DE102005029475A1 - Vergussteil für ein Magnetresonanzgerät und Vergießverfahren - Google Patents

Vergussteil für ein Magnetresonanzgerät und Vergießverfahren Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Vergussteil für ein Magnetresonanzgerät (1), wobei im Vergussteil ein Metallelement (100) von einer Vergussmatrix (180) zumindest teilweise umgeben ist, und wobei zwischen mindestens einer Oberfläche (150) des Metallelements (100) und der Vergussmatrix eine Prepreg-Lage (110, 160, 191, 230) angeordnet ist, die einerseits am Metallelement (100) und andererseits an der Vergussmatrix (190) haftet und eine kraftschlüssige Einbindung des Metallelements in der Vergussmatrix bewirkt.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Vergussteil für ein Magnetresonanzgerät und ein Verfahren zur Erzeugung eines derartigen Vergussteils.
  • In der Leiterplattentechnologie werden zur Erzeugung von Multilayer-Leiterplatten mehrere dünne doppelseitige Leiterplatten, die auf beiden Seiten der Leiterplatte eine Kupferschicht haben, mit so genannten Prepregs aufeinander geklebt. Derartige Leiterplatten und können bis zu 48 Schichten mit Leiterbahnen haben.
  • Mit Prepreg bezeichnet man bereits werkseitig mit Spezialharz vorimprägnierte Gelege und Gewebe. Durch die maschinelle Tränkung wird das optimale Verhältnis zwischen Harz und Faser erreicht. Diese Epoxidharz imprägnierte und vorpolymerisierte Glashartgewebe-Klebefolien dienen zum Aufbau von Multilayer-Leiterplatten.
  • Das Trägermaterial für durchkontaktierte Leiterplatten besteht aus einem Glasfasergewebe, das mit Epoxydharz gebunden ist (FR4). Eine speziell behandelte Oberfläche der Kupferschicht garantiert eine optimale Verbindung mit dem Trägermaterial.
  • Die Magnetresonanztechnik ist eine bekannte Technik unter anderem zum Gewinnen von Bildern eines Körperinneren eines Untersuchungsobjekts in einem Untersuchungsbereich. Dabei werden in einem Magnetresonanzgerät (MR-Gerät) einem statischen Grundmagnetfeld, das von einem Grundfeldmagneten erzeugt wird, schnell geschaltete magnetische Gradientenfelder überlagert, welche mittels Gradientenspulen erzeugt werden. Zum Auslösen von Magnetresonanzsignalen umfasst das Magnetresonanzgerät ferner eine Hochfrequenzantenne (HF-Antenne), die HF-Signale, das so genannte B1-Feld, in das Untersuchungsob jekt einstrahlt. Mithilfe dieser Antenne oder weiterer Lokalantennen können die ausgelösten Magnetresonanzsignale aufgenommen werden und zu Magnetresonanzbildern verarbeitet werden. Eine Beschränkung des ausgesendeten HF-Feldes auf den Untersuchungsbereich kann mithilfe eines HF-Schirms erfolgen. Dieser kann zur Unterdrückung von Wirbelströmen, welche von den Gradientenfeldern angeregt werden könnten, Schlitze aufweisen. Als HF-Schirm können beispielsweise sehr dünne Kupferfolien (kleiner 0,5 μm) oder doppelseitig beschichtete Leiterplatten (z.B. 0,1 mm GFK mit beidseitig 8–12 μm Kupfer beschichtet) verwendet werden. Zur Homogenisierung des Grundmagnetfeldes werden so genannte Shim-Spulen verwendet, die im Untersuchungsbereich ein magnetisches Korrekturfeld erzeugen.
  • Es ist bekannt, Gradientenspule(n), Shim-Spule(n) und/oder HF-Schirme als ein Vergussteil in einer Matrix zu vergießen. In der deutschen Patentanmeldung mit dem Aktenzeichen 10352381.2 ist ein kompakter Aufbau einer derartigen Gradientenspuleneinheit offenbart, in dem eine Kupferfolie als HF-Schirm und Rückleiter der HF-Sendeantenne verwendet wird.
  • Beim Vergießen derartig flächiger Leiter ist eine allseits kraftschlüssige Verbindung mit der Vergussmasse z.B. aus Epoxid notwendig, da in einem derartigen Aufbau mechanische Spannungen auftreten können, die zu einem Ablösen der Kupferfolie von der Vergussmasse führen können. Mechanische Spannungen treten beispielsweise auf bei der Aushärtung der Vergussmasse in Folge eines Reaktionsschwundes oder beim Abkühlen nach der Aushärtung der Vergussmasse oder durch eine thermische Wechselbeanspruchung während des Betriebs wegen unterschiedlicher thermischer Ausdehnungskoeffizienten von Materialien im Vergussteil oder auch durch Vibrationen der Gradientenspuleneinheit im Betrieb.
