d.h. magnetoresistiven) Speicherelement10 . In den folgenden Absätzen werden eine oder mehrere Ausführungsformen des erfindungsgemäßen magnetischen Speicherelements erläutert. - Bei einer Ausführungsform verfügt, auf Grundlage einer magnetischen Speicherzelle mit einer ersten und einer zweiten Stromleitung entlang Wortleitungen bzw. Bitleitungen, das magnetische Speicherelement
10 über einen magnetischen Tunnelübergang (MTJ)12 , der durch seine leichte Achse14 dargestellt ist, mit einer freien und einer Referenzschicht (nicht dargestellt) aus einem magnetischen Material, die in paralleler Übereinanderbeziehung aufgeschichtet und durch eine Schicht aus unmagnetischem Material getrennt sind. Die Magnetisierung der freien Schicht ist magnetisch mit einer ersten Stromleitung20 über dem MTJ12 und einer zweiten Stromleitung22 unter diesem gekoppelt, um sie auf einen parallelen oder antiparallelen Zustand in Bezug auf die Magnetisierung der Referenzschicht zu schalten. Die erste Stromleitung20 und die zweite Stromleitung22 schneiden sich rechtwinklig, wobei der MTJ12 an der Schnittstelle positioniert ist. Die erste Stromleitung20 erzeugt ein erstes Magnetfeld26 , wenn ein Strom durch sie geschickt wird. Auch erzeugt die zweite Stromleitung22 ein zweites Magnetfeld26 , wenn ein Strom durch sie geschickt wird. Die beiden Magnetfelder22 ,26 zeigen eine Wechselwirkung auf der Achse14 leichter Magnetisierung des MTJ12 , um diesen zu schalten. In partieller Umgebung um die zweite Stromleitung20 unter dem MTJ12 ist eine ferromagnetische Ummantelung30 aus einem ferromagnetischen Material vorhanden, um für ein statisches magnetisches Verschiebungsfeld32 (magnetisches Dipolfeld) zu sorgen, das in der Richtung der zweiten Stromleitung22 und auch in der Richtung des Magnetfelds der ersten Stromleitung20 ausgerichtet ist. Aufgrund des stati schen magnetischen Verschiebungsfelds32 kann beim Schalten des magnetischen Speicherelements10 das magnetische Schreibfeld24 der ersten Stromleitung20 verkleinert werden, ohne dass die Aktivierungsenergie des magnetischen Speicherelements10 nachteilig beeinflusst würde. - Die
2 ist eine schematische Diagrammdarstellung des statischen magnetischen Verschiebungsfelds einer anderen Ausführungsform der Erfindung. Die2 veranschaulicht schematisch einen Chip36 eines magnetischen Direktzugriffsspeichers mit einer Anzahl magnetischer Speicherelemente38 , ähnlich dem bereits beschriebenen magnetischen Speicherelement10 , von denen jedes über einen magnetischen Tunnelübergang mit einer ersten und einer zweiten magnetischen Schicht aus einem magnetischen Material besteht, die in paralleler Übereinanderbeziehung aufgeschichtet sind und durch eine Schicht aus unmagnetischem Material getrennt sind. Der Chip36 eines magnetischen Direktzugriffsspeichers verfügt über eine magnetische Abschirmungsschicht zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds40 in der Richtung der ersten oder der zweiten Stromleitung. Das statische magnetische Verschiebungsfeld40 wird als magnetisches Dipolfeld gewählt. - Angesichts des Obigen ist es eine Aufgabe der Erfindung, ein magnetisches Speicherelement und einen magnetischen Direktzugriffsspeicher (MRAM) mit derartigen magnetischen Speicherelementen zu schaffen, wobei ein Herunterskalieren der Zellengröße möglich ist, ohne dass schwerwiegende Probleme hinsichtlich einer Vergrößerung von Schaltfeldern und einer Abnahme der Aktivierungsenergie hervorgerufen würden.