  • Bisher werden z.B. als Metallelemente in eine Gradientenspuleneinheit Leiterplatten oder Kupferfolien eingegossen, die entweder unbeschichtet oder mit einem herkömmlichen Lötstoppabdecklack versehen waren. Die mangelnde Haftfähigkeit des Abdecklacks auf dem Kupfer und damit die Anbindung an die Vergussmasse sind zum Teil nicht ausreichend, um auftretende Spannungen ausreichend aufzunehmen. Auftretende Ablösungen von der Kupferoberfläche erhöhen die Schwingungen innerhalb der Gradientenspuleneinheit, führen zu Ermüdungsbrüchen von Lötkontakten, zu einem höherem Lärmniveau innerhalb des MR-Gerätes und zu die Bildgebung störende Funkenübertritten. Ein ansonsten übliches mechanisches Aufrauhen der Kupferoberfläche beispielsweise durch Bürsten, Schleifen oder Sandstrahlen zur Verbesserung der Haftfestigkeit ist auf Grund der geringen Kupferdicke nicht möglich.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, die Verbindung und Integration eines Metallelements in eine Vergussmatrix zu erhöhen, so dass oben genannte Nachteile vermieden werden.
  • Diese Aufgabe wird bei einem Vergussteil für ein Magnetresonanzgerät mit einem Metallelement, welches von einer Vergussmatrix umgeben ist, dadurch gelöst, dass zwischen mindestens einer Oberfläche des Metallelements und der Vergussmatrix eine Prepreg-Lage angeordnet ist, die einerseits am Metallelement und andererseits an der Vergussmatrix haftet.
  • Ferner wird die Aufgabe bezüglich des Vergießverfahrens durch ein Vergießverfahren nach Anspruch 5 gelöst.
  • Erfindungsgemäß wird die Einbindung des Metallelements in die Vergussmatrix durch die zwischengelagerte Prepreg-Lage verbessert. Unter Metallelement sind zu vergießende Bauteile zu verstehen, die zumindest teilweise metallische Oberflächen aufweisen, die ohne Prepreg-Lage in direktem Kontakt zur Vergussmasse ständen. Um die Haftung des beispielweise Epoxid-Harzes auf der z.B. großflächigen Kupferoberfläche eines HF-Schirms weiter zu verbessern, kann eine Vorbehandlung der Oberfläche durchgeführt werden, indem durch chemisches Anätzen eine Mikrorauigkeit und eine definierte stabile Oberfläche erzeugt wird. Dies kann z.B. durch Oxidieren oder durch einen in der Technik eingeführten Alternativprozeß wie „Alpha-Prep" der Firma Enthone oder durch „Multibond" der Firma MacDermid erzeugt werden. Bei diesen Alternativprozessen wird auf der angeätzten Kupferoberfläche eine haftvermittelnde organische Verbindung aufgebracht.
  • Bei der Vorbereitung werden auf der einen oder auch auf beiden Seiten eine oder mehrere 50 μm bis 100 μm dicke Prepreg-Lagen bevorzugt unter Druck und Temperatur aufgepresst.
  • Beim Erwärmen des teilweise vorgehärteten Epoxidharzes der Prepreg-Lage schmilzt das Harz noch einmal auf, benetzt die vorzugsweise aufgerauhte Kupferoberfläche und härtet dann vollständig aus.
  • Besonders vorteilhaft ist die Verwendung sog. No-Flow-Prepregs, die sich durch einen geringen Harzfluß auszeichnen. Dadurch wird es möglich, speziell Randbereiche für Lötverbindungen von Epoxidharz freizuhalten.
  • Beim Erzeugen eines Vergussteils, vorzugsweise mittels Vakuumvergießen, mit einem derart beschichteten Metallelements kann die Haftung der Prepreg-Oberfläche zum Vergussmaterial noch weiter verbessert werden, z.B. durch mechanische Verfahren wie Schleifen, Bürsten und Sandstrahlen oder durch chemische Verfahren. Weiterhin kann es auch vorteilhaft sein, durch Plasma- oder Coronaverfahren die Polarität der Oberfläche zu erhöhen.
  • Gegebenenfalls werden zusätzliche Elemente wie Kupferwicklungen, Isolierplatten und Kühlschläuchen mit eingegossen.
  • Ein Vorteil der Erfindung liegt in der kraftschlüssigen Verbindung zwischen Metallelement und umgebenden Gießharz. Dadurch werden z.B. Ablösungen (Delaminationen) bei einer Gradientenspuleneinheit eines Magnetresonanzgerätes vermieden, die Vibrations- und Lärmeigenschaften der Gradientenspuleneinheit bleiben während der Lebensdauer stabil und das Auftreten von Spikes beim Betrieb wird unterbunden. Zusätzlich wird während der Montage die dünne Kupferfolie mechanisch geschützt.