- Die obige Aufgabe kann durch ein magnetoresistives Speicherelement gemäß Ausführungsformen der Erfindung gelöst werden. Bei einer Ausführungsform verfügt das Speicherelement
10 über einen magnetischen Tunnelübergang12 sowie erste und zweite Stromleitungen20 ,22 , die einander rechtwinklig schneiden, während jedes magnetoresistive Speicherelement10 typischerweise an einer Schnittstelle zwischen den ersten und zweiten Stromleitungen20 ,22 positioniert ist. Der magnetoresistive Tunnelübergang (MTJ)12 verfügt über eine erste und eine zweite magnetische Schicht aus einem magnetischen Material, die in paralleler Übereinanderbeziehung aufgeschichtet sind und durch eine Schicht aus unmagnetischem Material getrennt sind. Typischerweise ist die zweite magnetische Schicht mit einer magnetisch fixierten (gepinnten) Magnetisierung versehen, während die erste magnetische Schicht mit einer "freien" Magnetisierung versehen ist, d.h., sie kann frei zwischen derselben und der entgegengesetzten Richtung in Bezug auf die Richtung der festen Magnetisierung der zweiten magnetischen Schicht geschaltet werden. Die freie Magnetisierung der ersten magnetischen Schicht ist magnetisch mit der ersten und zweiten Stromleitung gekoppelt, um diese freie Magnetisierung zu schalten. - Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung verfügt das Speicherelement
10 ferner über eine oder mehrere Einrichtungen zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds32 ,40 in der Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitungen20 ,22 . Wenn ein statisches magnetisches Verschiebungsfeld32 in der Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitungen20 ,22 angelegt wird, kann in vorteilhafter Weise das durch die Ströme zu erzeugende Magnetfeld (Umkehrmagnetfeld) verkleinert werden. Demgemäß können Schreibströme für eine MRAM-Zelle gemäß der Erfindung verkleinert werden. - Darüber hinaus zeigt zwar ein statisches magnetisches Verschiebungsfeld in der Richtung der Achse leichter Magnetisierung der freien Schicht ein Problem dahingehend, dass die Aktivierungsenergie verkleinert sein kann, so dass die freie Schicht instabil wird, jedoch ermöglicht es das statische magnetische Verschiebungsfeld
32 ,40 gemäß der Erfindung, die Aktivierungsenergie aufrecht zu erhalten oder sogar zu erhöhen. Die meiste Zeit ist die Information nur gespeichert, und es wird kein Schaltfeld angelegt. Wenn die Aktivierungsenergie verringert wäre, wie im Fall eines statischen Magnetfelds in der Richtung der Achse leichter Magnetisierung der freien Schicht, könnte aufgrund thermisch aktivierten Schaltens verloren gehen. Demgemäß besteht bei aufrecht erhaltener oder sogar erhöhter Aktivierungsenergie eine kleinere Gefahr hinsichtlich einer unbeabsichtigten Magnetisierungsumkehr im Speicherungsfall. - Das statische magnetische Verschiebungsfeld
32 ,40 kann so gewählt werden, dass es ein nahezu homogenes Magnetfeld ist. Alternativ kann es als magnetisches Dipolfeld gewählt werden. - Gemäß der Erfindung kann es bevorzugt sein, dass die Einrichtung zum Anlegen eines statischen Magnetfelds zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds
32 ,40 in der Richtung nur der ersten oder der zweiten Stromleitungen ist. Bei einer Ausführungsform an einem MRAM-Array mit ersten und zweiten Stromleitungen, die einander rechtwinklig schneiden, zeigt das statische magnetische Verschiebungsfeld32 ,40 in der Richtung einer der ersten oder zweiten Stromleitungen20 ,22 , so dass es in derselben Richtung wie das Magnetfeld der anderen dieser ersten und zweiten Stromleitungen20 ,22 gerichtet ist. - Bei einer Ausführungsform der Erfindung ist der oben genannte Mechanismus oder die Einrichtung zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds
32 ,40 so realisiert, dass es sich um mindestens eine ferromagnetische Ummantelung30 , d.h. eine oder mehrere ferromagnetische Ummantelungen30 , aus einem ferromagnetischen Material handelt, die benachbart zu den ersten und/oder zweiten Stromleitungen20 ,22 positioniert sind. Anders gesagt, können die mindestens eine ferromagnetische Ummantelung30 an der ersten Stromleitung20 , der zweiten Stromleitung22 oder beiden vorhanden sein. Wenn die mindestens eine ferromagnetische Ummantelung30 nur an der ersten oder zweiten Stromleitung20 ,22 vorhanden ist, wird nur der Strom für eine Stromleitung verkleinert, jedoch handelt es sich um den Strom derjenigen Stromleitung, die über keine ferromagnetische Ummantelung verfügt, weswegen sie über eine niedrige Stromeffizienz verfügt. Die andere Stromleitung verfügt über die mindestens eine ferromagnetische Ummantelung30 und damit hohe Stromeffizienz, was bedeutet, dass für diese Stromleitung der Strom bereits klein ist. - Die mindestens eine ferromagnetische Ummantelung
30 kann insbesondere so positioniert sein, dass sie mit der ersten und/oder zweiten Stromleitung20 ,22 in Kontakt steht. Die mindestens eine ferromagnetische Ummantelung30 kann an der Oberseite und/oder der Unterseite und/oder einer Seite und/oder beiden Seiten der Stromleitung vorhanden sein, gesehen in einer Richtung weg von der Fläche eines Wafers, auf der die Speicherzelle typischerweise hergestellt ist. Insbesondere kann es vorteilhaft sein, wenn die ferromagnetische Ummantelung30 so ausgebildet ist, dass sie über ein U-förmiges Profil, im Schnitt über die entsprechende Stromleitung gesehen, verfügt. Typischerweise ist es relativ einfach, eine U-förmige ferromagnetische Ummantelung30 für eine unter dem MTJ liegende Stromleitung aufzubauen, jedoch kann es schwierig sein, eine ferromagnetische Ummantelung30 für eine Stromleitung über dem MTJ aufzubauen, da im letzteren Fall ein U-förmiges Profil mit der Oberseite nach unten hergestellt werden muss. Daher besteht eine bevorzugte Ausfüh rungsform darin, dass nur eine ferromagnetische Ummantelung für die Stromleitung unter dem MTJ vorhanden ist. Dann kann die andere Stromleitung über dem MTJ vom Erfordernis des verkleinerten Magnetfelds aufgrund des statischen magnetischen Verschiebungsfelds32 von der Stromleitung unter dem MTJ profitieren. - Die mindestens eine ferromagnetische Ummantelung
30 im erfindungsgemäßen magnetoresistiven Speicherelement10 verfügt über magnetische Anisotropie entlang der Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitung20 ,22 . Die magnetische Anisotropie kann durch eine Formanisotropie und/oder eine dem Material innewohnende Anisotropie realisiert sein. Es kann auch bevorzugt sein, wenn die ferromagnetische Ummantelung30 segmentiert ist, mit Ausschnitten orthogonal zur Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitung20 ,22 . In diesem Fall kann die Formanisotropie durch Segmente realisiert werden, von jedes über eine Länge verfügt, die größer als seine Weite ist, wobei die Länge die Abmessung des Segments in der Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitung20 ,22 ist und die Weite die Abmessung des Segments orthogonal zur Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitung20 ,22 ist. - Gemäß einer anderen Ausführungsform der Erfindung ist die Einrichtung zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds eine zusätzliche ferromagnetische Schicht des geschichteten magnetischen Tunnelübergangs. Eine derartige zusätzliche ferromagnetische Schicht kann an der Unterseite des geschichteten magnetischen Tunnelübergangs oder auch innerhalb des MTJ-Stapels positioniert sein. Unabhängig von der magnetischen Anisotropie der freien und der Referenzschicht des MTJ-Stapels, die dann, wenn adiabatische Drehung für den Schaltvorgang verwendet wird, typischerweise unter einem Winkel von ungefähr 45° relativ zur Waferober fläche geneigt ist, auf der das Speicherelement ausgebildet ist, kann die Magnetisierung der zusätzlichen ferromagnetischen Schicht