  • Weitere vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung sind durch die Merkmale der Unteransprüche gekennzeichnet.
  • Es folgt die Erläuterung von mehreren Ausführungsbeispielen an Hand der 1 bis 5. Es zeigen:
  • 1 einen Längsschnitt durch eine obere Hälfte eines Magnetresonanzgeräts mit einer vergossenen Gradientenspuleneinheit,
  • 2 einen Schnitt durch eine Kupferfolie mit aufgepressten Prepreg-Lagen
  • 3 einen Schnitt durch eine Leiterplatte mit beidseitig auf gepressten Prepreg-Lagen,
  • 4 eine Aufsicht auf eine mit Prepreg beschichtete Leiterplatte und
  • 5 einen Schnitt der Shim-Spulen mit auf gepresster Prepreg-Lage.
  • 1 verdeutlicht die Erfindung anhand eines Längsschnittes durch eine obere Hälfte eines Magnetresonanzgerätes 1 mit einem tunnelartigen Untersuchungsbereich 10. Zum Erzeugen eines im Patientenaufnahmeraum möglichst homogenen statischen Grundmagnetfeldes umfasst das Magnetresonanzgerät 1 einen im wesentlichen hohlzylinderförmigen supraleitenden Grundfeldmagneten 20, in den eine Gradientenspuleneinheit 30 zur Erzeugung von Gradientenfeldern eingebracht ist. Die Gradientenspuleneinheit weist eine Höhlung 40 auf, die mit einem Hochfrequenzschirm 50 ausgekleidet ist. Der Hochfrequenzschirm 50 kann zusätzlich als Rückflussleiter einer Hochfrequenzantennen 60 dienen. Beidseitig der Höhlung 40 sind eine primäre Gradientenspule 70 und eine sekundäre Gradientenspule 80 angeordnet. Zusätzlich können Shim-Spulen in die Gradientenspuleneinheit 30 eingegossen werden, die zur Homogenisierung des Grundmagnetfeldes des Grundfeldmagneten 20 beizutragen.
  • Die Komponenten der Gradientenspuleneinheit 30 werden zum Vergießen in einer Vergussform angeordnet. Wesentlich für die mechanischen Eigenschaften der Gradientenspuleneinheit, insbesondere für die Lärmemission, ist die Anbindung der verschiedenen Komponenten an die Vergussmasse. Besonders wichtig ist eine gute Anbindung der großen Kupferflächen des Hochfrequenzschirmes 50 oder der Shim-Spulen an die Vergussmasse.
  • 2 zeigt in einem Schnitt eine mögliche Ausführungsform eines Vergussteils nach der Erfindung, bei der eine Kupferfolie 100 zwischen zwei Prepreg-Lagen 110 angeordnet wurde. Um eine besonders gute Verbindung zu erhalten, werden die Prepreg-Lagen 110 möglichst blasenfrei auf die Kupferfolie 100 aufgepreßt. Um die Haftung weiter zu erhöhen, kann die Kupferoberfläche beispielsweise in einem Anätzprozess aufgerauht werden, wobei die Kupferfolie bei einer Anfangsdicke von ca. 12 μm durch das Anätzen weiter verdünnt wird.
  • 3 zeigt ebenfalls im Schnitt eine weitere Ausführungsform eines Vergussteils 120 mit einer eingegossenen Leiterplatte 130. Die Leiterplatte 130 besteht aus einer Trägerplatte FR4 (beispielsweise aus FR4), die beidseitig mit Kupferschichten 140 beschichtet ist. Oberflächen 150 der Kupferschichten wurden aufgerauht, bevor auf beiden Seiten Prepreg-Lagen 160 auf gepresst wurden. Vor dem Vergießen dieses Schichtaufbaus werden vorzugsweise auch die Oberflächen 170 der Prepreg-Lagen 160 aufgerauht. Nach dem Vergießen liegt eine kraftschlüssige Verbindung zwischen dem Vergussmaterial 180 und der Prepreg-Lage 160 sowie zwischen den Prepreg-Lagen 160 und den Kupferschichten 140 vor. Eine derartig eingegossene Leiterplatte 130 kann beispielsweise als Hochfrequenzschirm im Aufbau eines MR-Geräts gemäß 1 verwendet werden.
  • 4 zeigt eine Aufsicht auf eine zum Vergießen vorbereitete mit Prepreg-Lagen 191 belegte Leiterplatte 190. Die Leiterplatte 190 ist mit Schlitzen 192 versehen, um die Ausbildung von Wirbelströmen zu verhindern. In den Randbereichen 194 der Leiterplatte 190 wurde keine Beschichtung mit Prepreg vorgenommen, so dass hier eine vorzugsweise verzinnte Kupferlage 196 zur Verlötung der Leiterplatte zugänglich ist. Dabei ist ein kupferfreier Rand der Trägerplatte 198 vorgesehen.