30 zum Erzeugen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds32 unter Verwendung der dem Material innewohnenden magnetischen Anisotropie in der Richtung der ersten oder zweiten Stromleitungen20 ,22 ausgerichtet werden. - Bei einer Ausführungsform verfügt die Erfindung ferner über einen Chip
36 eines magnetischen Direktzugriffsspeichers mit mehreren magnetischen Speicherelementen10 , wie sie oben beschrieben sind. - Bei einer Ausführungsform verfügt die Erfindung über einen Chip
36 eines magnetischen Direktzugriffsspeichers mit mehreren magnetischen Speicherelementen10 , von denen jedes einen magnetischen Tunnelübergang12 mit einer ersten und einer zweiten magnetischen Schicht aus einem magnetischen Material aufweist, die in paralleler übereinanderbeziehung aufgeschichtet und durch eine Schicht aus unmagnetischem Material getrennt sind, wobei die zweite magnetische Schicht mit einer magnetisch festen Magnetisierung versehen ist, während die erste magnetische Schicht mit einer freien Magnetisierung versehen ist, die zwischen derselben und der entgegengesetzten Richtung in Bezug auf die feste Magnetisierungsrichtung der zweiten magnetischen Schicht frei geschaltet werden kann, wobei die freie Magnetisierung der ersten magnetischen Schicht magnetisch mit einer ersten Stromleitung20 und einer zweiten Stromleitung22 gekoppelt ist, um diese freie Magnetisierung zu schalten. Ein derartiger erfindungsgemäßer Chip36 eines magnetischen Direktzugriffsspeichers ist mit einer magnetischen Abschirmungsschicht in einem Chipgehäuse versehen, um ein statisches magnetisches Verschiebungsfeld40 in der Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitungen20 ,22 anzulegen. Ein derar tiges statisches magnetisches Verschiebungsfeld32 wird vorzugsweise so gewählt, dass es sich um ein magnetisches Dipolfeld handelt. Ferner ist es bevorzugt, dass das statische Magnetfeld in der Richtung nur der ersten oder zweiten Stromleitungen ausgerichtet ist. - Beim erfindungsgemäßen magnetoresistiven Speicherelement
10 können Schaltströme des magnetischen Speicherelements vorteilhafterweise dadurch verkleinert werden, dass ein statisches magnetisches Verschiebungsfeld32 ,40 angelegt wird, das in der Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitungen20 ,22 ausgerichtet ist, während die Aktivierungsenergie zum Schalten der Speicherelemente10 aufrecht erhalten oder sogar erhöht wird, so dass das Speichervermögen der Speicherelemente nicht beeinträchtigt wird oder sogar verbessert wird. Demgemäß kann eine Erhöhung von Schreibströmen beim Herunterskalieren von Speicherelementen vermieden werden, oder es kann sogar eine Absenkung von Schreibströmen erzielt werden. Wenn der Stoner-Wohlfahrt-Schaltvorgang zum Schalten der erfindungsgemäßen magnetoresistiven Speicherelemente10 verwendet wird, sind die Schreibtoleranzen verkleinert. Alternativ sind Schreibfelder verkleinert, wenn adiabatische Rotation dazu verwendet wird, erfindungsgemäße magnetoresistive Speicherelemente10 zu schalten. Demgemäß ist eine adiabatische Rotation zum Schalten der erfindungsgemäßen magnetoresistiven Speicherelemente10 hoch bevorzugt. - Eine mit U-Form hergestellte ferromagnetische Ummantelung