  • 5 zeigt eine mögliche Anwendung der Erfindung bei sog. Shim-Spulen. Diese werden beispielsweise radial außerhalb eines Hochfrequenzschirmes 200 aufgebracht. Eine Shim-Spulenplatine umfasst eine Trägerplatte 210, auf denen entsprechende Shim-Spulenleiterkonfigurationen 220 aufgebracht werden. Um entsprechende Magnetfelder in den verschiedenen Raumrichtungen erzeugen zu können, werden üblicherweise mehrere Lagen von Shim-Spuleneinheiten aufeinander aufgebracht. In einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Bauteils wird eine Prepreg-Lage 230 auf die Kupferleiter 220 aufgebracht, sodass ein guter Kontakt zwischen den Kupferlagen 220 und der Prepreg-Lage 230 besteht. Beim Vergießen dieses Schichtaufbaus verbindet sich das Vergussmaterial 240 wieder kraftschlüssig mit der Oberfläche der Prepreg-Lage 230.
  • Obwohl die Figurenbeschreibung sich auf ein MR-Gerät mit einem hohlzylinderförmigen Untersuchungsbereich bezieht, kann die Erfindung beispielsweise auch bei planaren Gradientenspuleneinheiten für offene MR-Geräte eingesetzt werden.

Claims (9)

  1. Vergussteil für ein Magnetresonanzgerät (1), wobei im Vergussteil ein Metallelement (100) von einer Vergussmatrix (180) zumindest teilweise umgeben ist, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen mindestens einer Oberfläche (150) des Metallelements (100) und der Vergussmatrix eine Prepreg-Lage (110, 160, 191, 230) angeordnet ist, die einerseits am Metallelement (100) und andererseits an der Vergussmatrix (190) haftet.
  2. Vergussteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Metallelement (100) auf einer Trägerplatte (FR4), angeordnet ist.
  3. Vergussteil nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Metallelement (100) eine Leiterschicht (140) einer Leiterplatte (130) ist, wobei die Leiterplatte (130) in der Vergussmatrix (180) eingegossen ist.
  4. Vergussteil nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Vergussteil eine Gradientenspuleneinheit (30) des Magnetresonanzgeräts (1) ist, und dass das Metallelement (100) ein Hochfrequenzschirm (50) und/oder eine Shim-Spule (220) ist, welche insbesondere aus Kupfer sind, und in der Gradientenspuleneinheit (30) eingegossen sind.
  5. Vergießverfahren zum Erzeugen eines Vergussteils insbesondere nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei ein Metallelement (100) in einer Vergussmatrix (180) vergossen wird, mit folgenden Verfahrensmerkmalen: – Auflegen einer Prepreg-Lage (110, 160, 191, 230) auf mindestens einer Oberfläche (150) des Metallelements (100), – aufpressen der Prepreg-Lage unter erhöhtem Druck und Temperatur – Anordnen des Metallelements (100) mit der Prepreg-Lage (110, 160, 191, 230) gegebenenfalls zusammen mit weiteren Teilen wie Kupferwicklungen, Isolierplatten und Kühlschläuchen in einer Vergussform, – Ausgießen der Vergussform mit der Vergussmatrix (180), vorzugsweise unter Vakuum.
  6. Vergießverfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass eine Mikrorauhigkeit der Oberfläche (150) des Metallelements zur besseren Haftung der Prepreg-Lage (110, 160, 191, 230) insbesondere durch chemisches Anätzen und/oder Oxidieren und/oder aufbringen von organischen haftvermittelnden Verbindungen erzeugt wird.
  7. Vergießverfahren nach einem der Ansprüche 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass als Prepreg-Lage (110, 160, 191, 230) eine Prepreg-Lage mit geringem Harzfluss verwendet wird, so dass eine insbesondere elektrische Kontaktstelle in einem Randbereich (194) des Metallelements (100) frei von Vergussmaterial gehalten wird.
  8. Vergießverfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass zur Verbesserung der Haftung der Vergussmatrix an der Prepreg-Lage (110, 160, 191, 230) vor dem Ausgießen eine Oberfläche (170) der Prepreg-Lage (110, 160, 191, 230) durch Schleifen, Bürsten, Sandstrahlen und/oder chemische Verfahren aufgeraut wird.
  9. Vergießverfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass zur Verbesserung der Haftung der Vergussmatrix an der Prepreg- Lage (110, 160, 191, 230) vor dem Ausgießen eine Polarität einer Oberfläche der Prepreg-Lage (110, 160, 191, 230) durch insbesondere Plasma- und/oder Coronaverfahren erhöht wird.
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