30 kann auf die folgende Weise bearbeitet werden: Herstellen eines Grabens; Abscheiden eines Ummantelungsmaterials; Auffüllen des Grabens mit einem Fotoresist; Belichten mit einer Maske mit Linien, die orthogonal zur Richtung des Grabens verlaufen, um aus der ferromagnetischen Ummantelung diskrete Elemente zu bilden; Entwickeln des Fotoresists; Herausätzend es Ummantelungsmaterials in den Resistgräben; Entfernen des Fotoresists; Füllen der Gräben mit leitendem Material wie Kupfer. - Obwohl hier spezielle Ausführungsformen veranschaulicht und beschrieben wurden, erkennt es der Fachmann, dass die dargestellten und beschriebenen speziellen Ausführungsformen durch eine Anzahl alternativer und/oder äquivalenter Realisierungen ersetzt werden können, ohne dass vom Schutzumfang der Erfindung abgewichen wird. Diese Anmeldung soll alle Anpassungen oder Variationen der hier erörterten speziellen Ausführungsformen abdecken. Daher soll die Erfindung nur durch die Ansprüche und deren Äquivalente begrenzt sein.
Claims (20)
- Magnetoresistives Speicherelement mit: – einem magnetischen Tunnelübergang mit einer ersten magnetischen Schicht und einer zweiten magnetischen Schicht aus einem magnetischen Material, die in paralleler Übereinanderbeziehung aufgeschichtet und durch eine Schicht aus unmagnetischem Material getrennt sind, wobei die zweite magnetische Schicht mit einer magnetisch fixierten Magnetisierung versehen ist, während die erste magnetische Schicht mit einer freien Magnetisierung versehen ist, die zwischen derselben und der entgegengesetzten Richtung in Bezug auf die feste Magnetisierungsrichtung der zweiten magnetischen Schicht frei geschaltet werden kann, wobei die freie Magnetisierung der ersten magnetischen Schicht magnetisch mit einer ersten Stromleitung und einer zweiten Stromleitung gekoppelt ist, um die genannte freie Magnetisierung zu schalten; und – mindestens einem Mechanismus zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds in der Richtung der ersten und/oder der zweiten Stromleitung.
- Speicherelement nach Anspruch 1, bei dem das statische magnetische Verschiebungsfeld ein nahezu homogenes Magnetfeld ist.
- Speicherelement nach Anspruch 1, bei dem das statische magnetische Verschiebungsfeld ein magnetisches Dipolfeld ist.
- Speicherelement nach Anspruch 1, bei dem der Mechanismus zum Anlegen eines statischen Magnetfelds ein statisches magnetisches Verschiebungsfeld in der Richtung der ersten oder zweiten Stromleitungen anlegt.
- Speicherelement nach Anspruch 1, bei dem der Mechanismus zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds über mindestens eine ferromagnetische Ummantelung aus einem ferromagnetischen Material benachbart zur ersten und/oder zweiten Stromleitung verfügt, die entlang der Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitung über magnetische Anisotropie verfügt.
- Speicherelement nach Anspruch 5, bei dem die ferromagnetische Ummantelung segmentiert ist, mit Ausschnitten im Wesentlichen orthogonal zur Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitung.
- Speicherelement nach Anspruch 1, bei dem die mindestens eine ferromagnetische Ummantelung so positioniert ist, dass sie mit der ersten und/oder zweiten Stromleitung in Kontakt steht.
- Speicherelement nach Anspruch 5, bei dem die ferromagnetische Ummantelung so ausgebildet ist, dass sie über ein U-förmiges Querschnittsprofil verfügt.
- Speicherelement nach Anspruch 1, bei dem der Mechanismus zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds eine zusätzliche ferromagnetische Stapelschicht des geschichteten magnetischen Tunnelübergangs ist.
- Chip eines magnetischen Direktzugriffsspeichers, mit: – mehreren magnetischen Speicherelementen entsprechend dem magnetoresistiven Speicherelement des Anspruchs 1.
- Chip eines magnetischen Direktzugriffsspeichers, mit: – mehreren magnetischen Speicherelementen, von denen jedes mit Folgendem versehen ist: – einem magnetischen Tunnelübergang mit einer ersten und einer zweiten magnetischen Schicht aus einem magnetischen Material, die in paralleler Übereinanderbeziehung aufgeschichtet und durch eine Schicht aus unmagnetischem Material getrennt sind, wobei die zweite magnetische Schicht mit einer magnetisch fixierten Magnetisierung versehen ist, während die erste magnetische Schicht mit einer freien Magnetisierung versehen ist, die zwischen derselben und der entgegengesetzten Richtung in Bezug auf die feste Magnetisierungsrichtung der zweiten magnetischen Schicht frei geschaltet werden kann, wobei die freie Magnetisierung der ersten magnetischen Schicht magnetisch mit einer ersten Stromleitung und einer zweiten Stromleitung gekoppelt ist, um die genannte freie Magnetisierung zu schalten; – und einer magnetischen Abschirmungsschicht in einem Chipgehäuse zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds in der Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitung.
- Chip eines magnetischen Direktzugriffsspeichers nach Anspruch 11, bei dem das statische Magnetfeld in der Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitung ausgerichtet ist.
- Chip eines magnetischen Direktzugriffsspeichers nach Anspruch 11, bei dem das statische magnetische Verschiebungsfeld ein magnetisches Dipolfeld ist.
- Chip eines magnetischen Direktzugriffsspeichers nach Anspruch 12, bei dem ein statisches Magnetfeld in der Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitung ausgerichtet ist.
- Verfahren zum Herstellen eines Magnetspeichers, das das Herstellen einer ferromagnetische statischen Ummantelung mit einem im Wesentlichen U-förmigen Querschnittsprofil beinhaltet, umfassend: – Herstellen eines Grabens; – Abscheiden eines Ummantelungsmaterials; – Auffüllen des Grabens mit einem Fotoresist; – Belichten mit einer Maske mit Linien, die orthogonal zur Richtung des Grabens verlaufen, um aus der ferromagnetischen Ummantelung diskrete Elemente zu bilden; – Entwickeln des Fotoresists; – Herausätzen des Ummantelungsmaterials in den Resistgräben; – Entfernen des Fotoresists und – Auffüllen der Gräben mit Leitungen aus leitendem Material.
- Magnetspeicher mit: – einem magnetischen Tunnelübergang; – einer ersten Stromleitung und einer zweiten Stromleitung; und – mindestens einem Mechanismus zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds in der Richtung der ersten Stromleitung und/oder der zweiten Stromleitung, der über mindestens eine ferromagnetische Ummantelung aus einem ferromagnetischen Material angrenzend an die erste und/oder zweite Stromleitung verfügt, die entlang der Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitung über magnetische Anisotropie verfügt.
- Speicherelement nach Anspruch 16, bei dem die ferromagnetische Ummantelung segmentiert ist, mit Ausschnitten im Wesentlichen orthogonal zur Richtung der ersten und/oder zweiten Stromleitung.
- Speicherelement nach Anspruch 17, bei dem die mindestens eine ferromagnetische Ummantelung so positioniert ist, dass sie mit der ersten und/oder zweiten Stromleitung in Kontakt steht.
- Speicherelement nach Anspruch 18, bei dem die ferromagnetische Ummantelung so ausgebildet ist, dass sie über ein U-förmiges Querschnittsprofil verfügt.
- Speicherelement nach Anspruch 19, bei dem der Mechanismus zum Anlegen eines statischen magnetischen Verschiebungsfelds eine zusätzliche ferromagnetische Stapelschicht des geschichteten magnetischen Tunnelübergangs ist.
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